JPH10144766A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPH10144766A JPH10144766A JP31430396A JP31430396A JPH10144766A JP H10144766 A JPH10144766 A JP H10144766A JP 31430396 A JP31430396 A JP 31430396A JP 31430396 A JP31430396 A JP 31430396A JP H10144766 A JPH10144766 A JP H10144766A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cassette
- valve
- wafer
- inert gas
- cassette storage
- Prior art date
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- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】バッファカセット庫でのウェーハカセットの待
機状態での無用の酸化を防止し、更にカセット収納ケー
スの取扱いを効率よくし、作業者の負担を軽減する。 【解決手段】ウェーハカセット１４を収納するバッファ
カセット庫２１を具備する半導体製造装置に於いて、前
記ウェーハカセットがカセット収納ケースに収納された
状態で前記バッファカセット庫に収納される構成であ
り、又バッファカセット庫のウェーハカセットを受載す
る受載棚に不活性ガス供給管、排気管が接続され、カセ
ット収納ケースが前記受載棚に載置された状態でカセッ
ト収納ケース内部に不活性ガスが供給される構成であ
り、バッファカセット庫に収納されるウェーハカセット
はカセット収納ケースに収納された状態となっているの
で、空のカセット収納ケースの処理を考慮することな
く、作業性が向上し、又バッファカセット庫で待機中の
ウェーハカセットはカセット収納ケース内で不活性ガス
雰囲気となっているので無用の酸化が防止される。
機状態での無用の酸化を防止し、更にカセット収納ケー
スの取扱いを効率よくし、作業者の負担を軽減する。 【解決手段】ウェーハカセット１４を収納するバッファ
カセット庫２１を具備する半導体製造装置に於いて、前
記ウェーハカセットがカセット収納ケースに収納された
状態で前記バッファカセット庫に収納される構成であ
り、又バッファカセット庫のウェーハカセットを受載す
る受載棚に不活性ガス供給管、排気管が接続され、カセ
ット収納ケースが前記受載棚に載置された状態でカセッ
ト収納ケース内部に不活性ガスが供給される構成であ
り、バッファカセット庫に収納されるウェーハカセット
はカセット収納ケースに収納された状態となっているの
で、空のカセット収納ケースの処理を考慮することな
く、作業性が向上し、又バッファカセット庫で待機中の
ウェーハカセットはカセット収納ケース内で不活性ガス
雰囲気となっているので無用の酸化が防止される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は内部にバァッファ棚
を有する半導体製造装置に関するものである。
を有する半導体製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６に於いて従来の半導体製造装置につ
いて説明する。
いて説明する。
【０００３】筐体１の前面にはカセット授受ステージ２
が設けられ、該カセット授受ステージ２の下側にはカセ
ットローダ３が設けられている。前記筐体１の内部上方
にバッファカセット庫４、該バッファカセット庫４の下
方にカセット受載テーブル５が設けられ、前記バッファ
カセット庫４と前記カセット授受ステージ２との間には
カセット移載機６が設けられている。該カセット移載機
６は昇降機７により昇降可能であり、又カセット移載機
６自体鉛直軸心を中心に回転自在となっている。
が設けられ、該カセット授受ステージ２の下側にはカセ
ットローダ３が設けられている。前記筐体１の内部上方
にバッファカセット庫４、該バッファカセット庫４の下
方にカセット受載テーブル５が設けられ、前記バッファ
カセット庫４と前記カセット授受ステージ２との間には
カセット移載機６が設けられている。該カセット移載機
６は昇降機７により昇降可能であり、又カセット移載機
６自体鉛直軸心を中心に回転自在となっている。
【０００４】前記筐体１内部の後部位上方には熱処理炉
９が設けられ、該熱処理炉９に対してボート１０がボー
トエレベータ１１により挿脱可能となっている。
９が設けられ、該熱処理炉９に対してボート１０がボー
トエレベータ１１により挿脱可能となっている。
【０００５】前記カセット受載テーブル５と前記ボート
１０間にはウェーハ移載機１２が設けられ、該ウェーハ
移載機１２は図示しない昇降機により昇降可能であると
共にウェーハ移載機１２自体は鉛直軸心を中心に回転自
在となっている。
１０間にはウェーハ移載機１２が設けられ、該ウェーハ
