JPH0758047A - ロードロック式縦型拡散・ｃｖｄ装置 - Google Patents
ロードロック式縦型拡散・ｃｖｄ装置Info
- Publication number
- JPH0758047A JPH0758047A JP19972393A JP19972393A JPH0758047A JP H0758047 A JPH0758047 A JP H0758047A JP 19972393 A JP19972393 A JP 19972393A JP 19972393 A JP19972393 A JP 19972393A JP H0758047 A JPH0758047 A JP H0758047A
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- Japan
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- cassette
- shelf
- chamber
- wafer
- buffer
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウェーハの自然酸化膜を実用上問題のないレ
ベル以内に収め、かつウェーハ処理能力を飛躍的に向上
させ、装置のコストを低減する。 【構成】 カセット７を収納するカセット棚８と、該カ
セット７と縦型反応室１の下方に配置されたロードロッ
ク室２内のボート３との間でウェーハ４を移載するウェ
ーハ移載機５を大気中に設置すると共にカセット７を収
納するバッファ棚を入れたバッファ室１１を設け、この
バッファ室１１に、大気と遮断可能なシャッタ１２とＮ
2 ガスによるパージ装置を設け、カセット棚８及びシャ
ッタ１２を介してバッファ棚にカセット７を自動で搬入
出するカセットエレベータ１３を配置し、このカセット
エレベータ１３によりカセット７を、搬出する際及び人
手により又はカセット搬送装置によりカセット７を搬入
する際使用するカセットステージ１４を配置してなる。
ベル以内に収め、かつウェーハ処理能力を飛躍的に向上
させ、装置のコストを低減する。 【構成】 カセット７を収納するカセット棚８と、該カ
セット７と縦型反応室１の下方に配置されたロードロッ
ク室２内のボート３との間でウェーハ４を移載するウェ
ーハ移載機５を大気中に設置すると共にカセット７を収
納するバッファ棚を入れたバッファ室１１を設け、この
バッファ室１１に、大気と遮断可能なシャッタ１２とＮ
2 ガスによるパージ装置を設け、カセット棚８及びシャ
ッタ１２を介してバッファ棚にカセット７を自動で搬入
出するカセットエレベータ１３を配置し、このカセット
エレベータ１３によりカセット７を、搬出する際及び人
手により又はカセット搬送装置によりカセット７を搬入
する際使用するカセットステージ１４を配置してなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置の１つで
ある縦型拡散・ＣＶＤ装置に係り、特にロードロック室
を具備するロードロック式縦型拡散・ＣＶＤ装置に関す
る。
ある縦型拡散・ＣＶＤ装置に係り、特にロードロック室
を具備するロードロック式縦型拡散・ＣＶＤ装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来装置の１例の構成を示す断面
図である。この従来例は、縦型反応室１の下方にロード
ロック室２が設けられ、該ロードロック室２にはゲート
バルブ６を介してカセット室９が気密に設けられ、該カ
セット室９のカセット搬入搬出口はゲートバルブ１０で
気密に閉塞される様になっている。ロードロック室２の
内部において縦型反応室１の下方にウェーハ４を多段に
保持するボート３を縦型反応室１内に挿入、取出しする
ボートエレベータ（図示せず）がある。又ロードロック
室２内には、カセット室９内のカセット７とボート３と
の間でウェーハ４を移載するウェーハ移載機５が設けら
れている。カセット室９内には、ウェーハ４が所要枚数
装填されたカセット７を置くカセット棚８が設けられ、
作業者がカセット７を搬入，搬出するようになってい
る。更にロードロック室２とカセット室９には内部を大
気からＮ2 ガスに置換するための真空排気装置（図示せ
ず）や、Ｎ2 ガス給排気装置（図示せず）が設けられて
いる。
図である。この従来例は、縦型反応室１の下方にロード
ロック室２が設けられ、該ロードロック室２にはゲート
