JPH10144985A - レーザ装置 - Google Patents

レーザ装置

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JPH10144985A
JPH10144985A JP8292631A JP29263196A JPH10144985A JP H10144985 A JPH10144985 A JP H10144985A JP 8292631 A JP8292631 A JP 8292631A JP 29263196 A JP29263196 A JP 29263196A JP H10144985 A JPH10144985 A JP H10144985A
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知和 高橋
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Abstract

(57)【要約】 【課題】連続パルス発振の全パルスのパルスエネルギー
を常に均一にして、光加工の精度をよりいっそう向上さ
せるようにする。 【解決手段】レーザ光を所定回数連続してパルス発振さ
せる連続発振動作と、このパルス発振を所定の発振休止
時間の間だけ休止する停止動作を交互に実行する運転を
1バースト周期とするバーストモード運転を繰り返し行
ない、前記パルス発振の各出力エネルギーが所定の目標
値に一致するようにレーザの電源電圧を制御するレーザ
装置において、各パルスの出力値と目標値との差を各パ
ルス毎に求め、この差が許容限界を超えたパルスに関し
ては、該パルスのパルス番号および前記計測された発振
休止時間に対応する電圧データテーブル手段の記憶電源
電圧値を、当該パルス番号および計測された発振休止時
間に対応するブロックに設定された前記制御ゲイン設定
手段の制御ゲインと前記差とを用いてそれぞれ補正更新
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、レーザ光を用い
て半導体、高分子材料、または無機材料などに対し所定
の露光または加工を加える加工装置に対してレーザ光を
出力するレーザ装置に関し、特にレーザ光を所定回数連
続してパルス発振させる連続発振動作と、このパルス発
振を所定時間休止する停止動作を交互に繰り返すバース
トモード運転を実行する際に常に均一なパルスエネルギ
ー値を得るための改良に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】半導体
露光装置などの紫外線光を用いた分野においては、回路
パターンの解像度を一定レベル以上に維持するために厳
密な露光量制御が必要とされる。ところが、半導体露光
装置の光源として使用されるエキシマレーザは、いわゆ
るパルス放電励起ガスレーザのために1パルス毎のパル
スエネルギーにバラツキがあり、露光量制御の精度向上
のためにはこのバラツキを小さくする必要がある。
【0003】一方、半導体露光装置は、露光とステージ
移動とを交互に繰り返す。すなわち、図9は、複数のI
Cチップ90が配列された半導体ウェハWを示すもので
あるが、ステッパ方式の露光においては、半導体ウェハ
W上の1つのICチップ90に対して多数の連続パルス
光を照射する露光処理が終了すると、次の未照射ICチ
ップ90に連続パルス光が照射されるようにウェハWま
たは光学系を移動し、このステージ移動後に前記と同じ
光照射を行う。そして、このような露光及びステージ移
動を交互に行いながら、半導体ウェハW上の全てのIC
チップ90への露光が終了すると、その露光済みのウェ
ハWを搬出して次のウェハWを照射位置に設置して前記
と同じ光照射を繰り返す。
【0004】このように、半導体露光装置では露光とス
テージ移動とを交互に繰り返すようになっているので、
露光装置の光源となるエキシマレーザの運転状態は、図
10に示すように、必然的に、レーザ光を所定回数連続
してパルス発振させる連続パルス発振運転と、所定時間
の間パルス発振を休止させる発振休止時間tとを繰り返
すバーストモードとなる。
【0005】すなわち、図10に示すバーストモード運
転において、発振休止時間tとは、半導体露光装置にお
けるステージ移動に要する時間に対応するものである
が、この発振停止時間tが様々な原因によって必ずしも
一定とはならない。例えば、ウェハ交換を行う際の発振
停止時間はICチップ間でステージ移動を行う際のそれ
に比べ大幅に長いものとなり、また同一列でICチップ
間を移動する際の発振停止時間と列を代えてICチップ
間を移動する際の発振停止時間とも全く異なるものとな
る。さらに、ウァハ上に載るICチップの個数、配列な
どが異なった場合も発振停止時間が変化する原因とな
る。その他、発振停止時間を変化させる原因はさまざま
である。なお、図10においては、励起強度(放電電
圧)を一定値に固定した場合の各パルスのエネルギー強
度を示している。
【0006】このようにバースト運転において、発振停
止時間tの長さが変化した場合、この変化が、図11に
示すように、個々のレーザパルスの出力に大きな変化を
与えてしまう。すなわち、発振休止時間tが短い場合
は、過去のレーザ発振の影響がガス温度の上昇、レーザ
チャンバ内のガスの乱れ、電極温度の局所的上昇などと
して残ることになり、また発振停止時間tが長い場合に
は、レーザには過去のレーザ発振の影響が消えているこ
とになる。その為、図11に示すように、レーザの放電
電圧を一定にしても、休止時間が短い場合には出力エネ
ルギーは小さくなり、休止時間が長い場合には出力エネ
ルギーが大きくなるというように、レーザ出力は発振停
止時間に応じて大きく変化することになる。
【0007】他方、上述したように、エキシマレーザは
パルス放電励起ガスレーザであるため、常に一定の大き
さのパルスエネルギーで発振を続けることが困難であ
る。この原因としては、(1)放電されることによって放
電空間内にレーザガスの密度擾乱が発生し、次回の放電
を不均一、不安定にする、(2)この不均一放電等のため
放電電極の表面において局所的な温度上昇が発生し、次
回の放電を劣化させ放電を不均一で不安定なものにする
ことなどがある。
【0008】特に、上記連続パルス発振期間の初期にお
いてその傾向が顕著であり、図12に示すように、発振
休止期間tの経過後の最初の数パルスが含まれるスパイ
ク領域では、最初比較的高いパルスエネルギーが得ら
れ、その後は徐々にパルスエネルギーが低下するとい
う、謂ゆるスパイキング現象が現れる。このスパイク領
域が終了すると、パルスエネルギーは比較的高レベルの
安定な値が続くプラトー領域を経た後、定常領域に入
る。
【0009】このようにバーストモード運転のエキシマ
レーザ装置では、前述した1パルス毎のエネルギーのバ
ラツキが露光量制御の精度を低下させるとともに、スパ
イキング現象がさらにバラツキを著しく大きくし、露光
量制御の精度を大きく低下させるという問題がある。
【0010】そこで、本出願人は、励起強度(充電電
圧、放電電圧)が大きなるにつれて発振されるパルスの
エネルギーが大きくなるという性質を利用して、バース
トモードにおける連続パルス発振の最初のパルスの放電
電圧(充電電圧)を小さくし、以後のパルスの放電電圧
を徐々に大きくしていくという具合に、放電電圧を各パ
ルスごとに変化させてスパイキング現象による初期のエ
ネルギー上昇を防止する、謂ゆるスパイキング発生防止
制御に関する発明を種々特許出願している(特願平4−
191056号、特開平7−106678号公報(特願
平5−249483号)など)。
【0011】すなわち、上記の従来技術によれば、発振
休止時間t、パワーロック電圧(レーザガスの劣化に応
じて決定される電源電圧)などの各種パラメータを考慮
して連続パルス発振の各パルスのエネルギーを所望の目
標値Prにする放電電圧データを、連続パルス発振の各
パルス毎に予めテーブルに記憶するとともに、今回の連
続パルス発振時のパルスエネルギーPi(i=1,2,…)を検
出し、この検出値Piとパルスエネルギー目標値Pdとを
比較し、この比較結果に基づいて前記予記憶された各パ
ルス毎の放電電圧データを補正更新するようにしてい
る。この補正電圧データは次のバースト周期の際の放電
電圧データとして用いられる。
【0012】上記放電電圧の補正制御においては、前記
テーブルに記憶した放電電圧データViによってレーザ
発振したときのパルスエネルギーPiを検出して目標エ
ネルギーPrとの差ΔP(=Pi−Pr)を計算し、該差
ΔPに応じて補正放電電圧値ΔV(=G・ΔP G:ゲ
イン定数)を計算し、この補正放電電圧値ΔVによって
前記テーブルに記憶した放電電圧データViを補正し
て、補正後の放電電圧データVi´(=Vi+ΔV)を得
るようにしている。
【0013】しかしながら、上記従来の補正制御によれ
ば、図12に示す1バースト周期内の全ての領域(スパ
イク領域、プラトー領域および定常領域)で、上記ゲイ
ン定数Gを同一値に固定するようにしているので、各パ
ルスエネルギーのばらつきの抑制効果が十分ではなかっ
た。
【0014】すなわち、図13はエキシマレーザの放電
電圧と出力されるパルス光パワーの関係を示すものであ
るが、この特性によれば、電圧Vc以上で放電が発生し
てレーザ発振が起こる。また、電圧が低い間はパルス光
