JPH0972804A - 半導体圧力センサ - Google Patents

半導体圧力センサ

Info

Publication number
JPH0972804A
JPH0972804A JP7226372A JP22637295A JPH0972804A JP H0972804 A JPH0972804 A JP H0972804A JP 7226372 A JP7226372 A JP 7226372A JP 22637295 A JP22637295 A JP 22637295A JP H0972804 A JPH0972804 A JP H0972804A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure sensor
diaphragm
sensor chip
corner
semiconductor pressure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7226372A
Other languages
English (en)
Inventor
Motomi Ichihashi
素海 市橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP7226372A priority Critical patent/JPH0972804A/ja
Priority to US08/579,672 priority patent/US5637801A/en
Priority to DE19603279A priority patent/DE19603279C2/de
Priority to KR1019960005690A priority patent/KR0182780B1/ko
Publication of JPH0972804A publication Critical patent/JPH0972804A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/52Mounting semiconductor bodies in containers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/14Housings
    • G01L19/147Details about the mounting of the sensor to support or covering means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/84Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by variation of applied mechanical force, e.g. of pressure
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/53Means to assemble or disassemble
    • Y10T29/5313Means to assemble electrical device
    • Y10T29/53174Means to fasten electrical component to wiring board, base, or substrate
    • Y10T29/53178Chip component

