JPH10134586A - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents

不揮発性半導体記憶装置

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JPH10134586A
JPH10134586A JP28114796A JP28114796A JPH10134586A JP H10134586 A JPH10134586 A JP H10134586A JP 28114796 A JP28114796 A JP 28114796A JP 28114796 A JP28114796 A JP 28114796A JP H10134586 A JPH10134586 A JP H10134586A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 消去動作の異常終了を容易に検出できるよう
にし、異常終了があった場合に、WP信号を切り替えな
くても、直ちに再度消去動作が実行できるようになるフ
ラッシュメモリなどを提供する。 【解決手段】 メモリセルアレイを分割した各ブロック
1ごとにECデータ記憶領域1bを設け、消去動作の終
了時にそのブロック1のECデータ記憶領域1bにEC
データを書き込む。このECデータ記憶領域1bにEC
データが記憶されていないブロック1については、デー
タの保護状態にかかわらず、再消去を可能にする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電気的にデータの
書き替えが可能な不揮発性半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ユーザ側でデータの書き替えが可能な不
揮発性半導体記憶装置としては、EPROM(Erasable
Programmable Read-Only Memory)やEEPROM(El
ectrically EPROM)が従来から一般的であった。EPR
OMは、プログラマ(ライタ)と称される書き込み装置
を用いてデータの書き込みを行い、紫外線の照射により
全メモリセルのデータを一括して消去する。また、この
EPROMは、メモリセル面積の小さい1トランジスタ
/1セル構造が可能であるため、大容量の集積化が容易
でビット単価が安いという利点を有する。しかし、消去
の際に紫外線を照射するために高価な石英ガラス付きの
セラミックパッケージを用いる必要があるので、チップ
単価の低減化に限度があるだけでなく、データの書き込
みには専用の書き込み装置を用いるので、チップの脱着
が可能なソケットを介してシステムに装着しなければな
らず、この書き込みの際のチップの脱着の手間が面倒で
あり実装コストも高くなるという欠点があった。
【0003】これに対してEEPROMは、システムに
装着したままで電気的にデータの書き込みと消去を行う
ことができるという利点を有する。しかし、このEEP
ROMは、ビット単位などでデータの書き込みや消去を
可能にするために、各メモリセルに選択トランジスタが
必要となるので、このメモリセル面積がEPROMの
1.5〜2倍程度の大きさとなり、ビット単価が高くな
って大容量化に適さないという欠点があった。
【0004】そこで、上記EPROMとEEPROMの
利点を兼ね備えた不揮発性半導体記憶装置として、フラ
ッシュメモリが開発された。このフラッシュメモリのメ
モリセルは、例えば米国特許5249158号や米国特
許5245570号などにおいて開示されているよう
に、図8に示すようなMOS(Metal Oxide Semiconduc
tor)・FET(Field Effect Transistor)の制御ゲー
トCGの下層に設けたゲート酸化膜中に浮遊ゲート(fl
oating gate)FGを絶縁して配置した浮遊ゲート型F
ET構造のセルトランジスタからなり、EPROMやE
EPROMのセルトランジスタと類似の構造をなす。し
かし、フラッシュメモリは、このセルトランジスタをチ
ップ単位やブロック単位で一括して消去することによ
り、メモリセルの選択トランジスタを省略して1トラン
ジスタ/1セル構造を可能にしたものであるため、EP
ROMと同程度の安いビット単価を得て大容量化に適し
たものとなる。しかも、EEPROMと同様に電気的な
データの書き込みと消去が可能であるため、安価なプラ
スチックパッケージが利用でき、チップの脱着の手間も
なくすことができる。なお、このフラッシュメモリは、
セルトランジスタがビット線に1個ずつ接続されるNO
R型と、直列接続された複数個のセルトランジスタが一
括してビット線に接続されるNAND型とが一般的であ
る。NAND型は、ランダムアクセス時の読み出しスピ
ードが遅くなるが、ビット線とセルトランジスタとの接
続面積を減少させることによりメモリセル面積をさらに
縮小することができるという利点を有する。また、フラ
ッシュメモリは、この他にもAND型やDINOR型な
どが提案されている。ただし、これらのAND型やDI
NOR型のフラッシュメモリは、消去と書き込み時の浮
遊ゲートFGへの電子の注入と引き抜き動作がNOR型
やNAND型とは逆になるので、以降ではNOR型やN
AND型の例でのみ説明する。
【0005】上記フラッシュメモリのセルトランジスタ
は、浮遊ゲートFGに電子が蓄積されているかどうかを
データの“0”と“1”に対応させて記憶する。即ち、
このフラッシュメモリのセルトランジスタからデータを
読み出す際には、ソースSを接地(0V)してドレイン
Dに1V程度の低電圧を印加すると共に、制御ゲートC
Gに電源電圧VCC(通常は約5V)を印加する。する
と、浮遊ゲートFGに電子が蓄積されていない場合に
は、セルトランジスタのしきい値電圧が低いので、ドレ
インDとソースSの間が導通してドレイン電流(チャン
ネル電流)が流れるが、浮遊ゲートFGに電子が蓄積さ
れている場合には、セルトランジスタのしきい値電圧が
高くなるので、ドレインDとソースSの間が遮断された
ままとなりほとんどドレイン電流が流れない。したがっ
て、このドレイン電流の大小を検出することにより、セ
ルトランジスタに記憶されたデータを読み出すことがで
きる。なお、この読み出しの際にドレインDに印加する
電圧を1V程度の低電圧とするのは、高い電圧の印加に
より寄生的な弱い書き込み(ソフトライト)が発生する
のを防止するためである。また、以降の説明では、浮遊
ゲートFGに電子が蓄積されしきい値電圧が高い場合を
データの“0”とし、浮遊ゲートFGに電子が蓄積され
ずしきい値電圧が低い場合をデータの“1”とする。
【0006】このフラッシュメモリのセルトランジスタ
のデータを消去する場合には、ソースSに12V程度の
高電圧を印加すると共に制御ゲートCGを接地する。す
ると、浮遊ゲートFGとソースSの間に高電界が発生
し、この浮遊ゲートFGに蓄積された電子が薄いゲート
酸化膜を介してトンネル電流により引き抜かれる。この
ため、セルトランジスタのしきい値電圧が低下して、デ
ータの“1”が記憶された状態に初期化され、これによ
ってデータが消去される。このデータの消去は、上記の
ようにチップ単位やブロック単位で一括して行われる。
【0007】なお、このような消去方法では、ソースS
に高電圧を印加するために、ソース接合の耐電圧を高め
る必要があるので、ソース電極側を微細化し難くなると
共に、ソース接合近傍に発生したホットホールの一部が
ゲート酸化膜中にトラップされてセルトランジスタの信
頼性が低下するという欠点が生じる。そこで、ソースS
に電源電圧VCC(通常は約5V)を印加すると共に制御
ゲートCGに−10V程度の負電圧を印加し、浮遊ゲー
トFGに蓄積された電子をトンネル電流により引き抜く
ことにより消去を行う方法(負ゲート消去法)もある。
この負ゲート消去法によれば、ソースSに印加される電
圧が低下するので、ソース接合の耐電圧を低くすること
ができ、セルトランジスタのゲート長を短縮することが
できるという利点がある。また、ソースSに高電圧を印
加する上記消去方法では、消去時に流れるバンド間トン
ネル電流がチップ全体で数mAに達するので、通常の電
流供給能力の小さい昇圧回路ではこの高電圧を供給する
ことができず、消去用の高電圧Vppを外部の電源から供
給する必要があった。しかし、負ゲート消去法を用いた
場合には、ソースSには電源電圧VCCを印加すればよい
ので、フラッシュメモリにこの電源電圧VCCのみを供給
する単一電源化を比較的容易に可能にすることができ
る。
【0008】このフラッシュメモリのセルトランジスタ
にデータを書き込む場合には、制御ゲートCGに12V
程度の高電圧を印加すると共にソースSを接地(0V)
し、ドレインDに7V程度の電圧を印加する。すると、
ドレインDとソースSの間に大きな電流が流れるので、
このドレイン接合近傍に発生した高エネルギーのホット
エレクトロンが浮遊ゲートFG内に注入されて電子が蓄
積され、データの“0”が記憶される。即ち、このデー
タの書き込み動作では、セルトランジスタの初期化され
たデータの“1”を“0”に書き替えるだけであり、デ
ータの“0”を“1”に書き替えることはできない。し
たがって、フラッシュメモリにおいてセルトランジスタ
のデータを書き替える場合には、まず消去動作を実行し
てそのチップ内やブロック内の全てのセルトランジスタ
を一旦初期化した後に、“0”のデータを記憶させるセ
ルトランジスタのみを選択してこの書き込み動作を行う
必要がある。
【0009】なお、このようにホットエレクトロンを用
いて浮遊ゲートFGに電子を注入する方式では、書き込
み時に各セルトランジスタに1mA程度の大きな電流を
供給する必要が生じる。そこで、通常のEEPROMと
同様に、FNトンネル電流を利用して電子の注入を行う
ことにより、書き込み時に必要となる電流を低減させる
ようにしたフラッシュメモリも開発されている。
【0010】また、上記フラッシュメモリのセルトラン
ジスタは、書き込みをドレイン接合側で行い、消去をソ
ース接合側で行うので、素子設計上のこれらの接合プロ
ファイルをそれぞれの動作に応じて最適化することが望
ましい。即ち、ドレイン接合は、書き込み効率を高める
ために電界集中型プロファイルを用いると共に、ソース
接合は、消去の際の高電圧を印加可能にするために電界
緩和型プロファイルを用いて、ドレイン接合側とソース
接合側が非対称構造となるようにする。
【0011】さらに、近年の電池駆動による携帯型の電
子機器の普及や半導体製造プロセスの微細化に伴い、半
導体装置の動作電源の低電圧化が要望されているので、
最近では電源電圧VCCを5Vから3.3Vに低下させた
半導体装置の開発が活発になっている。そして、上記フ
ラッシュメモリにおいても、この3.3Vの電源電圧V
CCにより動作するデバイスが開発されている。ただし、
このような3.3Vの電源電圧VCCを用いるフラッシュ
メモリであっても、現状では、読み出し時にセルトラン
ジスタの制御ゲートCGに印加する電圧は、動作の高速
化と動作マージンを十分に拡大するために、チップ内部
に設けたワード線昇圧回路によって電源電圧VCCを5V
程度に昇圧して印加するようにしている。
【0012】上記フラッシュメモリは、RAM(Random
Access Memory)などと異なり、データの書き込みや読
み出しの他に、ブロック消去やチップ一括消去およびス
テータスレジスタの読み出しなどの多数の動作状態を備
えている。したがって、これらの各動作状態を外部から
送られて来るチップイネーブル信号CEバーやライトイ
ネーブル信号WEバーや出力イネーブル信号OEバーな
どの制御信号の組み合わせで指定しようとすると、従来
のEPROMやEEPROMの制御信号以外にさらに新
たな制御信号を定め、それぞれの制御信号ごとに入力端
子を設けなければならないために使い勝手の悪いデバイ
スとなる。そこで、実際に実用化されているフラッシュ