パワーと電圧がほぼ比例するが、電圧が高くなると飽和
して電圧上昇に伴うパルス光パワー上昇が少なくなって
きている。この図13においては、同じパワーΔPだけ
上昇させるために必要な電圧変化を放電電圧の大小に応
じて2種類示しており、電圧が低いときの変化ΔVLと
電圧が高いときの変化ΔVHとの間には、明らかに、Δ
VL<ΔVHが成り立つ。
【0015】一方、前述したスパイキング発生防止制御
によれば、スパイキング現象に対応して、最初の数パル
ス用の放電電圧を小さくし、以後放電電圧を徐々に大き
くするようにしており、結果的に放電電圧は図12に示
した各領域(スパイク領域、プラトー領域および定常領
域)を単位として大きく変動することになる。
【0016】このように従来のスパイキング発生防止制
御においては、放電電圧がスパイク領域、プラトー領域
および定常領域の各領域を単位として大きく変動するに
も係わらず、上記ゲイン定数Gを同一値に固定するよう
にしているので、パルスエネルギーのばらつきを半導体
露光装置が要求するレベルまで充分に抑制することがで
きなかった。
【0017】また、上記の従来技術によれば、図12に
示すスパイク領域に加えてプラトー領域及び定常領域に
おいてもスパイクキラー制御を行っているので、スパイ
ク領域以外の領域でパルスエネルギーのばらつきの抑制
効果が十分ではない。
【0018】これは、連続パルスの初期のパルスでは、
レーザ発振休止の影響(レーザが安定化する)が強く残
って、同じ放電電圧を印加してもその出力パワーは他の
領域に比べ大きくなるが、これ以降のプラトー領域や安
定領域ではレーザ発振休止の影響が少なくなり、その反
面直前までのパルス発振の影響(電極温度の上昇、レー
ザガスの乱れなど)をより強く受けることによると考え
られる。
【0019】また、上記従来技術では、連続パルス発振
の全てのパルスに関して、スパイクキラー制御を実行す
るために、そのための記憶データ量が多くなり、多大な
メモリ容量を必要とするとともに、メモリからのデータ
読み出しに時間がかかる等の問題もある。
【0020】この発明はこのような実情に鑑みてなされ
たもので、連続パルス発振の全パルスのパルスエネルギ
ーを常に均一にして、光露光や光加工の精度をよりいっ
そう向上させるようにしたレーザ装置を提供することを
目的とする。
【0021】
【課題を解決するための手段および作用効果】この発明
では、レーザ光を所定回数連続してパルス発振させる連
続発振動作と、このパルス発振を所定の発振休止時間の
間だけ休止する停止動作を交互に実行する運転を1バー
スト周期とするバーストモード運転を繰り返し行ない、
前記パルス発振の各出力エネルギーが所定の目標値範囲
内に入るようにレーザの電源電圧を制御するレーザ装置
において、1バースト周期内でのパルスの順番を示すパ
ルス番号及び複数の異なる発振休止時間をパラメータと
して、前記各パルス発振の出力を前記目標値近傍の所定
の許容値内の値とする電源電圧の初期値をそれぞれ予め
記憶する電圧データテーブル手段と、複数のパルスが含
まれる1バースト周期を複数のブロックに分割し、前記
電源電圧データテーブル手段に記憶された電源電圧値を
補正する際に用いる制御ゲインをパルス番号が小さなパ
ルスを含むブロックほどその値が小さくなるようにブロ
ック単位に異なる値を設定するとともに、発振休止時間
をその時間の大小に対応して複数のブロックに分割し、
前記制御ゲインを時間が大きな発振休止時間を含むブロ
ックほどその値が小さくなるようにブロック単位に異な
る値を設定する制御ゲイン設定手段と、前記発振休止時
間を1バースト周期毎に計測する発振休止時間計測手段
と、1バースト周期の度に、前記電源電圧データテーブ
ル手段から前記計測した発振休止時間に対応しかつパル
ス番号が対応する電源電圧値を読み出し、該読み出した
電源電圧値にしたがってパルス発振を行わせる発振制御
手段と、連続発振の各パルスの出力をパルス番号に対応
付けて順次モニタするモニタ手段と、前記モニタ手段で
モニタされた各パルスの出力値と前記目標値との差を各
パルス毎に求め、この差が許容限界を超えたパルスに関
しては、該パルスのパルス番号および前記計測された発
振休止時間に対応する前記電圧データテーブル手段の記
憶電源電圧値を、当該パルス番号および前記計測された
発振休止時間に対応するブロックに設定された前記制御
ゲイン設定手段の制御ゲインと前記差とを用いてそれぞ
れ補正更新するテーブル補正手段とを具えるようにして
いる。
【0022】係る発明によれば、電源電圧データテーブ
ルに記憶された電源電圧データを補正するに当たり、こ
の補正の際に用いる制御ゲインをパルス番号及び発振休
止時間に対応してグループ分けするとともに、これらの
グループ単位に異なる値を設定した。そして、これらグ
ループ分けした制御ゲインは、パルス番号に対応して分
割したブロックに関してはパルス番号が小さなパルスを
含むブロックほどその値が小さくなるようにブロック単
位に異なる値を設定し、発振休止時間に対応して分割し
たブロックに関しては時間が大きな発振休止時間を含む
ブロックほどその値が小さくなるようにブロック単位に
異なる値を設定する。
【0023】したがって本発明によれば、リニアな関係
ではなかった電源電圧とパルス光パワーとの関係が擬似
的にリニアな関係となって電源電圧制御が実行されるこ
とになり、発振休止時間が各種変化した場合においても
全てのパルスにわたってその出力を高精度に均一化する
ことが可能になり、光露光や光加工の精度をよりいっそ
う向上させることができる。
【0024】またこの発明によれば、レーザ光を所定回
数連続してパルス発振させる連続発振動作と、このパル
ス発振を所定の発振休止時間の間だけ休止する停止動作
を交互に実行する運転を1バースト周期とするバースト
モード運転を繰り返し行ない、前記パルス発振の各出力
エネルギーが所定の目標値範囲内に入るようにレーザの
電源電圧を制御するレーザ装置において、1バースト周
期内でのパルスの順番を示すパルス番号及び複数の異な
る発振休止時間をパラメータとして、前記各パルス発振
の出力を前記目標値近傍の所定の許容値内の値とする電
源電圧の初期値をそれぞれ予め記憶する電圧データテー
ブル手段と、複数のパルスが含まれる1バースト周期を
複数のブロックに分割し、前記電源電圧データテーブル
手段に記憶された電源電圧値を補正する際に用いる制御
ゲインをパルス番号が小さなパルスを含むブロックほど
その値が小さくなるようにブロック単位に異なる値を設
定する制御ゲイン設定手段と、前記発振休止時間を1バ
ースト周期毎に計測する発振休止時間計測手段と、1バ
ースト周期の度に、前記電源電圧データテーブル手段か
ら前記計測した発振休止時間に対応しかつパルス番号が
対応する電源電圧値を読み出し、該読み出した電源電圧
値にしたがってレーザ発振を行わせる発振制御手段と、
連続発振の各パルスの出力をパルス番号に対応付けて順
次モニタするモニタ手段と、前記モニタ手段でモニタさ
れた各パルスの出力値と前記目標値との差を各パルス毎
に求め、この差が許容限界を超えたパルスに関しては、
該パルスのパルス番号および前記計測された発振休止時
間に対応する前記電圧データテーブル手段の記憶電源電
圧値を、当該パルス番号に対応するブロックに設定され
た前記制御ゲイン設定手段の制御ゲインと前記差とを用
いてそれぞれ補正更新するテーブル補正手段とを具える
ようにしたことを特徴とする。
【0025】係る発明によれば、電源電圧データテーブ
ルに記憶された電源電圧データを補正するに当たり、こ
の補正の際に用いる制御ゲインをパルス番号に対応して
グループ分けするとともに、これらのグループ単位に異
なる値を設定設定した。そして、これらグループ分けし
た制御ゲインは、パルス番号が小さなパルスを含むブロ
ックほどその値が小さくなるようにブロック単位に異な
る値を設定する。
【0026】したがってこの発明によれば、リニアな関
係ではなかった電源電圧とパルス光パワーとの関係が擬
似的にほぼリニアな関係となって電源電圧制御が実行さ
れることになり、全てのパルスにわたってその出力を高
精度に均一化することが可能になり、光露光や光加工の
精度をよりいっそう向上させることができる。
【0027】またこの発明では、レーザ光を所定回数連
続してパルス発振させる連続発振動作と、このパルス発
振を所定の発振休止時間の間だけ休止する停止動作を交
互に実行する運転を1バースト周期とするバーストモー
ド運転を繰り返し行ない、前記パルス発振の各出力エネ
ルギーが所定の目標値範囲内に入るようにレーザの電源
電圧を制御するレーザ装置において、1バースト周期内
でのパルスの順番を示すパルス番号及び複数の異なる発
振休止時間をパラメータとして、前記各パルス発振の出
力を前記目標値近傍の所定の許容値内の値とする電源電
圧の初期値をそれぞれ予め記憶する電圧データテーブル
手段と、発振休止時間をその時間の大小に対応して複数
のブロックに分割し、前記電源電圧データテーブル手段
に記憶された電源電圧値を補正する際に用いる制御ゲイ
ンを時間が大きな発振休止時間を含むブロックほどその
値が小さくなるようにブロック単位に異なる値を設定す
る制御ゲイン設定手段と、前記発振休止時間を1バース
ト周期毎に計測する発振休止時間計測手段と、1バース
ト周期の度に、前記電源電圧データテーブル手段から前