バルブ６を介してカセット室９が気密に設けられ、該カ
セット室９のカセット搬入搬出口はゲートバルブ１０で
気密に閉塞される様になっている。ロードロック室２の
内部において縦型反応室１の下方にウェーハ４を多段に
保持するボート３を縦型反応室１内に挿入、取出しする
ボートエレベータ（図示せず）がある。又ロードロック
室２内には、カセット室９内のカセット７とボート３と
の間でウェーハ４を移載するウェーハ移載機５が設けら
れている。カセット室９内には、ウェーハ４が所要枚数
装填されたカセット７を置くカセット棚８が設けられ、
作業者がカセット７を搬入，搬出するようになってい
る。更にロードロック室２とカセット室９には内部を大
気からＮ2 ガスに置換するための真空排気装置（図示せ
ず）や、Ｎ2 ガス給排気装置（図示せず）が設けられて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例にあって
は、ウェーハ４は、カセット７の搬入時から縦型反応室
１までと縦型反応室１で処理後、カセット７に回収され
るまでＮ2 ガス雰囲気中を搬送されるため、搬送領域は
全て気密に保つ必要があり、構造上ロードロック室２，
カセット室９等の気密容器が必要で、非常にコスト高と
なっていた。また容器が大きいためＮ2 ガス置換するの
に時間がかかった。更に処理前，処理後のウェーハを一
時的に保管しておく箇所がないため、処理後のカセット
を搬出しない限り、次の処理が出来ないという課題があ
った。また、カセット室９は新しいカセットを搬入する
度に内部をＮ2 ガスに置換する必要があり、所要置換時
間の点からカセット室９の容積を大きくできないため、
一度に搬入できるカセット数が少ない。即ち、１サイク
ルでの処理ウェーハ枚数が少ないという課題がある。
は、ウェーハ４は、カセット７の搬入時から縦型反応室
１までと縦型反応室１で処理後、カセット７に回収され
るまでＮ2 ガス雰囲気中を搬送されるため、搬送領域は
全て気密に保つ必要があり、構造上ロードロック室２，
カセット室９等の気密容器が必要で、非常にコスト高と
なっていた。また容器が大きいためＮ2 ガス置換するの
に時間がかかった。更に処理前，処理後のウェーハを一
時的に保管しておく箇所がないため、処理後のカセット
を搬出しない限り、次の処理が出来ないという課題があ
った。また、カセット室９は新しいカセットを搬入する
度に内部をＮ2 ガスに置換する必要があり、所要置換時
間の点からカセット室９の容積を大きくできないため、
一度に搬入できるカセット数が少ない。即ち、１サイク
ルでの処理ウェーハ枚数が少ないという課題がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明装置は、上記の課
題を解決するため従来ロードロック装置がウェーハの自
然酸化を防止するためにウェーハの搬送領域を全て大気
と遮断された気密構造をとるが、実際にはカセットの搬
入搬出時には大気にさらされてしまうことと大気にさら
される時間が短かければ自然酸化膜の成長も少ないこと
に注目してなされたものであって、カセット７を収納す
るカセット棚８と、該カセット７とロードロック室２内
のボート３との間でウェーハ４を移載するウェーハ移載
機５を大気中に設定すると共にカセット７を収納するバ
ッファ棚を入れたバッファ室１１を設け、このバッファ
室１１に、大気と遮断可能なシャッタ１２と、不活性ガ
スによるパージ装置を設け、カセット棚８及びシャッタ
１２を介してバッファ棚にカセット７を自動で搬入出す
るカセットエレベータ１３を設置してなる構成としたも
のである。
題を解決するため従来ロードロック装置がウェーハの自
然酸化を防止するためにウェーハの搬送領域を全て大気
と遮断された気密構造をとるが、実際にはカセットの搬
入搬出時には大気にさらされてしまうことと大気にさら
される時間が短かければ自然酸化膜の成長も少ないこと
に注目してなされたものであって、カセット７を収納す
るカセット棚８と、該カセット７とロードロック室２内
のボート３との間でウェーハ４を移載するウェーハ移載
機５を大気中に設定すると共にカセット７を収納するバ
ッファ棚を入れたバッファ室１１を設け、このバッファ
室１１に、大気と遮断可能なシャッタ１２と、不活性ガ
スによるパージ装置を設け、カセット棚８及びシャッタ
１２を介してバッファ棚にカセット７を自動で搬入出す
るカセットエレベータ１３を設置してなる構成としたも
