JPH08180457A - 光ディスク及びその製造方法 - Google Patents

光ディスク及びその製造方法

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JPH08180457A
JPH08180457A JP6338875A JP33887594A JPH08180457A JP H08180457 A JPH08180457 A JP H08180457A JP 6338875 A JP6338875 A JP 6338875A JP 33887594 A JP33887594 A JP 33887594A JP H08180457 A JPH08180457 A JP H08180457A
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stamper
manufacturing
optical disk
disk
pits
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Shinichi Katsuta
伸一 勝田
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NEC Corp
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 既存のレプリカ・ディスクの製造に関わる一
連の工程には大きな変更を加えることなく、光ディスク
の高密度化及び高速作成を可能とする。 【構成】 突起部分に粉末体を付着させたスタンパ1を
光ディスクの透明板3の表面上に接触させ、粉末体を透
明板3の表面上に転写してピット2を形成したレプリカ
・ディスクを作成し、さらに、このレプリカ・ディスク
上に、反射膜4,保護層5を形成した光ディスクとして
ある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、原盤であるスタンパに
よりピットを形成して製造される光ディスク及びその製
造方法に関し、特に、高密度化及び高速作成が可能な光
ディスク及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年の情報化社会の進展は、組織,個人
ともに取り扱う情報,データの量を飛躍的に増大させ
た。このような膨大な量の情報,データを簡易,迅速に
処理するためのメモリ媒体として、光ディスクが開発さ
れている。
【0003】光ディスクは、磁気ディスク,磁気テープ
等の他のメモリ媒体に比較して、記録密度が高く、不揮
発性に優れ、情報アクセスも短時間で行なえ、かつ、大
量複製(レプリカ・ディスクの製造)も容易であること
から、急速に開発,普及が進んでいる。現在では、再生
専用のROM媒体型、記録可能タイプの追記型,書換型
等、用途に応じたタイプのものが開発され、各方面で使
用されている。
【0004】このような光ディスクは、一般に、スタン
パと呼ばれるデータを記録した原盤を作成し、このスタ
ンパを用いて、合成樹脂基板等からなるディスクの板面
上に凹状あるいは溝状のピット(穴)を形成したレプリ
カ・ディスクを製造することにより、大量に複製され、
提供されている。
【0005】ここで、光ディスクの原盤となるスタンパ
は、以下の工程により作成される。 まず、原盤となるガラス円板にフォトレジスト(感光
性樹脂)を塗布し、これを回転させながら直径1μm弱
のレーザ光スポットをマスタリング光源から照射し、必
要な情報等を露光記録する。このとき、光スポットは、
半径方向に一定速度で移動するので、円板上にはスパイ
ラル状の露光跡(潜像)ができる(通常、このピッチは
1.6μm程度である)。 次いで、これを現像する。現像すると、露光された部
分のフォトレジストが現像液により溶け出すので、ディ
スク板面上には凹凸状のピットの列(トラック)ができ
る。これに金属を蒸着した後、再生して記録状態、傷な
どによる欠陥状態などをチェックする。 最後に、でき上がった原盤にニッケルメッキを施し、
スタンパが完成する。
【0006】このようにして完成したスタンパは情報,
データ等が凹凸状となって記録され、これを原盤とし
て、プラスチック成形等の方法により大量のレプリカ・
ディスクが製造される。ここで、レプリカ・ディスクの
製造方法としては、ピットの形成方法の違いにより、射
出成形法と、2P(Photo-polymer)法とに大別され
る。
【0007】図3は、量産性の光ディスクで広く用いら
れている射出成形によるレプリカ・ディスクの作製法を
示す概略図である。この図に示すように、射出成形法に