移載機１２は図示しない昇降機により昇降可能であると
共にウェーハ移載機１２自体は鉛直軸心を中心に回転自
在となっている。
【０００６】半導体製造装置外部でのウェーハの搬送は
ウェーハカセット１４に装填され、更に該ウェーハカセ
ット１４がカセット収納ケース１５に密閉状態で収納さ
れ、該カセット収納ケース１５が外部搬送装置により、
或は作業者自身により搬送されていた。
ウェーハカセット１４に装填され、更に該ウェーハカセ
ット１４がカセット収納ケース１５に密閉状態で収納さ
れ、該カセット収納ケース１５が外部搬送装置により、
或は作業者自身により搬送されていた。
【０００７】カセット収納ケース１５が前記カセット授
受ステージ２に載置されると、前記カセットローダ３は
カセット収納ケース１５内部のウェーハカセット１４を
下方に取出し、前記カセット移載機６がウェーハカセッ
ト１４を把持する。カセット移載機６は前記昇降機７に
よる昇降、更にカセット移載機６自体の回転、更にアー
ム１６の伸縮で前記カセット受載テーブル５、或はバッ
ファカセット庫４の所要の位置の棚にウェーハカセット
１４を移載する。
受ステージ２に載置されると、前記カセットローダ３は
カセット収納ケース１５内部のウェーハカセット１４を
下方に取出し、前記カセット移載機６がウェーハカセッ
ト１４を把持する。カセット移載機６は前記昇降機７に
よる昇降、更にカセット移載機６自体の回転、更にアー
ム１６の伸縮で前記カセット受載テーブル５、或はバッ
ファカセット庫４の所要の位置の棚にウェーハカセット
１４を移載する。
【０００８】カセット受載テーブル５に載置されたウェ
ーハカセット１４のウェーハ１７は前記ウェーハ移載機
１２により前記ボート１０に移載される。通常ボート１
０への移載枚数は１つのウェーハカセット１４が保持す
るウェーハ枚数より多いので、空になったウェーハカセ
ット１４とウェーハ１７が装填されたウェーハカセット
１４との交換が前記カセット移載機６によりバッファカ
セット庫４とカセット受載テーブル５間で行われ、ウェ
ーハ１７の移載が更に行われる。
ーハカセット１４のウェーハ１７は前記ウェーハ移載機
１２により前記ボート１０に移載される。通常ボート１
０への移載枚数は１つのウェーハカセット１４が保持す
るウェーハ枚数より多いので、空になったウェーハカセ
ット１４とウェーハ１７が装填されたウェーハカセット
１４との交換が前記カセット移載機６によりバッファカ
セット庫４とカセット受載テーブル５間で行われ、ウェ
ーハ１７の移載が更に行われる。
【０００９】前記ボート１０に所定枚数のウェーハ１７
が装填されると、前記ボートエレベータ１１がボート１
０を前記熱処理炉９内に装入してウェーハ１７への成
膜、不純物の拡散等所定の処理が行われる。
が装填されると、前記ボートエレベータ１１がボート１
０を前記熱処理炉９内に装入してウェーハ１７への成
膜、不純物の拡散等所定の処理が行われる。
【００１０】ウェーハ１７への処理が完了すると、前記
ボートエレベータ１１によりボート１０が引出され、前
記ウェーハ移載機１２によりボート１０からウェーハカ
セット１４へのウェーハ１７の移載が行われ、更に前記
カセット移載機６によりバッファカセット庫４へのウェ
ーハカセット１４の移載、更には前記バッファカセット
庫４からカセットローダ３へのウェーハカセット１４の
搬送が行われ、前記カセット授受ステージ２を経て外部
に搬出される。
ボートエレベータ１１によりボート１０が引出され、前
記ウェーハ移載機１２によりボート１０からウェーハカ
セット１４へのウェーハ１７の移載が行われ、更に前記
カセット移載機６によりバッファカセット庫４へのウェ
ーハカセット１４の移載、更には前記バッファカセット
庫４からカセットローダ３へのウェーハカセット１４の
搬送が行われ、前記カセット授受ステージ２を経て外部
に搬出される。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】前記バッファカセット
庫４に収納されたウェーハカセット１４の全てが同時に
処理の対象となるとは限らず、処理の順番が来る迄待機
状態となるものもある。ところがウェーハの表面処理の
中には長時間大気中に放置されると自然酸化により品質
が劣化を起こすものがある。従って、ウェーハカセット
１４をバッファカセット庫４に収納させ、待機させるこ
とに制限があった。この為、バッファカセット庫４を備
えながらバッファカセット庫４の機能を充分に生かせず
効率の悪いウェーハ処理を行わざるを得ないという問題
があった。更に、前記した様に、半導体製造装置外部で
のウェーハカセット１４の搬送は前記カセット収納ケー
ス１５に収納した状態で、埃等の汚染を防止している
が、カセット収納ケース１５に収納した状態でのウェー
ハカセット１４の搬送は前記カセット授受ステージ２迄
で、半導体製造装置内はウェーハカセット１４単体での
搬送となっていた。
庫４に収納されたウェーハカセット１４の全てが同時に
処理の対象となるとは限らず、処理の順番が来る迄待機
状態となるものもある。ところがウェーハの表面処理の
中には長時間大気中に放置されると自然酸化により品質
が劣化を起こすものがある。従って、ウェーハカセット