のである。
【０００５】
【作 用】上記の構成においてカセットエレベータ１３
が、カセット棚８とバッファ棚にカセット７を搬入す
る。各々１バッチ分なので、２バッチ分搬入可能であ
る。バッファ棚にカセット７を搬入する時にはバッファ
室１１のシャッタ１２を開放した後搬入する。バッファ
棚にカセット７を搬入後シャッタ１２を閉塞し、不活性
ガスをパージすることにより、大気から不活性ガス雰囲
気に置換し、ウェーハの自然酸化を抑制する。それから
ゲートバルブ６を開放した後、ウェーハ移載機５がカセ
ット棚８のカセット７からウェーハ４をボート３に移載
する。移載後ゲートバルブ６を閉塞し、しかる後大気か
ら不活性ガスに置換し、ウェーハ成膜処理を行う。処理
終了後、ゲートバルブ６を開放し、ウェーハ移載機５が
処理済みのウェーハ４をボート３からカセット棚８へ移
載する。その後、カセットエレベータ１３がカセット７
をカセット棚８から順次搬出する。
が、カセット棚８とバッファ棚にカセット７を搬入す
る。各々１バッチ分なので、２バッチ分搬入可能であ
る。バッファ棚にカセット７を搬入する時にはバッファ
室１１のシャッタ１２を開放した後搬入する。バッファ
棚にカセット７を搬入後シャッタ１２を閉塞し、不活性
ガスをパージすることにより、大気から不活性ガス雰囲
気に置換し、ウェーハの自然酸化を抑制する。それから
ゲートバルブ６を開放した後、ウェーハ移載機５がカセ
ット棚８のカセット７からウェーハ４をボート３に移載
する。移載後ゲートバルブ６を閉塞し、しかる後大気か
ら不活性ガスに置換し、ウェーハ成膜処理を行う。処理
終了後、ゲートバルブ６を開放し、ウェーハ移載機５が
処理済みのウェーハ４をボート３からカセット棚８へ移
載する。その後、カセットエレベータ１３がカセット７
をカセット棚８から順次搬出する。
【０００６】
【実施例】図１は本発明装置の１実施例の構成を示す断
面図である。本実施例は、カセット７を収納するカセッ
ト棚８と、該カセット７と縦型反応室１の下方に配置さ
れたロードロック室２内のボート３との間でウェーハ４
を移載するウェーハ移載機５を大気中に設置すると共に
カセット７を収納するバッファ棚を入れたバッファ室１
１を設け、このバッファ室１１に、大気と遮断可能なシ
ャッタ１２とＮ2 ガスによるパージ装置を設け、カセッ
ト棚８及びシャッタ１２を介してバッファ棚にカセット
７を自動で搬入出するカセットエレベータ１３を設置
し、このカセットエレベータ１３によりカセット７を、
搬出する際及び人手により又はカセット搬送装置（図示
せず）によりカセット７を搬入する際使用するカセット
ステージ１４を配置してなる。
面図である。本実施例は、カセット７を収納するカセッ
ト棚８と、該カセット７と縦型反応室１の下方に配置さ
れたロードロック室２内のボート３との間でウェーハ４
を移載するウェーハ移載機５を大気中に設置すると共に
カセット７を収納するバッファ棚を入れたバッファ室１
１を設け、このバッファ室１１に、大気と遮断可能なシ
ャッタ１２とＮ2 ガスによるパージ装置を設け、カセッ
ト棚８及びシャッタ１２を介してバッファ棚にカセット
７を自動で搬入出するカセットエレベータ１３を設置
し、このカセットエレベータ１３によりカセット７を、
搬出する際及び人手により又はカセット搬送装置（図示
せず）によりカセット７を搬入する際使用するカセット
ステージ１４を配置してなる。
【０００７】上記の構成において本実施例の作用を説明
する。カセットステージ１４にカセット７を人手により
又はカセット搬送装置により置く。カセット搬送装置の
場合は完全に自動化となる。次にカセットステージ１４
がカセット７を回転させ、カセットエレベータ１３がア
クセスできるようにした後カセットエレベータ１３が、
カセット棚８とバッファ棚にカセット７を搬入する。各
々１バッチ分なので、２バッチ分搬入可能である。バッ
ファ棚にカセット７を搬入する時にはバッファ室１１の
シャッタ１２を開放した後搬入する。バッファ棚にカセ
ット７を搬入後シャッタ１２を閉塞し、Ｎ2 ガスをパー
ジすることにより、大気からＮ2 ガス雰囲気に置換し、
ウェーハの自然酸化を抑制する。それからゲートバルブ
６を開放した後、ウェーハ移載機５がカセット棚８のカ
セット７からウェーハ４をボート３に移載する。移載後
ゲートバルブ６を閉塞し、しかる後大気からＮ2 ガスに
置換し、ウェーハ成膜処理を行う。処理終了後、ゲート
