JPH10106046A - 情報記録媒体用原盤及びその製造方法 - Google Patents
情報記録媒体用原盤及びその製造方法Info
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- JPH10106046A JPH10106046A JP8280397A JP28039796A JPH10106046A JP H10106046 A JPH10106046 A JP H10106046A JP 8280397 A JP8280397 A JP 8280397A JP 28039796 A JP28039796 A JP 28039796A JP H10106046 A JPH10106046 A JP H10106046A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ランド部のノイズを低減させグルーブ部のそ
れと同等とすることによりランド部とグルーブ部のジッ
タ差をなくした光ディスクを得る。 【解決手段】 ガラス基板１１上にフォトレジスト層１
３を設け、このフォトレジスト層１３に情報またはトラ
ッキング用のプリグルーブが記録されたＲＯＭ型あるい
はＲＡＭ型の情報記録媒体用原盤であって、少なくとも
フォトレジスト層１３の上部に平滑層１４を設けたこと
を特徴とする情報記録媒体用原盤。
れと同等とすることによりランド部とグルーブ部のジッ
タ差をなくした光ディスクを得る。 【解決手段】 ガラス基板１１上にフォトレジスト層１
３を設け、このフォトレジスト層１３に情報またはトラ
ッキング用のプリグルーブが記録されたＲＯＭ型あるい
はＲＡＭ型の情報記録媒体用原盤であって、少なくとも
フォトレジスト層１３の上部に平滑層１４を設けたこと
を特徴とする情報記録媒体用原盤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光学的に情報の再生
あるいは記録が可能な情報記録媒体（以下光ディスクと
呼ぶ）を複製する情報記録媒体用原盤及びその製造方法
に関する。
あるいは記録が可能な情報記録媒体（以下光ディスクと
呼ぶ）を複製する情報記録媒体用原盤及びその製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンパクトディスク（ＣＤ）に代表され
る光ディスクの原盤は、図１に示すようにして製造され
る。 工程（ａ）…研磨して平滑な面を形成した円盤状のガラ
ス基板１の上に、図示しない密着剤を塗布した後，例え
ばスピンコート法によりフォトレジスト層２を均一な膜
厚に塗布する。 工程（ｂ）…次にガラス基板１全体を加熱してフォトレ
ジスト層２中の有機溶剤を除去し、このフォトレジスト
層２に記録用の情報信号により変調されたレーザ光を対
物レンズにより集光する如くにして、記録手段３により
所定部分を露光する。露光のパターンは、再生専用光デ
ィスク（ＲＯＭ）の場合にはピットであり、書き換え可
能な光ディスク（ＲＡＭ）の場合にはプリグルーブかプ
リピットである。 工程（ｃ）…次にアルカリ溶液を用いて、フォトレジス
ト層２の現像を行い、露光部を溶解してピット４または
プリグルーブからなるフォトレジスト層２の凹凸パター
ンを有した原盤５を得る。 工程（ｄ）…レーザ光露光部すなわちピット部やプリグ
ルーブ部はガラス基板１表面に相当し、レーザ光未露光
部すなわちランド部はフォトレジスト層２表面に相当す
る。次にフォトレジスト層２上に、例えばスパッタリン
グ法によりニッケルの導電性膜６を形成する。 工程（ｅ）…そして、この導電性膜６を電極としてニッ
ケルを所定の厚さにメッキして、ニッケルメッキ膜７を
形成する。 工程（ｆ）…このニッケルメッキ膜７をガラス基板１よ
り剥離した後、洗浄することにより金型が完成し、この
金型に機械的強度と平坦性を保つための金属板８を裏打
ちすることによりスタンパー１０が完成する。そして、
このスタンパー１０を用いてプラスチック基板を、例え
ば射出成型することにより凹凸パターンを転写する。最
後にプラスチック基板表面の凹凸パターン上に反射層や
記録層を形成して光ディスクを得る。
る光ディスクの原盤は、図１に示すようにして製造され
る。 工程（ａ）…研磨して平滑な面を形成した円盤状のガラ
ス基板１の上に、図示しない密着剤を塗布した後，例え
