JPH10123071A - X線分析方法および装置 - Google Patents

X線分析方法および装置

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JPH10123071A
JPH10123071A JP9229054A JP22905497A JPH10123071A JP H10123071 A JPH10123071 A JP H10123071A JP 9229054 A JP9229054 A JP 9229054A JP 22905497 A JP22905497 A JP 22905497A JP H10123071 A JPH10123071 A JP H10123071A
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rays
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Tomoya Arai
智也 新井
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 分析対象試料からの蛍光X線の測定強度に基
づいて、分析対象試料における各成分の含有率等を求め
るX線分析方法および装置において、より正確な重なり
補正のできるX線分析方法および装置を提供する。 【解決手段】 いわゆる検量線法において、測定される
べき蛍光X線6の波長帯域と少なくとも一部が重複する
波長帯域を有する蛍光X線を妨害線とし、それら妨害線
を発生する各成分の含有率に関する2次式を用いて、検
量線を補正する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、分析対象試料から
の蛍光X線の測定強度に基づいて、分析対象試料におけ
る各成分の含有率等を求めるX線分析方法および装置に
おいて、より正確な重なり補正のできるX線分析方法お
よび装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、分析対象試料からの蛍光X線
の測定強度に基づいて、分析対象試料における各成分の
含有率を求めるX線分析方法のひとつに、いわゆる検量
線法がある。この検量線法では、組成が既知で相異なる
複数の標準試料に1次X線を照射して、標準試料中の各
成分から発生する蛍光X線の強度を測定し、それら測定
強度と標準試料における各成分の含有率との相関関係
を、各成分ごとに検量線としてあらかじめ求めておく。
そして、分析対象試料に1次X線を照射して、分析対象
試料中の各成分から発生する蛍光X線の強度を測定し、
各測定強度に前記検量線を適用して、分析対象試料にお
ける各成分の含有率を求める。
【0003】ここで、例えば、測定されるべき蛍光X線
Cu −Kα線に対し、Ni −Kβ1線が妨害線として波
長の一部において重なる場合がある。そこで、妨害線の
影響を除去するために、妨害線を発生する各成分jの含
有率Wj に関する1次式γijj を用いて補正した次式
(1)に示す検量線を用いて、分析対象試料における各
成分iの含有率Wi を求めている。
【0004】 Wi =(ai i 2 +bi i +ci )(1+Σαijj )−Σγijj …(1)
【0005】ここで、Ii は各蛍光X線として測定され
た強度、ai ,bi ,ci は検量線定数、Σαijj
共存元素についてのいわゆるマトリクス補正項、αij
マトリクス補正係数、γijは重なり補正係数である。a
i ,bi ,ci ,αij,γijは、組成が既知で相異なる
複数の標準試料についての測定から求められる。重なり
補正項をγijj としたのは、妨害成分jによる妨害線
の測定すべき蛍光X線への重なりの影響が、妨害成分j
の含有率Wj に比例するとの前提による。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、この前提
は、必ずしも正しいとはいえず、重なり補正が十分正確
にできない。また、重なり補正項に妨害線の測定強度I
j を用いて、γijj とする方法もあるが、装置の構成