メモリは、制御信号の組み合わせではなく、データやア
ドレスの組み合わせをコマンドとして入力し、これによ
り各動作状態を指定するコマンド方式が主流になってい
る。このようなフラッシュメモリでは、外部から入力さ
れたコマンドの種類をコマンドステートマシン(CS
M)が判定し、このコマンドに応じてライトステートマ
シン(WSM)がそれぞれの動作を実行することにな
る。
【0013】また、上記消去動作をブロック単位で行う
フラッシュメモリは、このブロック(消去ブロック)の
大きさが不均等なものと、このブロックの大きさが均等
な均等ブロック型のものとがある(米国特許52455
70号)。そして、このような複数のブロックを備えた
フラッシュメモリには、各ブロック内のデータを保護す
るために、それぞれのブロックごとにBP(Block Prot
ect)データを記憶するためのBPデータ記憶領域を設
ける場合がある。この場合、BPデータ記憶領域にBP
データが記憶されているときには、原則としてそのブロ
ック内のデータの消去と書き込みが禁止される。また、
このようなフラッシュメモリは、外部からWP(Write
Protect)バー信号を入力するためのWPバー入力端子
を設けている。WPバー信号は、これがアクティブ(L
レベル)の場合に各ブロックのBPデータ記憶領域に記
憶されたBPデータを有効にし、非アクティブ(Hレベ
ル)の場合にはこのBPデータを無効にするための制御
信号である。したがって、WPバー入力端子に入力され
るWPバー信号がアクティブ(Lレベル)になっている
場合にのみ、BPデータ記憶領域にBPデータが記憶さ
れたブロックへの消去動作と書き込み動作が禁止され、
その他の場合には全て消去/書き込み動作が実行可能と
なる。
【0014】なお、このようなWPバー入力端子を設け
る代わりに、WP設定コマンドとWP解除コマンドを設
ける場合もある。即ち、上記コマンド方式によりWP設
定コマンドを入力すると、デバイス内部のWP信号をア
クティブ(Hレベル)にし、WP解除コマンドを入力す
ると、このWP信号を非アクティブ(Lレベル)にする
ことによりBPデータの有効/無効を制御する。そし
て、このようなコマンド方式を用いると、WPバー入力
端子が不要となり、既存のEPROMやEEPROMな
どと入力端子の互換性を保つことができる。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記フラッ
シュメモリのセルトランジスタは、消去動作の際に浮遊
ゲートFGから電子が過剰に引き抜かれて過剰消去が発
生すると、このセルトランジスタのしきい値電圧が負電
圧となる。そして、このようにしきい値電圧が負電圧に
なると、セルトランジスタの選択トランジスタが省略さ
れているために、非選択のセルトランジスタからもリー
ク電流が流れるようになり、同一ビット線上で選択され
た他のセルトランジスタのデータを正しく読み出すこと
ができなくなり、致命的な不良となる。
【0016】そこで、上記フラッシュメモリは、消去動
作の際にこのような過剰消去が発生するのを防止するた
めに、まず前書き込み(program before erase)を行っ
て、消去対象となる全てのセルトランジスタの浮遊ゲー
トFGに予め電子を蓄積させておき(“0”のデータの
書き込み)、電子が蓄積されていない浮遊ゲートFGか
ら消去動作によって無理に電子が引き抜かれることがな
いようにしている。そして、上記高電圧の印加などによ
る消去を短時間だけ実行すると共に、消去ベリファイ動
作によってこの消去が完全に行われたかどうかを確認
し、消去不十分なセルトランジスタが存在しなくなるま
でこれを繰り返すことにより、必要以上の長時間にわた
って消去が実行されるのを防止している。
【0017】このため、フラッシュメモリは、消去動作
に極めて長い時間(数百m秒)を必要とするので、この
消去動作中に電源が遮断されたりデバイスリセット信号
が入力され、消去動作が途中で強制的に終了させられる
可能性が無視できなくなる。そして、このように消去動
作が途中で異常終了すると、セルトランジスタの記憶デ
ータが全て“1”(しきい値小)に初期化されずに、
“0”(しきい値大)のままで残る場合が生じる。ここ
で、書き込み動作は、上記のように、初期化された記憶
データの“1”を“0”に書き替えるだけのものである
ため、“1”のデータを書き込む場合には、実際には
“1”に初期化されたセルトランジスタをそのままにし
ておく。したがって、記憶データが初期化されずに
“0”となったセルトランジスタが存在すると、このよ
うなセルトランジスタに“1”のデータを書き込むこと
ができなくなる。
【0018】この結果、従来のフラッシュメモリは、デ
ータを消去した後の書き込み動作の際には、常にデータ
が完全に消去されていない可能性を考慮する必要が生
じ、このフラッシュメモリを使用するシステムのプログ
ラムが複雑になり、取り扱いが面倒になるという問題が
あった。即ち、書き込み動作を実行する前に消去動作の
異常終了を検出しようとしても、従来のフラッシュメモ
リでは、これを簡単に検出する手段がない。例えば、フ
ラッシュメモリのステータスレジスタには、消去が成功
したか失敗したかを示すビット(ES)が設けられる
が、電源の遮断やデバイスリセット信号の入力があった
場合には、このステータスレジスタもリセットされるの
で、これによる消去動作の異常終了を検出することはで
きない。したがって、このような消去動作の異常終了を
検出するには、全てのメモリセルのデータを読み出し
て、これらが正常に消去されているかどうかを逐一確認
するほかない。しかも、書き込み動作を実行した場合に
は、書き込みベリファイによって“0”のデータが正し
く書き込めたことが確認されるまで再書き込みを繰り返
すことになるが、消去動作の異常終了により“1”のデ
ータが書き込めなくなったときには、この再書き込みを
行ってはならず、別のエラー処理が必要となる。
【0019】また、上記ブロックごとのBPデータ記憶
領域は、通常は1ビットのBPデータを記憶するための
領域であり、当該ブロックの消去の際に同時にBPデー
タもクリアされて消去/書き込み可能状態に戻される。
しかし、消去動作では、上記のように前書き込みによっ
て一旦“0”のデータを書き込んだ後に“1”に初期化
するので、BPデータが“0”と“1”のいずれの場合
にも、この消去動作のいずれかの段階で電源電位の異常
やノイズの影響などにより異常終了すると、BPデータ
記憶領域に誤ってBPデータが記憶された状態となり、
意図せず消去/書き込み禁止状態になるおそれが生じ
る。例えば、消去によって初期化された“1”のデータ
が消去/書き込み可能状態を示し、“0”をBPデータ
とすると、前書き込みの直後に消去動作が異常終了すれ
ば、BPデータ記憶領域にBPデータが記憶された状態
となる。そして、この場合に、WPバー入力端子に入力
されたWPバー信号がアクティブ(Lレベル)であった
り、WP設定コマンドによってWP信号がアクティブ
(Hレベル)にされていると、このWPバー信号を非ア
クティブ(Hレベル)に切り替えたり、WP解除コマン
ドを入力しWP信号を非アクティブ(Lレベル)に切り
替えてから、再度消去動作を実行しなければならない。
【0020】この結果、従来のフラッシュメモリは、消
去動作の異常終了によりBPデータ記憶領域にBPデー
タが記憶され消去/書き込み禁止状態になった場合に
も、簡単に再度消去動作を実行できるようにするため
に、WPバー入力端子に入力するWPバー信号を切り替
えるための回路を設けたり、WP解除コマンドを入力す
るためにエラー処理ルーチンを付け加えなければなら
ず、このフラッシュメモリを使用するシステムの回路構
成やプログラムが複雑になるという問題も生じていた。
【0021】本発明は、上記事情に鑑み、消去動作が正
常に終了した場合に消去終了データ記憶領域に消去終了
データを書き込み、この記憶領域に消去終了データが記
憶されていない場合に無条件に消去を可能にすることに
より、消去動作の異常終了に容易に対応することができ
る不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的として
いる。
【0022】
【課題を解決するための手段】本発明(請求項1)に係
る不揮発性半導体記憶装置は、データを不揮発性記憶す
るメモリセルアレイのブロックを複数備え、該各ブロッ
クごとにデータの消去が可能になると共に、該消去を行
った後のブロックにのみデータの書き込みが可能となる
不揮発性半導体記憶装置であって、各ブロックごとにデ
ータを不揮発性記憶するブロックプロテクトデータ記憶
領域を備えると共に、ライトプロテクト信号がアクティ
ブであり、かつ、該ブロックプロテクトデータ記憶領域
にブロックプロテクトデータが記憶されている場合に、
当該ブロックのデータの消去と書き込みを禁止するブロ
ックプロテクト手段を備えたものにおいて、各ブロック
ごとにデータを不揮発性記憶する消去終了データ記憶領
域を備えると共に、消去動作の終了時に当該ブロックの
消去終了データ記憶領域に消去終了データを書き込む消
去終了データ設定手段と、該消去終了データ記憶領域に
消去終了データが記憶されていない場合に、該ブロック
プロテクト手段の機能にかかわらず、当該ブロックのデ
ータの消去を可能にする再消去許可手段とを備え、その
ことにより上記目的が達成される。
【0023】本発明(請求項2)は、請求項1記載の不
揮発性半導体記憶装置において、前記再消去許可手段
が、前記消去終了データ記憶領域に消去終了データが記
憶されていない場合に、前記ブロックプロテクト手段の
機能にかかわらず、当該ブロックへのデータの書き込み
も禁止するものである。
【0024】本発明(請求項3)は、請求項1または2
記載の不揮発性半導体記憶装置において、前記再消去許
可手段が、前記消去終了データ記憶領域に消去終了デー
タが記憶されていない場合に、前記ブロックプロテクト
データ記憶領域にブロックプロテクトデータの書き込み
も禁止するものである。
【0025】本発明(請求項4)は、請求項1〜3記載
の不揮発性半導体記憶装置において、前記ブロックプロ
テクトデータと前記消去終了データがそれぞれ2ビット
以上のデータからなり、かつ、データの書き込み動作の
先側のビットが消去状態であり後側のビットがこれの反
転状態となるデータの並びを有するものであり、前記各
ブロックプロテクトデータ記憶領域と前記各消去終了デ
ータ記憶領域がそれぞれ該2ビット以上のブロックプロ
テクトデータと消去終了データを不揮発性記憶するもの
である。
【0026】本発明(請求項5)は、請求項1〜4記載
の不揮発性半導体記憶装置において、前記ブロックプロ
テクトデータ記憶領域に記憶されたデータと、前記消去
終了データ記憶領域に記憶されたデータとを外部に読み
出すブロックステータスデータ読出手段を備えたもので
ある。
【0027】本発明(請求項6)は、請求項1〜5記載
の不揮発性半導体記憶装置において、各ブロックごとに
データを不揮発性記憶する無条件ブロックプロテクトデ
ータ記憶領域を備えると共に、該無条件ブロックプロテ
クトデータ記憶領域に無条件ブロックプロテクトデータ
が記憶されている場合に、前記ライトプロテクト信号に
かかわりなく、当該ブロックのデータの消去と書き込み
を禁止する無条件ブロックプロテクト手段を備えたもの
である。
【0028】本発明(請求項7)は、請求項6記載の不
揮発性半導体記憶装置において、前記再消去許可手段
が、前記消去終了データ記憶領域に消去終了データが記
憶されていない場合に、前記無条件ブロックプロテクト
データ記憶領域に無条件ブロックプロテクトデータの書
き込みも禁止するものである。
【0029】本発明(請求項8)は、請求項6または7
記載の不揮発性半導体記憶装置において、前記無条件ブ
ロックプロテクトデータが2ビット以上のデータからな
り、かつ、データの書き込み動作の先側のビットが消去
状態であり後側のビットがこれの反転状態となるデータ
