JPH10125220A - プラズマディスプレイの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】表面平坦性に優れ、隔壁高さのバラツキを抑え
た高精度の隔壁層を形成するためのプラズマディスプレ
イの製造方法を提供する。 【解決手段】感光性化合物を含む有機成分とガラス微粒
子を必須成分として含む感光性ペーストを可とう性基材
上に塗布する工程、電極層を形成したガラス基板上に転
写する工程、露光装置を用いて露光を行う工程、現像す
る工程および焼成する工程によって隔壁形成を行うこと
を特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イの製造方法に関する。本発明の方法は、プラズマディ
スプレイ、プラズマアドレス液晶ディスプレイをはじめ
とするガラス隔壁層が必要なディスプレイの製造に用い
られる。

【０００２】

【従来の技術】近年、ディスプレイにおいて、小型・高
精細化が進んでおり、それに伴って、パターン加工技術
も技術向上が望まれている。特に、プラズマディスプレ
イパネルの隔壁形成には、ガラスなどの無機材料を高精
度かつ高アスペクト比でパターン加工をできる材料が望
まれている。

【０００３】従来、無機材料のパターン加工を行う場
合、無機粉末と有機バインダーからなるペーストによる
スクリーン印刷が多く用いられている。しかしながらス
クリーン印刷は精度の高いパターンが形成できないとい
う欠点があった。

【０００４】この問題を改良する方法として、特開平１
−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号公
報、特開平５−３４２９９２号公報では、感光性ペース
トを用いてフォトリソグラフィ技術に形成する方法が提
案されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、感光性
ペーストの感度や解像度が低く、高アスペクト比、高精
細の隔壁が得られないために、例えば８０μｍを越える
ような厚みのものをパターン加工する場合、複数回の加
工工程（スクリーン印刷・露光・現像）を必要とするた
め、工程が長くなる欠点があった。

【０００６】しかも、このフォトリソグラフィー技術に
よる隔壁形成の場合、(1) 積層する各塗布膜の厚みに
バラツキが生じやすい、(2) 積層回数が増加するに従
い、前記バラツキが累積され、最終的な障壁の厚みが不
均一となる、等の課題がある。

【０００７】本発明者らは上記欠点のないプラズマディ
スプレイの製造方法について鋭意検討した結果、次の発
明に到達した。特に、表面平坦性に優れ、厚みバラツキ
を抑えた高精度のパターン形成、特に隔壁層の形成を可
能にする方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、感
光性化合物を含む有機成分とガラス微粒子を必須成分と
する感光性ペーストを可とう性基材上に塗布する工程、
電極層を形成したガラス基板上に転写する工程、露光装
置を用いて光照射を行う工程、現像する工程および焼成
する工程によって隔壁形成を行うことを特徴とするプラ
ズマディスプレイの製造方法である。

【０００９】

【発明の実施の形態】

（可撓性基材）本発明では可撓性基材として、例えば転
写用フィルムを用いる。転写用フィルムは、公知のもの
であればとくに限定はないが、一般的にはポリエステル
フィルム、ポリプロピレンフィルム、ナイロンフィルム
などの樹脂製のフィルムを用いる。本目的のフィルムと
しては転写や露光・現像時のハンドリング性に優れ、適
度な離型性を有するフィルムが好ましく、とりわけ、フ
ィルムとして、耐熱性、耐久性に優れ、パンチング性が
よく、汎用で安価なポリエステルフィルムを用いるのが
好ましい。この様な転写用フィルムの物性としては次の
範囲で選択するのが好ましい。 （Ａ）フィルム厚み ；２５〜３００μｍ （Ｂ）引っ張り強度 ；３０００〜５０００ＭＰａ （Ｃ）表面粗さ（Ｒａ） ；０．０２〜０．１５μｍ。

【００１０】上記のフィルムには、表面にワックスコー
ト、メラミンコートあるいはシリコンコートなどの離型
剤処理が施されることが好ましい。離型剤処理方法は、
通常、離型剤溶液をフィルム上にバーコート、ディップ
コート、スピンコートなどの一般的な方法で塗布し、乾
燥を９０〜１６０℃、１０〜６０秒で行う。一定厚みに
塗布された溶液は乾燥後、溶媒部分が揮発して離型剤に
よる離型層が形成される。離型層の厚みは、離型剤溶液
の濃度と、塗布膜の厚みに依存する。たとえば、濃度
０．１％の離型剤溶液をフィルム上に塗布することによ
り、厚さ１０ｎｍの離型層を形成することができる。離
型層は１０ｎｍ以下が望ましく、離型剤の塗布は０．１
から１０ｎｍが望ましく、上記において離型材溶液の濃
度は０．００１〜０．０５％の範囲にすることによっ
て、この厚みを得ることができる。このときの剥離強度
は２〜７Ｎ／２４ｍｍの範囲であることが好ましい。離
型層があまり厚いと、離型強度が低くなり、感光性ペー
ストを塗布する際に反発性が高すぎて良好なパターンが
形成できない。

【００１１】（感光性ペースト）本発明では可撓性基材
上に感光性ペーストを塗布する。この感光性ペーストは
感光性化合物を含む有機成分とガラス微粒子を必須成分
として含む。

【００１２】（有機成分）本発明において使用される感
光性ペーストは、感光性化合物を含む有機成分を必須成
分として含む。ここで感光性化合物を含む有機成分と
は、感光性ペーストから無機成分を除いた部分をいう。

【００１３】感光性化合物としては、感光性モノマー、
感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１
種類から選ばれる化合物が包含される。

【００１４】感光性化合物としては、光不溶化型のもの
と光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、
（Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する感光性の
モノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの、
（Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機
ハロゲン化合物などの感光性物質を含有するもの、
（Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物な
どいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。また、
光可溶型のものとしては、（Ｄ）ジアゾ化合物の無機塩
や有機酸とのコンプレックス、キノンジアゾ類を含有す
るもの、（Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバイン
ダーと結合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂
のナフトキノン１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エ
ステル等がある。