記計測した発振休止時間に対応しかつパルス番号が対応
する電源電圧値を読み出し、該読み出した電源電圧値に
したがってパルス発振を行わせる発振制御手段と、連続
発振の各パルスの出力をパルス番号に対応付けて順次モ
ニタするモニタ手段と、前記モニタ手段でモニタされた
各パルスの出力値と前記目標値との差を各パルス毎に求
め、この差が許容限界を超えたパルスに関しては、該パ
ルスのパルス番号および前記計測された発振休止時間に
対応する前記電圧データテーブル手段の記憶電源電圧値
を、前記計測された発振休止時間に対応するブロックに
設定された前記制御ゲイン設定手段の制御ゲインと前記
差とを用いてそれぞれ補正更新するテーブル補正手段と
を具えるようにしている。
【0028】係る発明によれば、電源電圧データテーブ
ルに記憶された電源電圧データを補正するに当たり、こ
の補正の際に用いる制御ゲインを発振休止時間に対応し
てグループ分けするとともに、これらのグループ単位に
異なる値を設定した。そして、これらグループ分けした
制御ゲインは大きな発振休止時間を含むブロックほどそ
の値が小さくなるようにブロック単位に異なる値を設定
する。
【0029】したがって本発明によれば、リニアな関係
ではなかった電源電圧とパルス光パワーとの関係が擬似
的にほぼリニアな関係となって電源電圧制御が実行され
ることになり、発振休止時間が各種変化した場合におい
ても各パルスの出力を高精度に均一化することが可能に
なり、光露光や光加工の精度をよりいっそう向上させる
ことができる。
【0030】
【発明の実施の形態】以下この発明の実施例を添付図面
に従って詳細に説明する。
【0031】図2は、この発明にかかるレーザ装置を半
導体の回路パターンの縮小投影露光処理を行うステッパ
の光源として適用した場合の構成を示している。すなわ
ち、1がレーザ装置として狭帯域化エキシマレーザであ
り、20が縮小投影露光装置としてのステッパである。
【0032】エキシマレーザ1のレーザチャンバ2は、
図示しない放電電極等を有し、レーザチャンバ2内に充
填されたKr、F2,Ne等からなるレーザガスを放電電
極間の放電によって励起させてレーザ発振を行う。発光
した光は狭帯域化ユニット3によって狭帯域化されて、
再びレーザチャンバ2に戻って増幅され、フロントミラ
ー4を介して発振レーザ光Lとして出力される。出力さ
れた一部の光は再びレーザチャンバ2に戻りレーザ発振
が起こる。なお、レーザ光Lは、先の図10に示したよ
うに、所定の周期で所定回数連続してパルス発振させる
連続発振運転と、連続発振運転後に前記連続パルス発振
を所定時間停止させる停止運転(発振休止時間)とを交
互に繰り返すバーストモード運転により断続的に出力さ
れる。
【0033】レーザ電源回路5は、レーザコントローラ
6から加えられた電圧データに応じて前記放電電極間に
電位差Vを与えて放電を行う。なお、レーザ電源回路5
においては、図示しない充電回路により電荷を一旦充電
した後、たとえばGTOやサイラトロン等のスイッチ素
子の動作により放電を行う。
【0034】フロントミラー4、レーザチャンバ2およ
び狭帯域化ユニット3で構成される共振器から発振され
たレーザ光Lは、ビームスプリッタ7によってその一部
がサンプリングされ、レンズ7aを介して光モニタモジ
ュール8に入射される。またその残りのレーザ光Lはス
リット9を介して露光装置20へ出射される。このスリ
ット9は、出力されるレーザ光を遮断するシャッタとし
ても機能する。
【0035】光モニタモジュール8では、パルス発振が
行われる度に、出力レーザ光Lの1パルス当たりのエネ
ルギーPi(i=1,2,3,…)を検出する。この検出パルスエ
ネルギー値Piはレーザコントローラ6に送られ、第j
番目のパルス群のi番目のパルスのエネルギーPj,i と
してテーブルに記憶される。なお、光モニタモジュール
8では、レーザ光Lのスペクトル線幅、波長等を検出
し、これらのデータもレーザコントローラ6に入力す
る。
【0036】レーザコントローラ6には露光装置20か
ら以下の信号が入力されており、 ・バースト信号BS(図3参照) ・レーザ発振同期信号(外部トリガ)TR(図3参照) ・目標パルスエネルギー値Pr レーザ発振同期信号TRは、レーザ装置1での連続パル
ス発振の際の各パルスのトリガ信号として機能する。バ
ースト信号BSは、その立上がりでレーザ装置1での連
続発振運転を開始させ(バーストオン)、その立下がり
でレーザ装置1での連続発振運転を停止させる(バース
トオフ)よう機能させるものであり、そのバーストオン
時点から所定時間t1後に1発目のレーザ発振同期信号
TRが発生され、かつ最後のレーザ発振同期信号TRが
発生されてから所定時間t2後にバーストオフされるよ
うに設定されている。
【0037】レーザコントローラ6では、これら入力信
号に基づいて、連続パルス発振の際、最初の10個程度
のパルスが含まれるスパイク領域では予め設定された放
電電圧データテーブルを用いたテーブル制御を実行し、
それ以降の領域では放電電圧データテーブルは用いない
で当該バースト周期内で既に発生したパルスの放電電圧
を参照して放電電圧を制御する毎パルス制御(フィード
バック制御)を実行する。その詳細は、後述する。ま
た、レーザコントローラ6では、発振休止時間tを1バ
ースト周期毎に計測する。この計測された発振休止時間
は前記テーブル制御に用いられる。
【0038】露光装置20には、スリット10を介して
入射されたレーザ光Lの一部をサンプリングするビーム
スプリッタ11が設けられ、そのサンプリング光はレン
ズ11aを介して光モニタモジュール12へ入射され
る。光モニタモジュール12では、入射されたレーザ光
Lの1パルス当たりのエネルギーPi´を検出し、この
検出エネルギー値Pi´を露光装置コントローラ13に
入力する。なお、ビームスプリッタ11を通過したレー
ザ光は、縮小投影露光処理に用いられる。
【0039】露光装置コントローラ13では、縮小投影
露光処理およびウエハが載置されたステージの移動制
御、ウェハの交換制御の他に、レーザ発振同期信号T
R、バースト信号BSおよび目標パルスエネルギー値P
rをレーザ装置1へ送信するなどの動作を実行する。
【0040】まず、図1を用いて本実施例で行われる放
電電圧制御について説明する。
【0041】図1は、放電電圧を一定にしたときの1バ
ースト周期内での各レーザパルスの出力変化を示すもの
で、前述したように、第1発目のパルスはその直前の発
振休止時間によってレーザが安定するのでその出力が最
も大きく、また第2発目以降のパルスは直前のレーザ発
振の影響を大きく受けた状態で発振を繰り返すので各パ
ルスの出力は徐々に低下する。そして、この場合第12
発目のパルス以降においては、レーザが定常状態になる
ので、ほぼ同一の光エネルギーを出力する。
【0042】このような出力レーザパルスの特性は、全
てのバースト周期に亘ってほぼ共通に現れる。したがっ
てこの実施例では、1バースト周期をパルス番号に基づ
いて4つの制御領域A〜Dに分け、各制御領域A〜D毎
にそれぞれ各別の放電電圧制御を行うようにしている。
【0043】制御領域Aはパルス番号が1である最初の
第1発目のパルスのみを制御対象にし、制御領域Bはパ
ルス番号が2である第2発目のパルスのみを制御対象に
し、制御領域Cはパルス番号が3〜12である第3〜1
2発目の10個のパルスを制御対象にし、制御領域Dは
第11発目以降のパルスを制御対象にしている。
【0044】また、制御領域A〜Cでは、予め求めてお
いた放電電圧データテーブル(レーザコントローラ6に
内蔵)に記憶した放電電圧データに基づいて放電電圧制
御を行うようにするが、制御領域Dにおいては、放電電
圧データテーブルを用いない制御を実行する。すなわ
ち、制御領域Dにおいては、当該パルスの直前のパルス
発振の励起強度(放電電圧)とそのパルスエネルギー値
との関係から当該パルスのパルスエネルギー値を目標値
Prに一致させる為に必要な励起強度(充電電圧)を求
め、該求めた励起強度によるパルス発振を行わせる制御
を実行する。この制御を毎パルス制御(フィードバック
制御)と呼称する。
【0045】また、制御領域A〜Cで行われる放電電圧
データテーブルを用いた放電電圧制御においては、制御
領域A〜C単位にゲイン定数Gの値を異ならせる。すな
わち、テーブル制御においては、放電電圧データテーブ
ルに記憶した放電電圧データVi(i=1,2,…n)によって
レーザ発振したときのパルスエネルギーPiを検出して
目標エネルギーPrとの差ΔPi(=Pi−Pr)を計算
し、該差ΔPiに応じて補正放電電圧値ΔVi(=G・Δ
P G:ゲイン定数)を計算し、この補正放電電圧値Δ
Viによって前記テーブルに記憶した放電電圧データVi
を補正して、補正後の放電電圧データVi´(=Vi+Δ
V)を得るようにしているが、制御領域A〜C単位に上
記のゲイン定数Gの値を異ならせるようにしている。
【0046】すなわち、制御領域Aのゲイン定数をGa
とし、制御領域Bのゲイン定数をGbとし、制御領域C
のゲイン定数をGcとすると、Ga<Gb<Gcの大小関係
が成立するようにする。
【0047】したがって、制御領域Aにおいては、ΔV
i=Ga・ΔPiによって補正放電電圧値ΔViを求め、制
御領域Bにおいては、ΔVi=Gb・ΔPiによって補正
放電電圧値ΔViを求め、制御領域Cにおいては、ΔVi
