JPH10141869A - 誘導加熱装置のライニング構造 - Google Patents
誘導加熱装置のライニング構造Info
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- JPH10141869A JPH10141869A JP8296442A JP29644296A JPH10141869A JP H10141869 A JPH10141869 A JP H10141869A JP 8296442 A JP8296442 A JP 8296442A JP 29644296 A JP29644296 A JP 29644296A JP H10141869 A JPH10141869 A JP H10141869A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 溶融Zn-Al による侵食を可能な限り抑制する
こと。 【解決手段】 溶融Zn-Al 合金めっき浴槽に設ける誘導
加熱装置１１の誘導磁界内を流れる溶融Zn-Al の対流流
路をSi3N4 系セラミックスで形成し、このSi3N4系セラ
ミックス流路１６の周囲を不定形耐火物１５で構成した
ものである。 【効果】 溶融Zn-Al と接触する部分をSi3N4 系セラミ
ックスで被覆することにより、Zn-Al が断熱レンガや不
定形耐火物へ浸潤するのを抑制でき、飛躍的な延命が期
待できる。
こと。 【解決手段】 溶融Zn-Al 合金めっき浴槽に設ける誘導
加熱装置１１の誘導磁界内を流れる溶融Zn-Al の対流流
路をSi3N4 系セラミックスで形成し、このSi3N4系セラ
ミックス流路１６の周囲を不定形耐火物１５で構成した
ものである。 【効果】 溶融Zn-Al と接触する部分をSi3N4 系セラミ
ックスで被覆することにより、Zn-Al が断熱レンガや不
定形耐火物へ浸潤するのを抑制でき、飛躍的な延命が期
待できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Zn-Al 溶融炉等の
溶融Zn-Al 合金めっき浴槽に設ける誘導加熱装置のライ
ニング構造に関するものである。
溶融Zn-Al 合金めっき浴槽に設ける誘導加熱装置のライ
ニング構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】薄板鋼板の腐食防止として、亜鉛めっき
鋼板が一般的に広く採用されているが、最近では、さら
に耐食性を向上させるため、Zn-Al 合金のめっきが普及
しつつある。
鋼板が一般的に広く採用されているが、最近では、さら
に耐食性を向上させるため、Zn-Al 合金のめっきが普及
しつつある。
【０００３】溶融Zn-Al めっき浴槽は、図４に示すよう
に、例えば溶融Zn-Al めっき浴槽１の外周４か所に設置
した誘導加熱装置２によって、その内部に満たした溶融
Zn-Al 合金を融点以上の一定温度に加熱保持するもので
あり、この溶融Zn-Al 浴中に鋼板を浸漬し、その表面に
Zn-Al 合金を被覆する溶融Zn-Al めっき装置等に使用さ
れている。
に、例えば溶融Zn-Al めっき浴槽１の外周４か所に設置
した誘導加熱装置２によって、その内部に満たした溶融
Zn-Al 合金を融点以上の一定温度に加熱保持するもので
あり、この溶融Zn-Al 浴中に鋼板を浸漬し、その表面に
Zn-Al 合金を被覆する溶融Zn-Al めっき装置等に使用さ
れている。
【０００４】この溶融Zn-Al を加熱する手段として多く
採用されている誘導加熱方式は、溶融Zn-Al を誘導磁界
内で直接加熱するものであり、溶融Zn-Al 自身が発熱す
るので、加熱体等と直接接触する必要がない。従って、
槽壁に断熱性が良く、耐食性の高い耐火材料を使用でき
るので、熱損失が低減でき、めっき被覆品質も良好にな
る。
採用されている誘導加熱方式は、溶融Zn-Al を誘導磁界
内で直接加熱するものであり、溶融Zn-Al 自身が発熱す
るので、加熱体等と直接接触する必要がない。従って、
槽壁に断熱性が良く、耐食性の高い耐火材料を使用でき
るので、熱損失が低減でき、めっき被覆品質も良好にな
る。
【０００５】この誘導加熱装置は、一般的には浴槽の外
壁にＷ又はＵ字状の流路を突設し、この流路の一部に誘