【００１５】本発明において用いる感光性化合物は、上
記のすべてのものを用いることができる。感光性ペース
トとして、ガラス微粒子と混合して簡便に用いることが
できる感光性化合物は、（Ａ）のものが好ましい。

【００１６】感光性のモノマーとしては、炭素−炭素不
飽和結合を含有する化合物が挙げられ、その具体的な例
として、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ
−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、
ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレー
ト、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリ
レート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチル
アクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチ
レングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレ
ート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペン
テニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレー
ト、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレー
ト、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、２
−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキシルアク
リレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリ
レート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエ
チレングリコールアクリレート、メトキシジエチレング
リコールアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレ
ート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアク
リレート、トリフロロエチルアクリレート、アリル化シ
クロヘキシルジアクリレート、１，４−ブタンジオール
ジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジアクリレート、トリエチレングリコール
ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、グ
リセロールジアクリレート、メトキシ化シクロヘキシル
ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、プロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピ
レングリコールジアクリレート、トリグリセロールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、フェ
ニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−
ナフチルアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレー
ト、ビスフェノールＡ−エチレンオキサイド付加物のジ
アクリレート、ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイ
ド付加物のジアクリレート、チオフェノールアクリレー
ト、ベンジルメルカプタンアクリレート、また、これら
の芳香環の水素原子のうち１〜５個を塩素または臭素原
子に置換したモノマー、もしくは、スチレン、ｐ−メチ
ルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレ
ン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチ
レン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルス
チレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチ
レン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、
ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール及び上記化合
物の分子内のアクリレートを一部もしくはすべてをメタ
クリレートに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなど
が挙げられる。本発明ではこれらを１種または２種以上
使用することができる。

【００１７】感光性のモノマーを使用した場合には、こ
れら以外に、不飽和酸やバインダーを加えることができ
る。不飽和カルボン酸等の不飽和酸を加えることによっ
て、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カ
ルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタアク
リル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル
酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげら
れる。また、バインダーとしては、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−
メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重
合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。

【００１８】また、前述の感光性のモノマーのうち少な
くとも１種類を重合して得られたオリゴマーやポリマー
を用いることができる。重合する際に、これらのモノマ
ーの含有率が１０重量％以上、さらに好ましくは３５重
量％以上になるように、他の感光性のモノマーと共重合
することができる。共重合するモノマーとしては、不飽
和カルボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、
感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボ
ン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、
ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられ
る。

【００１９】こうして得られた側鎖にカルボキシル基等
の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価
（ＡＶ）は５０〜１８０、さらには７０〜１４０の範囲
が好ましい。酸価が５０未満であると、現像許容幅が狭
くなる。また、酸価が１８０を越えると未露光部の現像
液に対する溶解性が低下するようになるため現像液濃度
を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパタ
ーンが得られにくい。

【００２０】以上示した、ポリマーもしくはオリゴマー
に対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させ
ることによって、感光性を持つ感光性のポリマーや感光
性のオリゴマーとして用いることができる。好ましい光
反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。
エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、ア
クリル基、メタクリル基などがあげられる。このような
側鎖をオリゴマーやポリマーに付加させる方法は、ポリ
マー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシ
ル基に対して、グリシジル基やイソシアネート基を有す
るエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メ
タクリル酸クロライドまたはアリルクロライドを付加反
応させて作る方法がある。グリシジル基を有するエチレ
ン性不飽和化合物としては、アクリル酸グリシジル、メ
タクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、エ
チルアクリル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエー
テル、クロトン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸
グリシジルエーテルなどがあげられる。イソシアネート
基を有するエチレン性不飽和化合物としては、（メタ）
アクリロイルイソシアネート、（メタ）アクリロイルエ
チルイソシアネート等がある。また、グリシジル基やイ
ソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアク
リル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリ
ルクロライドは、ポリマー中のメルカプト基、アミノ
基、水酸基やカルボキシル基に対して０．０５〜１モル
当量付加させることが好ましい。

【００２１】感光性ペースト中には、５０〜９５重量部
のガラス微粒子と５〜５０重量部の有機成分を含むこと
が好ましい。

【００２２】有機成分には、感光性モノマー、感光性オ
リゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から
選ばれる感光性成分、およびバインダー、光重合開始
剤、紫外線吸光剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可
塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止剤、分散剤、有機あ
るいは無機の沈殿防止剤、有機レベリング剤などの添加
剤成分を加えることも行われる。

【００２３】本発明において用いられる感光性ペースト
中には、光重合開始剤、紫外線吸光剤、増感剤、増感助
剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止
剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤やレベリン
グ剤などの添加剤成分を加えることも行われる。

【００２４】光重合開始剤としての具体的な例として、
ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，
４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジク
ロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフ
ェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−
２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチル
ジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチル
チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソ
プロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベ
ンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルア
セタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブ
チルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−
クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロ
ン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジ
ドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジド
ベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−
アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、
２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキ
シカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオ
ン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３
−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシ
カルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−
プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、
ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フ
ェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、ナフタ
レンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロラ
イド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４、４−アゾビス
イソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズ
チアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィン、カ
ンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルス
ルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、メチレンブ
ルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタ
ノールアミンなどの還元剤の組合せなどがあげられる。
本発明ではこれらを１種または２種以上使用することが
できる。光重合開始剤は、感光性化合物に対し、０．０
５〜１０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、
０．１〜５重量％である。重合開始剤の量が少なすぎる
と、光感度が不良となり、光重合開始剤の量が多すぎれ
ば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがある。