=Gc・ΔPiによって補正放電電圧値ΔViを求めるよ
うにしている。
【0048】このように、放電電圧データテーブルの補
正制御の際に用いられる制御ゲインGは、パルス番号に
対応して分割された制御領域A〜Cを単位として異なる
値が設定されるようになっているが、これら制御ゲイン
Gにおいては、発振停止時間tに基づき分割された制御
領域α〜制御領域γ単位にもそれぞれ別の値が設定され
るようになっている。
【0049】図4は、放電電圧データテーブルに設定記
憶された放電電圧データおよび該テーブルに設定された
各放電電圧データを補正する際に使用する制御ゲインの
設定態様を示すもので、横軸にはパルス番号(1≦i≦12)
を、縦軸には発振休止時間(t1,t2,t3,t4,…)をとっ
ている。
【0050】すなわち、放電電圧データテーブルには、
パルス番号iおよび発振休止時間tをパラメータとして
各別の放電電圧データVi(tk)(この場合1≦i≦12、1
≦k)が予め記憶されている。例えば、V1(t20)はパル
ス番号が1で発振休止時間がt20に対応する放電電圧デ
ータであり、V6(t50)はパルス番号が6で発振休止時
間がt50に対応する放電電圧データである。
【0051】一方、制御ゲインGx(=Ga,Gb,Gc,Ga
´…)は、パルス番号に対応して分割された制御領域A
〜C(横軸方向)および発振休止時間に対応して分割さ
れた制御領域α〜制御領域γ(縦軸方向)毎に各別の値
が設定されている。
【0052】例えば、この場合、制御領域Aおよび制御
領域αに属する放電電圧データV1(t1)〜V1(t20)用
の補正用制御ゲインとしてGaが設定されており、また
制御領域Aおよび制御領域βに属する放電電圧データV
1(t21)〜V1(t50)用の補正用制御ゲインとしてGa´
が設定されており、制御領域Aおよび制御領域γに属す
る放電電圧データV1(t51)〜用の補正用制御ゲインと
してGa″が設定されている。
【0053】同様に、制御領域Bおよび制御領域αに属
する放電電圧データV2(t1)〜V2(t20)用の補正用制
御ゲインとしてGbが設定されており、制御領域Bおよ
び制御領域βに属する放電電圧データV2(t21)〜V2
(t50)用の補正用制御ゲインとしてGb´が設定されて
おり、制御領域Bおよび制御領域γに属する放電電圧デ
ータV2(t51)〜用の補正用制御ゲインとしてGb″が設
定されており、さらに、制御領域Cおよび制御領域αに
属する放電電圧データV3(t1)〜V12(t20)用の補正用
制御ゲインとしてGcが設定されており、制御領域Cお
よび制御領域βに属する放電電圧データV3(t21)〜V1
2(t50)用の補正用制御ゲインとしてGc´が設定されて
おり、制御領域Cおよび制御領域γに属する放電電圧デ
ータV3(t51)〜用の補正用制御ゲインとしてGc″が設
定されている。
【0054】これら各制御ゲインの大小関係は次のよう
に設定されている。
【0055】Ga<Gb<Gc, Ga´<Gb´<Gc´ Ga″<Gb″<Gc″ Ga>Ga´>Ga″ Gb>Gb´>Gb″ Gc>Gc´>Gc″, 制御ゲインをこのような大小関係にしたのは、先の図1
3に示した関係を考慮してのことである。
【0056】次に、図4に示す放電電圧データテーブル
を予め作成するための手法について説明する。
【0057】かかる放電電圧データテーブルを作成する
際には、セルフリカバーモードを用いる。また、このセ
ルフリカバーモードによって作成された放電電圧データ
テーブルが適正なものか否かをチェックする際にはセル
フロックモードを用いる。
【0058】[セルフリカバーモード]セルフリカバー
モードの際には、エキシマレーザ1と縮小投影露光装置
20との間のシャッタ(図2のスリット9)を閉じてレ
ーザ光が縮小投影露光装置20に入射されない状態にし
た後、例えば図5(a)に示すような3つの代表的な休止
時間T1、T2、T3(T1<T2<T3)を含む試験運転パ
ターンを用いてエキシマレーザ1を実際に発振動作させ
る。この3つの代表的な休止時間T1、T2、T3は、当
該露光装置20を運転させると最も多く発生する3つの
発振休止時間であり、露光装置20や露光することが多
いウェハパターンに応じて適当なる時間を設定するよう
にする。なお、先の図4において、t1=T1,t21=T
2,t51=T3とする。
【0059】また、セルフリカバーモード運転の際に、
1バースト周期内に含まれるパルス数は勿論通常運転の
際のパルス数nと一致させる。或いは、制御領域Dまで
含むパルス数であればnより少なくてもよい。
【0060】そして、この運転の際の放電電圧を図6
(a)に示すように、3つの休止時間T1、T2、T3別に先
頭パルスから順にV1(T1)、V2(T1)、…Vn(T1)、V1(T
2)、V2(T2)、…Vn(T2)、V1(T3)、V2(T3)、…Vn(T
3)とし、また運転の結果検出された各パルスの光パワー
を、3つの休止時間T1、T2、T3別にそれぞれ、P1(T
1),P2(T1),…Pn(T1)、P1(T2),P2(T2),…Pn(T
2)、P1(T3),P2(T3),…Pn(T3)とする。なお、セル
フリカバーモード及びセルフロックモードの際には、図
6(b)に示すように、露光装置20から送られてくるレ
ーザ発振同期信号TR(図3参照)と同じタイミングの
信号TR´をレーザコントローラ6で擬似的に発生させ
て、この擬似信号TR´に同期して連続パルス発振を実
行する。
【0061】そして、セルフリカバーモードにおいて
は、1バースト周期内のパルスのなかで放電電圧データ
を作成すべきQ個のパルス(図4では、制御領域A〜C
に属する12個のパルス)に関して、それぞれ、下記
(1)式を満たすまで放電電圧を調整しながらレーザ発
振を繰り返す。
【0062】 |Pi(T1)−Pr|<ΔE1、 且つ|Pi(T2)−Pr|<ΔE2、且つ|Pi(T3)−Pr|<ΔE3 但し 1≦i≦k、 ΔE1,ΔE2,ΔE3は閾値 Pr:目標値 …(1) なお、先の図13の特性を考慮すれば、ΔE1>ΔE2>
ΔE3と設定するほうが望ましいが、ΔE1=ΔE2=Δ
E3としてもよい。
【0063】すなわち、上記(1)式によれば、第1発
目のパルスに関しては、 |P1(T1)−Pr|<ΔE1、且つ|P1(T2)−Pr|<Δ
E2、且つ|P1(T3)−Pr|<ΔE3 を満足するまで放電電圧V1(T1)、V1(T2)、V1(T3)を
調整しながらレーザ発振を繰り返す。このようにして、
上式を満足するV1(T1)、V1(T2)、V1(T3)が得られる
と、これらの3つの放電電圧データに基づいて第1発目
のパルス用の放電電圧データテーブルを作成する。
【0064】すなわち、図7に示すように、代表的な3
つの発振休止時間T1、T2、T3に対応する放電電圧V1
(T1)、V1(T2)、V1(T3)が得られると、これら3点を直
線で結び、t≦T1のときはV=V1(T1)を代用し、t≧
T3のときはV=V1(T3)を代用することにより、発振休
止時間tと放電電圧Vとの関係を設定するようにしてい
る。例えば、図4に示したテーブルにおいては、t1=
T1,t21=T2,t51=T3であり、セルフリカバーモ
ードを実行することにより、まず3つの発振休止時間t
1(=T1)、t21(=T2)、t51(=T3)に対応する放電
電圧V1(t1)、V1(t21)、V1(t51)が得られ、これら3
つのデータを直線補間することで、これら3点の間(T
1<t<T2,T2<t<T3)に位置する各点の放電電圧
データを得るようにしている。
【0065】また、第2発目のパルスに関しては、前記
同様、 |P2(T1)−Pr|<ΔE1、且つ|P2(T2)−Pr|<Δ
E2、且つ|P2(T3)−Pr|<ΔE3 を満足するまで放電電圧V2(T1)、V2(T2)、V2(T3)を
調整しながらレーザ発振を繰り返し、上式を満足するV
2(T1)、V2(T2)、V2(T3)が得られると、これら3つの
放電電圧データに基づいて、前記同様にして、第2発目
のパルス用の放電電圧データテーブルを作成する。
【0066】以下同様にして、最初のQ個のパルスに関
して、同様の調整発振を繰り返し実行して、これらk個
のパルスに関しての放電電圧データをそれぞれ得るよう
にする。
【0067】[セルフロックモード]このセルフロック
モードは、露光作業の合間等に利用され、このセルフロ
ックモードが選択された際には、前記のセルフリカバー
モードと同様、エキシマレーザ1と縮小投影露光装置2
0との間のシャッタ9が閉じられてレーザ光が縮小投影
露光装置20に入射されない状態となる。
【0068】このセルフロックモードにおいては、図5
(b)に示すように、前記代表的な休止時間T1、T2、T3
を含む連続パルス発振がそれぞれ1周期ずつ行われ、検
出されたパルス光がそれぞれ前記式(1)を満足するか
否かがチェックされる。そしてこのチェックの結果、前
記式(1)を満足している場合は、縮小投影露光装置2
0に露光可能信号が送られると共に、エキシマレーザ1
と縮小投影露光装置20との間のシャッタが開にされ
る。また、前記式(1)が満足していない場合は、露光
不可能信号が縮小投影露光装置20に送られ、この後前
記セルフリカバーモードによる放電電圧データの調整発
振を行う。
【0069】次に、図4に示した放電電圧データテーブ