導加熱コイルを巻回したり、又は誘導加熱コイルを巻回
した鉄芯を設けることによって、通常は６００〜６５０
℃程度である溶融Zn-Al を、Ｗ又はＵ字状流路内の加熱
部分で７００〜８００℃程度まで加熱昇温することによ
る自然対流により、流路内と溶融Zn-Al 槽との間を流動
させるものである。
壁にＷ又はＵ字状の流路を突設し、この流路の一部に誘
導加熱コイルを巻回したり、又は誘導加熱コイルを巻回
した鉄芯を設けることによって、通常は６００〜６５０
℃程度である溶融Zn-Al を、Ｗ又はＵ字状流路内の加熱
部分で７００〜８００℃程度まで加熱昇温することによ
る自然対流により、流路内と溶融Zn-Al 槽との間を流動
させるものである。
【０００６】ところで、従来の亜鉛めっきの場合は、溶
融亜鉛に対する耐食性が良く、誘導磁界の影響（磁界損
失）を受けない材質であれば良いので、従来は緻密質の
高アルミナ質キャスタブルや、実開平３−６２９９号公
報で開示された黒鉛を主体とした無機材、特開平５−２
１２２６６号公報で開示されたチタン酸アルミ、特開平
７−４１９２２号公報で開示されたコージライト質、等
で前記Ｗ又はＵ字状流路を構成し、寿命延長を図ること
が講じられていた。
融亜鉛に対する耐食性が良く、誘導磁界の影響（磁界損
失）を受けない材質であれば良いので、従来は緻密質の
高アルミナ質キャスタブルや、実開平３−６２９９号公
報で開示された黒鉛を主体とした無機材、特開平５−２
１２２６６号公報で開示されたチタン酸アルミ、特開平
７−４１９２２号公報で開示されたコージライト質、等
で前記Ｗ又はＵ字状流路を構成し、寿命延長を図ること
が講じられていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た構成の流路は、溶融亜鉛に対しては有効であるが、溶
融Zn-Al に対してはあまり効果はない。特に、最近のZn
-Al めっき鋼板はより耐食性を向上させるため、Alの含
有率が５０重量％以上もあり、操業温度も６００〜６５
０℃と高く、浸透性も高いため、炉材は非常に過酷な条
件にさらされる。また、対流流路はAlの還元作用（４Al
＋３SiO2→３Si＋２Al2O3 ）により、対流流路炉材に溶
融Zn-Al が侵入して変質層を生成し、いわゆる構造的ス
ポーリングにより、亀裂が生じて溶融Zn-Al がリークす
る原因となっていた。
た構成の流路は、溶融亜鉛に対しては有効であるが、溶
融Zn-Al に対してはあまり効果はない。特に、最近のZn
-Al めっき鋼板はより耐食性を向上させるため、Alの含
有率が５０重量％以上もあり、操業温度も６００〜６５
０℃と高く、浸透性も高いため、炉材は非常に過酷な条
件にさらされる。また、対流流路はAlの還元作用（４Al
＋３SiO2→３Si＋２Al2O3 ）により、対流流路炉材に溶
融Zn-Al が侵入して変質層を生成し、いわゆる構造的ス
ポーリングにより、亀裂が生じて溶融Zn-Al がリークす
る原因となっていた。
【０００８】本発明は、上記した従来の問題点に鑑みて
なされたものであり、溶融Zn-Al による侵食を可能な限
り抑制できる誘導加熱装置のライニング構造を提供する
ことを特徴としている。
なされたものであり、溶融Zn-Al による侵食を可能な限
り抑制できる誘導加熱装置のライニング構造を提供する
ことを特徴としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、本発明の誘導加熱装置のライニング構造では、
溶融Zn-Al と接触する部分をSi3N4 系セラミックスで被
覆することとしている。そして、このようにすること
で、Zn-Al の断熱レンガや不定形耐火物への浸潤が抑制
できる。
ために、本発明の誘導加熱装置のライニング構造では、
溶融Zn-Al と接触する部分をSi3N4 系セラミックスで被
覆することとしている。そして、このようにすること
で、Zn-Al の断熱レンガや不定形耐火物への浸潤が抑制
できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の第１の誘導加熱装置のラ
イニング構造は、溶融Zn-Al 合金めっき浴槽に設ける誘
導加熱装置における溶融Zn-Al と接触する内面をSi3N4