や、妨害線の測定すべき蛍光X線への重なり具合によっ
て、妨害線を測定しない場合や、測定できない場合に
は、重なり補正ができない。
【0007】本発明は前記従来の問題に鑑みてなされた
もので、分析対象試料からの蛍光X線の測定強度に基づ
いて、分析対象試料における各成分の含有率等を求める
X線分析方法および装置において、より正確な重なり補
正のできるX線分析方法および装置を提供することを目
的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項1の方法では、いわゆる検量線法において、
測定されるべき蛍光X線の波長帯域と少なくとも一部が
重複する波長帯域を有する蛍光X線を妨害線とし、それ
ら妨害線を発生する各成分の含有率に関する2次式を用
いて、検量線を補正する。
【0009】請求項1の方法によれば、より現実に則し
て、妨害成分の含有率に関する2次式を用いて検量線を
補正するので、より正確な重なり補正ができる。
【0010】請求項2の方法では、分析対象試料からの
蛍光X線の測定強度に基づいて、分析対象試料における
厚さまたは各成分の含有率の少なくとも一方を求めるX
線分析方法において、測定されるべき蛍光X線の波長帯
域と少なくとも一部が重複する波長帯域を有する蛍光X
線を妨害線とし、分析対象試料における厚さまたは各成
分の含有率の少なくとも一方を仮定して計算した前記妨
害線の理論強度を用いて、前記測定強度を補正する。
【0011】請求項2の方法によれば、妨害線の理論強
度を用いて測定強度を補正するので、妨害線を測定でき
ない場合等にも、より正確な重なり補正ができる。
【0012】請求項3の方法では、分析対象試料からの
蛍光X線の測定強度に基づいて、分析対象試料における
厚さまたは各成分の含有率の少なくとも一方を求めるX
線分析方法において、測定されるべき蛍光X線の波長帯
域と少なくとも一部が重複する波長帯域を有する蛍光X
線を妨害線とし、分析対象試料における厚さもしくは各
成分の含有率の少なくとも一方を仮定して計算した前記
妨害線の理論強度または前記妨害線と同一系列で波長の
近接する蛍光X線の理論強度を用いて、前記測定強度を
補正する。
【0013】請求項3の方法によれば、妨害線の理論強
度またはそれら妨害線と同一系列で波長の近接する蛍光
X線の理論強度を用いて測定強度を補正するので、妨害
線を測定できない場合等であって、さらに妨害線の理論
強度を算出できない場合にも、より正確な重なり補正が
できる。
【0014】請求項4のX線分析装置は、まず、試料が
固定される試料台と、試料に1次X線を照射するX線源
と、試料から発生する蛍光X線の強度を測定する検出手
段とを備えている。また、組成が既知で相異なる複数の
標準試料について、1次X線を照射したときに標準試料
中の各成分から発生する蛍光X線の強度からあらかじめ
求められた、それら強度と標準試料における各成分の含
有率との相関関係を、各成分ごとに検量線として記憶す
る検量線記憶手段を備えている。さらに、分析対象試料
に、前記X線源から1次X線を照射させ、分析対象試料
中の各成分から発生する蛍光X線の強度を前記検出手段
に測定させ、それら測定強度を記憶する測定手段を備え
ている。さらにまた、前記測定手段に記憶された測定強
度に、前記検量線記憶手段に記憶された検量線を適用
し、分析対象試料における各成分の含有率を求める検量
線適用手段を備えている。
【0015】ここで、前記検量線記憶手段に記憶された
検量線は、測定されるべき蛍光X線の波長帯域と少なく
とも一部が重複する波長帯域を有する蛍光X線を妨害線
とし、それら妨害線を発生する各成分の含有率に関する
2次式を用いて補正されたものである。請求項4の装置
によれば、前記請求項1の方法と同様の作用効果があ
る。
【0016】請求項5のX線分析装置は、まず、試料が
固定される試料台と、試料に1次X線を照射するX線源
と、試料から発生する蛍光X線の強度を測定する検出手
段とを備えている。また、分析対象試料に、前記X線源
から1次X線を照射させ、分析対象試料中の各成分から
発生する蛍光X線の強度を前記検出手段に測定させ、そ
れら測定強度を記憶する測定手段を備えている、さら