【００２５】紫外線吸光剤を添加することも有効であ
る。紫外線吸収効果の高い吸光剤を添加することによっ
て高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外
線吸光剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５
０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有
機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染
料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン
系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベン
ゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリ
アジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用でき
る。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成
後の絶縁膜中に残存しないで吸光剤による絶縁膜特性の
低下を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ
系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の
添加量は０．０５〜５重量部が好ましい。０．０５重量
％以下では紫外線吸光剤の添加効果が減少し、５重量％
を越えると焼成後の絶縁膜特性が低下するので好ましく
ない。より好ましくは０．１５〜１重量％である。有機
顔料からなる紫外線吸光剤の添加方法の一例を上げる
と、有機顔料を予め有機溶媒に溶解した溶液を作製し、
次に該有機溶媒中にガラス微粒子を混合後、乾燥するこ
とによってできる。この方法によってガラス粉末の個々
の粉末表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル状
の粉末が作製できる。

【００２６】増感剤は、感度を向上させるために添加さ
れる。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオ
キサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビ
ス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、
２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘ
キサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザ
ル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、
４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、
４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビ
ス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシ
ンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリ
デンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビ
ニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−
ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニ
ル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、
３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリ
ン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ
−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノール
アミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミ
ノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソア
ミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾー
ル、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラ
ゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを１種また
は２種以上使用することができる。なお、増感剤の中に
は光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤
を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量
は感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量％、より
好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少
なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感
剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎる
おそれがある。

【００２７】重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上さ
せるために添加される。重合禁止剤の具体的な例として
は、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、
Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−
ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロ
ラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤
を添加する場合、その添加量は、感光性ペースト中に、
通常、０．００１〜１重量％である。

【００２８】可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコ
ール、グリセリンなどがあげられる。

【００２９】酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系
共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の
具体的な例として２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ
ール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ
−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−
メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノ
ール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２
−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−
ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエス
テル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニル
ホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤を添加する
場合、その添加量は通常、添加量は、ペースト中に、通
常、０．００１〜１重量％である。

【００３０】本発明の感光性ペーストには、溶液の粘度
を調整したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このとき
使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケト
ン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロ
ペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアル
コール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシ
ド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベン
ゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安
息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上
を含有する有機溶媒混合物が用いられる。

【００３１】有機レベリング剤は、有機系の界面活性
剤、より好ましくはノニオン系の界面活性剤を用いる。
レベリング剤の具体的な例としては、分子量が３００〜
３０００の特殊ビニル系重合物、特殊アクリル系重合物
を石油ナフサ、キシロール、トルエン、酢酸エチル、１
−ブタノール、およびミネラルターペンなどの溶媒に溶
解させた”ディスパロン”（Ｌ−１９８０−５０、Ｌ−
１９８２−５０、Ｌ−１９８３−５０、Ｌ−１９８４−
５０、Ｌ−１９８５−５０、＃１９７０、＃２３０、Ｌ
Ｃ−９００、ＬＣ９５１、＃１９２０Ｎ、＃１９２５
Ｎ、Ｐ４０）（以上楠本化成株式会社製）、ノニオン系
界面活性剤”カラースパース”１８８−Ａ、”ハイオニ
ック”ＰＥ、”モディコール”Ｌ、Ｓ−６５、Ｕ−９
９、Ｗ−７７（以上サンノプコ株式会社製）を光硬化性
樹脂組成物に対して０．１〜２０重量％添加する。この
場合、レベリング剤の量が２０重量％より多すぎればペ
ースト感度の低下やパターン特性が劣化する。また、レ
ベリング剤の量が０．１％より少なすぎると十分なレベ
リング効果が得られず表面にスクリーンメッシュ跡など
の凹凸が残る。

【００３２】（ガラス微粒子）本発明において感光性ペ
ーストの必須成分として含まれるガラス微粒子として
は、公知のものであれば特に限定はなく、ケイ素及び／
またはホウ素の酸化物を必須成分とするガラスが用いら
れる。

【００３３】ガラス微粒子の粒子径は、作製しようとす
るパターンの形状を考慮して選ばれるが、５０重量％粒
子径が０．１〜１０μｍ、１０重量％粒子径が０．４〜
２μｍ、９０重量％粒子径が４〜１０μｍのサイズを有
しており、比表面積０．２〜３ｍ²／ｇのガラス微粒子
を用いることが、パターン形成上において好ましい。本
発明のガラス微粒子は線熱膨張係数が６０〜９０×１０
^-7のガラス微粒子であることが好ましい。

【００３４】また、発明者らは、ガラス微粒子として、
形状が球状であるガラス微粒子を用いることによって、
高アスペクト比のパターンニングが可能であることを見
いだした。具体的には、球形率８０個数％以上であるこ
とが好ましい。より好ましくは平均粒子径１．５〜４μ
ｍ、比表面積０．５〜１．５ｍ²／ｇ、球形率９０個数
％以上である。 球形率とは、顕微鏡観察において、球
形もしくは楕球形の形状を有する粒子の割合であり、光
学顕微鏡において、円形、楕円形として観察される。

【００３５】４３６ｎｍの波長での全光線透過率が５０
％以上のガラス微粒子を用いることによって、より正確
な形状のパターンを得ることができる。

【００３６】プラズマディスプレイやプラズマアドレス
液晶ディスプレイの隔壁に用いる場合は、熱軟化点が７
００℃以下のガラス基板上にパターン形成するため、無
機微粒子として、熱軟化温度が３５０〜６００℃のガラ
ス微粒子を６０重量％以上用いることが好ましい。