系セラミックスで被覆しているのである。
イニング構造は、溶融Zn-Al 合金めっき浴槽に設ける誘
導加熱装置における溶融Zn-Al と接触する内面をSi3N4
系セラミックスで被覆しているのである。
【００１１】また、本発明の第２の誘導加熱装置のライ
ニング構造は、溶融Zn-Al 合金めっき浴槽に設ける誘導
加熱装置の誘導磁界内を流れる溶融Zn-Al の対流流路を
Si3N 4 系セラミックスで形成しているのである。
ニング構造は、溶融Zn-Al 合金めっき浴槽に設ける誘導
加熱装置の誘導磁界内を流れる溶融Zn-Al の対流流路を
Si3N 4 系セラミックスで形成しているのである。
【００１２】また、本発明の第３の誘導加熱装置のライ
ニング構造は、前記した第１又は第２の本発明におい
て、Si3N4 系セラミックスの裏面側あるいはSi3N4 系セ
ラミックスで形成した溶融Zn-Al の対流流路の周囲に不
定形耐火物を設けているのである。
ニング構造は、前記した第１又は第２の本発明におい
て、Si3N4 系セラミックスの裏面側あるいはSi3N4 系セ
ラミックスで形成した溶融Zn-Al の対流流路の周囲に不
定形耐火物を設けているのである。
【００１３】また、本発明の第４の誘導加熱装置のライ
ニング構造は、前記した第１、第２又は第３の本発明に
おけるSi3N4 系セラミックスと断熱レンガ又は不定形耐
火物の間にセラミックファイバー製ペーパーを介設して
いるのである。
ニング構造は、前記した第１、第２又は第３の本発明に
おけるSi3N4 系セラミックスと断熱レンガ又は不定形耐
火物の間にセラミックファイバー製ペーパーを介設して
いるのである。
【００１４】本発明において、使用する不定形耐火物の
種類は特に問わないが、Si3N4 系セラミックスに微小亀
裂が発生し、この微小亀裂からZn-Al が侵入した場合の
ことを考慮すると、例えば高アルミナ質キャスタブル等
を採用することが好ましい。また、第１、第２又は第４
の本発明においては、Si3N4 系セラミックスと断熱レン
ガの間には若干の目地材が介在していることは言うまで
もない。なお、本発明の第２、第３の誘導加熱装置のラ
イニング構造における溶融Zn-Al 対流流路とは、溶融Zn
-Al が加熱のために通過する流路をいう。
種類は特に問わないが、Si3N4 系セラミックスに微小亀
裂が発生し、この微小亀裂からZn-Al が侵入した場合の
ことを考慮すると、例えば高アルミナ質キャスタブル等
を採用することが好ましい。また、第１、第２又は第４
の本発明においては、Si3N4 系セラミックスと断熱レン
ガの間には若干の目地材が介在していることは言うまで
もない。なお、本発明の第２、第３の誘導加熱装置のラ
イニング構造における溶融Zn-Al 対流流路とは、溶融Zn
-Al が加熱のために通過する流路をいう。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の誘導加熱装置のライニング構
造を図１〜図３に示す実施例に基づいて説明する。図１
は本発明に係るライニング構造の第１実施例を有するＷ
型Zn-Al 用誘導加熱装置の縦断面図、図２は本発明に係
るライニング構造の第２実施例を有するＷ型Zn-Al 用誘
導加熱装置の縦断面図、図３は本発明に係るライニング
構造の第２実施例に使用する対流流路の組立て図で、
（ａ）は平面図、（ｂ）は中央縦断面正面図である。
造を図１〜図３に示す実施例に基づいて説明する。図１
は本発明に係るライニング構造の第１実施例を有するＷ
型Zn-Al 用誘導加熱装置の縦断面図、図２は本発明に係
るライニング構造の第２実施例を有するＷ型Zn-Al 用誘
導加熱装置の縦断面図、図３は本発明に係るライニング
構造の第２実施例に使用する対流流路の組立て図で、
（ａ）は平面図、（ｂ）は中央縦断面正面図である。
【００１６】図１〜図３において、１１は浴槽の外壁に
例えばＷ字状の流路１２を突設し、この流路１２の一部
に誘導加熱コイルを巻回した鉄芯１３を設けたＷ型のZn
-Al用誘導加熱装置であり、本発明の第１実施例では、
この誘導加熱装置１１における溶融Zn-Al と接触する内
面を、図１に示すように、Si3N4 系セラミックスで被覆
し（以下、「Si3N4 系セラミックス被覆層１４」とい