の並びを有するものであり、前記各無条件ブロックプロ
テクトデータ記憶領域が該2ビット以上の無条件ブロッ
クプロテクトデータを不揮発性記憶するものである。
【0030】本発明(請求項9)は、請求項6〜8記載
の不揮発性半導体記憶装置において、前記無条件ブロッ
クプロテクトデータ記憶領域に記憶されたデータを外部
に読み出す無条件ブロックプロテクトデータ読出手段を
備えたものである。
【0031】本発明(請求項10)に係る不揮発性半導
体記憶装置は、データを不揮発性記憶するメモリセルア
レイのブロックを複数備え、該各ブロックのデータを直
接書き替えることが可能となる不揮発性半導体記憶装置
であって、各ブロックごとにデータを不揮発性記憶する
ブロックプロテクトデータ記憶領域を備えると共に、ラ
イトプロテクト信号がアクティブであり、かつ、該ブロ
ックプロテクトデータ記憶領域にブロックプロテクトデ
ータが記憶されている場合に、当該ブロックのデータの
書き替えを禁止するブロックプロテクト手段を備えたも
のにおいて、各ブロックごとにデータを不揮発性記憶す
る書替無効データ記憶領域を備えると共に、データの書
き替え動作が正常に終了しなかった場合に、当該ブロッ
クの書替無効データ記憶領域に書替無効データを書き込
む書替無効データ設定手段と、該書替無効データ記憶領
域に書替無効データが記憶されている場合に、該ブロッ
クプロテクト手段の機能にかかわらず、当該ブロックの
データの書き替えを禁止するデータ書替禁止手段とを備
えたものである。
【0032】本発明(請求項11)は、請求項10記載
の不揮発性半導体記憶装置において、前記データ書替禁
止手段が、前記書替無効データ記憶領域に書替無効デー
タが記憶されている場合に、前記ブロックプロテクトデ
ータ記憶領域にブロックプロテクトデータの書き込みを
行うことも禁止するものである。
【0033】以下作用について説明する。
【0034】この発明(請求項1)においては、フラッ
シュメモリなどのブロックの消去動作が正常に終了しな
かった場合(異常終了の場合)に、消去終了データ設定
手段が消去終了データ記憶領域に消去終了データを書き
込まないので、再消去許可手段がそのブロックのデータ
の消去を可能にする。したがって、ブロックの消去が異
常終了し、そのブロックの消去が不完全である可能性が
存在する場合に、ライトプロテクト信号がアクティブと
なっていて、そのブロックのブロックプロテクトデータ
記憶領域にブロックプロテクトデータと一致するデータ
が記憶されていたとしても、直ちにこのブロックの再消
去を実行できるので、ライトプロテクト信号を非アクテ
ィブに切り換える手間を省くことができる。
【0035】この発明(請求項2)においては、ブロッ
クの消去が異常終了した場合に、再消去許可手段がその
ブロックの再消去を可能にするだけでなく、そのブロッ
クへのデータの書き込みも禁止するので、ブロックが完
全に消去されていない可能性があることを知らずに誤っ
てデータの書き込みを行うのを防止できる。
【0036】この発明(請求項3)においては、ブロッ
クの消去が異常終了した場合に、再消去許可手段がその
ブロックの再消去を可能にするだけでなく、そのブロッ
クのブロックプロテクトデータ記憶領域にブロックプロ
テクトデータの書き込みを行うことも禁止するので、ブ
ロックが完全に消去されていない可能性があることを知
らずに誤ってそのブロックのデータを保護するのを防止
できる。
【0037】この発明(請求項4)においては、ブロッ
クプロテクトデータと消去終了データがそれぞれ2ビッ
ト以上のデータからなるので、消去の異常終了により、
ブロックプロテクトデータ記憶領域や消去終了データ記
憶領域のデータが偶然にこれらブロックプロテクトデー
タや消去終了データに一致する可能性を減少させること
ができる。また、これらのデータは、少なくとも1組の
ビットが互いに反転したものとなるので、偶然にブロッ
クプロテクトデータや消去終了データに一致する可能性
をさらに減少させることができる。しかも、少なくとも
1組のビットは、データの書き込み動作の先側のものが
消去状態となるので、消去動作の際に消去状態を反転さ
せたデータを書き込む前書き込みを実行する不揮発性半
導体記憶装置の場合に、この前書き込みの途中で異常終
了が発生しても、このデータが偶然にブロックプロテク
トデータや消去終了データに一致する可能性を完全にな
くすことができる。
【0038】この発明(請求項5)においては、消去終
了データ記憶領域に消去終了データが記憶されているか
どうかをブロックステータスデータ読出手段により読み
出すことができるので、このブロックの消去動作が正常
に終了したかどうかを容易に外部から検出することがで
きる。また、ブロックプロテクトデータ記憶領域にブロ
ックプロテクトデータが記憶されているかどうかも、こ
のブロックステータスデータ読出手段により読み出すこ
とができるので、各ブロックのデータの保護状況を簡単
に検出することができる。
【0039】この発明(請求項6)においては、無条件
ブロックプロテクトデータ記憶領域に無条件ブロックプ
ロテクトデータが記憶されている場合に、無条件ブロッ
クプロテクト手段が無条件にそのブロックのデータの消
去と書き込みを禁止するので、ライトプロテクト信号に
影響されることなく、任意のブロックのデータを確実に
保護することができる。
【0040】この発明(請求項7)においては、ブロッ
クの消去が異常終了した場合に、再消去許可手段がその
ブロックの再消去を可能にするだけでなく、そのブロッ
クの無条件ブロックプロテクトデータ記憶領域に無条件
ブロックプロテクトデータの書き込みを行うことも禁止
するので、ブロックが完全に消去されていない可能性が
あることを知らずに誤ってそのブロックのデータを無条
件に保護するのを防止できる。
【0041】この発明(請求項8)においては、無条件
ブロックプロテクトデータが2ビット以上のデータから
なるので、消去の異常終了により、無条件ブロックプロ
テクトデータ記憶領域のデータが偶然にこの無条件ブロ
ックプロテクトデータに一致する可能性を減少させるこ
とができる。また、この無条件ブロックプロテクトデー
タは、少なくとも1組のビットが互いに反転したものと
なるので、偶然に一致する可能性をさらに減少させるこ
とができる。しかも、少なくとも1組のビットは、デー
タの書き込み動作の先側のものが消去状態となるので、
消去動作の際に消去状態を反転させたデータを書き込む
前書き込みを実行する不揮発性半導体記憶装置の場合
に、この前書き込みの途中で異常終了が発生しても、こ
のデータが偶然に無条件ブロックプロテクトデータに一
致する可能性を完全になくすことができる。
【0042】この発明(請求項9)においては、無条件
ブロックプロテクトデータ記憶領域に無条件ブロックプ
ロテクトデータが記憶されているかどうかを無条件ブロ
ックプロテクトデータ読出手段により読み出すことがで
きるので、各ブロックのデータの保護状況を簡単に検出
することができる。
【0043】この発明(請求項10)においては、強誘
電体を用いた不揮発性半導体記憶装置などで、データの
書き替え動作が正常に終了しなかった場合(異常終了の
場合)に、書替無効データ設定手段が書替無効データ記
憶領域に書替無効データを書き込むので、データ書替禁
止手段がそのブロックのデータの書き替えを禁止する。
したがって、ブロックのデータの書き替えが異常終了
し、そのブロックのデータが不完全である可能性が存在
する場合に、ライトプロテクト信号が非アクティブにな
っていたり、そのブロックのブロックプロテクトデータ
記憶領域にブロックプロテクトデータが記憶されていな
くても、このブロックに誤ってデータの書き込みを行う
のを防止できる。
【0044】この発明(請求項11)においては、ブロ
ックのデータの書き替えが異常終了した場合に、データ
書替禁止手段がそのブロックのデータの書き替えを禁止
するだけでなく、そのブロックのブロックプロテクトデ
ータ記憶領域にブロックプロテクトデータの書き込みを
行うことも禁止するので、ブロックのデータが不完全で
ある可能性が存在することを知らずに誤ってそのブロッ
クのデータを保護するのを防止できる。
【0045】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。
【0046】図1〜図7に本発明の一実施形態を示す。
本実施形態は、不揮発性半導体記憶装置としてフラッシ
ュメモリを用いた場合について説明する。このフラッシ
ュメモリは、図1に示すように、メモリセルアレイがN
個のブロック1に分割されている。これらの各ブロック
1は、それぞれ同じサイズ(ビット数)であってもよい
し(均等ブロック型)、サイズが不均等であってもよい
(例えばブートブロック型)。また、ブートブロック型
では、図1に示すブロック1とは別に、特定の端子に高
電圧を印加した場合にのみ消去と書き込みが可能となる
ブートブロックを備えている。なお、各ブロック1は、
HDD(Hard Disc Drive)互換システムに用いられる
フラッシュメモリなどの場合にはセクタと称する場合も
ある。
【0047】このフラッシュメモリには、各ブロック1
に対応させて、BPデータ記憶領域1aとECデータ記
憶領域1bとが設けられている。これらのBPデータ記
憶領域1aとECデータ記憶領域1bは、データを不揮
発性記憶する1ビット以上の記憶領域であり、各ブロッ
ク1のメモリセルアレイの一部に設けてもよいし、これ
とは別に設けた不揮発性の記憶領域によって構成するこ
ともできる。後に詳細に説明するように、このBPデー
タ記憶領域1aは、BPデータ(ブロックプロテクトデ
ータ)が記憶されている場合に、そのブロック1への消
去と書き込みを禁止しデータを保護するためのものであ
り、ECデータ記憶領域1bは、ECデータ(消去終了
データ)が記憶されている場合に、そのブロック1への
前回の消去動作が正常に終了したことを示すためのもの
である。
【0048】ライトステートマシン2は、これらのブロ
ック1内のメモリセルにデータを書き込むための書き込
み(プログラム)動作や、このメモリセルのデータをブ
ロック1ごとの単位で消去するための消去動作などを実
行する回路である。行デコーダ/センス回路3は、外部
から入力されたアドレスに基づいてワード線を選択し、
列デコーダ4は、ビット線を選択する。また、ブロック
選択回路5は、ブロック1を選択する。そして、読み出
し動作の場合には、選択されたメモリセルからビット線
に読み出したデータを行デコーダ/センス回路3でセン
スして外部に出力し、書き込み動作の場合には、外部か
ら入力されたデータを選択されたメモリセルに書き込
む。
【0049】消去/書き込み電圧発生回路6は、外部か
ら供給される電源電圧VCCに基づいて高電圧(12V)
を発生する昇圧回路であり、この高電圧をライトステー
トマシン2に供給することによりフラッシュメモリの消
去動作と書き込み動作が実行される。なお、本実施形態
のフラッシュメモリが負ゲート消去法を行うタイプのも
のである場合には、この消去/書き込み電圧発生回路6
は、高電圧に代えて負電圧を発生させる。
【0050】コマンドステートマシン7は、外部からの
チップイネーブル信号CEバーとライトイネーブル信号
WEバーと出力イネーブル信号OEバーからなる各制御
信号を入力すると共に、上記外部から入力されたデータ
とアドレスに基づいてコマンドの種類を判定する回路で
ある。チップイネーブル信号CEバーがアクティブ(L
レベル)の場合には、このフラッシュメモリがアクセス
の対象となることを示し、ライトイネーブル信号WEバ
ーがアクティブ(Lレベル)の場合には、書き込みアク
セスが行われることを示し、出力イネーブル信号OEバ
ーがアクティブ(Lレベル)の場合には、読み出しアク
セスが行われることを示す。コマンドステートマシン7
は、1回〜数回のバスサイクルの間に、これらの制御信
号によるアクセス内容を検出すると共に、入力されたデ