１４をバッファカセット庫４に収納させ、待機させるこ
とに制限があった。この為、バッファカセット庫４を備
えながらバッファカセット庫４の機能を充分に生かせず
効率の悪いウェーハ処理を行わざるを得ないという問題
があった。更に、前記した様に、半導体製造装置外部で
のウェーハカセット１４の搬送は前記カセット収納ケー
ス１５に収納した状態で、埃等の汚染を防止している
が、カセット収納ケース１５に収納した状態でのウェー
ハカセット１４の搬送は前記カセット授受ステージ２迄
で、半導体製造装置内はウェーハカセット１４単体での
搬送となっていた。
【００１２】この為、ウェーハカセット１４搬入後の空
のカセット収納ケース１５は別途半導体製造装置外で保
管しなければならず、収納棚等収納の為のスペース、保
管棚を必要とし、更に現状では空のカセット収納ケース
１５の取扱いについては作業者に任されており、非常に
煩わしいものとなっていた。
のカセット収納ケース１５は別途半導体製造装置外で保
管しなければならず、収納棚等収納の為のスペース、保
管棚を必要とし、更に現状では空のカセット収納ケース
１５の取扱いについては作業者に任されており、非常に
煩わしいものとなっていた。
【００１３】本発明は斯かる実情に鑑み、バッファカセ
ット庫でのウェーハカセットの待機状態での無用の酸化
を防止し、更にカセット収納ケースの取扱いを効率よく
し、作業者の負担を軽減するものである。
ット庫でのウェーハカセットの待機状態での無用の酸化
を防止し、更にカセット収納ケースの取扱いを効率よく
し、作業者の負担を軽減するものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、ウェーハカセ
ットを収納するバッファカセット庫を具備する半導体製
造装置に於いて、前記ウェーハカセットがカセット収納
ケースに収納された状態で前記バッファカセット庫に収
納される半導体製造装置に係り、又バッファカセット庫
のウェーハカセットを受載する受載棚に不活性ガス供給
管、排気管が接続され、カセット収納ケースが前記受載
棚に載置された状態で前記不活性ガス供給管、排気管が
カセット収納ケース内部に連通し、カセット収納ケース
内部に不活性ガスが供給される半導体製造装置に係り、
又前記カセット収納ケースの底部に受給弁、排出弁が設
けられ、前記受載棚の前記受給弁、排出弁と合致する位
置に不活性ガス供給弁、排気弁を設け、前記受給弁と不
活性ガス供給弁及び排出弁と排気弁とが合致した状態で
カセット収納ケースの自重により前記受給弁と不活性ガ
ス供給弁及び排出弁と排気弁がそれぞれ開く半導体製造
装置に係り、又前記受給弁が下方に向かって押圧される
弁体を有し、前記不活性ガス供給弁が上方に突出する円
筒状の弁座を有すると共に該弁座に上方に向かって押圧
される弁体を有し、更に該弁体より上方に向かって突出
する弁棒が前記弁座より上方に突出する半導体製造装置
に係り、又ウェーハカセットを収納したカセット収納ケ
ースを移載するカセット移載機を具備する半導体製造装
置に係り、更に又熱処理炉を具備し、該熱処理炉にボー
トを介してウェーハが挿入される半導体製造装置であ
り、該ボートを収納する第１の空間と前記カセット移載
機、バッファカセット庫が収納される第２の空間とに区
画され、両空間を区画する隔壁にカセットローダが設け
られ、該カセットローダを介して両空間間のウェーハカ
セットの移載が行われる半導体製造装置に係るものであ
る。
ットを収納するバッファカセット庫を具備する半導体製
造装置に於いて、前記ウェーハカセットがカセット収納
ケースに収納された状態で前記バッファカセット庫に収
納される半導体製造装置に係り、又バッファカセット庫
のウェーハカセットを受載する受載棚に不活性ガス供給
管、排気管が接続され、カセット収納ケースが前記受載
棚に載置された状態で前記不活性ガス供給管、排気管が
カセット収納ケース内部に連通し、カセット収納ケース
内部に不活性ガスが供給される半導体製造装置に係り、
又前記カセット収納ケースの底部に受給弁、排出弁が設
けられ、前記受載棚の前記受給弁、排出弁と合致する位
置に不活性ガス供給弁、排気弁を設け、前記受給弁と不
活性ガス供給弁及び排出弁と排気弁とが合致した状態で
カセット収納ケースの自重により前記受給弁と不活性ガ
ス供給弁及び排出弁と排気弁がそれぞれ開く半導体製造
装置に係り、又前記受給弁が下方に向かって押圧される
弁体を有し、前記不活性ガス供給弁が上方に突出する円
筒状の弁座を有すると共に該弁座に上方に向かって押圧
される弁体を有し、更に該弁体より上方に向かって突出
する弁棒が前記弁座より上方に突出する半導体製造装置
に係り、又ウェーハカセットを収納したカセット収納ケ
ースを移載するカセット移載機を具備する半導体製造装
置に係り、更に又熱処理炉を具備し、該熱処理炉にボー
トを介してウェーハが挿入される半導体製造装置であ
り、該ボートを収納する第１の空間と前記カセット移載
機、バッファカセット庫が収納される第２の空間とに区
画され、両空間を区画する隔壁にカセットローダが設け
られ、該カセットローダを介して両空間間のウェーハカ