よるレプリカ作製法は、図示しない金型内にスタンパ1
を設置し、これに溶融したプラスチック樹脂10(主に
ポリカーボネート)を射出成形機により注入し、圧縮,
冷却の工程を経て(図3(a)に示す状態)、これを金
型から取り出し作製するもので、スタンパ1の凹凸がそ
のままプラスチック基板にピット10aとして転写され
る(図3(b)参照)。
【0008】一方、大型径や特殊使用等の比較的小量ロ
ットの光ディスクの生産には、図4に示すような2P法
が用いられる。この2P法は、紫外線硬化型樹脂20を
透明板3とスタンパ1との間に配設して三者を重ね合わ
せ(図4(a)の状態)、これを透明板3側より硬化性
光源30にて照射し、樹脂が硬化した後にスタンパ1を
はがし取り、ピット20aを形成するという方法であ
る。
【0009】すなわち、図4(a)に示すように、ガラ
ス,プラスチックなどの透明な基板3にPhoto-polymer
(紫外線硬化樹脂)20を塗布したものをスタンパ1に
押し付け、これに紫外線を照射して樹脂を硬化させ、ピ
ット20aを形成するというものである。
【0010】これらの各方法で原盤のピット列を転写し
たレプリカ・ディスクは、その後、ディスクの各タイプ
に応じて、追記・書換型であれば記録膜が、再生専用型
であれば反射膜が蒸着され、さらに、透明の保護層等の
組み立て(ディスク化)が行なわれ、最終の光ディスク
になる。
【0011】これらの方法は、いずれもスタンパ表面に
形成されている凹凸の物理的形状をそのまま転写する方
法で、この凹凸を再生光源により読み取り、再生が行な
われる。このような光ディスクは位相差再生ディスクと
呼ばれ、同一のレプリカ・ディスクを大量に生産する場
合に適している。このような位相差再生型の光ディスク
の製造方法に関する技術としては、特開昭62−287
448号の公報に記載の情報記録媒体の複製方法があ
る。
【0012】ところで、このような光ディスクは、近年
の急激な需要増大に伴い、製造コストの低減化及び短納
期での製作が要請される一方、高密度,大容量といわれ
る光ディスクにおいても、さらなる高密度化,大容量化
が要求されつつある。特に、画像情報を扱おうとする場
合、データは膨大となり、従来の片面300MB(例え
ば、情報用130mm追記型,書換型ディスク),片面
540MB(コンパクト・ディスク),片面600MB
(CD−ROM)といった光ディスクでは容量不足とな
ってしまう。
【0013】このため、ディスク片面あたりの容量の増
大化が求められるが、これを達成するためには、形成さ
れるピット(あるいは溝)自体の幅を細くして、多数の
ピットをディスク面上に形成する必要がある。しかしな
がら、上述した従来の光ディスクのピット構造では、ス
タンパの凹凸をそのまま写しとる位相差再生型のため、
物理的に見て微細化には限界があり、容量不足を解消す
ることは困難であった。
【0014】そこで、このような光ディスク上に形成さ
れるピットパターンの微細化を図るべく、特開平1−0
98142号の公報では、非線形光学素子を用いて波長
を短くした光源を使用してスタンパを露光する光ディス
クマスタリング装置が提案されている。
【0015】また、特開平1−317241号公報で
は、従来の光退色性層の問題点を指摘し、これをプロセ
ス上から改善すべく、フォトレジスト膜表面を露光前に
現像液に曝して表面に難溶化層を形成することでピット
の微細化を図るという光ディスク原盤作成法が提案され
ている。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
各公報に記載の技術は、いずれも、従来方法を原則とし
てそのまま踏襲し、そのプロセス面のみからピットの微
細化を図ろうとするものであるため、露光現像に関わる
温度,時間の管理等が厳しくなる割には、一定以上の微
細化には対応できないという問題があった。
【0017】なお、最近、原盤であるスタンパに露光記
録を行なうマスタリング光源を短波長化することによる
ピットの微細化の試みがなされている。これは、これま
でマスタリング光源として主に使用されてきた可視光
(例えばAr:457.9nm等)に代えて、より短波
長のUV光(例えばAr363.8nm等)を用いるこ
とにより、微細な集束ビームスポットを形成しようとす
るもので、発表例としては、Joint International Symp
osium on Optical Memoryand Optical Data Storage 19
93, HawaiiのP38,P44等にて発表されたものがあ
る。
【0018】ディスクの高密度化はもちろんのこと、こ