ータの値と、場合によってアドレスの値が所定値である
かどうかを検出することによりコマンドを判定する。判
定されたコマンドは、ライトステートマシン2に送ら
れ、これによって書き込み動作や消去動作などが実行さ
れる。また、このコマンドステートマシン7には、外部
から入力されたリセット信号により、電源投入時やシス
テムのリセット時に初期化が行われるようになってい
る。
【0051】上記コマンドステートマシン7が判定する
コマンドの一部を表1に示す。
【0052】
【表1】
【0053】なお、ここで示すコマンドは、1回目と2
回目のバスサイクルが全て書き込みサイクルとなるもの
のみについて説明する。したがって、いずれのバスサイ
クルにおいても、チップイネーブル信号CEバーとライ
トイネーブル信号WEバーをアクティブ(Lレベル)に
してアドレスとデータを送ることになる。ただし、例え
ばここでは例示しないリードステータスレジスタコマン
ドでは、2回目のバスサイクルでチップイネーブル信号
CEバーと出力イネーブル信号OEバーをアクティブ
(Lレベル)に変えて、ステータスレジスタをデータと
して読み出すようになっている。また、1回のバスサイ
クルだけのコマンドも存在する。なお、このようなコマ
ンドは、バスサイクル数を多くするほど、意図しないア
クセスにより偶然にコマンドが実行される可能性を少な
くすることができるので、このバスサイクル数を3回以
上にすることもできる。しかし、バスサイクル数をあま
り多くすると、コマンドの実行時間が長くなり、使い勝
手の悪いフラッシュメモリとなる。
【0054】表1において、1回目の書き込みサイクル
で送られて来たデータが40H(「H」は数値が16進
表記であることを示す。以降も同様である)であった場
合には、データ書き込みコマンドであると判定し、2回
目の書き込みサイクルで送られて来た書き込みアドレス
WAと書き込みデータWDに基づいてライトステートマ
シン2に書き込み動作を実行させる。また、1回目の書
き込みサイクルと2回目の書き込みサイクルで送られて
来たデータがそれぞれ20HとD0Hであった場合に
は、ブロック消去コマンドであると判定し、2回目の書
き込みサイクルで送られて来たブロックアドレスBAに
基づいてライトステートマシン2に消去動作を実行させ
る。この消去動作は、上記のように実行に数百m秒を要
するので、この間に電源が遮断されたりデバイスリセッ
ト信号が入力されて動作が異常終了する可能性を無視で
きなくなる。そして、各ブロック1のECデータ記憶領
域1bは、消去動作にこのような異常終了が発生したか
どうかを検出するためのものである。さらに、1回目の
書き込みサイクルと2回目の書き込みサイクルで送られ
て来たデータがそれぞれ77HとD0Hであった場合に
は、ロックブロックコマンドであると判定し、2回目の
書き込みサイクルで送られて来たロックブロックアドレ
スBAに基づいてライトステートマシン2により、当該
ブロック1のBPデータ記憶領域1aにBPデータを記
憶させる。なお、このロックブロックコマンドの実行時
に電源の遮断などが発生すると、BPデータ記憶領域1
aに正しくBPデータを記憶させることができなくな
り、このブロック1への消去や書き込みが可能となって
データを保護することができない。しかし、消去動作の
場合と異なり、このロックブロックコマンドの実行に要
する時間は数十μ秒にすぎないので、このような異常の
発生はほとんど無視することができる。
【0055】本実施形態のフラッシュメモリは、外部か
らWPバー信号を入力するためのWPバー入力端子を設
ける代わりに、コマンド方式によるWP設定コマンドと
WP解除コマンドを設ける場合を示す。このため、コマ
ンドステートマシン7は、内部にWP信号発生回路8を
設けると共に、表2に示すコマンドも受け付けるように
なっている。
【0056】
【表2】
【0057】即ち、1回目の書き込みサイクルで送られ
て来たデータが47Hであり、2回目の書き込みサイク
ルで送られて来たアドレスとデータがそれぞれFFHと
D0Hであった場合には、WP解除コマンドであると判
定し、WP信号発生回路8が出力するWP信号をLレベ
ル(非アクティブ)に切り替える。また、1回目の書き
込みサイクルで送られて来たデータが57Hであり、2
回目の書き込みサイクルで送られて来たアドレスとデー
タがそれぞれFFHとD0Hであった場合には、WP設
定コマンドであると判定し、WP信号発生回路8が出力
するWP信号をHレベル(アクティブ)に切り替える。
なお、上記ロックブロックコマンドによりいずれかのブ
ロック1のBPデータ記憶領域1aにBPデータを記憶
させた場合には、自動的にこのWP信号もHレベル(ア
クティブ)になるようにしてもよい。また、電源投入時
やシステムのリセット時には、その後のWP設定コマン
ドの送り忘れによるデータの破壊を防止するために、W
P信号がHレベル(アクティブ)になるようにしてい
る。
【0058】上記WP信号発生回路8が出力するWP信
号は、ライトステートマシン2に送られる。ライトステ
ートマシン2は、このWP信号がアクティブ(Hレベ
ル)な場合にのみ、各ブロック1のBPデータ記憶領域
1aに記憶されたBPデータを有効なものとして取り扱
い、そのブロック1のデータを保護する。即ち、表3に
示すように、
【0059】
【表3】
【0060】WP信号がHレベル(アクティブ)であれ
ば、上記データ書き込みコマンドやブロック消去コマン
ドが入力された場合にも、ライトステートマシン2は、
以降で説明する場合を除いて、BPデータ記憶領域1a
にBPデータが記憶されているブロック1への消去動作
と書き込み動作を禁止する。しかし、このWP信号がH
レベル(アクティブ)であっても、BPデータが記憶さ
れていないブロック1への消去動作と書き込み動作は実
行する。また、WP信号がLレベル(非アクティブ)で
あれば、BPデータの記憶の有無にかかわらず、いずれ
のブロック1への消去動作と書き込み動作も実行する。
したがって、一旦BPデータ記憶領域1aにBPデータ
が記憶されたブロック1のデータは、原則としてWP解
除コマンドによってWP信号をLレベル(非アクティ
ブ)にしない限り書き換えることができない。
【0061】上記ライトステートマシン2は、ブロック
1の消去動作を実行する際に、そのブロック1のBPデ
ータ記憶領域1aのデータも消去してBPデータ以外の
データに書き換えるようになっている。なお、BPデー
タ記憶領域1aは、消去されると全てのビットが“1”
となるので、BPデータを“0”のビットを含むデータ
に定めれば、BPデータ記憶領域1aを消去するだけで
BPデータ以外のデータとすることができる。BPデー
タ記憶領域1aに記憶されたBPデータを書き換えて保
護状態を解除するのは、この消去動作の場合だけであ
り、BPデータのみを直接書き換えるコマンドは用意さ
れていない。また、ライトステートマシン2は、ブロッ
ク1の消去を実行する際に、そのブロック1のECデー
タ記憶領域1bのデータも消去し、この消去動作の終了
時にECデータを書き込むようになっている。ECデー
タ記憶領域1bのデータが書き換えられるのは、この消
去動作の場合だけである。
【0062】このライトステートマシン2は、消去動作
や書き込み動作の終了時などに、BPデータ記憶領域1
aとECデータ記憶領域1bの記憶内容を示すデータR
1,R2をコマンドステートマシン7に送るようになって
いる。これらのデータR1,R2は、BPデータ記憶領域
1aとECデータ記憶領域1bに記憶されたデータその
ものでもよいが、ここでは、データR2は、ECデータ
記憶領域1bにECデータが記憶されている場合に
“0”となり、その他の場合に“1”となる1ビットの
データとし、データR1は、BPデータ記憶領域1aに
BPデータが記憶されている場合に“0”となり、その
他の場合に“1”となる1ビットのデータとする。そし
て、コマンドステートマシン7は、上記ブロック消去コ
マンドやデータ書き込みコマンドが入力され、ライトス
テートマシン2がこれらの動作を実行している間に、チ
ップイネーブル信号CEバーと出力イネーブル信号OE
バーがアクティブ(Lレベル)になったこと(読み出し
サイクル)を検出すると、これらのデータR1,R2をデ
ータとして外部に読み出すようになっている。
【0063】ところで、コマンドステートマシン7に
は、フラッシュメモリの内部状態を示すステータスレジ
スタが設けられている。このステータスレジスタには、
図2に示すように、8ビット(1バイト)のデータが記
憶されるようになっていて、コマンドステートマシン7
によって適宜書き換えられる。このステータスレジスタ
の最上位のWSMS(Write State Machine Status)ビ
ットは、フラッシュメモリがアクセス可能であるか動作
中でアクセスできないかを示すビットであり、次のES
S(Erease-Suspend Status)ビットは、消去停止中か
どうかを示すビットである。消去停止とは、消去動作中
にこの消去を一時停止させて他のブロック1へのアクセ
スを可能にする操作である。ES(Erease Status)ビ
ットは、消去が成功したか失敗したかを示すビットであ
る。ただし、ここでの消去の失敗は、消去動作の際に、
消去を所定回数繰り返しても消去ベリファイで完全に消
去されたことが確認できなかった場合を意味し、消去の
異常終了を示すものではない。DWS(Data-Write Sta
tus)ビットは、書き込みが成功したか失敗したかを示
すビットであり、VPPS(Vpp Status)ビットは、電
源電圧の異常な低下による動作の中止があったかどうか
を示すビットである。下位3ビットのビットR2〜R0
は、現状では未定義のリザーブビットである。そして、
このステータスレジスタの8ビットの内容は、上記リー
ドステータスレジスタコマンドによってデータとして外
部に読み出させることができる。また、ライトステート
マシン2は、上記2ビットのデータR1,R2を出力する
際に、このステータスレジスタの8ビットの内容も同時
に読み出すようにすることができる。即ち、BPデータ
記憶領域1aとECデータ記憶領域1bの記憶内容を示
すデータR1,R2を、ステータスレジスタのリザーブビ
ットR1,R2に割り当てて出力する。このようにBPデ
ータ記憶領域1aとECデータ記憶領域1bの記憶内容
をステータスレジスタの内容と共に読み出せば、消去動
作の異常終了だけでなく、消去の失敗や書き込みの失敗
なども同時に検出することができる。
【0064】上記ライトステートマシン2は、消去動作
と書き込み動作を実行する際に、対象となるブロック1
のECデータ記憶領域1bを参照する。そして、このE
Cデータ記憶領域1bにECデータが記憶されている場
合には、上記原則通りに、WP信号がHレベル(アクテ
ィブ)であり、BPデータ記憶領域1aにBPデータが
記憶されていれば、そのブロック1への消去動作を禁止
する。しかし、ECデータ記憶領域1bにECデータが
記憶されていない場合には、WP信号がHレベル(アク
ティブ)であり、BPデータ記憶領域1aにBPデータ
が記憶されていても、そのブロック1への消去動作を禁
止せずに実行する。即ち、ECデータ記憶領域1bにE
Cデータが書き込まれるのは、消去動作の終了時に限ら
れるので、この消去動作が異常終了した場合には、通常
はECデータ記憶領域1bにECデータ以外のデータが
記憶されたままとなる。したがって、ECデータ記憶領
域1bにECデータが記憶されている場合には、前回実
行された消去動作が正常に終了していると判断すること
ができる。そして、ECデータ記憶領域1bにECデー
タが記憶されていない場合には、前回実行された消去動
作が異常終了したと判断することができ、この場合には
ブロック1内に未消去のデータが残っている可能性があ
るので、再消去を行わない限りアクセスが無意味なもの
となる。
【0065】上記構成のフラッシュメモリを用いるシス