に、前記測定手段に記憶された測定強度に基づいて、分
析対象試料における厚さまたは各成分の含有率の少なく
とも一方を求める算出手段を備えている。ここで、前記
算出手段は、測定されるべき蛍光X線の波長帯域と少な
くとも一部が重複する波長帯域を有する蛍光X線を妨害
線とし、分析対象試料における厚さまたは各成分の含有
率の少なくとも一方を仮定して計算した前記妨害線の理
論強度を用いて前記測定強度を補正するものである。請
求項5の装置によれば、前記請求項2の方法と同様の作
用効果がある。
【0017】請求項6のX線分析装置は、まず、試料が
固定される試料台と、試料に1次X線を照射するX線源
と、試料から発生する蛍光X線の強度を測定する検出手
段とを備えている。また、分析対象試料に、前記X線源
から1次X線を照射させ、分析対象試料中の各成分から
発生する蛍光X線の強度を前記検出手段に測定させ、そ
れら測定強度を記憶する測定手段を備えている、さら
に、前記測定手段に記憶された測定強度に基づいて、分
析対象試料における厚さまたは各成分の含有率の少なく
とも一方を求める算出手段を備えている。ここで、前記
算出手段は、測定されるべき蛍光X線の波長帯域と少な
くとも一部が重複する波長帯域を有する蛍光X線を妨害
線とし、分析対象試料における厚さもしくは各成分の含
有率の少なくとも一方を仮定して計算した前記妨害線の
理論強度または前記妨害線と同一系列で波長の近接する
蛍光X線の理論強度を用いて前記測定強度を補正するも
のである。請求項6の装置によれば、前記請求項3の方
法と同様の作用効果がある。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の第1実施形態の方
法について説明する。まず、この方法に用いる装置につ
いて、図1にしたがって説明する。この装置は、まず、
試料3,13が固定される試料台8と、試料3,13に
1次X線4を照射するX線源1と、試料3,13から発
生する蛍光X線6の強度を測定する検出手段10とを備
えている。検出手段10は、試料3,13から発生した
2次X線4を分光する分光器5と、分光器5で分光され
た蛍光X線6ごとにその強度を測定する検出器7からな
る。また、この装置は、以下の検量線記憶手段11、測
定手段12および検量線適用手段14を含む制御手段1
5を備えている。
【0019】前記検量線記憶手段11は、組成が既知で
相異なる複数の標準試料3について、1次X線2を照射
したときに標準試料3中の各成分から発生する蛍光X線
6の強度からあらかじめ求められた、それら強度と標準
試料3における各成分の含有率との相関関係を、各成分
ごとに検量線として記憶する。前記測定手段12は、分
析対象試料13に、前記X線源1から1次X線2を照射
させ、分析対象試料13中の各成分から発生する蛍光X
線6の強度を前記検出手段10に測定させ、それら測定
強度を記憶する。前記検量線適用手段14は、前記測定
手段12に記憶された測定強度に、前記検量線記憶手段
11に記憶された検量線を適用し、分析対象試料13に
おける各成分の含有率を求める。ここで、前記検量線記
憶手段11に記憶された検量線は、測定されるべき蛍光
X線の波長帯域と少なくとも一部が重複する波長帯域を
有する蛍光X線を妨害線とし、それら妨害線を発生する
各成分の含有率に関する2次式を用いて補正されたもの
である。
【0020】この装置を用いて、第1実施形態の方法で
は、以下のように、分析対象試料13における各成分の
含有率を求める。分析対象試料13がNi −Cr −Fe
合金で、銅の含有率を求める場合を例にとり、図面にし
たがって説明する。銅の分析には、Cu −Kα線を用い
るが、これにNi −Kβ1 線が妨害線として重なる。発
明者らは、このNi −Kβ1 線のCu −Kα線への重な
りの影響を銅の含有率で表したものΔCu と、ニッケル
の含有率の相関関係を詳細に調べ、図2に示す結果を得
た。これによると、妨害成分ニッケル(j)による妨害
線Ni −Kβ1線の測定すべき蛍光X線Cu −Kα線へ
の重なりの影響ΔCu が、ニッケルの含有率(Wj )に