セットの移載が行われる半導体製造装置に係るものであ
る。
【００１５】バッファカセット庫に収納されるウェーハ
カセットはカセット収納ケースに収納された状態となっ
ているので、空のカセット収納ケースの処理を考慮する
必要がなく、作業性が向上し、又バッファカセット庫で
待機中のウェーハカセットはカセット収納ケース内で不
活性ガス雰囲気となっているので無用の酸化が防止さ
れ、又発塵の可能性が高いカセット移載機等駆動機構を
収納する空間と処理の為ウェーハが露出する空間とが区
分けされているので塵埃による前記ウェーハの汚染が防
止され、高品質の処理が可能となる。
カセットはカセット収納ケースに収納された状態となっ
ているので、空のカセット収納ケースの処理を考慮する
必要がなく、作業性が向上し、又バッファカセット庫で
待機中のウェーハカセットはカセット収納ケース内で不
活性ガス雰囲気となっているので無用の酸化が防止さ
れ、又発塵の可能性が高いカセット移載機等駆動機構を
収納する空間と処理の為ウェーハが露出する空間とが区
分けされているので塵埃による前記ウェーハの汚染が防
止され、高品質の処理が可能となる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。
実施の形態を説明する。
【００１７】図１中、図６中で示したものと同一のもの
には同符号を付してある。
には同符号を付してある。
【００１８】筐体１の前面にカセット授受ステージ２０
が設けられ、前記筐体１の内部上方にバッファカセット
庫２１、該バッファカセット庫２１の下方にカセットロ
ーダ２２が設けられ、前記バッファカセット庫２１、カ
セットローダ２２と前記カセット授受ステージ２０との
間にはカセット移載機２３が設けられている。該カセッ
ト移載機２３は昇降機２４により昇降可能であり、又カ
セット移載機２３自体は鉛直軸心を中心に回転可能とな
っている。
が設けられ、前記筐体１の内部上方にバッファカセット
庫２１、該バッファカセット庫２１の下方にカセットロ
ーダ２２が設けられ、前記バッファカセット庫２１、カ
セットローダ２２と前記カセット授受ステージ２０との
間にはカセット移載機２３が設けられている。該カセッ
ト移載機２３は昇降機２４により昇降可能であり、又カ
セット移載機２３自体は鉛直軸心を中心に回転可能とな
っている。
【００１９】前記筐体１内部の後部位上方には熱処理炉
９が設けられ、該熱処理炉９に対してボート１０がボー
トエレベータ１１により挿脱可能となっている。
９が設けられ、該熱処理炉９に対してボート１０がボー
トエレベータ１１により挿脱可能となっている。
【００２０】前記カセットローダ２２と前記ボート１０
間にはウェーハ移載機１２が設けられ、該ウェーハ移載
機１２は図示しない昇降機により昇降可能であると共に
ウェーハ移載機１２自体は鉛直軸心を中心に回転自在と
なっている。
間にはウェーハ移載機１２が設けられ、該ウェーハ移載
機１２は図示しない昇降機により昇降可能であると共に
ウェーハ移載機１２自体は鉛直軸心を中心に回転自在と
なっている。
【００２１】前記カセット移載機２３はウェーハカセッ
ト１４を収納する密閉構造のカセット収納ケース１５を
移載可能であり、前記バッファカセット庫２１はカセッ
ト収納ケース１５を収納可能となっていると共に該カセ
ット収納ケース１５内に不活性ガスを供給排出可能な構
造となっている。
ト１４を収納する密閉構造のカセット収納ケース１５を
移載可能であり、前記バッファカセット庫２１はカセッ
ト収納ケース１５を収納可能となっていると共に該カセ
ット収納ケース１５内に不活性ガスを供給排出可能な構
造となっている。
【００２２】前記熱処理炉９を収納する空間と前記ボー
ト１０を収納する空間４９とは隔壁４７により区画さ
れ、又昇降機２４、カセット移載機２３を収納する空間
５０と前記空間４９とは隔壁４８により区画され、前記
バッファカセット庫２１は空間５０に収納されている。
前記カセットローダ２２は前記隔壁４８の下部に臨接し
て設けられており、該カセットローダ２２は前記空間４
９と前記空間５０とを接続する為のゲートとして機能す
る。
ト１０を収納する空間４９とは隔壁４７により区画さ
れ、又昇降機２４、カセット移載機２３を収納する空間
５０と前記空間４９とは隔壁４８により区画され、前記
バッファカセット庫２１は空間５０に収納されている。
前記カセットローダ２２は前記隔壁４８の下部に臨接し
て設けられており、該カセットローダ２２は前記空間４
９と前記空間５０とを接続する為のゲートとして機能す
る。
【００２３】前記バッファカセット庫２１を図２（Ａ）
（Ｂ）により説明する。
（Ｂ）により説明する。
【００２４】バッファカセット庫２１はカセット収納ケ
ース１５が載置される受載棚２１ａがマトリックス状に
設けられ、該各受載棚２１ａには不活性ガス供給弁２
６、排気弁２７が設けられ、前記不活性ガス供給弁２６
は供給管２８を介して図示しない不活性ガス供給源に接
続され、前記排気弁２７は排気管２９を介して図示しな
い排気装置に接続されている。又、前記カセット収納ケ
ース１５の底部の前記不活性ガス供給弁２６、排気弁２
７に対応するぞれぞれの位置には受給弁３０、排出弁３