テムでは、いずれかのブロック1の消去や書き込みを行
った場合に、チップイネーブル信号CEバーと出力イネ
ーブル信号OEバーをアクティブにして、ステータスレ
ジスタの内容と共に、BPデータ記憶領域1aとECデ
ータ記憶領域1bの記憶内容を示すデータR1,R2を読
み出し、ECデータ記憶領域1bにECデータが記憶さ
れているかどうかを検査することができる。そして、デ
ータR2によりECデータ記憶領域1bにECデータが
記憶されていないことが検出されると、前回実行された
消去動作が異常終了したと判断して、ブロック消去コマ
ンドを送り再度そのブロック1の消去動作を行わせる。
この際、WP信号がHレベル(アクティブ)であり、B
Pデータ記憶領域1aにBPデータが記憶されていて、
そのブロック1のデータが保護状態であっても、ライト
ステートマシン2は、そのブロック1への消去動作を実
行することができる。
【0066】なお、本実施形態では、BPデータ記憶領
域1aとECデータ記憶領域1bの記憶内容を示すデー
タR1,R2を読み出すことができる場合について説明し
たが、これらが読み出せない場合であっても、消去動作
後に全データを読み出したり、書き込みに失敗すること
により、この消去動作が異常終了したことを検出でき
る。そして、これにより消去動作の異常終了が検出され
た場合にも、WP信号やBPデータ記憶領域1aの状態
にかかわりなく、そのブロック1の再消去を確実に実行
することができるようになる。
【0067】ここで、BPデータ記憶領域1aが1ビッ
トの領域である場合について考察する。この場合、BP
データを“0”に定めると、BPデータ記憶領域1a
は、消去動作の最初の段階で前書き込みによって“0”
のデータが書き込まれるので、その後、消去によって
“1”に初期化される前に異常終了が発生した場合に、
この消去動作後に偶然にBPデータ記憶領域1aにBP
データが記憶された状態が生じる。また、BPデータを
“1”に定めると、BPデータ記憶領域1aが消去によ
って“1”に初期化された後に、改めてBPデータ以外
のデータである“0”を書き込むことになるが、この
“0”を書き込む直前に異常終了が発生した場合に、こ
の消去動作後にBPデータ記憶領域1aにBPデータが
記憶された状態が生じる。したがって、いずれの場合に
も、消去動作が異常終了すると、そのブロック1が不必
要にデータの保護状態となる場合が生じる。
【0068】もっとも、ECデータ記憶領域1bが1ビ
ットの領域である場合も事情は同じであるため、ECデ
ータを“0”と“1”のいずれに定めた場合にも、消去
動作が異常終了したときに、このECデータ記憶領域1
bに偶然にECデータが記憶され異常終了を検出できな
い場合は生じ得る。したがって、ECデータ記憶領域1
bを1ビットの領域にすると、ECデータ記憶領域1b
の前書き込みや消去の時期を工夫することにより、消去
動作の異常終了を検出する確率をある程度高めることは
できても、常に確実に検出できるとは限らない。
【0069】そこで、本実施形態では、BPデータ記憶
領域1aとECデータ記憶領域1bをそれぞれ2ビット
の領域とする。即ち、図3に示すように、BPデータ記
憶領域1aは2ビットのビットb1,b0によって構成さ
れ、ECデータ記憶領域1bは2ビットのビットb3,
b2によって構成されるものとする。また、これらのビ
ットb3〜b0は、添え字の大きい方から順にデータの書
き込み動作が実行されるものとする。この場合、BPデ
ータとECデータをそれぞれ2ビットの“10”(“”
内の数値は2進表記で示す。以降も同様である)のデー
タとすることにより、消去動作が異常終了しても、偶然
にBPデータ記憶領域1aにBPデータが記憶されてい
たり、ECデータ記憶領域1bにECデータが記憶され
ているという可能性をなくすことができる。
【0070】例えば、消去動作の最初の段階で前書き込
みによってBPデータ記憶領域1aとECデータ記憶領
域1bの各ビットに“0”のデータが書き込まれた直後
に異常終了が発生すると、その後のBPデータ記憶領域
1aとECデータ記憶領域1bには“00”のデータが
残ることになる。また、BPデータ記憶領域1aとEC
データ記憶領域1bは、完全に消去されたが、ブロック
1内のデータにはまだ完全に消去されていないものが存
在し、さらに消去を繰り返す必要があるという段階で異
常終了が発生すると、その後のBPデータ記憶領域1a
とECデータ記憶領域1bには“11”のデータが残る
ことになる。しかも、前書き込みによってBPデータ記
憶領域1aかECデータ記憶領域1bの最初のビット
(b1,b3)に“0”のデータが書き込まれてから、次
のビット(b0,b2)に書き込まれるまでの短い期間内
に異常終了が発生すると、その後のBPデータ記憶領域
1aかECデータ記憶領域1bに“01”のデータが残
る可能性がわずかではあるが生じる。しかし、消去動作
のいずれの段階で異常終了が発生しても、BPデータ記
憶領域1aやECデータ記憶領域1bに“10”のデー
タが残る可能性は存在しない。したがって、BPデータ
とECデータをこの“10”に定めて、消去動作の最後
にECデータ記憶領域1bにECデータを書き込むよう
にすれば、この消去動作が正常に終了した場合に限りE
Cデータ記憶領域1bにECデータが記憶されるように
することができると共に、この消去動作が異常終了して
も、BPデータ記憶領域1aに偶然にBPデータが記憶
されているという可能性をなくすことができる。
【0071】このように、BPデータとECデータを
“10”に定めると、図3に示すように、ビットb1,
b0が”10”の場合に消去/書き込みが禁止された状
態を示し、その他のデータの場合に消去/書き込みが可
能な状態を示す。そして、ビットb3,b2が”10”の
場合に消去が正常に終了したことを示し、その他のデー
タの場合に消去が異常終了したことを示す。また、BP
データとECデータを“10”に定めると、図4に示す
ように、BPデータ記憶領域1aのビットb1,b0のデ
ータをインバータ11とNANDゲート12を介してビ
ットR1としてコマンドステートマシン7に送ることが
できる。この場合、ビットR1は、BPデータ記憶領域
1aにBPデータが記憶されているときに“0”とな
り、その他のデータが記憶されているときに“1”とな
る。そして、図5に示すように、ECデータ記憶領域1
bのビットb3,b2のデータをインバータ13とNAN
Dゲート14を介してビットR2としてコマンドステー
トマシン7に送ることができる。この場合、ビットR2
は、ECデータ記憶領域1bにECデータが記憶されて
いるときに“0”となり、その他のデータが記憶されて
いるときに“1”となる。
【0072】また、上記BPデータ記憶領域1aとEC
データ記憶領域1bは、それぞれ3ビットの領域とする
こともできる。この場合、前書き込みが完了した直後に
異常終了が発生すると、その後のBPデータ記憶領域1
aとECデータ記憶領域1bには“000”のデータが
残ることになり、BPデータ記憶領域1aとECデータ
記憶領域1bのみが完全に消去され、ブロック1内のデ
ータにはまだ完全に消去されていないものが存在する段
階で異常終了が発生すると、その後のBPデータ記憶領
域1aとECデータ記憶領域1bには“111”のデー
タが残ることになる。しかも、BPデータ記憶領域1a
かECデータ記憶領域1bの前書き込みの途中で異常終
了が発生すると、その後のBPデータ記憶領域1aかE
Cデータ記憶領域1bに“011”または“001”の
データが残る可能性がわずかではあるが生じる。しか
し、消去動作のいずれの段階で異常終了が発生しても、
BPデータ記憶領域1aやECデータ記憶領域1bに
“010”と“100”と“101”と“110”のい
ずれかのデータが残る可能性は存在しない。即ち、これ
らのデータは、いずれも書き込み動作の先側のビットが
消去状態(“1”)であり後側のビットがこれの反転状
態(“0”)となるデータの並び(“10”)をどこか
に有するものである。したがって、BPデータやECデ
ータをこれらのデータのいずれかに定めてもよい。な
お、これらBPデータ記憶領域1aとECデータ記憶領
域1bをそれぞれ4ビット以上の領域とすることもで
き、この場合にはさらに確実に偶然の一致の可能性をな
くすことができるようになるが、ブロック1ごとに1バ
イト(8ビット)以上の記憶領域が必要となり、回路規
模が大きくなり過ぎるおそれも生じる。
【0073】なお、消去動作の際には、まず最初にEC
データ記憶領域1bの前書き込みを行うことが好まし
い。先にブロック1内のメモリセルに前書き込みを行う
と、その途中で異常終了が発生した場合に、ECデータ
記憶領域1bに直前のECデータが残り異常終了が検出
できなくなるからである。また、消去動作の終了時のE
Cデータの書き込みは、上記のようにこの消去動作ので
きるだけ後の段階で実行することが好ましい。ブロック
1内のデータが全て完全に消去される前にECデータを
書き込むと、その後に異常終了が発生した場合にも、E
Cデータ記憶領域1bにECデータが記憶されているこ
とになるからである。
【0074】以上説明したように、本実施形態のフラッ
シュメモリによれば、ブロック1の消去動作が異常終了
すると、そのブロック1のECデータ記憶領域1bにE
Cデータが書き込まれない。そして、このような消去動
作の異常終了によりブロック1内のデータの消去が不完
全である可能性が存在すると、そのブロック1のECデ
ータ記憶領域1bにECデータが記憶されないので、W
P信号やBPデータ記憶領域1aの状態にかかわりな
く、そのブロック1の再消去を確実に実行できるように
なり、このWP信号を切り替えるためにWP解除コマン
ドを発行する必要がなくなる。また、BPデータとEC
データを2ビット以上の“10”や“100”などに定
めることにより、消去動作が異常終了しても、BPデー
タ記憶領域1aやECデータ記憶領域1bに記憶された
データが偶然にこれらBPデータやECデータに一致す
る可能性をなくすことができ、この異常終了が確実に検
出できるようになる。
【0075】上記各ブロック1のBPデータ記憶領域1
aとECデータ記憶領域1bは、それぞれブロック1内
に設けない場合には、CAM(Content Addressable Me
mory)回路を用いることもできる。1ビット分のCAM
回路は、図6に示すように、PチャンネルのMOS・F
ET21とNチャンネルのMOS・FET22とフラッ
シュメモリのセルトランジスタ23との直列回路を電源
VCCと接地間に接続すると共に、同様の構成のPチャン
ネルのMOS・FET24とNチャンネルのMOS・F
ET25とフラッシュメモリのセルトランジスタ26と
の直列回路を電源VCCと接地間に接続し、双方のPチャ
ンネルのMOS・FET21,24のゲートを互いに他
方のNチャンネルのMOS・FET25,22のドレイ
ンに接続したものである。そして、NチャンネルのMO
S・FET22,25のゲートに約2Vのバイアス電圧
を印加して、PチャンネルのMOS・FET24のドレ
インからインバータ27を介してCAMデータを出力す
る。このCAM回路にデータを書き込む場合には、セル
トランジスタ23,26の制御ゲートに22V程度の高
電圧のゲート信号を入力し、これらのセルトランジスタ
23,26のドレインにCAMプログラム回路28から
いずれか一方が7V程度で他方が0Vとなる相補なプロ
グラム電圧を印加する。すると、セルトランジスタ2
3,26のいずれか一方に書き込みが行われてしきい値
電圧に高低差が生じるので、これらのセルトランジスタ
23,26の制御ゲートに電源VCCのゲート信号を入力
することにより、任意の1ビットのCAMデータを得る
ことができる。
【0076】BPデータ記憶領域1aとECデータ記憶
領域1bをこのようなCAM回路で構成すると、Nチャ
ンネルのMOS・FET22,25のゲートにバイアス
電圧を印加し、セルトランジスタ23,26の制御ゲー