比例するとの従来技術における前提は、必ずしも正しい
とはいえず、特にニッケルの含有率が高い場合には成立
していない。したがって、この前提に基づいて重なり補
正項をγijj とする従来の技術では、重なり補正が十
分正確にできない。
【0021】ここで、発明者らは、図3の相関関係が次
式(2)で表されることを見出した。
【0022】 ΔCu =3.42×10-5Ni 2 −1.18WNi+0.0529 …(2)
【0023】したがって、妨害成分jの含有率Wj に関
する2次式を用いて検量線を補正すれば、より正確な重
なり補正ができる。そこで、第1実施形態の方法では、
図1に示すように、組成が既知で相異なる複数の標準試
料3を試料台8に固定し、X線源1から1次X線2を照
射して、標準試料3から発生した2次X線4を分光器5
で分光し、分光された標準試料3中の各成分からの蛍光
X線6の強度を検出器7で測定し、それら測定強度Ii
と標準試料3における各成分iの含有率Wi との相関関
係を、各成分iごとに検量線としてあらかじめ求め前記
検量線記憶手段11に記憶しておくが、この検量線とし
て、次式(3)を用いる。
【0024】 Wi =(ai i 2 +bi i +ci )(1+Σαijj ) −Σ(γ1ij j 2 +γ2ij j +γ3ij ) …(3)
【0025】ここで、記号の意味は式(1)と同じで、
γ1ij ,γ2ij ,γ3ij が重なり補正係数であり、
i ,bi ,ci ,αijとともに、標準試料3について
の測定から回帰計算で求められる。すなわち、第1実施
形態の方法では、測定されるべき蛍光X線6の波長帯域
と少なくとも一部が重複する波長帯域を有する蛍光X線
6を妨害線とし、それら妨害線を発生する各成分jの含
有率Wj に関する2次式を用いて、検量線を補正してい
る。次に、前記測定手段12により、分析対象試料13
に1次X線2を照射して、分析対象試料13中の各成分
iから発生する蛍光X線6の強度を測定し、記憶する。
そして、前記検量線適用手段14により、各測定強度I
i に検量線(3)を適用して、分析対象試料13におけ
る各成分iの含有率Wi を求める。
【0026】第1実施形態の方法によれば、より現実に
則して、妨害成分jの含有率Wj に関する2次式を用い
て検量線を補正するので、より正確な重なり補正ができ
る。
【0027】次に、本発明の第2実施形態の方法につい
て説明する。まず、この方法に用いる装置について、図
2にしたがって説明する。この装置は、前記第1実施形
態の方法に用いる装置と比べ、制御手段17が、検量線
記憶手段11および検量線適用手段14を含まず、算出
手段16を含み、その算出手段16は、測定されるべき
蛍光X線の波長帯域と少なくとも一部が重複する波長帯
域を有する蛍光X線を妨害線とし、分析対象試料におけ
る各成分の含有率を仮定して計算した前記妨害線の理論
強度または前記妨害線と同一系列で波長の近接する蛍光
X線の理論強度を用いて測定強度を補正するものである
点で異なり、他の点においては同様なので、同一部分に
同一番号を付して説明を省略する。第2実施形態の方法
に用いる装置においては、算出手段16は、測定強度の
補正の仕方に違いはあるものの、前記第1実施形態の方
法に用いる装置における検量線記憶手段11および検量
線適用手段14に相当するものといえる。
【0028】この装置を用いて、第2実施形態の方法で
は、以下のように、分析対象試料13における各成分の
含有率を求める。やはり、分析対象試料13がNi −C
r −Fe 合金で、銅の含有率を求める場合を例にとり、
従来技術と対比して説明する。まず、従来の検量線法と
して、重なり補正項に妨害線の測定強度Ij を用い、γ
ijj とし、次式(4)に示す検量線を用いる方法があ
る。
【0029】 Wi =(ai i 2 +bi i +ci )(1+Σαijj )−Σγijj …(4)
【0030】式(4)に示す検量線は、Ni ,Cr ,F
e 等の全元素について用意し、式(4)の右辺に測定強
度Ii ,Ij を代入し、逐次繰り返し計算で、最終的な
分析値Wi を求める。ここで、前述したように銅の分析
には、Cu −Kα線を用いるが、これにNi −Kβ1 線