のような再生系の高密度技術も不可欠ではある。しかし
ながら、再生光源の短波長化に関しては、品質,システ
ムの大型化等が必要となる点よりして、ガスレーザーに
代表される大型光源を搭載することは事実上困難であ
り、またコスト面から見ても現実的ではない。
【0019】この点、同様に再生系の高密度技術ではあ
るが、光の超解像を用いた光学系は、小型かつ低価格
で、また従来からの信頼性の高い光源を用いることがで
きる等の多くの利点を有している。
【0020】しかし、この光の超解像を用いた光学系に
も、信号のサイドローブの回り込みが信号品質の劣化を
招くという問題があり、これを回避するには、サイドロ
ーブを分離するフィルターやディテクター前にピンホー
ル等を設ける必要があった。
【0021】また、そのようにサイドローブの解消を図
ったとしても、上述したような位相を使って再生を行な
う現状のCD−ROM等の光ディスクでは、ディスク自
体が必ずしも超解像による光学系のような高密度の再生
系を十分に活かすレベルまでに至っていないため、ディ
スク側の改善が必要となってくる。
【0022】すなわち、昨今の急激な高度情報化の進行
により、従来の凹凸を形成するような光ディスクのプレ
ス工程に代わる、より高速転写が可能な製造工程、及び
超解像再生に対応した、位相差再生型でない反射,吸収
による新たなディスク媒体の構成が求められるに至って
いる。
【0023】本発明は、このような従来の各技術が有す
る問題を解決するために提案されたものであり、既存の
レプリカ・ディスクの製造に関わる一連の工程には大き
な変更を加えることなく、高密度化及び高速作成が可能
な光ディスク及びその製造方法の提供を目的とする。
【0024】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の請求項1記載の光ディスクは、ピットを、反射
膜と反射率の異なる材質からなる粉末体により形成した
構成としてある。
【0025】また、請求項2記載の光ディスクは、前記
ピットをカーボン粉末により形成した構成としてある。
【0026】また、請求項3記載の光ディスクは、前記
カーボン粉末の粒径を100〜500オングストローム
とした構成としてある。
【0027】また、請求項4記載の光ディスクは、前記
ピットを磁性粉末により形成した構成としてある。
【0028】また、請求項5記載の光ディスクは、前記
ピットを酸化鉄により形成した構成としてある。
【0029】また、請求項6記載の光ディスクの製造方
法は、請求項1〜5のいずれか1項に記載した光ディス
クの製造方法であって、スタンパの突起部分に前記粉末
体を付着させ、このスタンパを光ディスクの透明板面上
に接触させることによって、前記粉末体を前記透明板面
上に転写してピットを形成したレプリカ・ディスクを作
成し、さらに、このレプリカ・ディスク上に、反射膜を
形成した光ディスクの製造方法としてある。
【0030】また、請求項7記載の光ディスクの製造方
法は、請求項4〜5のいずれか1項に記載した光ディス
クの製造方法であって、スタンパに磁界を加えて前記ス
タンパの突起部分に前記磁性粉末を吸着させ、このスタ
ンパを光ディスクの透明板面上に接触させるとともに、
透明板に磁界を加えることによって前記磁性粉末を前記
透明板面上に転写してピットを形成したレプリカ・ディ
スクを作成し、さらに、このレプリカ・ディスク上に、
反射膜を形成した光ディスクの製造方法としてある。
【0031】さらに、請求項8記載の光ディスクの製造
方法は、請求項6又は7記載の光ディスクの製造方法で
あって、前記粉末体が、有機溶剤を含むバインダーに分
散された光ディスクの製造方法としてある。
【0032】
【作用】上記構成からなる本発明の光ディスク及びその
製造方法によれば、ピットを物理的凹凸ではなくカーボ
ン,酸化鉄等の粉末を光ディスクの板面上に付着させる
ことによりレプリカ・ディスクを作成するため、より高
密度な記録が可能となるとともに、より高速でレプリカ
・ディスクを製造することができる。
【0033】
【実施例】以下、本発明の光ディスク及び製造方法の第
一の実施例について、図面を参照して説明する。図1
は、本実施例に係る製造方法を実施するための各構成要
素及び本製造方法の各工程を示す概略図である。
【0034】まず、本実施例における製造方法を実施す
るための各構成要素について、図1を参照しつつ説明す
る。同図において、1は情報,データ等を記録した原盤
をニッケルメッキして作成したマスターあるいはマザー
としてのスタンパである。なお、スタンパの作成につい
ては、上述した従来方法と同様の工程により作成され
る。