ルを補正する際の動作について説明する。
【0070】この補正動作は、実際の発振休止時間tが
前記3つの代表的な発振休止時間T1,T2,T3に一致
した際と、不一致のときとで異なる。
【0071】まず、当該バースト周期の発振休止時間t
がT1,T2,T3に不一致のときの動作について説明す
る。
【0072】前述したように、バースト周期の最初のQ
個のパルスに関しては、当該バースト周期の発振休止時
間tに対応する放電電圧データをテーブルから読み出
し、該読み出した放電電圧データに対応する放電電圧を
もってレーザ発振を行わせる。この結果、各パルスの実
際の出力としてPi(1≦i≦Q)が得られたとする。次に、
各パルス毎に、目標エネルギーPrと各パルスの検出値
Piとの差ΔPi(=Pi−Pr)を計算し、この差を所定
の閾値ΔEと比較する。
【0073】この比較の結果、|ΔPi|>ΔEである
パルスが発生した場合、当該発振休止時間tに対応する
Q個の放電電圧データのうち|ΔPi|>ΔEであるパ
ルス番号をもつ放電電圧データのみを、対応する制御ゲ
インGxを用いて補正更新(Vi´=Vi+ΔPi・Gx)
する。
【0074】例えば、図4において、今回の発振休止時
間がt20であるとし、その発振の結果、パルス番号が2
および4のパルスに|ΔPi|>ΔEの関係が発生した
とすると、テーブルに記憶された電源電圧データV2(t
20)とV4(t20)のみが下式にしたがって補正更新され
る。
【0075】 V2(t20)´=V2(t20)+Gb・(P2−Pr) V4(t20)´=V4(t20)+Gc・(P4−Pr) すなわち、計測された発振休止時間tがT1,T2,T3
に不一致のときは、|ΔPi|>ΔEが発生したパルス
についての放電電圧データのうち、当該発振休止時間t
に対応する放電電圧データのみが補正更新される。この
結果、放電電圧データは、図7に示した直線補間関係を
崩す特異点(図7の点30参照)を持つようになる。
【0076】次に、計測された発振休止時間tがT1,
T2,T3のうちの何れかに一致のときの動作について説
明する。
【0077】このような場合、|ΔPi|>ΔEが発生
したパルス番号のパルスに関しては、当該発振停止時間
(この場合はT1,T2,T3のうちの何れか)に対応す
る放電電圧データのみを補正更新するのではなく、当該
パルス番号に対応する全ての(全発振停止時間の)放電
電圧データを補正更新するようにする。そして、この補
正の際には、各制御領域α〜γ毎に設定された3つの異
なる制御ゲイン(Gx,Gx´,Gx″)を用いるように
する。
【0078】例えば、発振休止時間tがT2(=t21)
に一致した場合の発振において、パルス番号が5のパル
スに|ΔPi|>ΔEの関係が発生したとする。
【0079】この場合は、パルス番号が5に対応する全
ての放電電圧データV5(t1)〜V5(t53)〜を下式にした
がって補正更新する。
【0080】t1〜t20の放電電圧データ V5(t1 )´=V5(t1)+Gc・(P5−Pr) : : V5(t20)´=V5(t20)+Gc・(P5−Pr) t21〜t50の放電電圧データ V5(t21)´=V5(t21)+Gc´・(P5−Pr) : : V5(t50)´=V5(t50)+Gc´・(P5−Pr) t51〜の放電電圧データ V5(t51)´=V5(t51)+Gc″・(P5−Pr) : : 図7の一点鎖線はこの補正の様子をグラフ上で示したも
ので、各制御領域α〜制御領域γ毎に異なる制御ゲイン
による補正が行われることにより、補正後の発振休止時
間と放電電圧との関係は不連続なものとなる。すなわ
ち、休止時間がT2のときの放電電圧データは2つとな
り、また休止時間がT3のときの放電電圧データも2つ
となる。したがって、このような場合は、経験則などに
よって何れを選択するかの規則を作り、該規則にしたが
って何れかの放電電圧データを選択するようにすればよ
い。
【0081】以上が最初の10パルス程度を制御対象と
する放電電圧データテーブル制御の詳細である。
【0082】次に、図1に示した制御領域Dに含まれる
パルスに対して実行される毎パルス制御に関して説明す
る。
【0083】この毎パルス制御においては、まず今回の
バースト周期内の既に出力されたパルスのパルスエネル
ギー値Piとそのときの放電電圧Viを用いて当該パルス
の放電電圧Vを決定する。
【0084】参照するパルス番号に関しては、(1)当該
パルスの直前のパルスのパルスエネルギー値Piと、そ
のときの充電電圧Vi、(2)当該パルスのN(例えばN=
2、N=3など)個前のパルスのパルスエネルギー値P
iと、そのときの充電電圧Vi、(3)当該パルスのパルス
番号より若いパルス番号を持つn個のパルスのパルスエ
ネルギーPi〜Pi+nの平均値と、それらに対応する充電
電圧Vi〜Vi+nの平均値等がある。
【0085】つぎに、上記読み出したパルスエネルギー
値Piと充電電圧Viを用いてパルスエネルギーを目標値
Prとするための充電電圧値Vを演算する。
【0086】すなわち、前記読み出したデータ(Pi,
Vi)のパルスエネルギー値Piを目標エネルギー値Pr
と比較し、Pi=Prである場合は、充電電圧値V=Vi
とし、Pr>Piである場合は、V=Vi+Gd・ΔVc
(ΔVc:所定の設定値)とし、Pr<Piである場合
は、V=Vi−Gd・ΔVcとする。
【0087】なお、プラトー領域の電圧はプラトー領域
のパルスの電圧に基づいて計算するようにしたほうがよ
い。
【0088】以上が、最初の制御領域Dのパルスに対し
て行われる毎パルス制御の詳細である。
【0089】次に、図8のフローチャートにしたがって
1バースト周期内で行われる放電電圧制御について順を
追って説明する。
【0090】当該バースト周期が開始される時点で、当
該バースト周期の発振休止時間tが計測される。次に、
当該バースト周期が開始されると、当該パルスが1パル
ス目であるか否かが判定され、1パルス目である場合
は、制御領域A用のテーブル制御を実行する(ステップ
100,110)。すなわち、電源電圧データテーブル
から、前記計測した発振休止時間tに対応しかつパルス
番号1に対応する電源電圧データV1が読み出され、該
読み出した電源電圧値V1になるように印加電圧が制御
される。この印加電圧V1によって実際に発振されたパ
ルスの出力P1が光モニタモジュール8でモニタされ
る。レーザコントローラ6は、このモニタ値P1を目標
値Prと比較し(ΔP1=P1−Pr)、|ΔP1|>ΔE
である場合は、パルス番号1に対応するテーブルデータ
を制御ゲインGaをもって補正する。なお、計測した発
振休止時間tが前記T1,T2,T3のいずれかに一致し
ている場合は、パルス番号1に対応するテーブルデータ
を全て補正更新し、一致していない場合はパルス番号1
に対応するテーブルデータの中で当該発振休止時間に対
応するテーブルデータのみを補正する。
【0091】次に、設定されたカウントパルス値B(こ
の場合は1)が−1された後、制御領域B用のテーブル
制御が実行される(ステップ120,130)。すなわ
ち、電源電圧データテーブルから、前記計測した発振休
止時間tに対応しかつパルス番号2に対応する電源電圧
データV2が読み出され、該読み出した電源電圧値V2に
なるように印加電圧が制御される。この印加電圧V2に
よって実際に発振されたパルスの出力P2が光モニタモ
ジュール8でモニタされる。レーザコントローラ6は、
このモニタ値P2を目標値Prと比較し(ΔP2=P2−P
r)、|ΔP2|>ΔEである場合は、パルス番号2に対
応するテーブルデータを制御ゲインGbをもって補正す
る。なお、前記同様、計測した発振休止時間tが前記T
1,T2,T3のいずれかに一致している場合は、パルス
番号2に対応するテーブルデータを全て補正更新し、一
致していない場合はパルス番号2に対応するテーブルデ
ータの中で当該発振休止時間に対応するテーブルデータ
のみを補正する。
【0092】次に、カウントパルス値Bが0に一致して
いるか否かが判定され、一致していない場合は制御領域
B用のテーブル制御がB=0となるまで繰り返し行われ
る(ステップ140)。この場合には、B=1に設定し
ているので、手順は次のステップ150に移行する。
【0093】次に、設定されたカウントパルス値C(こ
の場合は10)が−1された後、制御領域C用のテーブ
ル制御が実行される(ステップ150,160)。すな
わち、電源電圧データテーブルから、前記計測した発振
休止時間tに対応しかつパルス番号3に対応する電源電
圧データV3が読み出され、該読み出した電源電圧値V3
になるように印加電圧が制御される。この印加電圧V3
によって実際に発振されたパルスの出力P3が光モニタ
モジュール8でモニタされる。レーザコントローラ6
は、このモニタ値P3を目標値Prと比較し(ΔP3=P3
−Pr)、|ΔP3|>ΔEである場合は、パルス番号3
に対応するテーブルデータを制御ゲインGcをもって補
正する。なお、前記同様、計測した発振休止時間tが前
記T1,T2,T3のいずれかに一致している場合は、パ
ルス番号3に対応するテーブルデータを全て補正更新
し、一致していない場合はパルス番号3に対応するテー
ブルデータの中で当該発振休止時間に対応するテーブル
データのみを補正する。
【0094】次に、カウントパルス値Cが0に一致して
いるか否かが判定され、一致していない場合は制御領域