【００３７】このようなガラス微粒子としては、酸化ビ
スマス、酸化鉛、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化
カリウムのうち少なくとも１種類を５〜５０重量％含む
ガラス微粒子を用いることによって、ガラス基板上にパ
ターン加工できる温度特性を有するガラスペーストを得
ることができる。特に、酸化ビスマスおよび酸化鉛のう
ち少なくとも１種類を５〜５０重量％含有するガラスを
用いることは、ペーストのポットライフが長いなどの利
点がある。また、酸化リチウムや酸化ナトリウム、酸化
カリウムのうち少なくとも１種類を３〜２０重量％含有
するガラス微粒子を使用することが好ましい。アルカリ
金属の酸化物の添加によって、熱軟化温度や熱膨張係数
のコントロールが容易になる。しかし、アルカリ金属の
酸化物は添加量としては、好ましくは１５重量％以下に
することによって、ペーストのポットライフを向上する
ことができる。特に好ましくは、ガラス微粒子が酸化ビ
スマスを５〜３０重量％含有しかつ酸化リチウム、酸化
ナトリウム、酸化カリウムのうち少なくとも１種類を３
〜１５重量％含有するガラス微粒子である。

【００３８】ガラス微粒子の組成としては、ＳｉＯ₂は
３〜６０重量％の範囲で配合することが好ましく、３重
量％未満の場合はガラス層の緻密性、強度や安定性が低
下し、またガラス基板と熱膨張係数のミスマッチが起こ
り、所望の値から外れる。また６０重量％以下にするこ
とによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き
付けが可能になるなどの利点がある。

【００３９】Ｂ₂Ｏ₃は５〜６０重量％の範囲で配合する
ことによって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、絶縁層
の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上するこ
とができる。また６０重量％を越えるとガラスの安定性
が低下する。

【００４０】さらに、ガラス微粒子が酸化珪素を３〜６
０重量部、酸化ホウ素を５〜６０重量部であることが好
ましく、特にガラス微粒子が酸化珪素を３〜６０重量
部、酸化ホウ素を５〜６０重量部、酸化バリウムを〜２
５重量部、酸化アルミニウムを１〜２５重量部含有する
ガラス微粒子であることがより好ましい。

【００４１】酸化ビスマスを５重量％以上配合すること
によって、ガラスペーストをガラス基板上に焼付けする
時の焼付け温度を制御することができる。５０重量％を
越えるとガラスの耐熱温度が低くなり過ぎてガラス基板
上への焼き付けが難しくなる。酸化ビスマスを含むガラ
ス組成としては、酸化物換算表記で Ｂｉ₂Ｏ₃ ５〜５０重量％ ＳｉＯ₂ ３〜６０重量％ Ｂ₂Ｏ₃ ５〜４０重量％ の組成を含むものを５０重量％以上含有することが好ま
しい。

【００４２】また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸
化カリウムの合計含有量が５〜２０重量％のガラスを用
いることによって、熱軟化温度、熱膨張係数のコントロ
ールが容易になるだけでなく、ガラスの平均屈折率を低
くすることができるため、有機成分との屈折率差を小さ
くすることが容易になる。なかでも、Ｌｉ₂Ｏの添加
は、比較的耐久性に優れたペーストを得ることができ
る。また、ガラス粉末中に、Ａｌ₂Ｏ₃、ＢａＯ、Ｃａ
Ｏ、ＭｇＯ、ＺｎＯなどを含有することができる。しか
し、熱軟化点、熱膨張係数、屈折率の制御の点からは、
その含有量は４０重量％以下、より好ましくは２５重量
％以下である。

【００４３】一般に、絶縁体として用いられるガラス
は、１．５２〜１．９程度の屈折率を有している。有機
成分の平均屈折率が無機微粒子の平均屈折率と大きく異
なる場合は、無機粒子と感光性有機成分の界面での反射
・散乱が大きくなり、精細なパターンが得られない。

【００４４】一般的な有機成分の屈折率は１．４５〜
１．７であるため、無機粒子と有機成分の屈折率を整合
させるためには、無機粒子の平均屈折率を１．５〜１．
７５にすることが好ましい。さらに好ましくは、ガラス
微粒子の平均屈折率を１．５〜１．７にすることによっ
て、有機成分の選択の幅が広がる利点がある。

【００４５】さらには、感光性ペースト中のガラス微粒
子の平均屈折率Ｎ１と有機成分の屈折率Ｎ２が次式を満
たすことによって、反射、散乱が小さくなり高アスペク
ト比のパターンを高精度に形成することができる。 −０．１＜Ｎ１−Ｎ２＜０．１

【００４６】また、重合によって有機成分の屈折率が変
化することを考慮すると、次式を満たすことがより好ま
しい。 ０＜Ｎ１−Ｎ２＜０．０９

【００４７】一方、ガラス微粒子の平均屈折率Ｎ１と有
機成分が光照射によって重合した後の屈折率Ｎ３につい
て、次の式を満たすことによって、高アスペクト比のパ
ターンを形成できる。 −０．０３＜Ｎ１−Ｎ３＜０．０３

【００４８】ここで、有機成分の屈折率は、露光により
感光性成分を感光させる時点における感光性ペースト中
の有機成分の屈折率のことである。つまり、感光性ペー
ストを塗布し、乾燥工程後に露光を行う場合は、乾燥工
程後の感光性ペースト中の有機成分の屈折率のことであ
る。

【００４９】本発明における屈折率の測定は、一般的に
行われるＶブロック法が好ましく、測定する波長は、ペ
ーストを塗布した後に、露光する光の波長で測定するこ
とが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６
５０ｎｍの範囲中の波長の光で測定することが好まし
い。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３
６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。また、有機成分が
光照射によって重合した後の屈折率を測定するために
は、感光性ペースト中に対して光照射する場合と同様の
光を有機成分のみに照射することによって測定できる。
ガラス基板上に焼き付けを行うことができる酸化ビスマ
スや酸化鉛を１０重量％以上含有するガラス微粒子は、
屈折率が１．６以上になる場合があり、この場合は有機
物の屈折率を高くする必要がある。