ばスピンコート法によりフォトレジスト層２を均一な膜
厚に塗布する。 工程（ｂ）…次にガラス基板１全体を加熱してフォトレ
ジスト層２中の有機溶剤を除去し、このフォトレジスト
層２に記録用の情報信号により変調されたレーザ光を対
物レンズにより集光する如くにして、記録手段３により
所定部分を露光する。露光のパターンは、再生専用光デ
ィスク（ＲＯＭ）の場合にはピットであり、書き換え可
能な光ディスク（ＲＡＭ）の場合にはプリグルーブかプ
リピットである。 工程（ｃ）…次にアルカリ溶液を用いて、フォトレジス
ト層２の現像を行い、露光部を溶解してピット４または
プリグルーブからなるフォトレジスト層２の凹凸パター
ンを有した原盤５を得る。 工程（ｄ）…レーザ光露光部すなわちピット部やプリグ
ルーブ部はガラス基板１表面に相当し、レーザ光未露光
部すなわちランド部はフォトレジスト層２表面に相当す
る。次にフォトレジスト層２上に、例えばスパッタリン
グ法によりニッケルの導電性膜６を形成する。 工程（ｅ）…そして、この導電性膜６を電極としてニッ
ケルを所定の厚さにメッキして、ニッケルメッキ膜７を
形成する。 工程（ｆ）…このニッケルメッキ膜７をガラス基板１よ
り剥離した後、洗浄することにより金型が完成し、この
金型に機械的強度と平坦性を保つための金属板８を裏打
ちすることによりスタンパー１０が完成する。そして、
このスタンパー１０を用いてプラスチック基板を、例え
ば射出成型することにより凹凸パターンを転写する。最
後にプラスチック基板表面の凹凸パターン上に反射層や
記録層を形成して光ディスクを得る。
【０００３】ここで、書き換え可能な光ディスク（ＲＡ
Ｍ）についての一般的な特徴を述べる。書き換え可能な
光ディスク（ＲＡＭ）にあっては、（１）記録容量を大
きくするために従来グルーブ部にのみ記録されていたも
のをランド部とグルーブ部の両方に記録するようにした
場合、ランド部のノイズがグルーブ部のノイズよりも大
きくなり、グルーブ部に比べランド部での信号品質が低
下する。 （２）相変化型媒体を用いてランド・グルーブ記録を行
いオーバーライト回数を調べてみると、ランド部の方が
オーバーライト回数が少ないという結果が出ている。
Ｍ）についての一般的な特徴を述べる。書き換え可能な
光ディスク（ＲＡＭ）にあっては、（１）記録容量を大
きくするために従来グルーブ部にのみ記録されていたも
のをランド部とグルーブ部の両方に記録するようにした
場合、ランド部のノイズがグルーブ部のノイズよりも大
きくなり、グルーブ部に比べランド部での信号品質が低
下する。 （２）相変化型媒体を用いてランド・グルーブ記録を行
いオーバーライト回数を調べてみると、ランド部の方が
オーバーライト回数が少ないという結果が出ている。
【０００４】次に、再生専用光ディスク（ＲＯＭ）につ
いての一般的な特徴を述べる。再生専用光ディスク（Ｒ
ＯＭ）にあっては、再生レーザ光が短波長になるとピッ
トが形成されていないランド部分のノイズの影響が大き
くなる。以上の現象はランド部分の表面性が悪いことに
起因する。これは現像時にレーザ光が露光されていない
部分からもフォトレジストが溶出するためフォトレジス
ト膜面の表面のあれが大きくなり、フォトレジスト膜面
に相当する成形基板のランド部の凹凸が大きくなるため
である。一方、グルーブ部に相当するガラス面は鏡面研
磨されているので凹凸が小さい。
いての一般的な特徴を述べる。再生専用光ディスク（Ｒ
ＯＭ）にあっては、再生レーザ光が短波長になるとピッ
トが形成されていないランド部分のノイズの影響が大き
くなる。以上の現象はランド部分の表面性が悪いことに
起因する。これは現像時にレーザ光が露光されていない
部分からもフォトレジストが溶出するためフォトレジス
ト膜面の表面のあれが大きくなり、フォトレジスト膜面
に相当する成形基板のランド部の凹凸が大きくなるため
である。一方、グルーブ部に相当するガラス面は鏡面研
磨されているので凹凸が小さい。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記した如く、書き換
え可能な光ディスク（ＲＡＭ）、再生専用光ディスク
（ＲＯＭ）のいずれにあっても、ランド部のノイズが大
きくなるため実用上において問題があった。そこで、本
発明は上記の点に鑑みなされたものである。