トに電源VCCのゲート信号を入力しておくだけで、これ
らのBPデータ記憶領域1aとECデータ記憶領域1b
の記憶内容を常時CAMデータとして出力させることが
できるので、アクセス時間を短縮できる。
【0077】なお、上記実施形態では、ECデータ記憶
領域1bにECデータが記憶されていない場合に、その
ブロック1の再消去を可能にする場合だけを説明した。
しかし、ライトステートマシン2は、ECデータ記憶領
域1bにECデータが記憶されていない場合に、WP信
号がLレベル(非アクティブ)であったり、BPデータ
記憶領域1aにBPデータ以外のデータが記憶されてい
ても、そのブロック1への書き込みを禁止することもで
きる。また、ライトステートマシン2は、そのブロック
1のBPデータ記憶領域1aにBPデータを書き込むロ
ックブロックコマンドの実行も禁止することができる。
ライトステートマシン2が消去を可能にするだけでな
く、このような書き込み禁止やロックブロック禁止を行
うと、ブロック1内のデータが完全に消去されていない
可能性があることを知らずに、誤ってデータを書き込ん
だり保護状態を設定する無駄を防止できる。
【0078】また、上記実施形態では、各ブロック1に
BPデータ記憶領域1aとECデータ記憶領域1bのみ
を設けたが、これらに加えて無条件BPデータ記憶領域
1cを設けてもよい。この無条件BPデータ記憶領域1
cは、BPデータ記憶領域1aやECデータ記憶領域1
bと同様の構成とすることができ、ここに記憶する無条
件BPデータもBPデータやECデータと同様のデータ
とすることができる。これらBPデータ記憶領域1aと
ECデータ記憶領域1bと無条件BPデータ記憶領域1
cをそれぞれ2ビットの領域とした場合には、図7に示
すように、BPデータ記憶領域1aを2ビットのビット
b1,b0によって構成し、ECデータ記憶領域1bを2
ビットのビットb3,b2によって構成し、無条件BPデ
ータ記憶領域1cを2ビットのビットb5,b4によって
構成することができる。
【0079】上記無条件BPデータ記憶領域1cに例え
ば“10”の無条件BPデータが記憶されている場合に
は、WP信号の状態にかかわらず、ライトステートマシ
ン2が無条件にそのブロック1への消去動作と書き込み
動作を禁止する。しかし、無条件BPデータ記憶領域1
cに無条件BPデータ以外のデータが記憶されている場
合には、WP信号とBPデータ記憶領域1aの記憶内容
に応じて消去動作と書き込み動作を制限する。この無条
件BPデータ記憶領域1cに無条件BPデータを書き込
むには、コマンドステートマシン7に無条件BPデータ
設定コマンドを設ける。この無条件BPデータ設定コマ
ンドは、例えば1回目の書き込みサイクルで78Hのデ
ータを送り、2回目の書き込みサイクルでD0Hのデー
タと保護したいブロック1のブロックアドレスを送るこ
とにより実行される。ただし、この無条件BPデータ記
憶領域1cに一旦無条件BPデータが記憶されると、コ
マンドでは解除することができず、特定の端子に電源電
圧VCC以上の高電圧を印加しなければ、消去動作や書き
込み動作を実行することができない。したがって、この
無条件BPデータ記憶領域1cに無条件BPデータを記
憶させたブロック1は、ブートブロック型のフラッシュ
メモリにおけるブートブロックと同様に、BIOS(Ba
sic Input/Output System)などの格納用に用いること
ができるようになる。
【0080】ブロック1の消去動作が異常終了しECデ
ータ記憶領域1bにECデータ以外のデータが記憶され
ている場合には、ライトステートマシン2がそのブロッ
ク1の無条件BPデータ記憶領域1cに無条件BPデー
タを書き込む無条件BPデータ設定コマンドの実行を禁
止することができる。ブロック1内のデータが完全に消
去されていない可能性がある場合に、無条件BPデータ
設定コマンドの実行を禁止すれば、誤ってデータの保護
状態を設定する無駄を防止できる。また、この無条件B
Pデータ記憶領域1cの記憶内容も、BPデータ記憶領
域1aやECデータ記憶領域1bと同様に外部に読み出
し、保護状態を簡単に検出可能にすることができる。
【0081】さらに、上記実施形態では、NOR型やN
AND型のフラッシュメモリについて説明したが、本発
明は、AND型やDINOR型などのフラッシュメモリ
についても同様に実施できる。ただし、AND型やDI
NOR型では、上記のように消去と書き込み時の浮遊ゲ
ートFGへの電子の注入と引き抜き動作がNOR型やN
AND型とは逆になるので、しきい値の大小関係も逆に
なる。
【0082】さらに、上記実施形態では、浮遊ゲートF
Gを有するセルトランジスタによるフラッシュメモリに
ついて説明したが、本発明はこれに限らず、強誘電体薄
膜をゲート酸化膜に用いたMOS・FET構造のセルト
ランジスタによる他の不揮発性半導体記憶装置にも同様
に実施可能である。このように強誘電体薄膜の分極反転
を利用してデータを不揮発性記憶する場合には、極薄の
トンネル酸化膜を用いなくてもよいので、集積度をさら
に高めることができるようになる。
【0083】さらに、本発明は、強誘電体薄膜をDRA
M(Dynamic RAM)のキャパシタ部に用いた不揮発性半
導体記憶装置にも実施可能である。ただし、この不揮発
性半導体記憶装置は、直接データの書き替え可能である
ため、独立した消去動作は存在しない。したがって、こ
の場合には、各ブロック1にECデータ記憶領域1bを
設ける代わりに、データの書き替え動作が正常に終了し
なかった場合にECデータと同様の書替無効データを記
憶させる書替無効データ記憶領域を設け、この書替無効
データ記憶領域に書替無効データが記憶されていない場
合には、そのブロック1のデータの書き替えを禁止す
る。ここで、データの書き替え動作が正常に終了しない
場合とは、この書き替え動作の間に電源異常が発生した
り、その他の原因でデータが正常に書き替えられなかっ
た場合をいう。また、この不揮発性半導体記憶装置で
は、制御信号だけで動作を制御可能であるため、コマン
ドステートマシン7は不要となり、これらの制御信号に
応じて読み出しや書き込みなどの動作を識別する回路が
あれば足りる。そして、ライトステートマシン2も、書
き込み回路で置き替えることができる。さらに本発明
は、CPUなどと同一チップ上に製造される不揮発性半
導体記憶装置としても実施可能である。
【0084】
【発明の効果】以上のように本発明(請求項1)の不揮
発性半導体記憶装置によれば、ブロックの消去が異常終
了し、そのブロックの消去が不完全である可能性が存在
する場合に、このブロックの再消去を確実に実行できる
ので、ライトプロテクト信号を非アクティブに切り換え
るための回路を設けたり、このライトプロテクト信号を
非アクティブに切り換えるためのコマンドを入力するエ
ラー処理ルーチンなどを付け加える必要がなくなり、こ
のフラッシュメモリを使用するシステムの回路構成やプ
ログラムが複雑になるのを防止できるようになる。
【0085】また、本発明(請求項2)の不揮発性半導
体記憶装置によれば、ブロックの消去が異常終了したこ
とを知らずに誤ってデータの書き込みを行うのを防止で
きる。
【0086】さらに、本発明(請求項3)の不揮発性半
導体記憶装置によれば、ブロックの消去が異常終了した
ことを知らずに誤ってそのブロックのデータを保護する
のを防止できる。
【0087】さらに、本発明(請求項4)の不揮発性半
導体記憶装置によれば、ブロックの消去が異常終了した
場合に、ブロックプロテクトデータ記憶領域や消去終了
データ記憶領域のデータが偶然にブロックプロテクトデ
ータや消去終了データに一致する可能性をなくし、この
消去の異常終了に確実に対応できるようになる。
【0088】さらに、本発明(請求項5)の不揮発性半
導体記憶装置によれば、ブロックの消去が異常終了した
ことやこのブロックのデータの保護状況を容易に外部か
ら検出することができる。
【0089】さらに、本発明(請求項6)の不揮発性半
導体記憶装置によれば、ライトプロテクト信号に影響さ
れることなく、任意のブロックのデータを保護すること
ができるようになる。
【0090】さらに、本発明(請求項7)の不揮発性半
導体記憶装置によれば、ブロックの消去が異常終了した
ことを知らずに誤ってそのブロックのデータを無条件に
保護するのを防止できる。
【0091】さらに、本発明(請求項8)の不揮発性半
導体記憶装置によれば、ブロックの消去が異常終了した
場合に、無条件ブロックプロテクトデータ記憶領域のデ
ータが偶然に無条件ブロックプロテクトデータに一致す
る可能性をなくし、誤ってブロックのデータを保護する
のを確実に防止できる。
【0092】さらに、本発明(請求項9)の不揮発性半
導体記憶装置によれば、ブロックのデータの保護状況を
容易に外部から検出することができる。
【0093】さらに、本発明(請求項10)の不揮発性
半導体記憶装置によれば、強誘電体を用いた不揮発性半
導体記憶装置などにおいても、データの書き替え動作が
異常終了した場合に、このブロックに誤ってデータの書
き込みを行うのを防止できる。
【0094】さらに、本発明(請求項11)の不揮発性
半導体記憶装置によれば、ブロックのデータの書き替え
が異常終了したことを知らずに誤ってそのブロックのデ
ータを保護するのを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態を示すものであって、フラ
ッシュメモリの構成を示すブロック図である。
【図2】本発明の一実施形態を示すものであって、ステ
ータスレジスタの各ビットの内容を示す図である。
【図3】本発明の一実施形態を示すものであって、BP
データ記憶領域とECデータ記憶領域の構成とその記憶
内容に応じた機能を示す図である。
【図4】本発明の一実施形態を示すものであって、BP
データ記憶領域の記憶内容を読み出すための回路を示す
ブロック図である。
【図5】本発明の一実施形態を示すものであって、EC
データ記憶領域の記憶内容を読み出すための回路を示す
ブロック図である。
【図6】本発明の一実施形態を示すものであって、CA
M回路の構成を示す回路図である。
【図7】本発明の一実施形態を示すものであって、BP
データ記憶領域とECデータ記憶領域と無条件BPデー
タ記憶領域の構成とその記憶内容に応じた機能を示す図
である。
【図8】フラッシュメモリのメモリセルに用いられるセ
ルトランジスタを示す回路図である。
【符号の説明】
1 ブロック 1a BPデータ記憶領域 1b ECデータ記憶領域 1c 無条件BPデータ記憶領域 2 ライトステートマシン 7 コマンドステートマシン 8 WP信号発生回路

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 データを不揮発性記憶するメモリセルア
    レイのブロックを複数備え、該各ブロックごとにデータ
    の消去が可能になると共に、該消去を行った後のブロッ
    クにのみデータの書き込みが可能となる不揮発性半導体
    記憶装置であって、 各ブロックごとにデータを不揮発性記憶するブロックプ
    ロテクトデータ記憶領域を備えると共に、 ライトプロテクト信号がアクティブであり、かつ、該ブ
    ロックプロテクトデータ記憶領域にブロックプロテクト
    データが記憶されている場合に、当該ブロックのデータ
    の消去と書き込みを禁止するブロックプロテクト手段を
    備えたものにおいて、 各ブロックごとにデータを不揮発性記憶する消去終了デ
    ータ記憶領域を備えると共に、 消去動作の終了時に当該ブロックの消去終了データ記憶
    領域に消去終了データを書き込む消去終了データ設定手
    段と、 該消去終了データ記憶領域に消去終了データが記憶され
    ていない場合に、該ブロックプロテクト手段の機能にか
    かわらず、当該ブロックのデータの消去を可能にする再