が妨害線として重なる。ところが、ニッケルの分析に
は、通常Ni −Kα線を用いるので、Ni −Kβ1 線の
強度Ij は測定されず、式(4)の検量線を用いること
ができない。妨害線の測定強度Ij としてNi −Kα線
の測定強度を代用することも考えられるが、Ni −Kα
線とNi −Kβ1線とのX線強度比は一定ではなく、特
に両線の波長の間に吸収端をもつコバルト等の元素を試
料が含有する場合には、この強度比は大きく変化する。
したがって、妨害線の測定強度Ij をNi −Kα線の測
定強度で代用しても、正確な重なり補正ができない。
【0031】そこで、第2実施形態の方法では、検量線
法において、測定されるべき蛍光X線例えばCu −Kα
線の波長帯域と少なくとも一部が重複する波長帯域を有
する蛍光X線例えばNi −Kβ1 線を妨害線とし、前記
逐次繰り返し計算ごとの組成(各成分の含有率)でそれ
ら妨害線の理論強度 Tj を計算し、その計算した妨害
線の理論強度 Tj を用いて、試料3,13から発生す
る蛍光X線6の測定強度Ii を補正する。すなわち、算
出手段16において、次式(5)および(6)に示す検
量線を用いる。
【0032】 Wi =(ai ci 2 +bi ci +ci )(1+Σαijj ) …(5)
【0033】 ci =Ii −Σγij Tj …(6)
【0034】ここで、 ci は、妨害線の理論強度 T
j を用いて、測定強度Ii を補正した重なり補正強度で
ある。標準試料3についての測定および理論強度計算か
ら、Ii および Tj が得られ、式(6)を式(5)に
代入した式の多重回帰計算により、ai ,bi ,ci
αij,γijが求められる。組成に基づく理論強度の計算
はいわゆるファンダメンタルパラメータ法(詳細につい
ては、後述する)により行われる。つぎに、算出手段1
6が、測定手段12により測定、記憶した分析対象試料
13についての測定強度Ii 、および算出した理論計算
した強度 Tjに、検量線(5)および(6)を適用し
て、分析対象試料13における各成分iの含有率Wi
求める。試料3,13についての測定は、図1を用いて
第1実施形態の方法で説明したのと同様に行う。
【0035】第2実施形態の方法によれば、妨害線の理
論強度 Tj を用いて測定強度Iiを補正するので、前
述のNi −Kβ1 線のように妨害線を測定しない場合
や、妨害線が測定されるべき蛍光X線と完全に重なって
測定できない場合等にも、より正確な重なり補正ができ
る。
【0036】なお、重なり補正項に妨害線の理論強度 T
j を用い、γij Tj とし、次式(7)に示す検量線
を用いる方法もある。
【0037】 Wi =(ai i 2 +bi i +ci )(1+Σαijj )−Σγij Tj …(7)
【0038】次に、本発明の第3実施形態の方法につい
て説明する。第3実施形態の方法に用いる装置について
は、図2に示した前記第2実施形態の方法に用いる装置
と比べ、以下に述べるように算出手段16における計算
の内容が異なるのみであるので、説明を省略する。第3
実施形態の方法は、第1、第2実施形態の方法のように
検量線を用いる検量線法ではなく、ファンダメンタルパ
ラメータ法(以下、FP法という)に属するものであ
る。FP法とは、分析対象試料13に1次X線2を照射
して発生した各含有元素の蛍光X線6の測定強度I
i と、分析対象試料13における元素の含有率Wi を仮
定して計算した各含有元素の蛍光X線の理論強度 Ti
とを用い、両強度が一致するように、前記仮定した元素
の含有率Wi を逐次近似的に修正計算して、分析対象試
料13における元素の含有率Wi を算出する蛍光X線分
析方法である。
【0039】また、分析対象試料13が、いわゆる薄膜
試料、すなわち基板上に蒸着等で形成された薄膜である
場合には、含有率Wi を求めるのと同様に、各含有元素
の蛍光X線6の測定強度Ii と、分析対象試料13にお
ける厚さTを仮定して計算した各含有元素の蛍光X線の
理論強度 Ti とを用いて、両強度が一致するように、
前記仮定した厚さTを逐次近似的に修正計算して、分析