【0035】2はピットで、本実施例においてはカーボ
ン粉末により構成してあり、スタンパ1の各突起部分に
付着され、スタンパ1が透明板3に圧着されることで、
透明板3の表面に接触,転写される。
【0036】ここで、このピット2を構成するカーボン
粉末の粒径としては、一般には、細かければ細かい程
(例えば1000オングストローム)よいと考えらる
が、余りに微細な粒径のカーボン粉末の場合、凝集して
しまうことがあり、かえって均一化が図れないおそれが
あることから、100〜500オングストローム程度の
ものが望ましい。
【0037】光ディスクを構成する透明板3は、通常、
ポリカーボネート,ガラスあるいはポリオレフィン,ア
クリル等の材質により形成してある。また、ピット上に
形成される反射膜4は、通常、アルミニウム合金が用い
られる。さらに、反射膜4上に形成される保護層5とし
ては、アクリレート系あるいはウレタン系の紫外線硬化
樹脂が用いられる。
【0038】次に、本実施例の光ディスクの製造方法に
ついて、図1を参照して説明する。本実施例に係る光デ
ィスクは、完成したスタンパ1をマスターあるいはマザ
ーとして、以下のようにして作成される。まず、スタン
パ1の各突起部分の表面にカーボン粉末を塗布し、付着
させる。
【0039】この場合、必要に応じて、カーボン粉末を
有機溶剤を含むバインダーに分散させておくと、スタン
パ1への付着が均一化され、より好ましい。この状態
で、スタンパ1を透明板3に圧着して接触させ、カーボ
ン粉末を透明板3上に転写し、透明板3の表面上にピッ
ト3を形成する。
【0040】その後、カーボン粉末によりピットが形成
された透明板3の表面上には、上述した従来の光ディス
クの製造方法と同様に、アルミニウム合金による反射膜
4をスパッタリングにより形成するとともに、ピット面
を保護するため、紫外線硬化型樹脂からなる保護層5を
スピンコーターにて塗布し、紫外線にて硬化させること
でディスク化する。また、必要に応じて、保護層5の表
面にタイトル等のレーベル印刷も行なう。
【0041】このようにしてピットが形成された光ディ
スクは、ディスク上のアルミニウム等の反射膜とカーボ
ン粉末からなるピットとのコントラスト、すなわち、反
射膜とピットの反射率の相違により、従来の光ディスク
のような物理的凹凸形状による位相差によることなく再
生が可能となる。
【0042】このように本実施例の製造方法によれば、
従来の光ディスクの製造工程を変更することなく、従来
の光ディスクと比較してより高速でレプリカ・ディスク
の作成が行なえるとともに、物理的凹凸ではなく粉末を
付着させることによりピットを形成するため、より高密
度な記録が可能となる。
【0043】また、ピットが凹凸構造によらないため、
従来、超解像による再生時に問題となっていた位相ピッ
トによるサイドローブの回り込みも解消することがで
き、従来の光源をそのまま用いることが可能となる。従
って、短波長光源を使用することに比較して、光源自体
の低価格化を図ることができ、また、検出ディテクター
の短波長化にともなう感度の低下等の問題もなくなる。
【0044】次に、本発明の光ディスク及びその製造方
法の第二の実施例について、図2を参照して説明する。
図2は、本実施例に係る製造方法を実施するための各構
成要素及び本製造方法の各工程を示す概略図である。同
図に示すように、本実施例においては、ピットの透明板
へのより密着した転写を行なうため、ピット形成に際し
て磁性粉末と電磁石を用いた方法を採用している。
【0045】一般に、微細な粉末は、凝集して大きく固
まろうとする傾向があり、これを防止する手段としてバ
インダー等への分散技術があるが、これはノウハウの多
い領域であり、製造技術に特殊性を有する。しかしなが
ら、磁性粉末、特に酸化鉄(Fe204やγヘマタイト
Fe304)については、比較的古くから均一化の手段
が確立されており、ポリエステルを中心とした高分子フ
ィルムの分野等で用いられている。
【0046】例えば、磁気テープにおける分散技術とし
ては、1μm以下の微小な酸化鉄を凝集させることな
く、工業的に安定して分散させて記録材料をポリエステ
ルに代表される高分子フィルム上に均一に塗布する工程
がおこなわれている。
【0047】本実施例では、このような磁性粉末の均一
化の技術をピット形成に応用したものである。すなわ
ち、図2に示すように、強磁性体であるニッケルからな
るスタンパ1に、電磁石4を介して磁界を与え、均一化
した磁性粉末により形成したピット2aを、一度スタン
パ1側に吸着させ(図2(a)の状態)、その後、透明
板3側から電磁石5を介して磁界を与えるとともに、ス