え可能な光ディスク（ＲＡＭ）、再生専用光ディスク
（ＲＯＭ）のいずれにあっても、ランド部のノイズが大
きくなるため実用上において問題があった。そこで、本
発明は上記の点に鑑みなされたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、第１の発明として、ガラス基板上にフォト
レジスト層を設け、このフォトレジスト層に情報または
トラッキング用のプリグルーブが記録されたＲＯＭ型あ
るいはＲＡＭ型の情報記録媒体用原盤であって、 少な
くともフォトレジスト層の上部に平滑層を設けたことを
特徴とする情報記録媒体用原盤、第２の発明として、平
滑層の融点がフォトレジスト層の融点よりも低いことを
特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用原盤、第３
の発明として、平滑層がラングミュアブロジェット膜
（ＬＢ膜）であることを特徴とする請求項１に記載の情
報記録媒体用原盤、第４の発明として、グルーブ部とラ
ンド部に情報を記録することのできることを特徴とする
請求項１に記載のＲＡＭ型情報記録媒体用原盤、第５の
発明として、ガラス基板上にフォトレジスト層を設ける
工程と、上記フォトレジスト層にレーザ光によって情報
またはトラッキング用のプリグルーブを露光する工程
と、現像してフォトレジスト層に凹凸形状を形成する工
程と、少なくともフォトレジスト層の上部に平滑層を設
ける工程と、上記各工程を経て所定の情報が記録された
ガラス基板を加熱してフォトレジスト層上の平滑層を溶
融する工程からなる情報記録媒体用原盤の製造方法をそ
れぞれ提供するものである。
するために、第１の発明として、ガラス基板上にフォト
レジスト層を設け、このフォトレジスト層に情報または
トラッキング用のプリグルーブが記録されたＲＯＭ型あ
るいはＲＡＭ型の情報記録媒体用原盤であって、 少な
くともフォトレジスト層の上部に平滑層を設けたことを
特徴とする情報記録媒体用原盤、第２の発明として、平
滑層の融点がフォトレジスト層の融点よりも低いことを
特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用原盤、第３
の発明として、平滑層がラングミュアブロジェット膜
（ＬＢ膜）であることを特徴とする請求項１に記載の情
報記録媒体用原盤、第４の発明として、グルーブ部とラ
ンド部に情報を記録することのできることを特徴とする
請求項１に記載のＲＡＭ型情報記録媒体用原盤、第５の
発明として、ガラス基板上にフォトレジスト層を設ける
工程と、上記フォトレジスト層にレーザ光によって情報
またはトラッキング用のプリグルーブを露光する工程
と、現像してフォトレジスト層に凹凸形状を形成する工
程と、少なくともフォトレジスト層の上部に平滑層を設
ける工程と、上記各工程を経て所定の情報が記録された
ガラス基板を加熱してフォトレジスト層上の平滑層を溶
融する工程からなる情報記録媒体用原盤の製造方法をそ
れぞれ提供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】図２，図３はそれぞれ本発明の光
ディスク原盤の構成を示す説明図であり、図２は、全面
に平滑層を設けた場合を、図３はフォトレジスト部に平
滑層を設けた場合を示すものである。なお、以下の説明
において、工程（ａ）〜工程（ｆ）までは、従来と略同
様なのでその詳細な説明は省略する。両図において、１
１はガラス基板で、ソーダガラス（青板ガラス）が用い
られる。このソーダガラス（青板ガラス）は、表面を鏡
面研磨した後、十分に洗浄し、乾燥する。
ディスク原盤の構成を示す説明図であり、図２は、全面
に平滑層を設けた場合を、図３はフォトレジスト部に平
滑層を設けた場合を示すものである。なお、以下の説明
において、工程（ａ）〜工程（ｆ）までは、従来と略同
様なのでその詳細な説明は省略する。両図において、１
１はガラス基板で、ソーダガラス（青板ガラス）が用い
られる。このソーダガラス（青板ガラス）は、表面を鏡
面研磨した後、十分に洗浄し、乾燥する。
【０００８】次に、ガラス基板１１上に密着剤層１２を
介してフォトレジスト層１３を例えばスピンコート法に
より形成する。おおよそ８０℃に設定した図示しないオ
ーブン中にフォトレジスト層１３を形成したガラス基板