C用のテーブル制御がC=0となるまで繰り返し行われ
る(ステップ170)。この場合には、C=10に設定
しているので、結果的に制御領域Cのテーブル制御がパ
ルス番号が3〜12である10個のパルスについて実行
される事になる。
【0095】以上のようにして、電源電圧データテーブ
ルを用いたテーブル制御が終了すると、これ以降は前述
した毎パルス制御が実行されることになる(ステップ1
80)。この毎パルス制御においては、今回のバースト
周期内の既に出力されたパルスのパルスエネルギー値P
iとそのときの放電電圧Viを用いて当該パルスの放電電
圧Vが決定される。
【0096】なお、上記実施例では、テーブル補正用の
制御ゲインGをパルス番号及び発振休止時間に対応して
制御領域(ブロック)単位に変化させるようにしたが、
パルス番号のみに対応して制御ゲインGを変化させるよ
うにしてもよく、さらには発振休止時間のみに対応して
制御ゲインGを変化させるようにしてもよい。
【0097】また、上記実施例では、制御ゲインGを制
御領域(ブロック)単位に変化させるようにしたが、パ
ルス番号単位に変化させるようにしてもよく、さらには
発振休止時間の基本単位毎に(図4のt1,t2,t3,t4
毎に)変化させるようにしてもよい。
【0098】また、上記実施例で設定した各制御領域A
〜Dに含まれるパルス数は任意であり、また1バースト
周期内で分割する制御領域の個数も任意である。
【0099】また、上記実施例では、制御領域Dにおい
て毎パルス制御を行うようにしたが、制御領域Dにおい
ても他の制御領域A〜Cと同様に放電電圧データテーブ
ルを用いた放電電圧制御を行うようにしてもよい。この
場合、制御領域Dのゲイン定数をGdとし、Ga<Gb<
Gc<Gdが成立するようにGd値を設定するようにすれ
ばよい。
【0100】また上記実施例では、テーブルを補正する
際、計測された休止時間tが代表的な休止時間T1、T
2、T3に一致したときに当該パルス番号に対応する全て
のテーブルデータを補正するようにしたが、計測された
休止時間tが代表的な休止時間T1、T2、T3に不一致
のときにも全てのテーブルデータを補正するようにして
もよい。さらに、計測された休止時間tが代表的な休止
時間T1、T2、T3に一致したときに、該代表的な休止
時間に対応するテーブルデータのみを補正更新するよう
にしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例について1バースト周期内の
分割された制御領域を示す図。
【図2】この発明の実施例構成を示すブロック図。
【図3】バースト信号、レーザ発振同期信号のタイムチ
ャート。
【図4】電源電圧データテーブル及び制御ゲインの割り
付け態様を示す図。
【図5】セルフリカバーモード及びセルフロックモード
のタイムチャート。
【図6】セルフリカバーモードの詳細タイムチャート。
【図7】電源電圧データテーブルに記憶される電源電圧
データの作成手法を示す図。
【図8】1バースト周期内の放電電圧制御動作を示すフ
ローチャート。
【図9】ウェハ上のICチップを示す平面図。
【図10】充電電圧を一定にした場合のバースト運転に
おけるパルスエネルギー波形を示す図。
【図11】発振休止時間とレーザ出力の関係を示す図。
【図12】1バースト周期におけるパルスエネルギー波
形示す拡大図。
【図13】放電電圧とパルス光パワーの関係を示す図。
【符号の説明】
1…レーザ装置 3…狭帯域化ユニット 6…レーザコントローラ 20…露光装置 1…エキシマレーザ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂西 昇一 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内 (72)発明者 高橋 知和 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内

Claims (24)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】レーザ光を所定回数連続してパルス発振さ
    せる連続発振動作と、このパルス発振を所定の発振休止
    時間の間だけ休止する停止動作を交互に実行する運転を
    1バースト周期とするバーストモード運転を繰り返し行
    ない、前記パルス発振の各出力エネルギーが所定の目標
    値範囲内に入るようにレーザの電源電圧を制御するレー
    ザ装置において、 1バースト周期内でのパルスの順番を示すパルス番号及
    び複数の異なる発振休止時間をパラメータとして、前記
    各パルス発振の出力を前記目標値近傍の所定の許容値内
    の値とする電源電圧の初期値をそれぞれ予め記憶する電
    圧データテーブル手段と、 複数のパルスが含まれる1バースト周期を複数のブロッ
    クに分割し、前記電源電圧データテーブル手段に記憶さ
    れた電源電圧値を補正する際に用いる制御ゲインをパル
    ス番号が小さなパルスを含むブロックほどその値が小さ
    くなるようにブロック単位に異なる値を設定するととも
    に、発振休止時間をその時間の大小に対応して複数のブ
    ロックに分割し、前記制御ゲインを時間が大きな発振休
    止時間を含むブロックほどその値が小さくなるようにブ
    ロック単位に異なる値を設定する制御ゲイン設定手段
    と、 前記発振休止時間を1バースト周期毎に計測する発振休
    止時間計測手段と、 1バースト周期の度に、前記電源電圧データテーブル手
    段から前記計測した発振休止時間に対応しかつパルス番
    号が対応する電源電圧値を読み出し、該読み出した電源
    電圧値にしたがってパルス発振を行わせる発振制御手段
    と、 連続発振の各パルスの出力をパルス番号に対応付けて順
    次モニタするモニタ手段と、 前記モニタ手段でモニタされた各パルスの出力値と前記
    目標値との差を各パルス毎に求め、この差が許容限界を
    超えたパルスに関しては、該パルスのパルス番号および
    前記計測された発振休止時間に対応する前記電圧データ
    テーブル手段の記憶電源電圧値を、当該パルス番号およ
    び前記計測された発振休止時間に対応するブロックに設
    定された前記制御ゲイン設定手段の制御ゲインと前記差
    とを用いてそれぞれ補正更新するテーブル補正手段と、 を具えるようにしたことを特徴とするガスレーザ装置。
  2. 【請求項2】前記テーブル補正手段は、当該制御ゲイン
    に前記差を掛けた値に、前記電圧データテーブル手段の
    記憶電源電圧値を加算した値を前記補正演算結果とし、
    この補正演算結果をもって前記電圧データテーブル手段
    の記憶電源電圧値を更新する請求項1記載のガスレーザ
    装置。
  3. 【請求項3】前記電源電圧データテーブルは、代表的な
    複数の発振休止時間に対応する前記電源電圧の初期値を
    パルス番号別に予め求め、これら複数の電源電圧の初期
    値をパルス番号毎に直線補間することにより作成される
    ことを特徴とする請求項1記載のガスレーザ装置。
  4. 【請求項4】前記電源電圧データテーブルは、前記代表
    的な複数の発振休止時間のうちの最も大きな値より大き
    な発振休止時間に関する電源電圧データは、前記代表的
    な複数の発振休止時間のうちの最も大きな値に対応する
    電源電圧データで代用することを特徴とする請求項3記
    載のガスレーザ装置。
  5. 【請求項5】前記電源電圧データテーブルは、前記代表
    的な複数の発振休止時間のうちの最も小さな値より小さ
    な発振休止時間に関する電源電圧データは、前記代表的
    な複数の発振休止時間のうちの最も小さな値に対応する
    電源電圧データで代用することを特徴とする請求項3記
    載のガスレーザ装置。
  6. 【請求項6】前記テーブル補正手段は、前記発振休止時
    間計測手段によって計測した発振休止時間が前記複数の
    代表的な発振休止時間のいずれかに一致した場合は、前
    記モニタ手段でモニタされた各パルスの出力値と前記目
    標値との差が許容限界を超えたパルスに関しては、該パ
    ルスのパルス番号に対応する前記電圧データテーブル手
    段の全ての記憶電源電圧値を、前記差に応じて当該パル
    ス番号に対応する複数の異なる制御ゲインをもってそれ
    ぞれ各別に補正更新することを特徴とする請求項3記載
    のガスレーザ装置。
  7. 【請求項7】前記電源電圧データテーブル手段には、1
    バースト周期内の最初の所定個数のパルスに関してのみ
    の電源電圧値が記憶されており、 前記発振制御手段によるパルス発振制御及び前記テーブ
    ル補正手段による記憶電源電圧データ補正制御は、前記
    最初の所定個数のパルスに関してのみ実行されることを
    特徴とする請求項1記載のガスレーザ装置。
  8. 【請求項8】前記最初の所定個数のパルス以降に発生さ
    せるパルスに関しては、前記モニタ手段からから得た今
    回のバースト周期内で既に出力された少なくとも1つの
    パルスのモニタ値およびそのときの電源電圧値に基づい