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 圧力を検出するダイヤフラムを中央に設けた
圧力センサチップと、該ダイヤフラムへ圧力を導く導圧
口を設けたダイ部とからなる半導体圧力センサにおい
て、上記圧力センサチップと上記ダイ部を接着する接着
樹脂のダイヤフラム部への這いあがりのため、半導体圧
力センサの特性が低下する問題があった。 【解決手段】 本発明の半導体圧力センサにおいて、圧
力センサチップとダイ部を接着する接着樹脂のダイヤフ
ラムへの這いあがりを防止するために防止溝を上記圧力
センサチップ上の上記ダイヤフラム周辺部に設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、圧力検出素子を樹
脂にて接着固定する半導体圧力センサに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】図9は従来技術の半導体圧力センサを示
す。図9は、圧力を電気的信号に変換する圧力センサチ
ップ91の裏面図を示し、圧力センサチップ91の中央
部には圧力による応力を大きくして検出するためのダイ
ヤフラム92という薄肉部を設けている。ダイヤフラム
92の表面側には4本の抵抗(図示せず)によりブリッ
ジ回路が構成されており、ダイヤフラム92に発生する
応力を前記ブリッジ回路にて電気的信号に変換してい
る。図10は、図9のB−B’での断面図を示す。圧力
センサチップ91が圧力を受けるために導圧口93を持
つダイ部94に接着樹脂95にて接着される。
【0003】この時、接着樹脂95は、熱硬化させる時
一度粘度が低下し、ダイヤフラムコーナー部96より、
ダイヤフラム92のエッジ部に接着樹脂が這いあがり、
その後硬化する。これらの接着樹脂の這いあがりは、特
に急峻な角度を有するコーナー部において顕著に見られ
るため、毛管現象によると考えられる。この這いあがり
樹脂97により、ダイヤフラム92の電気的特性のばら
つきが発生し、圧力センサの精度、信頼性を低下させる
問題点があった。
【0004】このような問題点に対し、昭59−134
034や特開平7−27639等の技術が開示されてい
る。これらの技術においては、ダイ部側のダイヤフラム
開口部に対応する位置に、凹部や凸部をもうけることに
より接着樹脂のダイヤフラム側への這いあがりを防止し
ている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ダイ部側に接
着樹脂防止のための凹部を設けたこれらの技術に対して
は、下記の問題点が考えられる。 (1)ダイ部側に這いあがり防止のための凹部を設ける
工程が必要である (2)ダイヤフラムの開口部とダイ部側の這いあがり防
止のための凹部の位置を対応させる必要があるため製作
工程において位置精度が要求される。 (3)接着樹脂の這いあがりは毛管現象によると考えら
れるので、ダイ部側に這いあがり防止のための凹部を設
けても、這いあがりが必ずしも防止できるとは限らな
い。
【0006】そこで、本発明の目的は、ダイヤフラム部
への接着樹脂の這いあがりを確実に防止することがで
き、しかも製作が容易な半導体圧力センサを提供するこ
とである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体圧力
センサは、圧力を検出するダイヤフラムを中央の薄肉部
に設けた圧力センサチップと該ダイヤフラムへ圧力を導
く導圧口を設けたダイ部とを熱硬化性接着樹脂により接
着してなり、上記圧力センサチップの接着面側のダイヤ
フラム開口部周囲の少なくとも各コーナー部において、
開口縁より所定の距離をおいて、接着樹脂のダイヤフラ
ムへの這いあがりを防止する防止溝を設ける。
【0008】好ましくは、上記の半導体圧力センサにお
いて、上記這いあがり防止溝は、上記圧力センサチップ
内の4角それぞれにおいて、ダイヤフラムの外側に、圧
力センサチップの外縁から延びる2本の溝によりL字を
なすよう形成される。
【0009】好ましくは、上記の半導体圧力センサにお
いて、上記這いあがり防止溝は、ダイヤフラムの外側を
取り囲むように、ダイヤフラムの各辺に対し平行に上記
圧力センサチップの各外縁から対向する外縁まで延びる
4本の溝からなる。
【0010】好ましくは、上記の半導体圧力センサにお
いて、上記這いあがり防止溝は、圧力センサチップの4
角それぞれにおいて、隣接する外縁から延びた溝が直交
し、上記ダイヤフラムの外側に十字をなすよう形成され
る。
【0011】好ましくは、上記の半導体圧力センサにお
いて、上記這いあがり防止溝は、圧力センサチップの4
角それぞれにおいて、上記ダイヤフラムの各コーナーに
接し、ダイヤフラムの外側に方形をなすよう形成され
る。
【0012】好ましくは、上記の半導体圧力センサにお
いて、上記這いあがり防止溝は、ダイヤフラムの外側を
取り囲むように、ダイヤフラムの各辺に対し平行に、セ
ンサチップエッジからある距離手前まで延びた直交する
4本の溝からなる。
【0013】好ましくは、上記の半導体圧力センサにお
いて、上記這いあがり防止溝は、圧力センサチップの4
角それぞれにおいて、上記ダイヤフラムの各コーナーか
らある距離だけ隔離して、かつ防止溝の先端がセンサチ