１１を放置して乾燥させる。
介してフォトレジスト層１３を例えばスピンコート法に
より形成する。おおよそ８０℃に設定した図示しないオ
ーブン中にフォトレジスト層１３を形成したガラス基板
１１を放置して乾燥させる。
【０００９】次にレーザ光１６をフォトフォトレジスト
層１３に照射して情報をピットあるいはプリグルーブと
して記録する。記録をしたガラス基板１１を図示しない
アルカリ溶液中に浸して、フォトレジスト層１３の現像
を行なう。露光部を溶解してピット部またはプリグルー
ブ部からなるフォトレジスト層１３の凹凸パターンを有
した原盤を得る。レーザ光露光部すなわちピット部やプ
リグルーブ部はガラス基板１１表面に相当し、レーザ光
未露光部すなわちランド部はフォトレジスト層１３表面
に相当する。
層１３に照射して情報をピットあるいはプリグルーブと
して記録する。記録をしたガラス基板１１を図示しない
アルカリ溶液中に浸して、フォトレジスト層１３の現像
を行なう。露光部を溶解してピット部またはプリグルー
ブ部からなるフォトレジスト層１３の凹凸パターンを有
した原盤を得る。レーザ光露光部すなわちピット部やプ
リグルーブ部はガラス基板１１表面に相当し、レーザ光
未露光部すなわちランド部はフォトレジスト層１３表面
に相当する。
【００１０】現像後のガラス基板１１の少なくとも残留
したフォトレジスト層１３の上部に平滑層１４を設け
る。この平滑層１４は、フォトレジストが溶出してガラ
ス基板１１面が露出した面に形成されてもかまわない。
好ましくはフォトレジスト層１３の上に選択性をもって
形成する。選択的に平滑層１４を形成するには、ガラス
基板１１面とフォトレジスト層１３の表面分極性の差、
すなわち親水性と疎水性の差を利用して実現できる。こ
れにより、平滑層１４はフォトレジスト層１３の表面あ
れを低減することができる。すなわち、平滑層１４は溶
出したフォトレジスト層１３表面に存在する凹凸を埋め
る役割を果たすものなのである。
したフォトレジスト層１３の上部に平滑層１４を設け
る。この平滑層１４は、フォトレジストが溶出してガラ
ス基板１１面が露出した面に形成されてもかまわない。
好ましくはフォトレジスト層１３の上に選択性をもって
形成する。選択的に平滑層１４を形成するには、ガラス
基板１１面とフォトレジスト層１３の表面分極性の差、
すなわち親水性と疎水性の差を利用して実現できる。こ
れにより、平滑層１４はフォトレジスト層１３の表面あ
れを低減することができる。すなわち、平滑層１４は溶
出したフォトレジスト層１３表面に存在する凹凸を埋め
る役割を果たすものなのである。
【００１１】平滑層１４の材料は、金属、半金属・半導
体、有機物材料、高分子等が選ばれ、その膜厚は１〜５
０ｎｍが好ましい。金属としては、Ｉｎ、Ｇａ、Ｐｂ
等、半金属としてはＳｎまたは金属と半金属の混合物た
とえばハンダのような合金等があげられる。成膜方法
は、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、モ
レキュラビームエピタクシ（ＭＢＥ）等の真空成膜が好
ましい。
体、有機物材料、高分子等が選ばれ、その膜厚は１〜５
０ｎｍが好ましい。金属としては、Ｉｎ、Ｇａ、Ｐｂ
等、半金属としてはＳｎまたは金属と半金属の混合物た
とえばハンダのような合金等があげられる。成膜方法
は、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、モ
レキュラビームエピタクシ（ＭＢＥ）等の真空成膜が好
ましい。
【００１２】有機物材料としては前記の真空成膜法で膜
形成が可能な材料が選ばれる。ビスフェノルーＡ、グア
ニン、フタロシアニン等の有機化合物や、ポリエチレ
ン、アクリル樹脂、ポリカーボネイト等の高分子が選ば
れる。さらに、選択的にフォトレジスト層１３に平滑層
１４を形成するには、ガラス基板１１面とフォトレジス
ト層１３の表面分極性の差、すなわち親水性と疎水性の
差を利用して実現できる。そのためにはラングミュアブ
ロジェト（ＬＢ）法を用いるのが好ましい。
形成が可能な材料が選ばれる。ビスフェノルーＡ、グア
ニン、フタロシアニン等の有機化合物や、ポリエチレ
ン、アクリル樹脂、ポリカーボネイト等の高分子が選ば
れる。さらに、選択的にフォトレジスト層１３に平滑層