１が設けられている。
ース１５が載置される受載棚２１ａがマトリックス状に
設けられ、該各受載棚２１ａには不活性ガス供給弁２
６、排気弁２７が設けられ、前記不活性ガス供給弁２６
は供給管２８を介して図示しない不活性ガス供給源に接
続され、前記排気弁２７は排気管２９を介して図示しな
い排気装置に接続されている。又、前記カセット収納ケ
ース１５の底部の前記不活性ガス供給弁２６、排気弁２
７に対応するぞれぞれの位置には受給弁３０、排出弁３
１が設けられている。
【００２５】前記不活性ガス供給弁２６と排気弁２７と
は同一構造であり、以下は不活性ガス供給弁２６につい
て図３により説明する。
は同一構造であり、以下は不活性ガス供給弁２６につい
て図３により説明する。
【００２６】前記受載棚２１ａには弁収納用の凹部３２
が形成され、該凹部３２に弁盤３３ａと該弁盤３３ａの
中心に弁棒３３ｂが突設された逆茸状の弁体３３が遊嵌
され、該弁体３３はスプリング３４により上方に付勢さ
れ、前記弁盤３３ａが弁座３５に押圧されている。該弁
座３５は上方に延びる筒体であり、円周面には所要数の
通孔３６が穿設され、前記弁体３３が前記弁座３５に押
圧された状態で前記弁棒３３ｂは所定量突出している。
前記供給管２８は前記凹部３２に連通している。
が形成され、該凹部３２に弁盤３３ａと該弁盤３３ａの
中心に弁棒３３ｂが突設された逆茸状の弁体３３が遊嵌
され、該弁体３３はスプリング３４により上方に付勢さ
れ、前記弁盤３３ａが弁座３５に押圧されている。該弁
座３５は上方に延びる筒体であり、円周面には所要数の
通孔３６が穿設され、前記弁体３３が前記弁座３５に押
圧された状態で前記弁棒３３ｂは所定量突出している。
前記供給管２８は前記凹部３２に連通している。
【００２７】前記受給弁３０と排出弁３１とは同一構造
であるので以下は受給弁３０について説明する。前記カ
セット収納ケース１５の底部に内鍔３７を有する弁孔３
８を穿設し、該弁孔３８の内面側に孔が穿設されたスプ
リング受け３９を設け、前記弁孔３８内にプレート状の
弁体４０を設けると共に圧縮スプリング４１を嵌設し、
該圧縮スプリング４１により前記弁体４０を前記内鍔３
７に押圧する。
であるので以下は受給弁３０について説明する。前記カ
セット収納ケース１５の底部に内鍔３７を有する弁孔３
８を穿設し、該弁孔３８の内面側に孔が穿設されたスプ
リング受け３９を設け、前記弁孔３８内にプレート状の
弁体４０を設けると共に圧縮スプリング４１を嵌設し、
該圧縮スプリング４１により前記弁体４０を前記内鍔３
７に押圧する。
【００２８】前記カセット収納ケース１５を前記受載棚
２１ａに載置すると前記不活性ガス供給弁２６と受給弁
３０、前記排気弁２７と前記排出弁３１とが合致する。
２１ａに載置すると前記不活性ガス供給弁２６と受給弁
３０、前記排気弁２７と前記排出弁３１とが合致する。
【００２９】前記弁座３５が前記弁孔３８に嵌入し、前
記弁体４０を押上げる。又、前記弁体３３が前記圧縮ス
プリング４１により前記弁体４０を介して押下げられ
る。而して、図４に示される様に、弁盤３３ａが前記弁
座３５より離反すると共に前記弁体４０が前記内鍔３７
より離反する。この状態で前記カセット収納ケース１５
の内部は前記弁孔３８、通孔３６、凹部３２を介して供
給管２８と連通し、即ちカセット収納ケース１５内部は
前記受給弁３０、不活性ガス供給弁２６を介して前記供
給管２８と連通する。同様に前記排出弁３１、排気弁２
７を介して前記排気管２９に連通する（図２（Ｂ）参
照）。
記弁体４０を押上げる。又、前記弁体３３が前記圧縮ス
プリング４１により前記弁体４０を介して押下げられ
る。而して、図４に示される様に、弁盤３３ａが前記弁
座３５より離反すると共に前記弁体４０が前記内鍔３７
より離反する。この状態で前記カセット収納ケース１５
の内部は前記弁孔３８、通孔３６、凹部３２を介して供
給管２８と連通し、即ちカセット収納ケース１５内部は
前記受給弁３０、不活性ガス供給弁２６を介して前記供
給管２８と連通する。同様に前記排出弁３１、排気弁２
７を介して前記排気管２９に連通する（図２（Ｂ）参
照）。
【００３０】前記カセットローダ２２上面に位置する受
載板４５にはウェーハカセット１４を収納したカセット
収納ケース１５が前記カセット移載機２３により移載さ
れる様になっており、前記受載板４５はローダ昇降機４
６により昇降可能であり、該ローダ昇降機４６による前
記受載板４５の昇降でウェーハカセット１４のカセット
収納ケース１５からの挿脱が可能となっている。
載板４５にはウェーハカセット１４を収納したカセット
収納ケース１５が前記カセット移載機２３により移載さ
れる様になっており、前記受載板４５はローダ昇降機４
６により昇降可能であり、該ローダ昇降機４６による前
記受載板４５の昇降でウェーハカセット１４のカセット
収納ケース１５からの挿脱が可能となっている。
【００３１】以下、作動を説明する。
【００３２】半導体製造装置外部でのウェーハの搬送は
ウェーハカセット１４に装填され、更に該ウェーハカセ
ット１４がカセット収納ケース１５に密閉状態で収納さ
れ、該カセット収納ケース１５が外部搬送装置により、