対象試料13における厚さTを算出できる。さらに、薄
膜試料である分析対象試料13において厚さTと元素の
含有率Wi の両方が未知である場合には、両方を仮定し
て計算した各含有元素の蛍光X線の理論強度 Ti と、
各含有元素の蛍光X線6の測定強度Iiとを用いて、両
強度が一致するように、前記仮定した厚さTおよび元素
の含有率Wi を逐次近似的に修正計算して、分析対象試
料13における厚さTおよび元素の含有率Wi を算出で
きる。なお、薄膜でないいわゆるバルク試料において
は、厚さはX線的には無限大であり、元素の含有率Wi
のみが求められる。
【0040】第3実施形態の方法では、このFP法にお
いて、測定されるべき蛍光X線の波長帯域と少なくとも
一部が重複する波長帯域を有する蛍光X線を妨害線と
し、それら妨害線の理論強度 Tj を用いて、前記測定
強度Ii を補正する。すなわち、測定強度Ii に代え
て、第2実施形態の方法で示した式(6)の重なり補正
強度 ci を用いる。第3実施形態の方法では、以下の
ように重なり補正係数γij等を求める。まず、次式
(8)を想定する。
【0041】 Ti =ai ci 2 +bi ci +ci …(8)
【0042】そして、標準試料3についての測定および
理論強度計算から、Ii Ti T j が得られ、式
(6)を式(8)に代入した式の多重回帰計算により、
i,bi ,ci ,γijが求められる。
【0043】薄膜試料である分析対象試料13において
厚さTと元素の含有率Wi の両方を求める場合を例にと
り、第3実施形態の方法の手順全体を、以下に説明す
る。まず、測定手段12により、分析対象試料13に1
次X線2を照射して、分析対象試料13中の各成分iか
ら発生する蛍光X線6の強度を測定し、記憶する。な
お、この記憶される測定強度Ii は、いわゆる理論強度
スケールに変換されたものである。次に、算出手段16
に、あらかじめ仮定された初期の厚さT(0) と各成分の
含有率Wi (0) が読み込まれ、算出手段16は、それら
から、厚さTと各成分の含有率Wi が所定の範囲に収束
するまで逐次近似的に修正計算をする。
【0044】n回目の計算について説明すると、まず、
n回目に仮定した厚さT(n) と各成分の含有率Wi (n)
を、周知の理論強度計算式に代入して、n回目の各含有
元素の蛍光X線の理論強度 Ti (n) を計算する。ここ
で、測定されるべき蛍光X線と少なくとも一部が重複す
る波長帯域を有する蛍光X線を妨害線とし、n回目の妨
害線の理論強度 Tj (n) も、同様に計算する。次に、
この妨害線の理論強度 Tj (n) を用いて、前記測定強
度Ii を補正する。具体的には、式(6)に、測定強度
i と妨害線の理論強度 Tj (n) を代入して、n回目
の重なり補正強度 ci (n) を求める。そして、n回目
の重なり補正強度 ci (n) と理論強度 Ti (n) とを
比較し、n+1回目の厚さT(n+1) と各成分の含有率W
i (n+1)を求める。具体的には、次式(9),(10)
から、それぞれΔT,ΔWi を求め、それぞれ次式(1
1),(12)に代入する。
【0045】 ci (n) Ti (n) +ΔT×(d Ti (n) /dT) …(9)
【0046】 ci (n) Ti (n) +ΔWi ×(d Ti (n) /dWi ) …(10)
【0047】 T(n+1) =T(n) +ΔT …(11)
【0048】 Wi (n+1) =Wi (n) +ΔT …(12)
【0049】なお、式(9)の(d Ti (n) /dT)
は、厚さをdTだけ変化させたときの理論強度 Ti
(n) の変化量で、式(10)の(d Ti (n) /dWi
T)は、各成分の含有率Wi をdWi だけ変化させたと
きの理論強度 Ti (n) の変化量である。
【0050】そして、次式(13),(14)が満たさ
れたときに、厚さT(n+1) と各成分の含有率Wi (n+1)
がそれぞれ収束したものとし、満たされないときには、
理論強度 Ti (n+1) の計算以降を繰り返す。なお、式
(13),(14)のαT ,αW は、所定の収束判定値
である。