【００５０】この場合、有機成分中に高屈折率成分を導
入する必要があり、有機成分中に硫黄原子、臭素原子、
ヨウ素原子、ナフタレン環、ビフェニル環、アントラセ
ン環、カルバゾール環を有する化合物を１０重量％以上
用いることが高屈折率化に有効である。また、ベンゼン
環を２０重量％以上含有することによって、高屈折率化
ができる。特に、硫黄原子もしくはナフタレン環を１０
重量％以上含有することによって、より簡便に有機成分
を高屈折率化することができる。但し、含有量が６０重
量％以上になると光感度が低下するという問題が発生す
るので、１０〜６０重量％の範囲で含有することが好ま
しい。有機成分の屈折率を高くする方法としては、感光
性のモノマーやバインダー中に、硫黄原子、ナフタレン
環を持つ化合物を用いることが有効である。分子内に硫
黄原子を原子を含有するモノマーとしては、次の一般式
（Ａ）、（Ｂ）または（Ｃ）で示される化合物が挙げら
れる。式中のＲは水素原子もしくはメチル基を示す。

【００５１】

【化１】

【００５２】無機粒子として、Ｂ₂Ｏ₃やＳｉＯ₂を含有
するガラスやセラミックを用いた場合は、屈折率が比較
的小さいため、有機成分として、１．５〜１．６のもの
を用いることによって、屈折率を整合することができ
る。

【００５３】しかし、プラズマディスプレイやプラズマ
アドレス液晶ディスプレイの隔壁に用いるガラス微粒子
は、ガラス基板上での焼成を行う必要があるため、熱軟
化温度が３５０〜６００℃程度のガラス微粒子を用いる
ことが好ましい。３５０〜６００℃の熱軟化温度を有す
るガラスとして、アルカリ金属の酸化物、酸化鉛、酸化
ビスマスを含有するガラスを用いる方法がある。特にガ
ラス微粒子がＮａ₂Ｏ、Ｌｉ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏのうち少なくと
も１種類を含有し、その含有率の合計がガラス微粒子全
体の３〜２０重量％のガラス微粒子を用いることが好ま
しい。かかるガラス微粒子を用いることによって、熱軟
化温度、平均屈折率をコントロールしやすくなる。特
に、酸化リチウムを含有するガラス微粒子は好ましい。
この結果、ガラス基板上に焼き付け可能な熱軟化温度を
有し、平均屈折率を１．５〜１．６５にすることがで
き、有機成分との屈折率差を小さくすることが容易にな
る。また、ガラス微粒子として、ＰｂＯ、Ｂｉ₂Ｏ₃のう
ち少なくとも１種類を含有し、その含有率がガラス微粒
子全体の５〜５０重量％のガラス微粒子を用いることに
よって、ガラス微粒子の熱軟化温度制御、耐水性向上に
効果がある。特に、Ｂｉ₂Ｏ₃を含有するガラスはＰｂＯ
を含有するガラスに比べて、ペーストにした場合に有機
成分との反応を起こしにくい利点がある。しかし、電子
材料用途に従来から用いられてきたＰｂＯやＢｉ₂Ｏ₃を
１０重量％以上含むガラス微粒子は、屈折率が１．６０
以上になるものが多い。このため、Ｎａ₂Ｏ、Ｌｉ₂Ｏ、
Ｋ₂Ｏなどのアルカリ金属の酸化物とＰｂＯやＢｉ₂Ｏ₃
を併用することによって、熱軟化点、熱膨張係数、耐水
性、屈折率のコントロールが容易になる。

【００５４】本発明におけるガラス微粒子の屈折率測定
は、ベッケ法により行うことができる。屈折率は露光波
長で測定することが効果を確認する上で正確である。特
に、３５０〜６５０ｎｍの範囲の波長の光で測定するこ
とが好ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくは
ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。

【００５５】また、本発明に用いられるペースト中に、
熱軟化点が５００℃以上のガラス微粒子やセラミックス
微粒子を添加することによって、焼成時の収縮率を抑制
することができる。但し、この場合に用いるガラス微粒
子の屈折率差が０．１以下、さらには、０．０５以下で
あることが、精度良くパターン形成する上で重要であ
る。

【００５６】また、プラズマディスプレイのコントラス
トを向上する目的で、隔壁層を黒色化する場合には、用
いる感光性ペースト中に黒色の金属酸化物を１〜１０重
量％含むことによって、黒色の隔壁を形成することがで
きる。この際に用いる黒色の金属酸化物として、Ｃｒ、
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕの酸化物の内、少なくとも１
種、好ましくは３種以上を含むことによって、黒色の隔
壁層を形成することができる。特に、ＦｅとＭｎの酸化
物をそれぞれ０．５重量％以上含有することによって、
より、黒色の隔壁層を形成できる。

【００５７】本発明において、ガラス微粒子に含まれる
Ｐｂ、Ｆｅ、Ｃｄ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｍｇなどの金属および
酸化物がペースト中に含有する感光性成分と反応してペ
ーストが短時間でゲル化し、塗布できなくなる場合があ
る。このような反応を防止するために安定化剤を添加し
てゲル化を防止することが好ましい。用いる安定化剤と
しては、トリアゾール化合物が好ましく用いられる。ト
リアゾール化合物の中でも特にベンゾトリアゾールが有
効に作用する。本発明において使用されるベンゾトリア
ゾールによるガラス微粒子の表面処理の一例を上げる
と、ガラス微粒子に対して所定の量のベンゾトリアゾー
ルを酢酸メチル、酢酸エチル、エチルアルコール、メチ
ルアルコールなどの有機溶媒に溶解した後、これら微粒
子が十分に浸すことができるように溶液中に１〜２４時
間浸積する。浸積後、好ましくは２０〜３０℃下で自然
乾燥して溶媒を蒸発させてトリアゾール処理を行った粉
末を作製する。使用される安定化剤の割合（安定化剤／
無機微粒子）は０．０５〜５重量％が好ましい。

【００５８】また、増感剤は、露光波長に吸収を有して
いるものが用いられる、この場合、吸収波長近傍では屈
折率が極端に高くなるため、増感剤を多量に添加するこ
とによって、屈折率を向上することができる。この場合
の増感剤の添加量として３〜１０重量％添加することが
できる。