    て今回のパルス発振の際の電源電圧値を演算し、この電
    源電圧値に基づいてパルス発振を行う請求項7記載のガ
    スレーザ装置。
  9. 【請求項9】レーザ光を所定回数連続してパルス発振さ
    せる連続発振動作と、このパルス発振を所定の発振休止
    時間の間だけ休止する停止動作を交互に実行する運転を
    1バースト周期とするバーストモード運転を繰り返し行
    ない、前記パルス発振の各出力エネルギーが所定の目標
    値範囲内に入るようにレーザの電源電圧を制御するレー
    ザ装置において、 1バースト周期内でのパルスの順番を示すパルス番号及
    び複数の異なる発振休止時間をパラメータとして、前記
    各パルス発振の出力を前記目標値近傍の所定の許容値内
    の値とする電源電圧の初期値をそれぞれ予め記憶する電
    圧データテーブル手段と、 複数のパルスが含まれる1バースト周期を複数のブロッ
    クに分割し、前記電源電圧データテーブル手段に記憶さ
    れた電源電圧値を補正する際に用いる制御ゲインをパル
    ス番号が小さなパルスを含むブロックほどその値が小さ
    くなるようにブロック単位に異なる値を設定する制御ゲ
    イン設定手段と、 前記発振休止時間を1バースト周期毎に計測する発振休
    止時間計測手段と、 1バースト周期の度に、前記電源電圧データテーブル手
    段から前記計測した発振休止時間に対応しかつパルス番
    号が対応する電源電圧値を読み出し、該読み出した電源
    電圧値にしたがってレーザ発振を行わせる発振制御手段
    と、 連続発振の各パルスの出力をパルス番号に対応付けて順
    次モニタするモニタ手段と、 前記モニタ手段でモニタされた各パルスの出力値と前記
    目標値との差を各パルス毎に求め、この差が許容限界を
    超えたパルスに関しては、該パルスのパルス番号および
    前記計測された発振休止時間に対応する前記電圧データ
    テーブル手段の記憶電源電圧値を、当該パルス番号に対
    応するブロックに設定された前記制御ゲイン設定手段の
    制御ゲインと前記差とを用いてそれぞれ補正更新するテ
    ーブル補正手段と、 を具えるようにしたことを特徴とするガスレーザ装置。
  10. 【請求項10】前記テーブル補正手段は、当該制御ゲイ
    ンに前記差を掛けた値に、前記電圧データテーブル手段
    の記憶電源電圧値を加算した値を前記補正演算結果と
    し、この補正演算結果をもって前記電圧データテーブル
    手段の記憶電源電圧値を更新する請求項9記載のガスレ
    ーザ装置。
  11. 【請求項11】前記電源電圧データテーブルは、代表的
    な複数の発振休止時間に対応する前記電源電圧の初期値
    をパルス番号別に予め求め、これら複数の電源電圧の初
    期値をパルス番号毎に直線補間することにより作成され
    ることを特徴とする請求項9記載のガスレーザ装置。
  12. 【請求項12】前記電源電圧データテーブルは、前記代
    表的な複数の発振休止時間のうちの最も大きな値より大
    きな発振休止時間に関する電源電圧データは、前記代表
    的な複数の発振休止時間のうちの最も大きな値に対応す
    る電源電圧データで代用することを特徴とする請求項1
    1記載のガスレーザ装置。
  13. 【請求項13】前記電源電圧データテーブルは、前記代
    表的な複数の発振休止時間のうちの最も小さな値より小
    さな発振休止時間に関する電源電圧データは、前記代表
    的な複数の発振休止時間のうちの最も小さな値に対応す
    る電源電圧データで代用することを特徴とする請求項1
    1記載のガスレーザ装置。
  14. 【請求項14】前記テーブル補正手段は、前記発振休止
    時間計測手段によって計測した発振休止時間が前記複数
    の代表的な発振休止時間のいずれかに一致した場合は、
    前記モニタ手段でモニタされた各パルスの出力値と前記
    目標値との差が許容限界を超えたパルスに関しては、該
    パルスのパルス番号に対応する前記電圧データテーブル
    手段の全ての記憶電源電圧値を、前記差に応じて当該パ
    ルス番号に対応する制御ゲインをもってそれぞれ補正更
    新することを特徴とする請求項11記載のガスレーザ装
    置。
  15. 【請求項15】前記電源電圧データテーブル手段には、
    1バースト周期内の最初の所定個数のパルスに関しての
    みの電源電圧値が記憶されており、 前記発振制御手段によるパルス発振制御及び前記テーブ
    ル補正手段による記憶電源電圧データ補正制御は、前記
    最初の所定個数のパルスに関してのみ実行されることを
    特徴とする請求項9記載のガスレーザ装置。
  16. 【請求項16】前記最初の所定個数のパルス以降に発生
    させるパルスに関しては、前記モニタ手段からから得た
    今回のバースト周期内で既に出力された少なくとも1つ
    のパルスのモニタ値およびそのときの電源電圧値に基づ
    いて今回のパルス発振の際の電源電圧値を演算し、この
    電源電圧値に基づいてパルス発振を行う請求項15記載
    のガスレーザ装置。
  17. 【請求項17】レーザ光を所定回数連続してパルス発振
    させる連続発振動作と、このパルス発振を所定の発振休
    止時間の間だけ休止する停止動作を交互に実行する運転
    を1バースト周期とするバーストモード運転を繰り返し
    行ない、前記パルス発振の各出力エネルギーが所定の目
    標値範囲内に入るようにレーザの電源電圧を制御するレ
    ーザ装置において、 1バースト周期内でのパルスの順番を示すパルス番号及
    び複数の異なる発振休止時間をパラメータとして、前記
    各パルス発振の出力を前記目標値近傍の所定の許容値内
    の値とする電源電圧の初期値をそれぞれ予め記憶する電
    圧データテーブル手段と、 発振休止時間をその時間の大小に対応して複数のブロッ
    クに分割し、前記電源電圧データテーブル手段に記憶さ
    れた電源電圧値を補正する際に用いる制御ゲインを時間
    が大きな発振休止時間を含むブロックほどその値が小さ
    くなるようにブロック単位に異なる値を設定する制御ゲ
    イン設定手段と、 前記発振休止時間を1バースト周期毎に計測する発振休
    止時間計測手段と、 1バースト周期の度に、前記電源電圧データテーブル手
    段から前記計測した発振休止時間に対応しかつパルス番
    号が対応する電源電圧値を読み出し、該読み出した電源
    電圧値にしたがってパルス発振を行わせる発振制御手段
    と、 連続発振の各パルスの出力をパルス番号に対応付けて順
    次モニタするモニタ手段と、 前記モニタ手段でモニタされた各パルスの出力値と前記
    目標値との差を各パルス毎に求め、この差が許容限界を
    超えたパルスに関しては、該パルスのパルス番号および
    前記計測された発振休止時間に対応する前記電圧データ
    テーブル手段の記憶電源電圧値を、前記計測された発振
    休止時間に対応するブロックに設定された前記制御ゲイ
    ン設定手段の制御ゲインと前記差とを用いてそれぞれ補
    正更新するテーブル補正手段と、 を具えるようにしたことを特徴とするガスレーザ装置。
  18. 【請求項18】前記テーブル補正手段は、当該制御ゲイ
    ンに前記差を掛けた値に、前記電圧データテーブル手段
    の記憶電源電圧値を加算した値を前記補正演算結果と
    し、この補正演算結果をもって前記電圧データテーブル
    手段の記憶電源電圧値を更新する請求項17記載のガス
    レーザ装置。
  19. 【請求項19】前記電源電圧データテーブルは、代表的
    な複数の発振休止時間に対応する前記電源電圧の初期値
    をパルス番号別に予め求め、これら複数の電源電圧の初
    期値をパルス番号毎に直線補間することにより作成され
    ることを特徴とする請求項17記載のガスレーザ装置。
  20. 【請求項20】前記電源電圧データテーブルは、前記代
    表的な複数の発振休止時間のうちの最も大きな値より大
    きな発振休止時間に関する電源電圧データは、前記代表
    的な複数の発振休止時間のうちの最も大きな値に対応す
    る電源電圧データで代用することを特徴とする請求項1
    9記載のガスレーザ装置。
  21. 【請求項21】前記電源電圧データテーブルは、前記代
    表的な複数の発振休止時間のうちの最も小さな値より小
    さな発振休止時間に関する電源電圧データは、前記代表
    的な複数の発振休止時間のうちの最も小さな値に対応す
    る電源電圧データで代用することを特徴とする請求項1
    9記載のガスレーザ装置。
  22. 【請求項22】前記テーブル補正手段は、前記発振休止
    時間計測手段によって計測した発振休止時間が前記複数
    の代表的な発振休止時間のいずれかに一致した場合は、
    前記モニタ手段でモニタされた各パルスの出力値と前記
    目標値との差が許容限界を超えたパルスに関しては、該
    パルスのパルス番号に対応する前記電圧データテーブル