或は作業者自身によりカセット授受ステージ２０に載置
される。
ウェーハカセット１４に装填され、更に該ウェーハカセ
ット１４がカセット収納ケース１５に密閉状態で収納さ
れ、該カセット収納ケース１５が外部搬送装置により、
或は作業者自身によりカセット授受ステージ２０に載置
される。
【００３３】カセット収納ケース１５が前記カセット授
受ステージ２０に載置されると、前記カセット移載機２
３がカセット収納ケース１５を把持し、前記カセットロ
ーダ２２の受載板４５に移載する。又、同様に前記バッ
ファカセット庫２１のそれぞれの受載棚２１ａにウェー
ハカセット１４を収納したカセット収納ケース１５を移
載する。
受ステージ２０に載置されると、前記カセット移載機２
３がカセット収納ケース１５を把持し、前記カセットロ
ーダ２２の受載板４５に移載する。又、同様に前記バッ
ファカセット庫２１のそれぞれの受載棚２１ａにウェー
ハカセット１４を収納したカセット収納ケース１５を移
載する。
【００３４】前記した様にローダ昇降機４６がカセット
収納ケース１５よりウェーハカセット１４を下方に引出
し、引出されたウェーハカセット１４から前記ウェーハ
移載機１２によりボート１０へウェーハ１７が移載され
る。空になったウェーハカセット１４は前記カセット収
納ケース１５に挿入され、空のウェーハカセット１４を
収納したカセット収納ケース１５は前記カセット移載機
２３により前記バッファカセット庫２１の所要位置の受
載棚２１ａに移載される。更に、ウェーハ１７が装填さ
れているウェーハカセット１４を含むカセット収納ケー
ス１５を他の受載棚２１ａから前記カセットローダ２２
に移載し、前記したと同様にウェーハ移載機１２による
ボート１０へのウェーハ１７の移載が所定枚数に達する
迄行われる。
収納ケース１５よりウェーハカセット１４を下方に引出
し、引出されたウェーハカセット１４から前記ウェーハ
移載機１２によりボート１０へウェーハ１７が移載され
る。空になったウェーハカセット１４は前記カセット収
納ケース１５に挿入され、空のウェーハカセット１４を
収納したカセット収納ケース１５は前記カセット移載機
２３により前記バッファカセット庫２１の所要位置の受
載棚２１ａに移載される。更に、ウェーハ１７が装填さ
れているウェーハカセット１４を含むカセット収納ケー
ス１５を他の受載棚２１ａから前記カセットローダ２２
に移載し、前記したと同様にウェーハ移載機１２による
ボート１０へのウェーハ１７の移載が所定枚数に達する
迄行われる。
【００３５】前記バッファカセット庫２１に収納された
カセット収納ケース１５の内部は前記した様に前記受給
弁３０、不活性ガス供給弁２６、供給管２８を介して不
活性ガス源（図示せず）に接続され、又前記排出弁３
１、排気弁２７、排気管２９を介して排気装置に接続さ
れ、カセット収納ケース１５内部には不活性ガスが供給
され、更に排気される。
カセット収納ケース１５の内部は前記した様に前記受給
弁３０、不活性ガス供給弁２６、供給管２８を介して不
活性ガス源（図示せず）に接続され、又前記排出弁３
１、排気弁２７、排気管２９を介して排気装置に接続さ
れ、カセット収納ケース１５内部には不活性ガスが供給
され、更に排気される。
【００３６】従って、バッファカセット庫２１に収納さ
れたウェーハカセット１４は不活性ガス雰囲気に保たれ
た状態で待機する。従って、バッファカセット庫２１で
待機中も無用の酸化が防止される。又、ウェーハ１７が
半導体製造装置内部の雰囲気に露出するのはローダ昇降
機４６によりカセット収納ケース１５から引出された状
態以降であるが、ウェーハ１７は空間４９に収納され、
該空間４９はより高い清浄度に維持されているので、ウ
ェーハ１７がパーティクル等に汚染されることが防止さ
れる。
れたウェーハカセット１４は不活性ガス雰囲気に保たれ
た状態で待機する。従って、バッファカセット庫２１で
待機中も無用の酸化が防止される。又、ウェーハ１７が
半導体製造装置内部の雰囲気に露出するのはローダ昇降
機４６によりカセット収納ケース１５から引出された状
態以降であるが、ウェーハ１７は空間４９に収納され、
該空間４９はより高い清浄度に維持されているので、ウ
ェーハ１７がパーティクル等に汚染されることが防止さ
れる。
【００３７】前記ボート１０に所定枚数のウェーハ１７
が装填されると、前記ボートエレベータ１１がボート１
０を前記熱処理炉９内に装入してウェーハ１７への成
膜、不純物の拡散等所定の処理が行われる。
が装填されると、前記ボートエレベータ１１がボート１
０を前記熱処理炉９内に装入してウェーハ１７への成
膜、不純物の拡散等所定の処理が行われる。
【００３８】ウェーハ１７への処理が完了すると、前記
ボートエレベータ１１によりボート１０が引出され、前
記ウェーハ移載機１２によりボート１０からカセットロ
ーダ２２のウェーハカセット１４へのウェーハ１７の移
載が行われ、更に前記カセット移載機２３によりバッフ
ァカセット庫４へのカセット収納ケース１５の移載、更
には前記バッファカセット庫４からカセットローダ３へ
のカセット収納ケース１５の搬送が行われ、ウェーハ１
７が装填されたウェーハカセット１４はカセット収納ケ