【００５９】感光性ペーストは、通常、ガラス微粒子、
紫外線吸光剤、感光性ポリマー、感光性モノマー、光重
合開始剤および溶媒等の各種成分を所定の組成となるよ
うに調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散
し作製する。

【００６０】ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有
機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によっ
て適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐ
ｓ（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗
布をスクリーン印刷法以外にスピンコート法で行う場合
は、２０００〜５０００ｃｐｓが好ましい。スクリーン
印刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μｍを得るには、
５万〜２０万ｃｐｓが好ましい。

【００６１】本発明に用いる感光性ペーストにおいて
は、感光性化合物の含有率が有機成分中の１０重量％以
上、さらには、３０重量％以上であることが光に対する
感度の点で好ましい。

【００６２】（感光性ペーストの塗布方法）感光ペース
トを可撓性基材上に塗布する方法は特に限定されない
が、通常感光性ペーストを全面塗布、もしくは部分的に
塗布する。塗布方法としては、スクリーン印刷、バーコ
ーター、ロールコーター等公知の方法を用いることがで
きる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、
ペーストの粘度を選ぶことによって調整できるが、プラ
ズマディスプレイの隔壁は１００〜２００μｍの厚みが
必要であり、乾燥や焼成による収縮を考慮して、１００
〜３００μｍ程度の厚みで塗布することが好ましい。

【００６３】（ガラス基板）可撓性基材上に塗布した感
光性ペーストは電極層を形成したガラス基板上に転写す
る。電極層の形成は常法によって行うことができる。

【００６４】本発明に用いるガラス基板は、公知のもの
であれば特に限定はないが、一般的なソーダライムガラ
スやソーダライムガラスをアニール処理したガラス、ま
たは、高歪み点ガラス（旭硝子社製 商品名ＰＤ−２０
０）等を用いることができる。ガラス基板のサイズには
特に限定はなく、１〜５ｍｍの厚みのガラスを用いるこ
とができる。また、ガラス基板上に、銀やアルミ、銅、
金、ニッケル、酸化錫、ＩＴＯ等をスクリーン印刷や感
光性導電ペーストを用いたフォトリソグラフィー法によ
って、電極層をパターン形成したものを用いることが一
般的である。さらに、放電の安定化のために電極層の上
に誘電体層をもうけたガラス基板を用いても良い。

【００６５】（転写方法）可撓性基材上に塗布した感光
性ペーストをガラス基板上に転写する方法としては特に
限定されないが、例えば、塗布工程で得た塗布膜を所望
の大きさに切断し、ガラス基板に重ね合わせた後、通常
５０〜１５０℃に加熱した加圧用ローラーで１〜１．５
ＭＰａで加圧することにより塗布膜をガラス基板上に転
写する。

【００６６】ここで転写時に感光性ペーストとガラス基
板との密着性を高めるためにガラス基板の表面処理を行
うことができる。表面処理液としてはシランカップリン
グ剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−（２
−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキシプ
ロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチル）
アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン
などあるいは有機金属例えば有機チタン、有機アルミニ
ウム、有機ジルコニウムなどである。シランカップリン
グ剤あるいは有機金属を有機溶媒例えばエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコール、プ
ロピルアルコール、ブチルアルコールなどで０．１〜５
％の濃度に希釈したものを用いる。次にこの表面処理液
をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後に８０〜１
４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表面処理
ができる （露光工程）転写した後、露光装置を用いて露光を行
う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるよう
に、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的
である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によっ
て、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。ま
た、フォトマスクを用いずに、レーザー光などで直接描
画する方法を用いても良い。露光装置としては、ステッ
パー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることがで
きる。 露光工程を１回だけ行うことが、複数回の露光
を行う場合に比べて、精度良く簡便に隔壁層を形成する
方法としては好ましい。また、大面積の露光を行う場合
は、ガラス基板などの基板上に感光性ペーストを転写し
た後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さな
有効露光面積の露光機で、大きな面積を露光することが
できる。

【００６７】この際使用される活性光源は、たとえば、
可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー
光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好まし
く、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用
できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。
露光条件は塗布厚みによって異なるが、０．５〜１００
ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて０．５〜３
０分間露光を行なう。 特に、露光量が０．３〜５Ｊ／
ｃｍ²程度の露光を行うことが好ましい。

【００６８】塗布した感光性ペースト表面に酸素遮蔽膜
を設けることによって、パターン形状を向上することが
できる。酸素遮蔽膜の一例としては、ＰＶＡやセルロー
スなどの膜、あるいは、ポリエステルなどのフィルムが
上げられる。ＰＶＡ膜の形成方法は濃度が０．５〜５重
量％の水溶液をスピナーなどの方法で基板上に均一に塗
布した後に７０〜９０℃で１０〜６０分間乾燥すること
によって水分を蒸発させて行う。また水溶液中にアルコ
ールを少量添加すると絶縁膜との塗れ性が良くなり蒸発
が容易になるので好ましい。さらに好ましいＰＶＡの溶
液濃度は、１〜３重量％である。この範囲にあると感度
が一層向上する。ＰＶＡ塗布によって感度が向上するの
は次の理由が推定される。すなわち感光性成分が光反応
する際に、空気中の酸素があると光硬化の感度を妨害す
ると考えられるが、ＰＶＡの膜があると余分な酸素を遮
断できるので露光時に感度が向上するので好ましい。ポ
リエステルやポリプロピレン、ポリエチレン等の透明な
フィルムを用いる場合は、塗布後の感光性ペーストの上
に、これらのフィルムを張り付けて用いる方法がある。