１４を形成するには、ガラス基板１１面とフォトレジス
ト層１３の表面分極性の差、すなわち親水性と疎水性の
差を利用して実現できる。そのためにはラングミュアブ
ロジェト（ＬＢ）法を用いるのが好ましい。
【００１３】現像後のガラス基板１において、露光部は
フォトレジスト層１３フォトレジストが溶出するが密着
剤層１２は溶解しないため密着剤界面が露出する。この
密着剤界面は疎水性である。一方、未露光のフォトレジ
スト層１３もアルカリ現像液に侵され、フォトレジスト
層１３表面は親水性となる。つまり、フォトレジストが
除去された部分と残留した部分とで表面性が異なること
になる。この現像後のガラス基板１１上に親水基と疎水
基からなるラングミュアブロジェト膜を写し取ると選択
的に親水性のフォトレジスト部にＬＢ膜の親水基を頭に
して累積することができる。
フォトレジスト層１３フォトレジストが溶出するが密着
剤層１２は溶解しないため密着剤界面が露出する。この
密着剤界面は疎水性である。一方、未露光のフォトレジ
スト層１３もアルカリ現像液に侵され、フォトレジスト
層１３表面は親水性となる。つまり、フォトレジストが
除去された部分と残留した部分とで表面性が異なること
になる。この現像後のガラス基板１１上に親水基と疎水
基からなるラングミュアブロジェト膜を写し取ると選択
的に親水性のフォトレジスト部にＬＢ膜の親水基を頭に
して累積することができる。
【００１４】ＬＢ膜は次のようにして作製する。平滑層
１４材料は、疎水性の炭化水素鎖と親水性のカルボキシ
ル基から成り立つ。たとえばパルミチン酸、ステアリン
酸、アラキン酸等の高級脂肪酸、長鎖メロシアニン、フ
タロシアニン、蛋白質等から選択される。平滑層１４材
料を有機溶剤に溶解し、水槽の水面に滴下する。有機溶
剤は蒸発し、平滑層１４材料が水面上に展開し、この膜
の面積を小さくするように圧縮すると平滑層１４材料の
単分子膜ができあがる。ガラス基板１１を水槽に浸し平
滑層１４のＬＢ膜を写し取る。平滑層１４の膜厚を増や
すにはガラス基板１１を何回か水槽に浸し、ＬＢ膜を累
積する。今までとは逆に、フォトレジスト層１３を疎水
性にガラス基板１１面を親水性にし、ＬＢ膜からなる平
滑層１４の疎水基を選択的にフォトレジスト層１３に形
成してもよい。
１４材料は、疎水性の炭化水素鎖と親水性のカルボキシ
ル基から成り立つ。たとえばパルミチン酸、ステアリン
酸、アラキン酸等の高級脂肪酸、長鎖メロシアニン、フ
タロシアニン、蛋白質等から選択される。平滑層１４材
料を有機溶剤に溶解し、水槽の水面に滴下する。有機溶
剤は蒸発し、平滑層１４材料が水面上に展開し、この膜
の面積を小さくするように圧縮すると平滑層１４材料の
単分子膜ができあがる。ガラス基板１１を水槽に浸し平
滑層１４のＬＢ膜を写し取る。平滑層１４の膜厚を増や
すにはガラス基板１１を何回か水槽に浸し、ＬＢ膜を累
積する。今までとは逆に、フォトレジスト層１３を疎水
性にガラス基板１１面を親水性にし、ＬＢ膜からなる平
滑層１４の疎水基を選択的にフォトレジスト層１３に形
成してもよい。
【００１５】ガラス基板１１に平滑層１４を形成した
後、必要に応じて加熱を行う。平滑層１４をフォトレジ
スト層１３に設けるだけでフォトレジスト層１３の凹凸
が減少する場合もあるが、より凹凸を減少するには、平
滑層１４を溶解、流動させるとよい。平滑層１４材料の
融点以上でフォトレジスト層１３の熱変形温度以下にガ
ラス基板１１を加熱することにより実現できる。
後、必要に応じて加熱を行う。平滑層１４をフォトレジ
スト層１３に設けるだけでフォトレジスト層１３の凹凸
が減少する場合もあるが、より凹凸を減少するには、平
滑層１４を溶解、流動させるとよい。平滑層１４材料の
融点以上でフォトレジスト層１３の熱変形温度以下にガ
ラス基板１１を加熱することにより実現できる。
【００１６】この後は、従来の方法で成型基板を得る。
すなわち、平滑層１４上に例えば、スパッタリング法に
よりニッケルの導電性膜６を形成し、この導電性膜６を
電極としてニッケルを所定の厚さにメッキしてニッケル
メッキ膜７を形成する。このニッケルメッキ膜７をガラ
ス基板１１より剥離した後、洗浄することにより金型が
完成し、この金型に機械的強度と平坦性を保つための金
属板８を裏打ちすることによりスタンパー１０が完成す
る。そして、このスタンパー１０を用いてプラスチック