    消去許可手段とを備えた不揮発性半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記再消去許可手段が、前記消去終了デ
    ータ記憶領域に消去終了データが記憶されていない場合
    に、前記ブロックプロテクト手段の機能にかかわらず、
    当該ブロックへのデータの書き込みも禁止するものであ
    る請求項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記再消去許可手段が、前記消去終了デ
    ータ記憶領域に消去終了データが記憶されていない場合
    に、前記ブロックプロテクトデータ記憶領域にブロック
    プロテクトデータの書き込みも禁止するものである請求
    項1または2記載の不揮発性半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 前記ブロックプロテクトデータと前記消
    去終了データがそれぞれ2ビット以上のデータからな
    り、かつ、データの書き込み動作の先側のビットが消去
    状態であり後側のビットがこれの反転状態となるデータ
    の並びを有するものであり、 前記各ブロックプロテクトデータ記憶領域と前記各消去
    終了データ記憶領域がそれぞれ該2ビット以上のブロッ
    クプロテクトデータと消去終了データを不揮発性記憶す
    るものである請求項1ないし3のいずれか記載の不揮発
    性半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 前記ブロックプロテクトデータ記憶領域
    に記憶されたデータと、前記消去終了データ記憶領域に
    記憶されたデータとを外部に読み出すブロックステータ
    スデータ読出手段を備えた請求項1ないし4のいずれか
    記載の不揮発性半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 各ブロックごとにデータを不揮発性記憶
    する無条件ブロックプロテクトデータ記憶領域を備える
    と共に、 該無条件ブロックプロテクトデータ記憶領域に無条件ブ
    ロックプロテクトデータが記憶されている場合に、前記
    ライトプロテクト信号にかかわりなく、当該ブロックの
    データの消去と書き込みを禁止する無条件ブロックプロ
    テクト手段を備えた請求項1ないし5のいずれか記載の
    不揮発性半導体記憶装置。
  7. 【請求項7】 前記再消去許可手段が、前記消去終了デ
    ータ記憶領域に消去終了データが記憶されていない場合
    に、前記無条件ブロックプロテクトデータ記憶領域に無
    条件ブロックプロテクトデータの書き込みも禁止するも
    のである請求項6記載の不揮発性半導体記憶装置。
  8. 【請求項8】 前記無条件ブロックプロテクトデータが
    2ビット以上のデータからなり、かつ、データの書き込
    み動作の先側のビットが消去状態であり後側のビットが
    これの反転状態となるデータの並びを有するものであ
    り、 前記各無条件ブロックプロテクトデータ記憶領域が該2
    ビット以上の無条件ブロックプロテクトデータを不揮発
    性記憶するものである請求項6または7記載の不揮発性
    半導体記憶装置。
  9. 【請求項9】 前記無条件ブロックプロテクトデータ記
    憶領域に記憶されたデータを外部に読み出す無条件ブロ
    ックプロテクトデータ読出手段を備えた請求項6ないし
    8のいずれか記載の不揮発性半導体記憶装置。
  10. 【請求項10】 データを不揮発性記憶するメモリセル
    アレイのブロックを複数備え、該各ブロックのデータを
    直接書き替えることが可能となる不揮発性半導体記憶装
    置であって、 各ブロックごとにデータを不揮発性記憶するブロックプ
    ロテクトデータ記憶領域を備えると共に、 ライトプロテクト信号がアクティブであり、かつ、該ブ
    ロックプロテクトデータ記憶領域にブロックプロテクト
    データが記憶されている場合に、当該ブロックのデータ
    の書き替えを禁止するブロックプロテクト手段を備えた
    ものにおいて、 各ブロックごとにデータを不揮発性記憶する書替無効デ
    ータ記憶領域を備えると共に、 データの書き替え動作が正常に終了しなかった場合に、
    当該ブロックの書替無効データ記憶領域に書替無効デー
    タを書き込む書替無効データ設定手段と、 該書替無効データ記憶領域に書替無効データが記憶され
    ている場合に、該ブロックプロテクト手段の機能にかか
    わらず、当該ブロックのデータの書き替えを禁止するデ
    ータ書替禁止手段とを備えた不揮発性半導体記憶装置。
  11. 【請求項11】 前記データ書替禁止手段が、前記書替
    無効データ記憶領域に書替無効データが記憶されている
    場合に、前記ブロックプロテクトデータ記憶領域にブロ
    ックプロテクトデータの書き込みを行うことも禁止する
    ものである請求項10記載の不揮発性半導体記憶装置。
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Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6453397B1 (en) 1998-12-14 2002-09-17 Nec Corporation Single chip microcomputer internally including a flash memory
JP2002312253A (ja) * 2001-04-17 2002-10-25 Denso Corp 携帯情報端末装置
JP2002366436A (ja) * 2001-06-05 2002-12-20 Hitachi Ltd 不揮発性メモリ誤消去,誤書込み防止回路及び方法
WO2003010775A1 (fr) * 2001-07-23 2003-02-06 Renesas Technology Corp. Memoire non volatile
JP2006164408A (ja) * 2004-12-08 2006-06-22 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置及びそのデータ消去方法。
JP2007079269A (ja) * 2005-09-15 2007-03-29 Ricoh Co Ltd 画像形成装置、プログラム、記録媒体
US7383445B2 (en) 2000-07-03 2008-06-03 Sharp Kabushiki Kaisha Semiconductor storage device
US7613982B2 (en) 2004-11-16 2009-11-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Data processing apparatus and method for flash memory
US7787296B2 (en) 2003-09-26 2010-08-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device having protection function for each memory block
JP2010225182A (ja) * 2010-07-01 2010-10-07 Renesas Electronics Corp 半導体装置
JP2010238360A (ja) * 2010-06-25 2010-10-21 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置及びそのデータ消去方法
JP2011076636A (ja) * 2004-08-17 2011-04-14 Oberthur Technologies データ処理の方法及び装置
JP2011129192A (ja) * 2009-12-16 2011-06-30 Samsung Electronics Co Ltd 半導体記憶装置
US8015344B2 (en) 2004-11-19 2011-09-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for processing data of flash memory
JP2011209823A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Panasonic Corp 不揮発性記憶装置および不揮発性メモリ
JP2011227659A (ja) * 2010-04-19 2011-11-10 Fujitsu Semiconductor Ltd データ書き込み方法およびシステム
JP2013003655A (ja) * 2011-06-13 2013-01-07 Denso Corp フラッシュメモリにデータの書き込みを行う制御装置

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000268584A (ja) * 1999-03-15 2000-09-29 Nec Corp 不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法
DE19911794B4 (de) * 1999-03-17 2005-10-06 Robert Bosch Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Absicherung bei Veränderung des Speicherinhalts von Steuergeräten
DE69923548D1 (de) * 1999-06-22 2005-03-10 St Microelectronics Srl Flashkompatibler EEPROM Speicher
US6212098B1 (en) * 2000-02-14 2001-04-03 Advanced Micro Devices, Inc. Voltage protection of write protect cams
JP2001283594A (ja) * 2000-03-29 2001-10-12 Sharp Corp 不揮発性半導体記憶装置
US6654847B1 (en) * 2000-06-30 2003-11-25 Micron Technology, Inc. Top/bottom symmetrical protection scheme for flash
JP2002136025A (ja) * 2000-10-26 2002-05-10 Mitsubishi Electric Corp 電磁機器
JP4899248B2 (ja) * 2001-04-02 2012-03-21 富士通セミコンダクター株式会社 半導体集積回路
US6490197B1 (en) * 2001-08-02 2002-12-03 Stmicroelectronics, Inc. Sector protection circuit and method for flash memory devices
JP3875153B2 (ja) * 2002-07-04 2007-01-31 Necエレクトロニクス株式会社 不揮発性半導体記憶装置およびその書き換え禁止制御方法
TW595797U (en) * 2002-12-09 2004-06-21 Tatung Co Hand-held apparatus capable of protecting partial blocks of flash memory chip
KR100492774B1 (ko) * 2002-12-24 2005-06-07 주식회사 하이닉스반도체 라이트 보호 영역을 구비한 비휘발성 메모리 장치