う）、このSi3N4 系セラミックス被覆層１４の裏面側に
例えば高アルミナ質キャスタブルのような不定形耐火物
１５を設けているのである。
例えばＷ字状の流路１２を突設し、この流路１２の一部
に誘導加熱コイルを巻回した鉄芯１３を設けたＷ型のZn
-Al用誘導加熱装置であり、本発明の第１実施例では、
この誘導加熱装置１１における溶融Zn-Al と接触する内
面を、図１に示すように、Si3N4 系セラミックスで被覆
し（以下、「Si3N4 系セラミックス被覆層１４」とい
う）、このSi3N4 系セラミックス被覆層１４の裏面側に
例えば高アルミナ質キャスタブルのような不定形耐火物
１５を設けているのである。
【００１７】上記したように、誘導加熱装置１１におけ
る溶融Zn-Al と接触する内面をSi3N 4 系セラミックス被
覆層１４で被覆すれば、このSi3N4 系セラミックス被覆
層１４がAlやZnに侵食されにくく、強度もあり、熱衝撃
に強いことから、不定形耐火物１５中にZn-Al が侵入せ
ず、Alの還元作用によってSiが溶出しメタルが侵入する
ことがなくなる。
る溶融Zn-Al と接触する内面をSi3N 4 系セラミックス被
覆層１４で被覆すれば、このSi3N4 系セラミックス被覆
層１４がAlやZnに侵食されにくく、強度もあり、熱衝撃
に強いことから、不定形耐火物１５中にZn-Al が侵入せ
ず、Alの還元作用によってSiが溶出しメタルが侵入する
ことがなくなる。
【００１８】また、本発明の第２実施例では、誘導加熱
装置１１の誘導磁界内を流れる溶融Zn-Al の対流流路１
２のみを、図２に示すように、Si3N4 系セラミックス
（以下、「Si3N4 系セラミックス流路１６」という）で
形成し、このSi3N4 系セラミックス流路１６の周囲を不
定形耐火物１５で構成しているのである。すなわち、本
発明の第２実施例では、誘導加熱装置１１における溶融
Zn-Al と接触する内面のうち、特に温度が７００〜８０
０℃と高く、浴槽内との温度差により溶融Zn-Alが良く
流れる溶融Zn-Al の対流流路１２のみをSi3N4 系セラミ
ックス流路１６と成しているのである。
装置１１の誘導磁界内を流れる溶融Zn-Al の対流流路１
２のみを、図２に示すように、Si3N4 系セラミックス
（以下、「Si3N4 系セラミックス流路１６」という）で
形成し、このSi3N4 系セラミックス流路１６の周囲を不
定形耐火物１５で構成しているのである。すなわち、本
発明の第２実施例では、誘導加熱装置１１における溶融
Zn-Al と接触する内面のうち、特に温度が７００〜８０
０℃と高く、浴槽内との温度差により溶融Zn-Alが良く
流れる溶融Zn-Al の対流流路１２のみをSi3N4 系セラミ
ックス流路１６と成しているのである。
【００１９】この第２実施例の場合には、浴槽内との温
度差により溶融Zn-Al が良く流れて、不定形耐火物１５
中にZn-Al が侵食されやすい対流流路１２のみをSi3N4
系セラミックス流路１６と成しているのである。従っ
て、この第２実施例の場合には、前記した第１実施例よ
りもSi3N4 系セラミックスの使用量は少なくてすむ。
度差により溶融Zn-Al が良く流れて、不定形耐火物１５
中にZn-Al が侵食されやすい対流流路１２のみをSi3N4
系セラミックス流路１６と成しているのである。従っ
て、この第２実施例の場合には、前記した第１実施例よ
りもSi3N4 系セラミックスの使用量は少なくてすむ。
【００２０】ところで、Si3N4 系セラミックスで対流流
路１２のような大型品を製造することは困難であるが、
パイプ１６ａ、エルボ１６ｂ、ティー１６ｃ等を個別に
製作し、これらを図３に示すように接合すれば、Si3N4
系セラミックス流路１６が製造できる。これらパイプ１
６ａ、エルボ１６ｂ、ティー１６ｃ等の接合は、無機質
のモルタル等の接着剤を使用したり、ねじ嵌合とした
り、また、個々の部品を組み立てた後、再焼成してもよ
い。
路１２のような大型品を製造することは困難であるが、
パイプ１６ａ、エルボ１６ｂ、ティー１６ｃ等を個別に
製作し、これらを図３に示すように接合すれば、Si3N4
系セラミックス流路１６が製造できる。これらパイプ１
６ａ、エルボ１６ｂ、ティー１６ｃ等の接合は、無機質