ップエッジまで達しないように、上記ダイヤフラムの外
側に十字をなすよう形成されることを特徴とする
【0014】好ましくは、上記の半導体圧力センサにお
いて、上記這いあがり防止溝は、圧力センサチップの4
角それぞれにおいて、上記ダイヤフラムの各コーナーか
らある距離だけ隔離して、ダイヤフラムの外側に方形を
なすよう形成される。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の半導
体圧力センサの実施の形態について、詳細な説明を行
う。
【0016】実施の形態1.図1は本発明の実施の形態
1の裏面図を表す。図2は図1の半導体圧力センサのA
−A’線での断面図を示す。図1および図2において、
本発明の半導体圧力センサは、導圧口3を持つダイ部4
と、圧力を検出するためのダイヤフラム2を中央部に備
え、接着樹脂5の這いあがりを防止する防止溝8を各コ
ーナーにL字型に設けた圧力センサチップ1とからな
る。上記圧力センサチップ1と上記ダイ部4は、図1お
よび図2の斜線領域に塗布された接着樹脂5により接着
される。
【0017】圧力センサチップ1とダイ部4の接着時に
おいて、接着樹脂5は、ダイヤフラムコーナー6へ到達
する前に圧力センサチップに設けられた防止溝8により
捉えられ、ダイヤフラムコーナー6への進入を阻止され
る。
【0018】接着樹脂の這いあがり防止溝8は、異方性
エッチング技術により、ダイヤフラム2と同時に形成さ
れるため、工程数を増すことなく対応できる。
【0019】実施の形態2.図3は本発明の半導体圧力
センサの実施の形態2を示す。図3において、這いあが
り防止溝38は、ダイヤフラム32の外側を取り囲むよ
うに、ダイヤフラム32の各辺に対し、所定の距離をお
いて平行に上記圧力センサチップ31の各外縁から対向
する外縁まで延びる4本の溝で形成される。
【0020】実施の形態3.図4は本発明の半導体圧力
センサの実施の形態3を示す。図4において、這いあが
り防止溝48は、圧力センサチップ41の4角におい
て、センサチップ41の隣接する外縁から延びた溝が直
交し、上記ダイヤフラム42の外側に十字をなすよう形
成される。
【0021】実施の形態4.図5は本発明の半導体圧力
センサの実施の形態4を示す。図5において、這いあが
り防止溝58は、ダイヤフラム52のコーナーに接して
方形に形成される。これにより、這いあがり樹脂を溜め
る容量を大きくしているため、効果的に接着樹脂の這い
あがりを防止できる。
【0022】実施の形態5.図6は本発明の半導体圧力
センサの実施の形態5を示す。図6において、這いあが
り防止溝68は、ダイヤフラム62の外側を取り囲むよ
うに、ダイヤフラム32の各辺に対し、所定の距離をお
いて平行に、圧力センサチップ31のエッジの手前まで
延びて直交する4本の溝で形成される。これにより、実
施の形態2と比較して、ダイヤフラム内部とセンサチッ
プ外部とがより確実に隔離され、ダイヤフラム領域内の
機密性をより高く保てる。
【0023】実施の形態6.図7は本発明の半導体圧力
センサの実施の形態6を示す。図7において、這いあが
り防止溝78は、圧力センサチップ71の4角におい
て、ダイヤフラム72のコーナーからある距離だけ隔離
して、かつ防止溝の先端がセンサチップエッジまで達し
ないように、上記ダイヤフラム42の外側に十字をなす
よう形成される。これにより、実施の形態3と比較し
て、ダイヤフラム内部とセンサチップ外部とがより確実
に隔離され、ダイヤフラム領域内の機密性をより高く保
てる。
【0024】実施の形態7.図8は本発明の半導体圧力
センサの実施の形態7を示す。図8において、這いあが
り防止溝88は、ダイヤフラム82のコーナーからある
距離だけ隔離して方形に形成される。これにより、上記
実施の形態4と比較して、より確実に防止溝からダイヤ
フラムへの樹脂の流出を防止できる。
【0025】
【発明の効果】
(1)本発明の半導体圧力センサにおいて、圧力センサ
チップのダイヤフラム周辺に、接着樹脂の這いあがり防
止溝を設けることにより、接着樹脂のダイヤフラムへの
這いあがりを阻止し、圧力センサの精度、信頼性の低下
を防止できる。
【0026】(2)本発明の半導体圧力センサの這いあ
がり防止溝の形成において、異方性エッチングによりダ
イヤフラムと同時に形成することが可能であり、工程数
を増やす必要がない。
【0027】(3)本発明の半導体圧力センサの這いあ
がり防止溝の形成において、圧力センサチップ側のみの
加工で済み、製作工程時にダイ部との位置対応を考慮す
る必要がない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明における、半導体圧力センサの圧力セ
ンサチップの実施の形態1の裏面図。
【図2】 図1の半導体圧力センサのA−A’線におけ
る断面図。
【図3】 本発明における、半導体圧力センサの圧力セ
ンサチップの実施の形態2の1つのコーナーにおける這
いあがり防止溝を表す裏面図。
【図4】 本発明における、半導体圧力センサの圧力セ
ンサチップの実施の形態3の1つのコーナーにおける這
いあがり防止溝を表す裏面図。
【図5】 本発明における、半導体圧力センサの圧力セ
ンサチップの実施の形態4の1つのコーナーにおける這
いあがり防止溝を表す裏面図。
