JPH05114568A - 縦型拡散、ｃｖｄ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】筐体等を特に耐圧構造にすることなく、窒素ガ
スの置換でウェーハの酸化を防止し、更に大気中での自
然酸化を防止しようとするものである。 【構成】筐体１内に反応炉４、ボート装入装置２、ウェ
ーハ移載機９、カセット収納室１０、カセット予備室２
０等を収納し、少なくとも前記筐体、カセット予備室を
常圧気密構造とし、前記筐体、カセット予備室を窒素ガ
スにより置換可能とし、ウェーハの移載、待機中での自
然酸化を防止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、シリコンウェーハを処
理して半導体素子を製造する縦型拡散、ＣＶＤ装置に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の縦型拡散、ＣＶＤ装置は、ロード
ロック室、該ロードロック室の上部に反応炉、ウェーハ
が装填されたカセットを授受し、且一時保持する為のカ
セット棚等からなり、これらは筐体内に収納された構造
となっている。又、前記ロードロック室にはウェーハが
装填されたボートを前記反応炉に装入、取出すボート昇
降装置等のウェーハ搬送装置を内蔵している。

【０００３】斯かる縦型拡散、ＣＶＤ装置に於いて、前
記反応炉で処理されたウェーハを拡散炉より大気中に取
出した場合、ウェーハが高温の為自然酸化する。従っ
て、従来の縦型拡散、ＣＶＤ装置では前記ロードロック
室を真空容器とし、該ロードロック室を真空状態として
ウェーハの装入、取出しを行い、更に前記ロードロック
室に窒素ガスを充満させ、ロードロック室を大気圧とし
た後、縦型拡散、ＣＶＤ装置から外部にウェーハを取出
していた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前記したロードロック
室はウェーハが装填されたボートを前記拡散炉に装入、
取出すボート昇降装置を内蔵する等、比較的大容積であ
り、斯かるロードロック室を真空容器とするには、板厚
の厚い、而も構造上の制約から大型化せざるを得ず、製
作費も高価なものとなっていた。

【０００５】又、上記した従来のものでは、ロードロッ
ク室に移載する前の待機中のウェーハの自然酸化、或は
処理後縦型拡散、ＣＶＤ装置より搬送する迄の待機中で
の自然酸化を防止することができなかった。

【０００６】本発明は斯かる実情に鑑み、特に真空容器
を設けることなく、窒素ガスの置換でウェーハの酸化を
防止し、更に大気中での自然酸化を防止しようとするも
のである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、筐体内に反応
炉、ボート装入装置、ウェーハ移載機、カセット収納
室、カセット予備室等を収納し、少なくとも前記筐体、
カセット予備室を常圧気密構造とし、前記筐体、カセッ
ト予備室を窒素ガスにより置換可能としたことを特徴と
するものである。

【０００８】

【作用】筐体、カセット予備室内部を窒素ガスにより置
換することで、ウェーハの移載、待機中での自然酸化を
防止できる。

【０００９】

【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。

【００１０】図１は本発明に係る縦型拡散、ＣＶＤ装置
の概略図であり、図中１は筐体を示し、該筐体１内部の
上部に常圧環境下で密閉構造となっている反応炉４が設
けられ、該反応炉４の下方にボート装入装置２を設け
る。該ボート装入装置２はボートエレベータ５にウェー
ハを多段に保持するボート６を載置するものである。

【００１１】前記ボート装入装置２に対向してウェーハ
移載機９が設けられ、更に該ウェーハ移載機９に隣接し
てカセット収納室１０が設けられている。

【００１２】該ウェーハ移載機９は、昇降可能な昇降ブ
ロック１１と該昇降ブロック１１に設けられウェーハ１
２を水平方向に移動させる搬送ユニット１３とから成
り、該ウェーハ移載機９により前記カセット収納室１０
に収納したカセット１４からウェーハ１２を１枚ずつ前
記ボート６に移載する様になっている。

【００１３】前記筐体１には窒素ガス供給管１５が設け
られており、該窒素ガス供給管１５は図示しない窒素ガ
ス供給源に接続されている。又、前記筐体１には排気管
１６を接続し、該排気管１６には開閉弁１７を設ける。

【００１４】又、前記カセット収納室１０に隣接してカ
セット予備室２０を設け、該カセット予備室２０にはシ
ャッタ２１を設け、筐体１外部に対して開閉可能となっ
ている。該カセット予備室２０には窒素ガス供給管２２
を連通し、又排気管２３を接続し、該排気管２３には開
閉弁２４を設ける。

【００１５】前記筐体１の前記カセット収納室１０に対
峙する位置に、シャッタ１８を設け、該シャッタ１８の
開閉によりカセット予備室２０から前記カセット収納室
１０にカセット１４を装入、取出しが可能になってい
る。

【００１６】前記筐体１、カセット予備室２０はいずれ
も常圧環境下で密閉構造となっており、筐体１の内部、
カセット予備室２０の内部を窒素ガスで置換することで
酸素ガス濃度１００〜２０ppm の環境を容易に達成で
き、処理前、処理後の待機状態での自然酸化を防止する
ことができる。

【００１７】以下、作動を説明する。

【００１８】ウェーハ１２が装填されたカセット１４
は、一旦前記カセット予備室２０に収納し、前記シャッ
タ２１を閉鎖後、該カセット予備室２０内部を窒素ガス
に置換して前記カセット収納室１０に移載される迄待機
する。

【００１９】次に、前記シャッタ１８を開いてカセット
予備室２０からカセット収納室１０にカセット１４を移
載する。該カセット予備室２０を設けてあるので、カセ
ット１４を前記カセット収納室１０に移載するのに筐体
１の窒素ガス置換が保持され、窒素ガスの使用を低減す
ることができる。カセット収納室１０に移載された該カ
セット１４から前記ウェーハ移載機９によりウェーハ１
２が順次前記ボート６へ移載され、更にボート装入装置
２によりボート６が前記反応炉４に装入されてウェーハ
１２の処理が行われる。

【００２０】ウェーハ１２の処理が終り、ボートエレベ
ータ５で前記ボート６を取出し、所要時間経過した後、
前記ウェーハ移載機９により前記カセット収納室１０の
カセット１４にウェーハ１２を移載する。

【００２１】ウェーハ１２の装填が完了したカセット１
４は前記カセット予備室２０に移載され、縦型拡散、Ｃ
ＶＤ装置から外部に搬送される迄、前記カセット予備室
２０で待機する。このカセット予備室２０での待機中、
該カセット予備室２０は窒素ガスで充満しているので自
然酸化が防止される。

【００２２】而して、上記一連の動作を繰返せばウェー
ハ１２の処理が反復して行われる。

【００２３】

【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、筐体、
カセット予備室の内部を窒素ガスで置換するので待機
中、移載中のウェーハの自然酸化を防止し得、製品品質
を向上させることができると共に筐体、カセット予備室
を常圧気密構造とするので構造が著しく簡単となり、装
置の製造コストを大幅に低減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す概略説明図である。

【符号の説明】

１ 筐体 ２ ボート装入装置 ４ 反応炉 ９ ウェーハ移載機 １０ カセット収納室 ２０ カセット予備室

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 筐体内に反応炉、ボート装入装置、ウェ
   ーハ移載機、カセット収納室、カセット予備室等を収納
   し、少なくとも前記筐体、カセット予備室を常圧気密構
   造とし、前記筐体、カセット予備室を窒素ガスにより置
   換可能としたことを特徴とする縦型拡散、ＣＶＤ装置。