基板を、例えば射出成型することにより凹凸パターンを
転写する。最後にプラスチック基板表面の凹凸パターン
上に反射層や記録層を形成して光ディスクを得る。
すなわち、平滑層１４上に例えば、スパッタリング法に
よりニッケルの導電性膜６を形成し、この導電性膜６を
電極としてニッケルを所定の厚さにメッキしてニッケル
メッキ膜７を形成する。このニッケルメッキ膜７をガラ
ス基板１１より剥離した後、洗浄することにより金型が
完成し、この金型に機械的強度と平坦性を保つための金
属板８を裏打ちすることによりスタンパー１０が完成す
る。そして、このスタンパー１０を用いてプラスチック
基板を、例えば射出成型することにより凹凸パターンを
転写する。最後にプラスチック基板表面の凹凸パターン
上に反射層や記録層を形成して光ディスクを得る。
【００１７】＜実施例＞青板ガラス基板１１を研磨剤で
鏡面研磨したのち、超音波洗浄機で十分に洗浄する。青
板ガラス基板１１表面に密着剤層１２としてヘキサメチ
レンジシラザン層を形成する。密着材層上１２にノボラ
ック系のポジ型フォトレジストをスピンコート法により
８０ｎｍ形成する。８０℃に設定したオーブン中にフォ
トレジストを設けた青板ガラス基板１１を放置して乾燥
させる。次に波長４１３ｎｍのクリプトンレーザ光をフ
ォトレジスト層に照射してトラックピッチ1.6 μｍでラ
ンド幅とグルーブ幅の割合が５２：４８のプリグルーブ
を記録する。記録をした青板ガラス基板１１を０．２規
定の水酸化カリウム溶液中に浸して、フォトレジストの
現像を行なう。水槽にステアリン酸ＬＢ膜を展開し、現
像後の青板ガラス基板１１を水面に対し垂直に浸し、ス
テアリン酸ＬＢ膜を青板ガラス基板１１表面に形成す
る。次に上記各工程を経て所定の情報が記録された青板
ガラス基板１１を７５℃に加熱し本発明の光ディスク用
原盤を得る。この光ディスク用原盤からポリカーボネイ
ト製の成型基板を作製し、相変化媒体を成膜した。ラン
ド部とグルーブ部のノイズレベルを測定したところ同等
であった。さらにオーバーライト回数も同じであった。
鏡面研磨したのち、超音波洗浄機で十分に洗浄する。青
板ガラス基板１１表面に密着剤層１２としてヘキサメチ
レンジシラザン層を形成する。密着材層上１２にノボラ
ック系のポジ型フォトレジストをスピンコート法により
８０ｎｍ形成する。８０℃に設定したオーブン中にフォ
トレジストを設けた青板ガラス基板１１を放置して乾燥
させる。次に波長４１３ｎｍのクリプトンレーザ光をフ
ォトレジスト層に照射してトラックピッチ1.6 μｍでラ
ンド幅とグルーブ幅の割合が５２：４８のプリグルーブ
を記録する。記録をした青板ガラス基板１１を０．２規
定の水酸化カリウム溶液中に浸して、フォトレジストの
現像を行なう。水槽にステアリン酸ＬＢ膜を展開し、現
像後の青板ガラス基板１１を水面に対し垂直に浸し、ス
テアリン酸ＬＢ膜を青板ガラス基板１１表面に形成す
る。次に上記各工程を経て所定の情報が記録された青板
ガラス基板１１を７５℃に加熱し本発明の光ディスク用
原盤を得る。この光ディスク用原盤からポリカーボネイ
ト製の成型基板を作製し、相変化媒体を成膜した。ラン
ド部とグルーブ部のノイズレベルを測定したところ同等
であった。さらにオーバーライト回数も同じであった。
【００１８】
【発明の効果】本発明の光ディスク用原盤を用いてポリ
カーボネイト製の成型基板を作製して光ディスクの評価
を行ったところ次のような効果が認められた。 ＲＡＭディスク （１）ランドのノイズがグルーブのノイズと同等にな
り、グルーブとランドのジッタ差がなくなる。 （２）成型基板上に相変化型媒体を設けてランド・グル
ーブ記録を行いオーバーライト回数を調べると、ランド
とグルーブの差がなくなった。
カーボネイト製の成型基板を作製して光ディスクの評価
を行ったところ次のような効果が認められた。 ＲＡＭディスク （１）ランドのノイズがグルーブのノイズと同等にな
り、グルーブとランドのジッタ差がなくなる。 （２）成型基板上に相変化型媒体を設けてランド・グル
ーブ記録を行いオーバーライト回数を調べると、ランド
とグルーブの差がなくなった。
【図１】従来の光ディスク原盤の製造工程図である。
【図２】本発明になる光ディスク用原盤の説明図であ
る。
る。
【図３】本発明になる光ディスク用原盤の他の説明図で
ある。
ある。