タンパ1を消磁して、スタンパ1上の磁性粉末からなる
ピット2aを引き寄せ、透明板3の表面に転写させる方
法である(図2(b)の状態)。
【0048】スタンパ1を形成するニッケルが強磁性体
であることから、電磁石6を介して図示しない磁性粉体
分散済みバインダーをスタンパ突起部に吸着させ、その
後、スタンパ1の突起部先端に付着している磁性粉体を
透明板3に押し付け、逆方向から電磁石7により転写を
行なうことにより、磁性粉体の付着によるピット2aの
形成を確実ならしめるものである。
【0049】これにより、均一な磁性粉体がピット2a
として透明板3に転写される。転写後の反射膜、保護層
の形成に関しては、前記第一の実施例と同様にして行な
う。
【0050】なお、スタンパ1については、その作成工
程において、露光後にニッケル導電膜をスパッタ等の真
空薄膜作成技術により形成し、電鋳工程と呼ばれる鍍金
工程により、約300μmものニッケル合金膜を作成
し、これを内外周,裏面等の加工を行なっておくこと
が、より好ましい。
【0051】このように、本実施例の光ディスクの製造
方法によれば、上述した第一の実施例と比較して、より
高速かつ確実にピット形成を行なうことができる。
【0052】
【発明の効果】以上説明したように本発明の光ディスク
及びその製造方法によれば、既存の光ディスクの製造工
程に関わる一連のプロセスに関して大きな変更を行なう
ことなく、光ディスクの高密度化及び高速作成が可能と
なる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施例に係る光ディスクの製造
方法を実施するための各構成要素及びその製造方法の各
工程を示す概略図である。
【図2】本発明の第二の実施例に係る光ディスクの製造
方法を実施するための各構成要素及びその製造方法の各
工程を示す概略図である。
【図3】従来の光ディスクの製造方法を実施するための
各構成要素及びその製造方法の各工程を示す概略図であ
る。
【図4】従来の光ディスクの他の製造方法を実施するた
めの各構成要素及びその製造方法の各工程を示す概略図
である。
【符号の説明】
1…スタンパ 2…ピット 2a…ピット 3…透明板 4…反射膜 5…保護層 6…電磁石 7…電磁石 10…プラスチック樹脂 20…紫外線硬化樹脂 30…硬化性光源

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ピットを、反射膜と反射率の異なる材質
    からなる粉末体により形成したことを特徴とする光ディ
    スク。
  2. 【請求項2】 前記ピットをカーボン粉末により形成し
    た請求項1記載の光ディスク。
  3. 【請求項3】 前記カーボン粉末の粒径を100〜50
    0オングストロームとした請求項2記載の光ディスク。
  4. 【請求項4】 前記ピットを磁性粉末により形成した請
    求項1記載の光ディスク。
  5. 【請求項5】 前記ピットを酸化鉄により形成した請求
    項1記載の光ディスク。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項に記載した
    光ディスクを製造する方法であって、 スタンパの突起部分に前記粉末体を付着させ、 このスタンパを光ディスクの透明板面上に接触させるこ
    とによって、前記粉末体を前記透明板面上に転写してピ
    ットを形成したレプリカ・ディスクを作成し、 さらに、このレプリカ・ディスク上に反射膜を形成し
    て、 光ディスクを製造することを特徴とした光ディスクの製
    造方法。
  7. 【請求項7】 請求項4〜5のいずれか1項に記載した
    光ディスクを製造する方法であって、 スタンパに磁界を加えて前記スタンパの突起部分に前記
    磁性粉末を吸着させ、 このスタンパを光ディスクの透明板面上に接触させると
    ともに、透明板に磁界を加えることによって前記磁性粉
    末を前記透明板面上に転写してピットを形成したレプリ
    カ・ディスクを作成し、 さらに、このレプリカ・ディスク上に反射膜を形成し
    て、 光ディスクを製造することとした光ディスクの製造方
    法。
  8. 【請求項8】 前記粉末体が、有機溶剤を含むバインダ
    ーに分散された請求項6又は7記載の光ディスクの製造
    方法。
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Cited By (4)

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