US8706990B2 (en) 2003-10-28 2014-04-22 Sandisk Technologies Inc. Adaptive internal table backup for non-volatile memory system
US8504798B2 (en) * 2003-12-30 2013-08-06 Sandisk Technologies Inc. Management of non-volatile memory systems having large erase blocks
US7464219B2 (en) * 2005-08-01 2008-12-09 International Business Machines Corporation Apparatus, system, and storage medium for data protection by a storage device
DE102006009214B4 (de) * 2006-02-28 2008-05-08 Infineon Technologies Ag Verfahren und Vorrichtung zum Schreiben in eine Zielspeicherseite eines Speichers
US7466600B2 (en) * 2006-08-03 2008-12-16 Micron Technology, Inc. System and method for initiating a bad block disable process in a non-volatile memory
US7733706B2 (en) * 2006-09-29 2010-06-08 Hynix Semiconductor Inc. Flash memory device and erase method thereof
KR100843136B1 (ko) * 2006-11-14 2008-07-02 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리에서 연산 처리를 제어하는 장치 및 그방법
KR101364443B1 (ko) * 2007-01-31 2014-02-17 삼성전자주식회사 메모리 시스템, 이 시스템을 위한 메모리 제어기와 메모리,이 시스템의 신호 구성 방법
US8074145B2 (en) * 2007-11-12 2011-12-06 Harris Corporation Memory system and related method using software-defined radio with write-protected, non-volatile memory
GB2513727B (en) * 2012-06-27 2015-06-24 Nordic Semiconductor Asa Memory protection
US11133042B2 (en) 2016-06-27 2021-09-28 SK Hynix Inc. Semiconductor memory system and semiconductor memory device, which can be remotely initialized
KR102592359B1 (ko) 2016-06-27 2023-10-20 에스케이하이닉스 주식회사 반도체장치
US10181346B2 (en) 2016-08-02 2019-01-15 SK Hynix Inc. Semiconductor devices and operations thereof
US11217286B2 (en) 2016-06-27 2022-01-04 SK Hynix Inc. Semiconductor memory device with power down operation
US10037788B2 (en) * 2016-08-02 2018-07-31 SK Hynix Inc. Semiconductor devices and semiconductor systems

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4698750A (en) * 1984-12-27 1987-10-06 Motorola, Inc. Security for integrated circuit microcomputer with EEPROM
US5245570A (en) * 1990-12-21 1993-09-14 Intel Corporation Floating gate non-volatile memory blocks and select transistors
GB2251324B (en) * 1990-12-31 1995-05-10 Intel Corp File structure for a non-volatile semiconductor memory
US5249158A (en) * 1991-02-11 1993-09-28 Intel Corporation Flash memory blocking architecture
US5369616A (en) * 1992-10-30 1994-11-29 Intel Corporation Method for assuring that an erase process for a memory array has been properly completed
JPH07182885A (ja) * 1993-02-05 1995-07-21 Toshiba Corp 半導体記憶装置
US5414664A (en) * 1993-05-28 1995-05-09 Macronix International Co., Ltd. Flash EPROM with block erase flags for over-erase protection
JP3176008B2 (ja) * 1994-03-30 2001-06-11 株式会社東芝 半導体メモリ回路
JP3487690B2 (ja) * 1995-06-20 2004-01-19 シャープ株式会社 不揮発性半導体記憶装置
US5818771A (en) * 1996-09-30 1998-10-06 Hitachi, Ltd. Semiconductor memory device

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6453397B1 (en) 1998-12-14 2002-09-17 Nec Corporation Single chip microcomputer internally including a flash memory
US7383445B2 (en) 2000-07-03 2008-06-03 Sharp Kabushiki Kaisha Semiconductor storage device
JP2002312253A (ja) * 2001-04-17 2002-10-25 Denso Corp 携帯情報端末装置
JP2002366436A (ja) * 2001-06-05 2002-12-20 Hitachi Ltd 不揮発性メモリ誤消去,誤書込み防止回路及び方法
WO2003010775A1 (fr) * 2001-07-23 2003-02-06 Renesas Technology Corp. Memoire non volatile
US7952925B2 (en) 2003-09-26 2011-05-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device having protection function for each memory block
US7787296B2 (en) 2003-09-26 2010-08-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device having protection function for each memory block
US8111551B2 (en) 2003-09-26 2012-02-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device having protection function for each memory block
US9454663B2 (en) 2004-08-17 2016-09-27 Oberthur Technologies Data processing method and device
JP2011076636A (ja) * 2004-08-17 2011-04-14 Oberthur Technologies データ処理の方法及び装置
US7613982B2 (en) 2004-11-16 2009-11-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Data processing apparatus and method for flash memory
US8230166B2 (en) 2004-11-19 2012-07-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for processing data of flash memory
US8015344B2 (en) 2004-11-19 2011-09-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for processing data of flash memory
JP2006164408A (ja) * 2004-12-08 2006-06-22 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置及びそのデータ消去方法。
JP2007079269A (ja) * 2005-09-15 2007-03-29 Ricoh Co Ltd 画像形成装置、プログラム、記録媒体
JP2011129192A (ja) * 2009-12-16 2011-06-30 Samsung Electronics Co Ltd 半導体記憶装置
JP2011209823A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Panasonic Corp 不揮発性記憶装置および不揮発性メモリ
JP2011227659A (ja) * 2010-04-19 2011-11-10 Fujitsu Semiconductor Ltd データ書き込み方法およびシステム
US9142301B2 (en) 2010-04-19 2015-09-22 Cypress Semiconductor Corporation Data writing method and system
JP2010238360A (ja) * 2010-06-25 2010-10-21 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置及びそのデータ消去方法
JP2010225182A (ja) * 2010-07-01 2010-10-07 Renesas Electronics Corp 半導体装置
JP2013003655A (ja) * 2011-06-13 2013-01-07 Denso Corp フラッシュメモリにデータの書き込みを行う制御装置

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