ース１５に収納された状態で前記カセット授受ステージ
２０を経て外部に搬出される。
ボートエレベータ１１によりボート１０が引出され、前
記ウェーハ移載機１２によりボート１０からカセットロ
ーダ２２のウェーハカセット１４へのウェーハ１７の移
載が行われ、更に前記カセット移載機２３によりバッフ
ァカセット庫４へのカセット収納ケース１５の移載、更
には前記バッファカセット庫４からカセットローダ３へ
のカセット収納ケース１５の搬送が行われ、ウェーハ１
７が装填されたウェーハカセット１４はカセット収納ケ
ース１５に収納された状態で前記カセット授受ステージ
２０を経て外部に搬出される。
【００３９】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、バッフ
ァカセット庫に収納されるウェーハカセットはカセット
収納ケースに収納された状態となっているので、空のカ
セット収納ケースの処理を考慮することがなく、半導体
製造装置外でのカセット収納ケースの収納場所を考慮す
る必要がなくなり、又処理済のウェーハの回収の際、カ
セット収納ケースとの対応の管理の省略等カセット収納
ケース処理に対する作業が省略されて作業性が向上し、
又バッファカセット庫で待機中のウェーハカセットはカ
セット収納ケース内で不活性ガス雰囲気となっているの
でウェーハを大気に晒すことがなく無用の酸化が防止さ
れウェーハ品質の劣化を防止でき、バッファカセット庫
での待機時間の管理をする必要がなくなり、又発塵の可
能性が高いカセット移載機等駆動機構を収納する空間と
処理の為ウェーハが露出する空間とが区分けされている
ので塵埃による前記ウェーハの汚染が防止され、高品質
の処理が可能となる。
ァカセット庫に収納されるウェーハカセットはカセット
収納ケースに収納された状態となっているので、空のカ
セット収納ケースの処理を考慮することがなく、半導体
製造装置外でのカセット収納ケースの収納場所を考慮す
る必要がなくなり、又処理済のウェーハの回収の際、カ
セット収納ケースとの対応の管理の省略等カセット収納
ケース処理に対する作業が省略されて作業性が向上し、
又バッファカセット庫で待機中のウェーハカセットはカ
セット収納ケース内で不活性ガス雰囲気となっているの
でウェーハを大気に晒すことがなく無用の酸化が防止さ
れウェーハ品質の劣化を防止でき、バッファカセット庫
での待機時間の管理をする必要がなくなり、又発塵の可
能性が高いカセット移載機等駆動機構を収納する空間と
処理の為ウェーハが露出する空間とが区分けされている
ので塵埃による前記ウェーハの汚染が防止され、高品質
の処理が可能となる。
【図１】本発明の実施の形態を示す概略構成図である。
【図２】（Ａ）（Ｂ）は同前実施の形態でのバッファカ
セット庫の要部を示す説明図である。
セット庫の要部を示す説明図である。
【図３】バッファカセット庫、ウェーハカセットの弁を
示す部分断面図である。
示す部分断面図である。
【図４】バッファカセット庫、ウェーハカセットの弁を
示す部分断面図である。
示す部分断面図である。
【図５】（Ａ）（Ｂ）は同前実施の形態でのカセットロ
ーダの要部を示す概略説明図である。
ーダの要部を示す概略説明図である。
【図６】従来例を示す概略構成図である。
９ 熱処理炉 １０ ボート １２ ウェーハ移載機 １４ ウェーハカセット １５ カセット収納ケース １７ ウェーハ ２０ カセット授受ステージ ２１ バッファカセット庫 ２２ カセットローダ ２３ カセット移載機 ２６ 不活性ガス供給弁 ２７ 排気弁 ２８ 供給管 ２９ 排気管 ３０ 受給弁 ３１ 排出弁 ４７ 隔壁 ４８ 隔壁 ４９ 空間 ５０ 空間
Claims (6)
- 【請求項１】 ウェーハカセットを収納するバッファカ
セット庫を具備する半導体製造装置に於いて、前記ウェ
ーハカセットがカセット収納ケースに収納された状態で
前記バッファカセット庫に収納されることを特徴とする
半導体製造装置。 - 【請求項２】 バッファカセット庫のウェーハカセット
を受載する受載棚に不活性ガス供給管、排気管が接続さ
れ、カセット収納ケースが前記受載棚に載置された状態
で前記不活性ガス供給管、排気管がカセット収納ケース
内部に連通し、カセット収納ケース内部に不活性ガスが
供給される請求項１の半導体製造装置。 - 【請求項３】 前記カセット収納ケースの底部に受給
弁、排出弁が設けられ、前記受載棚の前記受給弁、排出
弁と合致する位置に不活性ガス供給弁、排気弁を設け、
前記受給弁と不活性ガス供給弁及び排出弁と排気弁とが
合致した状態でカセット収納ケースの自重により前記受
給弁と不活性ガス供給弁及び排出弁と排気弁がそれぞれ
開く請求項２の半導体製造装置。 - 【請求項４】 前記受給弁が下方に向かって押圧される
弁体を有し、前記不活性ガス供給弁が上方に突出する円
筒状の弁座を有すると共に該弁座に上方に向かって押圧
される弁体を有し、更に該弁体より上方に向かって突出
する弁棒が前記弁座より上方に突出する請求項３の半導
体製造装置。 - 【請求項５】 ウェーハカセットを収納したカセット収
納ケースを移載するカセット移載機を具備する請求項１