【図6】 本発明における、半導体圧力センサの圧力セ
ンサチップの実施の形態5の1つのコーナーにおける這
いあがり防止溝を表す裏面図。
【図7】 本発明における、半導体圧力センサの圧力セ
ンサチップの実施の形態6の1つのコーナーにおける這
いあがり防止溝を表す裏面図。
【図8】 本発明における、半導体圧力センサの圧力セ
ンサチップの実施の形態7の1つのコーナーにおける這
いあがり防止溝を表す裏面図。
【図9】 従来技術の半導体圧力センサの圧力センサチ
ップの裏面図。
【図10】 図9の半導体圧力センサのB−B’線にお
ける断面図。
【符号の説明】
1,31,41,51,61,71,81 本発明の圧
力センサチップ、2,32,42,52,62,72,
82,92 ダイヤフラム、3,93 導圧口、4,9
4 ダイ部、5,95 接着樹脂、6、96 ダイヤフ
ラムコーナー、8,38,48,58,68,78,8
8 這いあがり防止溝、91 従来技術の圧力センサチ
ップ、97 這いあがり接着樹脂。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 圧力を検出するダイヤフラムを中央の薄
    肉部に設けた圧力センサチップと該ダイヤフラムへ圧力
    を導く導圧口を設けたダイ部とを熱硬化性接着樹脂によ
    り接着してなる半導体圧力センサにおいて、 上記圧力センサチップの接着面側のダイヤフラム開口部
    周囲の少なくとも各コーナー部において、開口縁より所
    定の距離をおいて、接着樹脂のダイヤフラムへの這いあ
    がりを防止する防止溝を設けたことを特徴とする半導体
    圧力センサ。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の半導体圧力センサにお
    いて、上記這いあがり防止溝は、上記圧力センサチップ
    内の4角それぞれにおいて、ダイヤフラムの外側に、圧
    力センサチップの外縁から延びる2本の溝によりL字を
    なすよう形成されることを特徴とする半導体圧力セン
    サ。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の半導体圧力センサにお
    いて、上記這いあがり防止溝は、ダイヤフラムの外側を
    取り囲むように、ダイヤフラムの各辺に対し平行に上記
    圧力センサチップの各外縁から対向する外縁まで延びる
    4本の溝からなることを特徴とする半導体圧力センサ。
  4. 【請求項4】 請求項1に記載の半導体圧力センサにお
    いて、上記這いあがり防止溝は、圧力センサチップの4
    角それぞれにおいて、隣接する外縁から延びた溝が直交
    し、上記ダイヤフラムの外側に十字をなすよう形成され
    ることを特徴とする半導体圧力センサ。
  5. 【請求項5】 請求項1に記載の半導体圧力センサにお
    いて、上記這いあがり防止溝は、圧力センサチップの4
    角それぞれにおいて、上記ダイヤフラムの各コーナーに
    接し、ダイヤフラムの外側に方形をなすよう形成される
    ことを特徴とする半導体圧力センサ。
  6. 【請求項6】 請求項1に記載の半導体圧力センサにお
    いて、上記這いあがり防止溝は、ダイヤフラムの外側を
    取り囲むように、ダイヤフラムの各辺に対し平行に、セ
    ンサチップエッジからある距離手前まで延びた直交する
    4本の溝からなることを特徴とする半導体圧力センサ。
  7. 【請求項7】 請求項1に記載の半導体圧力センサにお
    いて、上記這いあがり防止溝は、圧力センサチップの4
    角それぞれにおいて、上記ダイヤフラムの各コーナーか
    らある距離だけ隔離して、かつ防止溝の先端がセンサチ
    ップエッジまで達しないように、上記ダイヤフラムの外
    側に十字をなすよう形成されることを特徴とする半導体
    圧力センサ。
  8. 【請求項8】 請求項1に記載の半導体圧力センサにお
    いて、上記這いあがり防止溝は、圧力センサチップの4
    角それぞれにおいて、上記ダイヤフラムの各コーナーか
    らある距離だけ隔離して、ダイヤフラムの外側に方形を
    なすよう形成されることを特徴とする半導体圧力セン
    サ。
JP7226372A 1995-09-04 1995-09-04 半導体圧力センサ Pending JPH0972804A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7226372A JPH0972804A (ja) 1995-09-04 1995-09-04 半導体圧力センサ
US08/579,672 US5637801A (en) 1995-09-04 1995-12-28 Semiconductor diaphragm pressure sensor with grooves to absorb adhesive
DE19603279A DE19603279C2 (de) 1995-09-04 1996-01-30 Halbleiter-Drucksensor
KR1019960005690A KR0182780B1 (ko) 1995-09-04 1996-03-05 반도체 압력 센서