【0051】 |T(n+1) /T(n) −1.0|<αT …(13)
【0052】 |Wi (n+1) /Wi (n) −1.0|<αW …(14)
【0053】なお、分析対象が多層膜である場合等、複
数組の厚さと各成分の含有率を求める場合には、以上の
式が、複数組の連立方程式となる。
【0054】第3実施形態の方法によっても、妨害線の
理論強度 Tj を用いて、測定強度Ii を補正するの
で、やはり、妨害線を測定できない場合等にも、より正
確な重なり補正ができる。
【0055】なお、第2、第3実施形態の方法におい
て、例えば、測定されるべき蛍光X線がP−Kα線であ
り、妨害線Mo −Ll線について理論強度を計算するた
めの定数が用意されていない場合がある。このような場
合には、算出手段16により、妨害線Mo −Ll線と同
一系列で波長の近接する蛍光X線例えばMo −Lα線の
理論強度 Tj を用いて、測定強度Ii を補正する。こ
の場合には、妨害線の理論強度または妨害線と同一系列
で波長の近接する蛍光X線の理論強度を用いて測定強度
を補正するので、妨害線を測定できない場合等であっ
て、さらに妨害線の理論強度を算出できない場合にも、
より正確な重なり補正ができる。
【0056】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、請求項1ま
たは4の発明によれば、より現実に則して、妨害成分の
含有率に関する2次式を用いて検量線を補正するので、
より正確な重なり補正ができる。
【0057】また、請求項2または5の発明によれば、
妨害線の理論強度を用いて測定強度を補正するので、妨
害線を測定できない場合等にも、より正確な重なり補正
ができる。
【0058】さらに、請求項3または6の発明によれ
ば、妨害線の理論強度またはそれら妨害線と同一系列で
波長の近接する蛍光X線の理論強度を用いて測定強度を
補正するので、妨害線を測定できない場合等であって、
さらに妨害線の理論強度を算出できない場合にも、より
正確な重なり補正ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態のX線分析方法に用いる
装置を示す正面図である。
【図2】本発明の第2または第3実施形態のX線分析方
法に用いる装置を示す正面図である。
【図3】妨害線Ni −Kβ1 線の測定線Cu −Kα線へ
の重なりの影響を銅の含有率で表したものΔCu と、ニ
ッケルの含有率の相関関係を示す図である。
【符号の説明】
1…X線源、2…1次X線、3…標準試料、6…蛍光X
線、8…試料台、10…検出手段、11…検量線記憶手
段、12…測定手段、13…分析対象試料、14…検量
線適用手段、16…算出手段。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 組成が既知で相異なる複数の標準試料に
    1次X線を照射して、標準試料中の各成分から発生する
    蛍光X線の強度を測定し、 それら測定強度と標準試料における各成分の含有率との
    相関関係を、各成分ごとに検量線としてあらかじめ求め
    ておき、 分析対象試料に1次X線を照射して、分析対象試料中の
    各成分から発生する蛍光X線の強度を測定し、 各測定強度に前記検量線を適用して、分析対象試料にお
    ける各成分の含有率を求めるX線分析方法において、 測定されるべき蛍光X線の波長帯域と少なくとも一部が
    重複する波長帯域を有する蛍光X線を妨害線とし、 それら妨害線を発生する各成分の含有率に関する2次式
    を用いて、前記検量線を補正することを特徴とするX線
    分析方法。
  2. 【請求項2】 分析対象試料に1次X線を照射して、分
    析対象試料中の各成分から発生する蛍光X線の強度を測
    定し、 それら測定強度に基づいて、分析対象試料における厚さ
    または各成分の含有率の少なくとも一方を求めるX線分
    析方法において、 測定されるべき蛍光X線の波長帯域と少なくとも一部が
    重複する波長帯域を有する蛍光X線を妨害線とし、 分析対象試料における厚さまたは各成分の含有率の少な