のモルタル等の接着剤を使用したり、ねじ嵌合とした
り、また、個々の部品を組み立てた後、再焼成してもよ
い。
【００２１】また、図１，図２に示す実施例では、Si3N
4 系セラミックス被覆層１４やSi3N 4 系セラミックス流
路１６と、不定形耐火物１５との間にセラミックファイ
バー製ペーパー１７を緩衝層として介設し、Si3N4 系セ
ラミックス被覆層１４やSi3N 4 系セラミックス流路１６
に直接加熱振動が伝わらないようにしたものを開示して
いる。
4 系セラミックス被覆層１４やSi3N 4 系セラミックス流
路１６と、不定形耐火物１５との間にセラミックファイ
バー製ペーパー１７を緩衝層として介設し、Si3N4 系セ
ラミックス被覆層１４やSi3N 4 系セラミックス流路１６
に直接加熱振動が伝わらないようにしたものを開示して
いる。
【００２２】なお、図１及び図２中の１８は誘導加熱装
置１１のケーシング、１９は前記ケーシング１８の内側
に張られた断熱レンガ、２０は鉄心１３の外周に設けら
れた冷却ボックス、２１は前記冷却ボックス２０の外周
に設けられた断熱ボードである。
置１１のケーシング、１９は前記ケーシング１８の内側
に張られた断熱レンガ、２０は鉄心１３の外周に設けら
れた冷却ボックス、２１は前記冷却ボックス２０の外周
に設けられた断熱ボードである。
【００２３】本実施例では、断熱レンガ１９とSi3N4 系
セラミックス被覆層１４やSi3N4 系セラミックス流路１
６の間に不定形耐火物１５を介在させたものを開示した
が、断熱レンガ１９の表面に直接Si3N4 系セラミックス
を設けたものでもよい。
セラミックス被覆層１４やSi3N4 系セラミックス流路１
６の間に不定形耐火物１５を介在させたものを開示した
が、断熱レンガ１９の表面に直接Si3N4 系セラミックス
を設けたものでもよい。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の誘導加熱
装置のライニング構造は、誘導加熱装置における溶融Zn
-Al と接触する内面をSi3N4 系セラミックスで被覆した
り、誘導加熱装置の誘導磁界内を流れる溶融Zn-Al 対流
流路をSi3N4 系セラミックスで形成したり、また、これ
らのSi3N4 系セラミックスの裏面側または周囲に不定形
耐火物を設けているので、断熱レンガや不定形耐火物中
にZn-Al が侵入しにくく、飛躍的な延命が期待できる。
この時、Si3N4 系セラミックスと断熱レンガあるいは不
定形耐火物の間にセラミックファイバー製ペーパーを介
設すれば、Si3N4系セラミックスに直接加熱振動が伝わ
らないので、Si3N4 系セラミックスに微小亀裂が発生し
にくく、さらなる延命が図れる。
装置のライニング構造は、誘導加熱装置における溶融Zn
-Al と接触する内面をSi3N4 系セラミックスで被覆した
り、誘導加熱装置の誘導磁界内を流れる溶融Zn-Al 対流
流路をSi3N4 系セラミックスで形成したり、また、これ
らのSi3N4 系セラミックスの裏面側または周囲に不定形
耐火物を設けているので、断熱レンガや不定形耐火物中
にZn-Al が侵入しにくく、飛躍的な延命が期待できる。
この時、Si3N4 系セラミックスと断熱レンガあるいは不
定形耐火物の間にセラミックファイバー製ペーパーを介
設すれば、Si3N4系セラミックスに直接加熱振動が伝わ
らないので、Si3N4 系セラミックスに微小亀裂が発生し
にくく、さらなる延命が図れる。
【００２５】ちなみに、誘導加熱装置における溶融Zn-A
l と接触する内面を、Si3N4 系セラミックスで被覆せず
緻密質の高アルミナ質キャスタブルでライニングしただ
けの従来の構造の場合に１．５年であった寿命が、本発
明のライニング構造（図２に示す第２実施例）を採用す
ることで、５年以上となった。
l と接触する内面を、Si3N4 系セラミックスで被覆せず
緻密質の高アルミナ質キャスタブルでライニングしただ
けの従来の構造の場合に１．５年であった寿命が、本発
明のライニング構造（図２に示す第２実施例）を採用す
ることで、５年以上となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るライニング構造の第１実施例を有