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7226372A JPH0972804A (ja) 1995-09-04 1995-09-04 半導体圧力センサ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0972804A true JPH0972804A (ja) 1997-03-18

Family

ID=16844106

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7226372A Pending JPH0972804A (ja) 1995-09-04 1995-09-04 半導体圧力センサ

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5637801A (ja)
JP (1) JPH0972804A (ja)
KR (1) KR0182780B1 (ja)
DE (1) DE19603279C2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008267896A (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Epson Toyocom Corp 圧力センサ

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3514666B2 (ja) * 1999-06-30 2004-03-31 株式会社日立製作所 熱式空気流量センサ
DE19938207A1 (de) * 1999-08-12 2001-02-15 Bosch Gmbh Robert Sensor, insbesondere mikromechanischer Sensor, und Verfahren zu dessen Herstellung
JP2005104038A (ja) * 2003-09-30 2005-04-21 Fuji Photo Film Co Ltd 吐出ヘッド及び液吐出装置
JP2008039760A (ja) * 2006-07-14 2008-02-21 Denso Corp 圧力センサ
US8881596B2 (en) 2012-01-30 2014-11-11 Continental Automotive Systems, Inc. Semiconductor sensing device to minimize thermal noise
US10035703B2 (en) 2013-09-27 2018-07-31 Continental Automotive Systems, Inc. Die bond design for medium pressure sensor
DE102015104410B4 (de) * 2015-03-24 2018-09-13 Tdk-Micronas Gmbh Drucksensor

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
PL139454B1 (en) * 1983-01-06 1987-01-31 Marek Glowacki Lifting and tilting apparatus for servicing and making repairs of agricultural machines and equipment as well as of motor cars
US4787250A (en) * 1987-04-23 1988-11-29 Honeywell Inc. Method of producing a uniform fluid-tight seal between a thin, flexible member and a support and an apparatus utilizing the same
JPH0371030A (ja) * 1989-08-10 1991-03-26 Nec Corp 圧力センサーチップの接着方法
DE3937522A1 (de) * 1989-11-10 1991-05-16 Texas Instruments Deutschland Mit einem traegerelement verbundener halbleiter-drucksensor
JPH0727639A (ja) * 1993-07-13 1995-01-31 Fujikura Ltd 半導体圧力センサ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008267896A (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Epson Toyocom Corp 圧力センサ

Also Published As

Publication number Publication date
US5637801A (en) 1997-06-10
KR970018277A (ko) 1997-04-30
KR0182780B1 (ko) 1999-04-15
DE19603279C2 (de) 2001-05-17
DE19603279A1 (de) 1997-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005252078A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH0972804A (ja) 半導体圧力センサ
JP3893624B2 (ja) 半導体装置用基板、リードフレーム、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器
JP3535328B2 (ja) リードフレームとこれを用いた半導体装置
EP1968114A1 (en) Semiconductor device
US7208822B1 (en) Integrated circuit device, electronic module for chip cards using said device and method for making same
JPS63179557A (ja) 半導体装置用リ−ドフレ−ム
JP2000124235A (ja) 樹脂封止半導体装置
JPH10112522A (ja) スリットを有する内部リードを備える半導体チップパッケージ
JPH10116954A (ja) 半導体装置
CN109300862B (zh) 指纹感测芯片封装结构
JPS611042A (ja) 半導体装置
CN110781804A (zh) 光学式影像辨识装置及其制作方法
JP3520976B2 (ja) 半導体装置の接合構造
JPH11195101A (ja) Icモジュールとそのモジュールを搭載したicカード
JP3000976B2 (ja) 有機基板を用いた半導体装置
JPH0515306B2 (ja)
JPH11260972A (ja) 薄型半導体装置
JPH0621304A (ja) リードフレーム及び半導体装置の製造方法
JPH02278857A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP4071121B2 (ja) 半導体装置
JP2003318362A (ja) 樹脂封止形半導体装置
JP2968769B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2001127184A (ja) 中空モールドパッケージ装置
US20060220196A1 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same, metal component and method of manufacturing the same