    くとも一方を仮定して計算した前記妨害線の理論強度を
    用いて、前記測定強度を補正することを特徴とするX線
    分析方法。
  3. 【請求項3】 分析対象試料に1次X線を照射して、分
    析対象試料中の各成分から発生する蛍光X線の強度を測
    定し、 それら測定強度に基づいて、分析対象試料における厚さ
    または各成分の含有率の少なくとも一方を求めるX線分
    析方法において、 測定されるべき蛍光X線の波長帯域と少なくとも一部が
    重複する波長帯域を有する蛍光X線を妨害線とし、 分析対象試料における厚さもしくは各成分の含有率の少
    なくとも一方を仮定して計算した前記妨害線の理論強度
    または前記妨害線と同一系列で波長の近接する蛍光X線
    の理論強度を用いて、前記測定強度を補正することを特
    徴とするX線分析方法。
  4. 【請求項4】 試料が固定される試料台と、 試料に1次X線を照射するX線源と、 試料から発生する蛍光X線の強度を測定する検出手段
    と、 組成が既知で相異なる複数の標準試料について、1次X
    線を照射したときに標準試料中の各成分から発生する蛍
    光X線の強度からあらかじめ求められた、それら強度と
    標準試料における各成分の含有率との相関関係を、各成
    分ごとに検量線として記憶する検量線記憶手段と、 分析対象試料に、前記X線源から1次X線を照射させ、
    分析対象試料中の各成分から発生する蛍光X線の強度を
    前記検出手段に測定させ、それら測定強度を記憶する測
    定手段と、 前記測定手段に記憶された測定強度に、前記検量線記憶
    手段に記憶された検量線を適用し、分析対象試料におけ
    る各成分の含有率を求める検量線適用手段とを備え、 前記検量線記憶手段に記憶された検量線は、測定される
    べき蛍光X線の波長帯域と少なくとも一部が重複する波
    長帯域を有する蛍光X線を妨害線とし、それら妨害線を
    発生する各成分の含有率に関する2次式を用いて補正さ
    れたものであるX線分析装置。
  5. 【請求項5】 試料が固定される試料台と、 試料に1次X線を照射するX線源と、 試料から発生する蛍光X線の強度を測定する検出手段
    と、 分析対象試料に、前記X線源から1次X線を照射させ、
    分析対象試料中の各成分から発生する蛍光X線の強度を
    前記検出手段に測定させ、それら測定強度を記憶する測
    定手段と、 前記測定手段に記憶された測定強度に基づいて、分析対
    象試料における厚さまたは各成分の含有率の少なくとも
    一方を求める算出手段とを備え、 前記算出手段は、測定されるべき蛍光X線の波長帯域と
    少なくとも一部が重複する波長帯域を有する蛍光X線を
    妨害線とし、分析対象試料における厚さまたは各成分の
    含有率の少なくとも一方を仮定して計算した前記妨害線
    の理論強度を用いて前記測定強度を補正するものである
    X線分析装置。
  6. 【請求項6】 試料が固定される試料台と、 試料に1次X線を照射するX線源と、 試料から発生する蛍光X線の強度を測定する検出手段
    と、 分析対象試料に、前記X線源から1次X線を照射させ、
    分析対象試料中の各成分から発生する蛍光X線の強度を
    前記検出手段に測定させ、それら測定強度を記憶する測
    定手段と、 前記測定手段に記憶された測定強度に基づいて、分析対
    象試料における厚さまたは各成分の含有率の少なくとも
    一方を求める算出手段とを備え、 前記算出手段は、測定されるべき蛍光X線の波長帯域と
    少なくとも一部が重複する波長帯域を有する蛍光X線を
    妨害線とし、分析対象試料における厚さもしくは各成分
    の含有率の少なくとも一方を仮定して計算した前記妨害
    線の理論強度または前記妨害線と同一系列で波長の近接
    する蛍光X線の理論強度を用いて前記測定強度を補正す
    るものであるX線分析装置。
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