するＷ型Zn-Al 用誘導加熱装置の縦断面図である。
するＷ型Zn-Al 用誘導加熱装置の縦断面図である。
【図２】本発明に係るライニング構造の第２実施例を有
するＷ型Zn-Al 用誘導加熱装置の縦断面図である。
するＷ型Zn-Al 用誘導加熱装置の縦断面図である。
【図３】本発明に係るライニング構造の第２実施例に使
用する対流流路の組立て図で、（ａ）は平面図、（ｂ）
は中央縦断面正面図である。
用する対流流路の組立て図で、（ａ）は平面図、（ｂ）
は中央縦断面正面図である。
【図４】誘導加熱装置を備えた溶融Zn-Al 合金めっき浴
槽の概略構成図である。
槽の概略構成図である。
１１ 誘導加熱装置 １４ Si3N4 系セラミックス被覆層 １５ 不定形耐火物 １６ Si3N4 系セラミックス流路 １７ セラミックファイバー製ペーパー １９ 断熱レンガ
Claims (4)
- 【請求項１】 溶融Zn-Al 合金めっき浴槽に設ける誘導
加熱装置における溶融Zn-Al と接触する内面をSi3N4 系
セラミックスで被覆したことを特徴とする誘導加熱装置
のライニング構造。 - 【請求項２】 溶融Zn-Al 合金めっき浴槽に設ける誘導
加熱装置の誘導磁界内を流れる溶融Zn-Al の対流流路を
Si3N4 系セラミックスで形成したことを特徴とする誘導
加熱装置のライニング構造。 - 【請求項３】 Si3N4 系セラミックスの裏面側あるいは
Si3N4 系セラミックスで形成した溶融Zn-Al の対流流路
の周囲に不定形耐火物を設けたことを特徴とする請求項
１又は２記載の誘導加熱装置のライニング構造。 - 【請求項４】 Si3N4 系セラミックスと断熱レンガ又は
不定形耐火物の間にセラミックファイバー製ペーパーを
介設したことを特徴とする請求項１、２又は３記載の誘
導加熱装置のライニング構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8296442A JPH10141869A (ja) | 1996-11-08 | 1996-11-08 | 誘導加熱装置のライニング構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8296442A JPH10141869A (ja) | 1996-11-08 | 1996-11-08 | 誘導加熱装置のライニング構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10141869A true JPH10141869A (ja) | 1998-05-29 |
Family
ID=17833600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8296442A Pending JPH10141869A (ja) | 1996-11-08 | 1996-11-08 | 誘導加熱装置のライニング構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10141869A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009013457A (ja) * | 2007-07-03 | 2009-01-22 | Nippon Steel Engineering Co Ltd | インダクターの製造方法 |
| JP2011153354A (ja) * | 2010-01-27 | 2011-08-11 | Nippon Steel Corp | インダクターの製造方法 |
| JP2013525721A (ja) * | 2010-03-29 | 2013-06-20 | ブルースコープ・スティール・リミテッド | セラミックで内張りされている溝型誘導子 |
| JP2016515187A (ja) * | 2013-03-07 | 2016-05-26 | ブルースコープ・スティール・リミテッドＢｌｕｅｓｃｏｐｅ Ｓｔｅｅｌ Ｌｉｍｉｔｅｄ | 溝型誘導子 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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