の半導体製造装置。 - 【請求項６】 熱処理炉を具備し、該熱処理炉にボート
を介してウェーハが挿入される半導体製造装置であり、
該ボートを収納する第１の空間と前記カセット移載機、
バッファカセット庫が収納される第２の空間とに区画さ
れ、両空間を区画する隔壁にカセットローダが設けら
れ、該カセットローダを介して両空間間のウェーハカセ
ットの移載が行われる請求項５の半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31430396A JPH10144766A (ja) | 1996-11-11 | 1996-11-11 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31430396A JPH10144766A (ja) | 1996-11-11 | 1996-11-11 | 半導体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10144766A true JPH10144766A (ja) | 1998-05-29 |
Family
ID=18051744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31430396A Pending JPH10144766A (ja) | 1996-11-11 | 1996-11-11 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10144766A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002531934A (ja) * | 1998-12-01 | 2002-09-24 | アシスト テクノロジーズ インコーポレイテッド | キャリヤパージ用受動式弁 |
| JP2005166952A (ja) * | 2003-12-02 | 2005-06-23 | Asyst Shinko Inc | 保管庫 |
| JP2009541998A (ja) * | 2006-06-19 | 2009-11-26 | インテグリス・インコーポレーテッド | レチクル保管庫をパージするためのシステム |
| JP2013258206A (ja) * | 2012-06-11 | 2013-12-26 | Sinfonia Technology Co Ltd | パージノズルユニット、パージ装置、ロードポート |
| JP2014207306A (ja) * | 2013-04-12 | 2014-10-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 収納容器内の雰囲気管理方法 |
| JP2015073062A (ja) * | 2012-10-23 | 2015-04-16 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、パージ装置、半導体装置の製造方法、及びプログラム |
-
1996
- 1996-11-11 JP JP31430396A patent/JPH10144766A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002531934A (ja) * | 1998-12-01 | 2002-09-24 | アシスト テクノロジーズ インコーポレイテッド | キャリヤパージ用受動式弁 |
| JP2005166952A (ja) * | 2003-12-02 | 2005-06-23 | Asyst Shinko Inc | 保管庫 |
| JP2009541998A (ja) * | 2006-06-19 | 2009-11-26 | インテグリス・インコーポレーテッド | レチクル保管庫をパージするためのシステム |
| JP2013258206A (ja) * | 2012-06-11 | 2013-12-26 | Sinfonia Technology Co Ltd | パージノズルユニット、パージ装置、ロードポート |
| JP2015073062A (ja) * | 2012-10-23 | 2015-04-16 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、パージ装置、半導体装置の製造方法、及びプログラム |
| JP2014207306A (ja) * | 2013-04-12 | 2014-10-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 収納容器内の雰囲気管理方法 |
| US10096504B2 (en) | 2013-04-12 | 2018-10-09 | Tokyo Electron Limited | Method for managing atmosphere in storage container |
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