バルブ６を開放し、ウェーハ移載機５が処理済みのウェ
ーハ４をボート３からカセット棚８へ移載する。その
後、カセットエレベータ１３がカセット７をカセット棚
８から（カセットステージ１４へ）順次搬出する。
する。カセットステージ１４にカセット７を人手により
又はカセット搬送装置により置く。カセット搬送装置の
場合は完全に自動化となる。次にカセットステージ１４
がカセット７を回転させ、カセットエレベータ１３がア
クセスできるようにした後カセットエレベータ１３が、
カセット棚８とバッファ棚にカセット７を搬入する。各
々１バッチ分なので、２バッチ分搬入可能である。バッ
ファ棚にカセット７を搬入する時にはバッファ室１１の
シャッタ１２を開放した後搬入する。バッファ棚にカセ
ット７を搬入後シャッタ１２を閉塞し、Ｎ2 ガスをパー
ジすることにより、大気からＮ2 ガス雰囲気に置換し、
ウェーハの自然酸化を抑制する。それからゲートバルブ
６を開放した後、ウェーハ移載機５がカセット棚８のカ
セット７からウェーハ４をボート３に移載する。移載後
ゲートバルブ６を閉塞し、しかる後大気からＮ2 ガスに
置換し、ウェーハ成膜処理を行う。処理終了後、ゲート
バルブ６を開放し、ウェーハ移載機５が処理済みのウェ
ーハ４をボート３からカセット棚８へ移載する。その
後、カセットエレベータ１３がカセット７をカセット棚
８から（カセットステージ１４へ）順次搬出する。
【０００８】カセット棚８が空いた時点で、シャッタ１
２を開放し、カセットエレベータ１３がバッファ室１１
内のバッファ棚のカセット７をカセット棚８に移し替え
る。移し替え終了後、前述と同様にウェーハ移載を開始
する。その後ウェーハ成膜処理中にバッファ棚に未処理
ウェーハのカセット７を搬入しておけば、これまでの一
連の処理が連続して実行可能となる。成膜処理後のウェ
ーハ４を収納したカセット７がすぐに搬出できない場
合、バッファ棚を設けたので、カセットエレベータ１３
を用いてカセット棚８とバッファ棚のカセットを入れ替
えることも可能となり、処理後のウェーハが搬出待ちで
長時間大気中に放置されることも防止できる。
２を開放し、カセットエレベータ１３がバッファ室１１
内のバッファ棚のカセット７をカセット棚８に移し替え
る。移し替え終了後、前述と同様にウェーハ移載を開始
する。その後ウェーハ成膜処理中にバッファ棚に未処理
ウェーハのカセット７を搬入しておけば、これまでの一
連の処理が連続して実行可能となる。成膜処理後のウェ
ーハ４を収納したカセット７がすぐに搬出できない場
合、バッファ棚を設けたので、カセットエレベータ１３
を用いてカセット棚８とバッファ棚のカセットを入れ替
えることも可能となり、処理後のウェーハが搬出待ちで
長時間大気中に放置されることも防止できる。
【０００９】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、従来装置
に比べウェーハが大気にさらされる時間が長くなるが、
ウェーハの自然酸化膜を実用上問題のないレベル以内に
収め、かつウェーハ処理能力を飛躍的に向上させること
ができると共に大きな気密容器が不要になるため、装置
のコストを低減することができる。又ウェーハ加工処理
の１サイクルにかかる時間を凝縮でき、又処理枚数を増
大できるので大幅にスループットを向上させることがで
きる。更にロードロック式ではない一般の縦型拡散・Ｃ
ＶＤ装置と同等の自動化（カセットの自動搬入・搬出）
に対応可能となり、クリーンルームの無人化にも寄与す
ることができる。
に比べウェーハが大気にさらされる時間が長くなるが、
ウェーハの自然酸化膜を実用上問題のないレベル以内に
収め、かつウェーハ処理能力を飛躍的に向上させること
ができると共に大きな気密容器が不要になるため、装置
のコストを低減することができる。又ウェーハ加工処理
の１サイクルにかかる時間を凝縮でき、又処理枚数を増
大できるので大幅にスループットを向上させることがで
きる。更にロードロック式ではない一般の縦型拡散・Ｃ
ＶＤ装置と同等の自動化（カセットの自動搬入・搬出）
に対応可能となり、クリーンルームの無人化にも寄与す
ることができる。
【図１】本発明装置の１実施例の構成を示す断面図であ
る。
る。
【図２】従来装置の１例の構成を示す断面図である。
１ 縦型反応室 ２ ロードロック室 ３ ボート ４ ウェーハ ５ ウェーハ移載機 ６ ゲートバルブ ７ カセット ８ カセット棚 １１ バッファ室 １２ シャッタ １３ カセットエレベータ １４ カセットステージ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/31