【００６９】（現像工程）露光後、現像液を使用して現
像を行なうが、この場合、浸漬法やスプレー法、ブラシ
法で行なう。現像液は、感光性ペースト中の有機成分が
溶解可能である有機溶媒を使用できる。また該有機溶媒
にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。
感光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化
合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。ア
ルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや水酸化カルシウ
ム水溶液などのような金属アルカリ水溶液を使用できる
が、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ
成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカリとして
は、公知のアミン化合物を用いることができる。具体的
には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリ
メチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。
アルカリ水溶液の濃度は通常０．０１〜１０重量％、よ
り好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が
低すぎれば未露光部が除去されずに、アルカリ濃度が高
すぎれば、パターン部を剥離させ、また露光部を腐食さ
せるおそれがあり良くない。また、現像時の現像温度
は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。

【００７０】（焼成工程）次に焼成炉にて焼成を行う。
焼成雰囲気や、温度はペーストや基板の種類によって異
なるが、空気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。
焼成温度は４００〜６１０℃で行う。ガラス基板上にパ
ターン加工する場合は、５２０〜６１０℃の温度で１０
〜６０分間保持して焼成を行う。また、以上の工程中
に、乾燥、予備反応の目的で、５０〜３００℃加熱工程
を導入しても良い。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉
やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。

【００７１】本発明においては、塗布工程、転写工程、
露光工程、現像工程、焼成工程の順により隔壁が形成さ
れるが、塗布工程、露光工程、転写工程、現像工程、焼
成工程の順であっても、塗布工程、露光工程、現像工
程、転写工程、焼成工程の順であっても隔壁を形成する
ことができる。

【００７２】（ディスプレイ作製工程）以上の工程によ
って得られた隔壁層を有するガラス基板はプラズマディ
スプレイの前面側もしくは背面側に用いることができ
る。また、プラズマアドレス液晶ディスプレイのアドレ
ス部分の放電を行うための基板として用いることができ
る。形成した隔壁層の間に蛍光体を塗布した後に、前背
面のガラス基板を合わせて封着し、ヘリウム、ネオン、
キセノン等の希ガスを封入することによって、プラズマ
ディスプレイのパネル部分を製造できる。さらに、駆動
用のドライバーＩＣを実装することによって、プラズマ
ディスプレイを製造することができる。

【００７３】

【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は重量％である。

【００７４】実施例１〜８ 以下のＡ〜Ｈの成分からなり表１に示す組成で構成され
るガラス微粒子および有機成分からなる感光性ペースト
を製造した。

【００７５】作製手順は、まず有機成分の各成分を８０
℃に加熱しながら溶解し、その後ガラス微粒子を添加
し、混練機で混練することによってペーストを作製し
た。ペーストの粘度は溶媒の量で調整した。

【００７６】＜感光性ペースト＞ Ａ．ガラス微粒子：（）内はガラス微粒子中の組成重量
％を示す。

【００７７】ガラス微粒子Ｉ；ＳｉＯ₂（１６）、Ｂ₂Ｏ
₃（２４）、Ｌｉ₂Ｏ（７）、ＢａＯ（３）、ＺｎＯ（１
７）、ＭｇＯ（４）、ＣａＯ（３）、平均粒子径４．１
μｍ ガラス微粒子ＩＩ：ＳｉＯ₂（３６）、Ｂ₂Ｏ₃（１
６）、Ｌｉ₂Ｏ（１１）、ＢａＯ（４）、Ａｌ₂Ｏ
₃（６）ＺｎＯ（１７）、平均粒子径２．９μｍ Ｂ．感光性ポリマー：側鎖にカルボキシル基とエチレン
性不飽和基を有するアクリル系共重合体４０％のメタク
リル酸（ＭＡＡ）、３０％のメチルメタアクリレート
（ＭＭＡ）および３０％のスチレン（Ｓｔ）からなる共
重合体にＭＡＡに対して０．４当量のグリシジルメタア
クリレート（ＧＭＡ）を付加反応させたポリマー Ｃ．感光性モノマー：トリメチロールプロパントリアク
リレート Ｄ．光重合開始剤：２−メチル−１［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モノホリノプロパノン−１をポリ
マーとモノマーとの総和に対して２０％添加した Ｅ．増感剤：２，４−ジエチルチオキサントンをポリマ
ーとモノマーとの総和に対して２０％添加した Ｆ．有機染料：アゾ系有機染料スダン−４を０．１％添
加した Ｇ．有機レベリング剤：特殊ビニル系重合物ＬＣ−９０
０（楠本化成社製）を添加した Ｈ．溶媒：γ−ブチロラクトン。

【００７８】

【表１】

【００７９】次に、ポリエステルフィルム（東レ製”ル
ミラーＴ６０ ＃１００”を使用）表面に、トルエン溶
媒により０．０５〜０．００５％に希釈した離型剤塗布
液を塗布した。塗布液は、離型剤、硬化剤、溶媒を調合
し用いた。離型剤はシリコン樹脂（東レダウコーニング
社製”ＳＲＸ３７０”）、硬化剤は、同社”ＳＲＸ２１
２を用いた。また溶媒はトルエンを用いた。離型剤と硬
化剤の調合比率は９９：１とした。塗布条件は、メタバ
ーの＃６を用いバーコートを行った。この方法で溶液を
塗布する場合、９μｍの塗布が可能であった。乾燥は１
４０℃、３０秒とした。乾燥後の離型剤からなる離型層
の厚みは約１ｎｍであった。

【００８０】剥離強度の測定は、幅２４ｍｍのセロハン
テープ（ニットー製”３１Ｂ”を使用）を１０ｃｍの長
さに切り、表面処理したフィルム面に貼り付けた。これ
を、引張り試験機を用いて５ｍｍ／ｓｅｃの速度にて、
セロハンテープをフィルム面から引き剥がした。この際
の荷重を剥離強度とした。離型剤溶液濃度０．１〜０．
００５％の範囲でパターン形成が良好で、かつ、パター
ン剥離性の良好な剥離強度３〜７Ｎ／２４ｍｍが得られ
た。