    手段の全ての記憶電源電圧値を、前記差に応じて前記制
    御ゲイン設定手段に設定された複数の異なる制御ゲイン
    をもってそれぞれ補正更新することを特徴とする請求項
    19記載のガスレーザ装置。
  23. 【請求項23】前記電源電圧データテーブル手段には、
    1バースト周期内の最初の所定個数のパルスに関しての
    みの電源電圧値が記憶されており、 前記発振制御手段によるパルス発振制御及び前記テーブ
    ル補正手段による記憶電源電圧データ補正制御は、前記
    最初の所定個数のパルスに関してのみ実行されることを
    特徴とする請求項17記載のガスレーザ装置。
  24. 【請求項24】前記最初の所定個数のパルス以降に発生
    させるパルスに関しては、前記モニタ手段からから得た
    今回のバースト周期内で既に出力された少なくとも1つ
    のパルスのモニタ値およびそのときの電源電圧値に基づ
    いて今回のパルス発振の際の電源電圧値を演算し、この
    電源電圧値に基づいてパルス発振を行う請求項23記載
    のガスレーザ装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000058944A (ja) * 1998-05-20 2000-02-25 Cymer Inc 高信頼性・モジュラ製造高品質狭帯域高繰り返しレ―トf2レ―ザ
JP2000077762A (ja) * 1998-05-20 2000-03-14 Cymer Inc 高信頼性・モジュラ製造高品質狭帯域高繰り返しレ―トArFエキシマレ―ザ
JP2000340869A (ja) * 1999-03-19 2000-12-08 Cymer Inc 可視赤及びirコントロールを備えたf2レーザー
WO2021048947A1 (ja) * 2019-09-11 2021-03-18 ギガフォトン株式会社 レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
US10971887B2 (en) 2016-03-18 2021-04-06 Gigaphoton Inc. Laser device and laser device control method

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6727731B1 (en) * 1999-03-12 2004-04-27 Lambda Physik Ag Energy control for an excimer or molecular fluorine laser
JP2003298160A (ja) * 2002-03-29 2003-10-17 Kataoka Seisakusho:Kk 固体レーザ装置
KR100555728B1 (ko) * 2003-10-16 2006-03-03 삼성전자주식회사 레이저 스캐닝 유닛의 광파워 밸런스 조정방법
JP5371208B2 (ja) * 2007-06-13 2013-12-18 ギガフォトン株式会社 2ステージレーザのパルスエネルギー制御装置
JP5452784B1 (ja) * 2012-09-05 2014-03-26 三菱電機株式会社 レーザ加工装置
US10816905B2 (en) * 2015-04-08 2020-10-27 Cymer, Llc Wavelength stabilization for an optical source
US10627724B2 (en) * 2015-09-23 2020-04-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
CN109891689B (zh) * 2016-12-05 2021-05-11 极光先进雷射株式会社 激光装置
TWI716205B (zh) 2019-11-28 2021-01-11 財團法人工業技術研究院 功率量測保護方法與雷射保護系統

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05167162A (ja) * 1991-12-18 1993-07-02 Nikon Corp エキシマレーザ制御装置及び加工装置
JPH0661565A (ja) * 1992-06-08 1994-03-04 Mitsubishi Electric Corp パルスレーザ装置
JPH06169123A (ja) * 1992-11-30 1994-06-14 Komatsu Ltd レーザ装置の出力制御装置
JPH07106678A (ja) * 1993-10-05 1995-04-21 Komatsu Ltd レーザ装置の出力制御装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1299498B (de) * 1964-07-24 1969-07-17 Steigerwald Strahltech Vorrichtung zur UEberwachung des Strahlauftreffbereichs in Korpuskularstrahl-Bearbeitungsgeraeten
US3622742A (en) * 1970-05-27 1971-11-23 Bell Telephone Labor Inc Laser machining method and apparatus
US4099262A (en) * 1977-01-24 1978-07-04 Xerox Corporation Automatic memory control feedback system for a cycling optical imaging system
US5175425A (en) * 1987-06-15 1992-12-29 Leuze Electronic Gmbh & Co. Process for marking semiconductor surfaces
US5463650A (en) * 1992-07-17 1995-10-31 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Apparatus for controlling output of an excimer laser device
JP2724993B2 (ja) * 1995-08-31 1998-03-09 株式会社小松製作所 レーザ加工装置およびレーザ装置
DE69617254T2 (de) * 1995-09-27 2002-07-04 Komatsu Mfg Co Ltd Laservorrichtung
US6128323A (en) * 1997-04-23 2000-10-03 Cymer, Inc. Reliable modular production quality narrow-band high REP rate excimer laser

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05167162A (ja) * 1991-12-18 1993-07-02 Nikon Corp エキシマレーザ制御装置及び加工装置
JPH0661565A (ja) * 1992-06-08 1994-03-04 Mitsubishi Electric Corp パルスレーザ装置
JPH06169123A (ja) * 1992-11-30 1994-06-14 Komatsu Ltd レーザ装置の出力制御装置
JPH07106678A (ja) * 1993-10-05 1995-04-21 Komatsu Ltd レーザ装置の出力制御装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000058944A (ja) * 1998-05-20 2000-02-25 Cymer Inc 高信頼性・モジュラ製造高品質狭帯域高繰り返しレ―トf2レ―ザ
JP2000077762A (ja) * 1998-05-20 2000-03-14 Cymer Inc 高信頼性・モジュラ製造高品質狭帯域高繰り返しレ―トArFエキシマレ―ザ
JP2000340869A (ja) * 1999-03-19 2000-12-08 Cymer Inc 可視赤及びirコントロールを備えたf2レーザー
US10971887B2 (en) 2016-03-18 2021-04-06 Gigaphoton Inc. Laser device and laser device control method
WO2021048947A1 (ja) * 2019-09-11 2021-03-18 ギガフォトン株式会社 レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
US11695248B2 (en) 2019-09-11 2023-07-04 Gigaphoton Inc. Laser device and electronic device manufacturing method

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