Claims (2)
- 【請求項１】 縦型反応室（１）の下方にロードロック
室（２）を有するロードロック式縦型拡散・ＣＶＤ装置
において、カセット（７）を収納するカセット棚（８）
と、該カセット（７）とロードロック室（２）内のボー
ト（３）との間でウェーハ（４）を移載するウェーハ移
載機（５）を大気中に設定すると共にカセット（７）を
収納するバッファ棚を入れたバッファ室（１１）を設
け、このバッファ室（１１）に、大気と遮断可能なシャ
ッタ（１２）と、不活性ガスによるパージ装置を設け、
カセット棚（８）及びシャッタ（１２）を介してバッフ
ァ棚にカセット（７）を自動で搬入出するカセットエレ
ベータ（１３）を設置してなるロードロック式縦型拡散
・ＣＶＤ装置。 - 【請求項２】 カセットエレベータ（１３）によりカセ
ット（７）を搬出する際及び人手により又はカセット搬
送装置によりカセット（７）を搬入する際使用するカセ
ットステージ（１４）を配置してなる請求項１のロード
ロック式縦型拡散・ＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19972393A JPH0758047A (ja) | 1993-08-11 | 1993-08-11 | ロードロック式縦型拡散・ｃｖｄ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19972393A JPH0758047A (ja) | 1993-08-11 | 1993-08-11 | ロードロック式縦型拡散・ｃｖｄ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0758047A true JPH0758047A (ja) | 1995-03-03 |
Family
ID=16412546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19972393A Pending JPH0758047A (ja) | 1993-08-11 | 1993-08-11 | ロードロック式縦型拡散・ｃｖｄ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0758047A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6746197B2 (en) * | 1998-09-22 | 2004-06-08 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| US7203563B2 (en) * | 2004-04-08 | 2007-04-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Automatic N2 purge system for 300 mm full automation fab |
| CN100459028C (zh) * | 2002-04-05 | 2009-02-04 | 株式会社日立国际电气 | 基板处理装置及反应容器 |
-
1993
- 1993-08-11 JP JP19972393A patent/JPH0758047A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6746197B2 (en) * | 1998-09-22 | 2004-06-08 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| CN100459028C (zh) * | 2002-04-05 | 2009-02-04 | 株式会社日立国际电气 | 基板处理装置及反应容器 |
| US7203563B2 (en) * | 2004-04-08 | 2007-04-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Automatic N2 purge system for 300 mm full automation fab |
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