【００８１】次に、３０ｃｍ角のポリエステルフィルム
上に、ドクターブレード法により２００μｍの塗布厚み
で塗布を行った後、８０℃で６０分乾燥した。

【００８２】次に、ガラス基板上に重ね合わせ、７０℃
に加熱した加圧用ローラーで１ＭＰａで加圧し塗布膜を
ガラス基板上に転写した。

【００８３】次にフォトマスクを介して露光を行った。
マスクは、ピッチ２２０μｍ、線幅６０μｍ、プラズマ
ディスプレイにおけるストライプ状の隔壁パターン形成
が可能になるように設計したクロムマスクを用いた。露
光は、２０ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯で２分間
紫外線露光を行った。

【００８４】その後、モノエタノールアミンの１％水溶
液に浸漬して、現像を行った。

【００８５】さらに、得られたガラス基板を１２０℃で
１時間乾燥した後、５８０℃で１時間焼成を行った。焼
成により約２０％程度の収縮が生じた。

【００８６】得られた、ガラス板上の隔壁の厚みばらつ
き、およびパターン特性を表２に示した。

【００８７】

【表２】

【００８８】実施例においては、厚みバラツキが少なく
かつ高精細のパターンが形成できた。この高精細パター
ンを有するガラス板を用いてプラズマディスプレイを作
製した。

【００８９】実施例９ 実施例１において工程の順番を、塗布工程、露光工程、
転写工程、現像工程、焼成工程の順に変更する以外は実
施例１と同様にして隔壁パターンを有するガラス板を作
製した。実施例１と同様な良好なガラス板が得られた。

【００９０】また、工程の順番を、塗布工程、露光工
程、現像工程、転写工程、焼成工程の順に変更する以外
は実施例１と同様にして隔壁パターンを有するガラス板
を作製した。実施例１と同様な良好なガラス板が得られ
た。

【００９１】

【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイの製造方
法によって、表面平坦性に優れ、厚みバラツキを抑え、
隔壁高さのバラツキを抑えた高精度の隔壁を簡便な工程
で形成できる。

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】感光性化合物を含む有機成分とガラス微粒
   子を必須成分として含む感光性ペーストを可とう性基材
   上に塗布する工程、電極層を形成したガラス基板上に転
   写する工程、露光装置を用いて露光を行う工程、現像す
   る工程および焼成する工程によって隔壁形成を行うこと
   を特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。
2. 【請求項２】可とう性基材上に１００〜３００μｍの厚
   みで感光性ペーストを塗布することを特徴とする請求項
   １記載のプラズマディスプレイの製造方法。
3. 【請求項３】可とう性基材が樹脂製のフィルムであるこ
   とを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイの
   製造方法。
4. 【請求項４】可とう性基材上に０．１〜１０ｎｍの厚み
   の離型剤を塗布することを特徴とする請求項１記載のプ
   ラズマディスプレイの製造方法。
5. 【請求項５】可とう性基材が剥離強度２〜７Ｎ／２４ｍ
   ｍの樹脂製のフィルムであることを特徴とする請求項１
   記載のプラズマディスプレイの製造方法。
6. 【請求項６】ガラス微粒子の平均屈折率Ｎ１と有機成分
   の平均屈折率Ｎ２が次式を満たすことを特徴とする請求
   項１記載のプラズマディスプレイの製造方法。 −０．１＜Ｎ１−Ｎ２＜０．１
7. 【請求項７】ガラス微粒子の平均屈折率Ｎ１と有機成分
   の平均屈折率Ｎ２が次式を満たすことを特徴とする請求
   項１記載のプラズマディスプレイの製造方法。 ０＜Ｎ１−Ｎ２＜０．０９
8. 【請求項８】感光性ペーストが５０〜９５重量部のガラ
   ス微粒子と５〜５０重量部の有機成分を含むことを特徴
   とする請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方
   法。
9. 【請求項９】ガラス微粒子が平均屈折率が１．５〜１．
   ７の範囲のガラス微粒子であることを特徴とする請求項
   １記載のプラズマディスプレイの製造方法。
10. 【請求項１０】ガラス微粒子が酸化リチウム、酸化ナト
    リウム、酸化カリウムのうち少なくとも１種類を含有
    し、その含有率の合計がガラス微粒子全体の３〜２０重
    量％のガラス微粒子であることを特徴とする請求項１記
    載のプラズマディスプレイの製造方法。
11. 【請求項１１】ガラス微粒子が酸化珪素をガラス微粒子
    全体の３〜６０重量部、酸化ホウ素をガラス微粒子全体
    の５〜６０重量部含有するガラス微粒子であることを特
    徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方
    法。
12. 【請求項１２】ガラス微粒子が酸化珪素をガラス微粒子
    全体の３〜６０重量部、酸化ホウ素をガラス微粒子全体
    の５〜６０重量部、酸化バリウムをガラス微粒子全体の
    １〜２５重量部、酸化アルミニウムをガラス微粒子全体
    の１〜２５重量部含有するガラス微粒子であることを特
    徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイの製造方
    法。
13. 【請求項１３】有機成分が有機染料を０．０５〜５重量
    ％含有することを特徴とする請求項１記載のプラズマデ
    ィスプレイの製造方法。
14. 【請求項１４】有機成分が有機レベリング剤を０．１〜
    ２０重量％含有することを特徴とする請求項１記載のプ
    ラズマディスプレイの製造方法。
15. 【請求項１５】感光性化合物を含む有機成分とガラス微
    粒子を必須成分として含む感光性ペーストを可とう性基
    材上に塗布する工程、露光装置を用いて露光を行う工
    程、電極層を形成したガラス基板上に転写する工程、現
    像する工程および焼成する工程によって隔壁形成を行う
    ことを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。
16. 【請求項１６】感光性化合物を含む有機成分とガラス微
    粒子を必須成分として含む感光性ペーストを可とう性基
    材上に塗布する工程、露光装置を用いて露光を行う工
    程、現像する工程、電極層を形成したガラス基板上に転
    写する工程および焼成する工程によって隔壁形成を行う
    ことを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。