１１ ガラス基板 １３ フォトレジスト層 １４ 平滑層
Claims (5)
- 【請求項１】ガラス基板上にフォトレジスト層を設け、
このフォトレジスト層に情報またはトラッキング用のプ
リグルーブが記録されたＲＯＭ型あるいはＲＡＭ型の情
報記録媒体用原盤であって、 少なくともフォトレジスト層の上部に平滑層を設けたこ
とを特徴とする情報記録媒体用原盤。 - 【請求項２】平滑層の融点がフォトレジスト層の融点よ
りも低いことを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒
体用原盤。 - 【請求項３】平滑層がラングミュアブロジェット膜（Ｌ
Ｂ膜）であることを特徴とする請求項１に記載の情報記
録媒体用原盤。 - 【請求項４】グルーブ部とランド部に情報を記録するこ
とのできることを特徴とする請求項１に記載のＲＡＭ型
情報記録媒体用原盤。 - 【請求項５】ガラス基板上にフォトレジスト層を設ける
工程と、上記フォトレジスト層にレーザ光によって情報
またはトラッキング用のプリグルーブを露光する工程
と、現像してフォトレジスト層に凹凸形状を形成する工
程と、少なくともフォトレジスト層の上部に平滑層を設
ける工程と、上記各工程を経て所定の情報が記録された
ガラス基板を加熱してフォトレジスト層上の平滑層を溶
融する工程からなる情報記録媒体用原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8280397A JPH10106046A (ja) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | 情報記録媒体用原盤及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8280397A JPH10106046A (ja) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | 情報記録媒体用原盤及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10106046A true JPH10106046A (ja) | 1998-04-24 |
Family
ID=17624466
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8280397A Pending JPH10106046A (ja) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | 情報記録媒体用原盤及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10106046A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005004839A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Hitachi Maxell Ltd | 基板成形用スタンパ、基板成形用ガラス原盤、光記録媒体用樹脂基板、光記録媒体及び基板成形用スタンパの製造方法。 |
-
1996
- 1996-09-30 JP JP8280397A patent/JPH10106046A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005004839A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Hitachi Maxell Ltd | 基板成形用スタンパ、基板成形用ガラス原盤、光記録媒体用樹脂基板、光記録媒体及び基板成形用スタンパの製造方法。 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040624 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040706 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20041116 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |