JPH0970687A - 無鉛はんだ合金 - Google Patents

無鉛はんだ合金

Info

Publication number
JPH0970687A
JPH0970687A JP8162182A JP16218296A JPH0970687A JP H0970687 A JPH0970687 A JP H0970687A JP 8162182 A JP8162182 A JP 8162182A JP 16218296 A JP16218296 A JP 16218296A JP H0970687 A JPH0970687 A JP H0970687A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alloy
lead
solder alloy
wettability
less
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8162182A
Other languages
English (en)
Inventor
Hisafumi Takao
尚史 高尾
Hideo Hasegawa
英雄 長谷川
Shinichi Towata
真一 砥綿
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Central R&D Labs Inc
Original Assignee
Toyota Central R&D Labs Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyota Central R&D Labs Inc filed Critical Toyota Central R&D Labs Inc
Priority to JP8162182A priority Critical patent/JPH0970687A/ja
Priority to US08/675,825 priority patent/US5733501A/en
Publication of JPH0970687A publication Critical patent/JPH0970687A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C13/00Alloys based on tin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/26Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
    • B23K35/262Sn as the principal constituent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C13/00Alloys based on tin
    • C22C13/02Alloys based on tin with antimony or bismuth as the next major constituent

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 Sn−Ag系はんだ合金の融点を下げ、溶融
範囲を狭め、良好な濡れ性と機械的性質にも優れた無鉛
はんだとすることを目的とする。 【解決手段】 0.8重量%以上5重量%以下のAg
と、何れも0.1重量%以上で両者の合計が17重量%
以下のInおよびBiを含み、残部がSnと不可避不純
物とからなる無鉛はんだ合金。および、0.1重量%以
上10重量%以下のSbをさらに添加した無鉛はんだ合
金。この無鉛はんだ合金は融点が低く固−液相範囲も狭
い、かつ良好な濡れ性と機械的性質を示す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は無鉛はんだ合金に関す
る。
【0002】
【従来の技術】鉛は有用な金属である反面、毒性を有す
ることもよく知られている。電子部品の製造はほとんど
の場合はんだ付けにより行われ、そのはんだには一般に
Pb−Sn系合金が用いられている。しかし、近年、廃
棄された電気製品からの鉛の溶出による地下水汚染が問
題となり、アメリカでははんだ中の鉛使用を規制する動
きがある。
【0003】鉛を含有しないはんだとして、JIS Z
3282にSn−Ag系、Sn−Sb系およびSn−
Bi系はんだが規定されており、Sn−Ag系およびS
n−Sb系が高温用はんだ、Sn−Bi系が低融点はん
だとして用いられている。しかし、これら無鉛はんだ合
金は、従来、最も広く用いられている63%(重量%、
以下%は重量%を意味する)Sn−37%Pb合金と比
べると、Sn−Ag系およびSn−Sb系合金は融点が
高く、Sn−Bi系合金は融点が低いという問題があ
り、また、被はんだ付け材へのはんだ濡れ性も劣る。こ
のため、Pb−Sn系はんだを代替する無鉛はんだ合金
として実用するにはさらなる改良が必要である。
【0004】従来、無鉛はんだ合金の融点を下げるため
特開平6−15476号公報では、約167℃から約2
12℃の間の固相化温度、および約179℃から213
℃の間の液相化温度を有する有効量のSn、Agおよび
Inを含有するはんだ合金が開示されている。また、特
開平6−238479号公報では、0.2%以上6.0
%以下のZnと1%以上6%以下のAgと、残りがSn
からなる無鉛はんだ材料、および0.2%以上6.0%
以下のZnと、1.0%以上6.0%以下のAgと、
0.2%以上6.0%以下の%のInと、0.2%以上
6.0%以下のBiと、残りがSnからなる無鉛はんだ
材料が開示されている。この無鉛はんだ材料はSn−A
gはんだ材料の優れた特性を維持しながら、機械的強度
およびクリープ抵抗を改善することを目的としている。
また、BiまたはInは溶融点を下げる効果を有する旨
の開示もある。
【0005】特開平7−88681号公報には、Sn−
2%Ag−9.8%Bi−9.8%InのAg、Bi、
Inを含むSn合金が開示され、固相線温度が高く強度
の高い多成分はんだ合金と説明されている。米国特許
5,429,689には、80%Sn、5−14.5%
In、4.5−14.5%Bi、0.5%Agよりなる
合金が開示され、粒成長が抑制された耐熱特性の良いは
んだ合金と説明されている。さらに、米国特許5,43
5,857には、In、SbとAgに10.0%以下の
Biを含むはんだ合金が開示されている。
【0006】はんだ合金を使用する際に特に重要な2つ
の特性は、前記特開平6−15476号公報に記載のよ
うに、融点および溶融範囲である。合金は、固相化温度
とよばれる温度で溶融しはじめる(溶融点)が、液相化
温度とよばれるより高い温度に達するまでは完全には液
体にならない。固相化温度と液相化温度の間の範囲(溶
融範囲)はペースト状領域(ΔT)とよばれる。
【0007】通常使用される電子用はんだ合金において
は、溶融点が低く、溶融範囲が狭いことが望まれる。濡
れ性も重要な特性である。なぜなら、はんだ付けとは、
溶融したはんだを接合部に流入させることによって、固
体金属同士を接合するものであり、電気的・機械的に良
好な接合部を得るためには、はんだが被接合材によく濡
れることが必要とされるからである。電子部品の製造で
は、何百点もの接合部が、同時にしかも数秒間ではんだ
付けされており、はんだの濡れが悪く1ヵ所でもはんだ
付けされない部分が発生すると回路基板そのものが不良
品となる。したがって、電子用はんだ合金においては、
濡れ性は重要な特性である。
【0008】また、機械的特性も重要な特性である。近
年、電子部品の小型化・高集積化の進展および宇宙用
(通信衛星等)や自動車用等への適用範囲の拡大によ
り、従来よりも厳しい条件下で電子用はんだが使用され
るようになっている。電子部品の発熱や使用環境の温度
変化により電子部品やプリント基板が熱膨張や熱収縮す
るため、はんだ接合部には応力や歪みが発生する。こう
した熱疲労によって、はんだ接合強度が十分でない場合
には、はんだ自体にクラックが発生してはんだ付け部の
剥離が生じる。1ヶ所でも剥離が発生すると、電気的な
導通がなくなるため電子機器の機能が果たせなくなる。
したがって、はんだ付け部の信頼性確保のために機械的
特性に優れたはんだ合金が必要である。
【0009】さらに、コストも重要な要素である。生産
技術上の観点から、従来のSn−Pbはんだ合金から無
鉛はんだ合金への移行に当たっては、コスト上昇を最小
限に抑える必要がある。コスト上昇を抑えるためには、
合金組成の変更による原材料費の上昇や現行の接合プロ
セスの流用による設備費の増加を抑制することが必要で
ある。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記の特開平6−15
476号公報記載の合金組成で、最も固相化温度が低い
のはSn71.5%、Ag2.6%およびIn25.6
%の組成の合金で固相化温度は167.8℃、溶融範囲
は11.3℃である。しかしながらこの合金では、In
が25.6%も含まれている。Inの原材料費はkg当
たり4万円(95.3の相場)と非常に高価である。こ
のため、この合金の原材料費を試算すると、従来の63
%Sn−37%Pb合金に比べて23倍と非常に高く、
大幅なコスト上昇が強いられる。さらにこの合金につい
ての濡れ性についてはまったく述べられていない。ま
た、特開平7−88681、米国特許5429689、
米国特許5435857記載の合金についても同様であ
る。
【0011】また、特開平6−23479号公報記載の
最も溶融温度が低い合金組成は、Sn87.5%、Ag
3.5%、Zn1%、Bi4%およびIn4%の合金で
あり、その溶融点は197℃である。これ以外の実施例
の組成では、前記の温度よりも高い。また溶融範囲の記
載はなく、酸化されやすいZnを含んでいるために、は
んだ付けを窒素雰囲気中で行う必要があって、現状のは
んだ付けのプロセスをそのまま流用することはできな
い。すなわち、設備の増設が必要となってコストがかか
る。また、濡れ性に関する記載もない。
【0012】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
で、その目的はSn−Ag系はんだ合金の融点をさらに
下げるとともに、溶融範囲をさらに狭め、コストの上昇
を抑え、良好な濡れ性と機械的性質とを兼ね備えた無鉛
はんだ合金の提供を目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、Sn−A
g二元合金はんだへのInとBiの複合添加、更にはS
bを添加することにより、コスト上昇を抑えながら、S
n−Ag二元合金の融点を下げるとともに濡れ性の改善
はもとより、優れた機械的特性をも付与することが可能
であることを見いだし、本発明を完成するに至ったもの
である。
【0014】本第1発明記載の第1の無鉛はんだ合金
は、0.8%以上5%以下のAgと、それぞれ0.1%
以上で両者の合計が17%以下のInおよびBiを含
み、残部がSnと不可避不純物とからなることを特徴と
する。好ましい組成は、本第2発明記載の如くAgが
0.8%以上4%以下、InとBiとはいずれも14%
以下である。より好ましくは、本第3発明記載の如くA
gが0.8%以上3.5%以下、InとBiとはいずれ
も1%以上9.5%以下である。Agはさらに1.5%
以上3.3%以下が良い。
【0015】本第4発明の無鉛はんだ合金は、0.8%
以上5%以下のAgと、それぞれ0.1%以上9.5%
以下で合計が17%以下のInおよびBiと、0.1%
以上10%以下のSbとを含み、残部がSnと不可避不
純物とからなることを特徴とする。好ましくは、本第5
発明記載の如くAgが0.8%以上3.5%以下、In
とBiとはいずれも1%以上9.5%以下である。さら
に好ましくは、本第6発明記載の如くSbは0.5%以
上6%以下である。
【0016】本発明の無鉛はんだ合金は、当該分野の公
知技術により容易に調整しうる。たとえば、重量で秤取
ったSn、Ag、In、BiおよびSbを加熱中の容器
に入れる。この場合、部分的に合金を用いてもよい。こ
れらの金属は従来のいずれの溶融技術を用いても溶解で
き、当該金属をすべて液体になるまで加熱した後、適当
な型に流し込んで冷却される。本発明のはんだ材料は、
適当な方法により、棒状、リボン、ワイヤ、粉末など、
用途に応じ様々な形状にすることができる。また、急冷
法等を用いることにより、リボンや粉末などの作成も可
能である。
【0017】
【作用】本発明の無鉛はんだ合金は、SnとAgにIn
に加えてBiを複合添加することにより、コストの上昇
を抑制しつつ、In単独添加の場合と同等レベルの融点
降下を実現できる。また、Inの単独添加は添加量の増
加とともにクリープ特性が低下し、Biの単独添加も添
加量の増加とともに変形能が低下するという問題があ
る。しかし、両者を複合添加することにより、変形能と
耐クリープ特性に優れた合金を提供することができる。
【0018】また、SnとAgにInを単独添加した場
合にははんだ合金は、濡れ性を改善することはできない
が、Biを添加することによって濡れ性を改善すること
ができる。上記のはんだ合金にさらにSbを添加するこ
とにより、さらなる融点の下降と溶融範囲の狭小化を実
現することができ、優れた機械的特性をも兼ね備えた無
鉛はんだ合金を提供することができる。
【0019】公知のはんだ合金であるSn96.5%、
Ag3.5%からなる合金の固相化温度は221℃であ
り、共晶合金のため溶融温度範囲はなく、濡れ性は75
%である。特開平6−15476号公報記載のSn8
7.7%、Ag3.2%、In9.1%からなる合金で
は、固相化温度201℃、溶融範囲20℃、濡れ性75
%であり、固相化温度の低下はみられるものの、濡れ性
の改善はなく、原材料費も63%Sn−37%Pb合金
の10倍になっている。これに対し、本発明の合金、た
とえば、Sn87.7%、Ag3.2%、In1.8
%、Bi7.3%からなる合金では、固相化温度198
℃、溶融範囲9℃、濡れ性78%である。従来の前記合
金のIn添加量と本発明の合金のIn、Biの総添加量
は同じであるにも関わらず、より低い固相化温度を有
し、なおかつ濡れ性も改善され、さらには原材料費の上
昇も抑えられている。
【0020】また、一般にSn−Sb二元系では、Sb
添加量の増加とともに、固相化温度、液相化温度、いず
れも上昇することが知られており、SnへのSb添加に
より溶融温度の低下は期待できない。しかしながら、本
発明では、In、Biに加えてSbを添加することによ
り、さらに固相化温度を下げつつ、溶融範囲を小さくす
ることができる。たとえばSn87.7%、Ag3.2
%、In6.0%、Bi3.1%からなる合金に、Sb
を添加し、Sn86.9%、Ag3.2%、In5.9
%、Bi3.1%、Sb0.9%とした合金では、固相
化温度196℃、溶融範囲0℃であり、Sbを添加しな
い場合に比べて固相化温度は5℃低く、溶融範囲は10
℃狭くなる。
【0021】一般に微小な析出物がマトリックス中に均
一に分散するはんだ合金は優れた機械的特性を有する。
しかしながら、Agの組成範囲が0.8%未満では濡れ
性改善効果が見られず、また、はんだ合金中に析出する
Ag−Sn系金属間化合物粒子量が少ないため、はんだ
合金の優れた機械的特性を維持することができない。ま
た、5%を超えると、溶融範囲が大きくなり、濡れ性も
損なわれる。
【0022】Inの組成範囲が0.1%未満では、融点
を下げる効果が小さくなるため好ましくない。BiもI
nと同様にBiの組成範囲が0.1%未満では、融点を
下げる効果が小さくなるため好ましくない。また、In
とBiの合計では17%を越えると溶融範囲が大きくな
る。Sbを添加したものでもInとBiの合計が17%
を超えると溶融範囲が大きくなる。
【0023】Sbの組成範囲が0.1%未満では、機械
的性質を改善する効果が小さい。また、10%を超える
と溶融範囲が大きくなる。
【0024】
【実施例】以下、実施例により説明する。純度99、9
%以上のSn、Ag、In、Bi、Sbを用いて本実施
例の組成を有するSn−Ag−In−Bi系無鉛はんだ
合金(試料No.1〜16)、Sn−Ag−Ib−Bi
−Sb系無鉛はんだ合金(試料No.17〜26)を調
整した。その組成を表1に示す。また、比較例として
(試料No.27〜36)の無鉛はんだ合金を調整し表
2に示した。そしてこれらの各無鉛はんだ合金の固相化
温度(固相線)、液相化温度(液相線)およびΔT(ペ
−スト領域)および濡れ性の測定結果をまとめてそれぞ
れ表1および表2に示した。
【0025】
【表1】
【0026】
【表2】
【0027】本実施例のSn−Ag−In−Biからな
る無鉛はんだ合金の固相線は、174〜210℃と低
く、またΔTも狭いことが分かる。また、濡れ性も比較
例の合金に比べて3%程度大きい。なお、固相線および
液相線の測定は昇・降温時での熱分析によりおこない、
濡れ性はJIS 3197に規定された方法に基づいて
測定した。
【0028】さらに、Sbを含む合金は、Sbを含まな
い合金に比べて、たとえば、No.18の合金の融点は
196℃と、No.9の合金に比べて5℃程度低くする
ことができる。また、コストも、たとえばNo.12の
合金のコストは比較例No.35の2/5程度と安価で
ある。以下に図に基づいて本発明の無鉛はんだ合金の特
性を説明する。
【0029】図1は、表1に示すInとBiの合計量を
6.6〜9.5%とした場合のNo.1〜No.5、N
o.9、No.11の本実施例の無鉛はんだ合金、およ
び表2に示す比較例No.27およびNo.32の無鉛
はんだ合金について、横軸をAg添加量、縦軸を固−液
相線範囲(ΔT)としてプロットした結果である。この
結果より、Ag添加量が増加するにつれてΔTも大きく
なる傾向がみられる。図2は図1と同じ試料につき、横
軸にAg添加量、縦軸に広がり率をとって濡れ性をプロ
ットしたものである。図2から濡れ性はAg添加量が3
%付近が極大となることが分かる。図1、図2から固−
液相線範囲が小さくかつ濡れ性をも確保するために、本
発明においてはAg添加量を0.8〜5%、より好まし
くは0.6%以上4%以下、さらに好ましくは0.8%
以上3.5%以下とした。
【0030】図3は表1および表2に示す本実施例およ
び比較例の無鉛はんだ合金について、横軸をInとBi
の合計添加量、縦軸を固−液相線範囲(ΔT)としてプ
ロットした結果である。この結果より、InとBiは固
−液相線範囲(ΔT)に関しては同様の性質を持ち、両
者の合計した添加量が増加するにつれてΔTが大きくな
る傾向が見られる。
【0031】この図3よりInとBiの合計添加量は1
7%以下がよいことがわかる。図4は表1に示すBi添
加量を3〜4%とした場合のNo.7、No.9、N
o.13の本実施例の無鉛はんだ合金、および表2に示
すNo.28、No.33の比較例の無鉛はんだ合金に
ついて、横軸をIn添加量、縦軸を固−液相線範囲(Δ
T)としてプロットした結果である。この結果より、I
n添加量が増加するにつれてΔTも大きくなる傾向がみ
られる。
【0032】図5は、図4と同じ試料に付き横軸をIn
添加量、縦軸に広がり率をとって濡れ性をプロットした
結果である。広がり率はInの添加量0.1%と9.5
%付近で極大となり、それ以降は添加量の増加とともに
濡れ性が低下する傾向が見られる。本発明では、ΔTが
大きくなく、かつ濡れ性を確保するために、In添加量
を0.1%以上14%以下、好ましくは1%以上9.5
%以下とした。
【0033】図6は表1に示すIn添加量を1.6〜
4.6%とした場合のNo.7、No.12、No.1
6の本実施例の無鉛はんだ合金、および比較例No.2
9、No.31、No.33の無鉛はんだ合金につい
て、横軸をBi添加量、縦軸を固−液相線範囲(ΔT)
としてプロットした結果である。この結果より、Bi添
加量が増加するにつれてΔTも大きくなる傾向がみられ
る。ΔTを20℃以下にするにはBi添加量を14%以
下、好ましくは9.5%以下と判断される。
【0034】図7は図6と同じ試料につき、横軸にBi
添加量、縦軸に濡れ性をプロットした結果である。図7
よりBi添加量が20%以上となると濡れ性が低下する
傾向がみられる。本発明においては、ΔTが大きくな
く、かつ濡れ性も確保するために、Bi添加量を0.1
%以上14%以下、好ましくは1%以上9.5%以下と
した。
【0035】InとBiの個々の添加量としては、図3
〜図7を参照し、固−液相線範囲が大きくなく、なおか
つ濡れ性をも確保するために、InおよびBiのそれぞ
れ個々の添加量は最大で0.1%〜14%、好ましくは
いずれも1.0%〜9.5%であると判断される。図8
は表1に示すNo.9、NO.18、No.24、N
o.26の本実施例の無鉛はんだ合金について、横軸を
Sb添加量、縦軸を固−液相線範囲(ΔT)としてプロ
ットした結果である。この結果より、ΔTは1%付近で
最小値となり、その後、添加量が増加するにつれてΔT
も大きくなる傾向がみられる。Sbを5%程度添加した
場合でもΔTは17℃と比較的狭い。しかしながら、図
9に示す既知のSb−Sn系状態図からSn−Sb系で
は、Sb添加量が10%を超えると急激にΔTが大きく
なることが予測できる。
【0036】図10は、図8と同じ試料につき、横軸に
Sb添加量、縦軸に濡れ性をプロットした結果である。
図10からSb添加量が増加するにつれて濡れ性が低下
するが、添加量が3%以上になると濡れ性はほとんど変
化しなくなることがわかる。図8、図10から、固−液
相線範囲が大きくなく、なおかつ濡れ性をも確保するた
めに、本発明ではSbの添加量を0.1〜10%、より
好ましくは0.5%以上6%以下とした。
【0037】なお、固−液相線範囲(ΔT)が極めて小
さい合金組成として、ΔTが1℃のSn−3.3%Ag
−1.6%In−3.1%Bi合金、ΔTが0℃のSn
−0.5%Ag−6.1%In−3.1%Bi合金およ
びΔTが0℃のSn−3.2%Ag−5.9%In−
3.1%Bi−0.9%Sb合金が特に注目される。図
11に本実施例のNo.9およびNo.18合金と比較
例のNo.33合金についての疲労試験結果を示す。図
11において、横軸に破断サイクル数、縦軸に応力を採
った。
【0038】この疲労試験は図12にその断面を模式的
に示すように厚さ1.6mmのガラスエポキシ基板1の
一面に直径3.5mmの円状のCu電極2を形成し、さ
らにその中心に直径1.5mmの貫通孔3を形成した被
溶接材4と直径1.2mmの軟銅製のリード5とを用意
した。そしてこの被溶接材4の貫通孔3にリード5を通
し、リード5とCu電極2を前記したそれぞれのはんだ
合金6で接合して繰り返し引っ張り試験を実施した。試
験は図12に示す方向に1分間あたり20サイクルで
5.5〜6.5kgの荷重をかけた場合に、破断するま
でのサイクル数を求めたものである。なお、図12の応
力(τ=F/S)は荷重(F)とはんだ接合面積(S)
から求めた。
【0039】No.9のSn−3.2%Ag−6.0%
In−3.1%Bi合金は比較例のNo.33のSn−
3.5Ag合金に比較してサイクル、即ち、寿命は約3
倍、No.18のSn−3.2%Ag−5.9%In−
3.1%Bi−0.9%Sb合金はNo.33のSn−
3.5Ag合金に比較して寿命は約8倍増加しているの
がわかる。このようにInとBiの添加は疲労寿命向上
に大きな効果をもたらす。特に、InとBiにさらにS
bを添加すると疲労寿命はさらに画期的に向上する。
【0040】
【発明の効果】上述のように、本発明の無鉛はんだ合金
は、従来のものと比較して融点が低くΔTも狭い、その
上に疲労寿命が長い。さらに濡れ性にも優れ、低コスト
で提供でき電子部品のはんだ付けに利用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施例の無鉛はんだ合金および比較例の無鉛
はんだ合金のAg添加量と固−液相線範囲(ΔT)との
関係を示す線図である。
【図2】図1の無鉛はんだ合金のAg添加量と広がり率
(濡れ性)との関係を示す線図である。
【図3】表1、表2に示す全ての実施例および比較例の
InとBiの合計添加量と固−液相線範囲(ΔT)との
関係を示す図である。
【図4】本実施例の無鉛はんだ合金No.7、No.
9、No.13および比較例No.23、No.28、
No.33のIn添加量と固−液相線範囲(ΔT)との
関係を示す線ずである。
【図5】図4の無鉛はんだ合金のIn添加量と広がり率
(濡れ性)との関係を示す線図である。
【図6】本実施例の無鉛はんだ合金と比較例の無鉛はん
だ合金のBi添加量と固−液相線範囲(ΔT)との関係
を示す線図である。
【図7】図6の無鉛はんだ合金のBi添加量と広がり率
(濡れ性)との関係を示す線図である。
【図8】本実施例の無鉛はんだ合金No.9、No.1
8、No.24および比較例No.26のSb添加量と
固−液相線範囲(ΔT)との関係を示す線図である。
【図9】Sb−Sn系状態図である。
【図10】図8の無鉛はんだ合金のSb添加量と広がり
率(濡れ性)との関係を示す線図である。
【図11】本実施例の無鉛はんだ合金No.9、No.
18および比較例No.33の疲労試験の応力と破断サ
イクル数との関係をを示す線図である。
【図12】図11の疲労試験に使用した試験材料の断面
を模式的に示す図である。
【符号の説明】
1:ガラスエポキシ基板 2:Cu電極
3:貫通孔 4:被溶接材 5:リード
6:はんだ合金

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】0.8重量%以上5重量%以下のAgと、
    それぞれ0.1重量%以上で両者の合計が17重量%以
    下のInおよびBiを含み、残部がSnと不可避不純物
    とからなることを特徴とする無鉛はんだ合金。
  2. 【請求項2】Agが0.8重量%以上4重量%以下、I
    nとBiとはいずれも14重量%以下である請求項1に
    記載の無鉛はんだ合金。
  3. 【請求項3】Agが0.8重量%以上3.5重量%以
    下、InとBiとはいずれも1重量%以上9.5重量%
    以下である請求項1に記載の無鉛はんだ合金。
  4. 【請求項4】0.8重量%以上5重量%以下のAgと、
    それぞれ0.1重量%以上9.5重量%以下で合計が1
    7重量%以下のInおよびBiと、0.1重量%以上1
    0重量%以下のSbとを含み、残部がSnと不可避不純
    物とからなることを特徴とする無鉛はんだ合金。
  5. 【請求項5】Agが0.8重量%以上3.5重量%以
    下、InとBiとはいずれも1重量%以上9.5重量%
    以下である請求項4に記載の無鉛はんだ合金。
  6. 【請求項6】Sbは0.5重量%以上6重量%以下であ
    る請求項4に記載の無鉛はんだ合金。
JP8162182A 1995-07-04 1996-06-21 無鉛はんだ合金 Pending JPH0970687A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8162182A JPH0970687A (ja) 1995-07-04 1996-06-21 無鉛はんだ合金
US08/675,825 US5733501A (en) 1995-07-04 1996-07-05 Lead-free solder alloy

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7-168971 1995-07-04
JP16897195 1995-07-04
JP8162182A JPH0970687A (ja) 1995-07-04 1996-06-21 無鉛はんだ合金

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0970687A true JPH0970687A (ja) 1997-03-18

Family

ID=26488068

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8162182A Pending JPH0970687A (ja) 1995-07-04 1996-06-21 無鉛はんだ合金

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5733501A (ja)
JP (1) JPH0970687A (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008137018A (ja) * 2006-11-30 2008-06-19 Mitsubishi Materials Corp ボイド発生の少ないAu−Sn合金はんだペースト
JP2008161913A (ja) * 2006-12-28 2008-07-17 Mitsubishi Materials Corp ボイド発生の少ないSn−Au合金はんだペースト
WO2010122764A1 (ja) * 2009-04-20 2010-10-28 パナソニック株式会社 はんだ材料および電子部品接合体
WO2012115268A1 (ja) 2011-02-25 2012-08-30 千住金属工業株式会社 パワーデバイス用のはんだ合金と高電流密度のはんだ継手
JP5654716B1 (ja) * 2014-06-24 2015-01-14 ハリマ化成株式会社 はんだ合金、ソルダペーストおよび電子回路基板
WO2015198497A1 (ja) * 2014-06-24 2015-12-30 ハリマ化成株式会社 はんだ合金、ソルダペーストおよび電子回路基板
KR20160006667A (ko) 2013-05-10 2016-01-19 후지 덴키 가부시키가이샤 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조방법
CN106132612A (zh) * 2014-10-17 2016-11-16 富士电机株式会社 无铅软钎焊方法和软钎焊物品
JP2017205790A (ja) * 2016-05-18 2017-11-24 パナソニックIpマネジメント株式会社 はんだ合金およびそれを用いた実装構造体

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6371361B1 (en) * 1996-02-09 2002-04-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Soldering alloy, cream solder and soldering method
US5928404A (en) * 1997-03-28 1999-07-27 Ford Motor Company Electrical solder and method of manufacturing
BR9807975A (pt) 1997-04-22 2000-03-08 Ecosolder International Pty Lt Composição de solda, solda, utilização de uma solda, método de união de dois ou mais componentes e componente eletrônico ou placa de circuito impresso
JP3688429B2 (ja) 1997-04-25 2005-08-31 株式会社東芝 電子部品実装用基板および電子部品実装基板
WO2000018536A1 (fr) * 1998-09-30 2000-04-06 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Materiau de brasage et dispositif electrique/electronique utilisant celui-ci
US6197253B1 (en) * 1998-12-21 2001-03-06 Allen Broomfield Lead-free and cadmium-free white metal casting alloy
US6294766B1 (en) * 1999-07-31 2001-09-25 Microsemi Corporation Battery cell bypass with pre-loaded compression action
JP2001071174A (ja) * 1999-09-07 2001-03-21 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 錫−銀系ハンダ合金
US6429388B1 (en) 2000-05-03 2002-08-06 International Business Machines Corporation High density column grid array connections and method thereof
US6433425B1 (en) 2000-09-12 2002-08-13 International Business Machines Corporation Electronic package interconnect structure comprising lead-free solders
JP3520854B2 (ja) * 2001-01-30 2004-04-19 住友電気工業株式会社 レジスタコネクタ及びその製造方法
GB2380964B (en) 2001-09-04 2005-01-12 Multicore Solders Ltd Lead-free solder paste
US6837947B2 (en) 2002-01-15 2005-01-04 National Cheng-Kung University Lead-free solder
US6805974B2 (en) 2002-02-15 2004-10-19 International Business Machines Corporation Lead-free tin-silver-copper alloy solder composition
US6854636B2 (en) * 2002-12-06 2005-02-15 International Business Machines Corporation Structure and method for lead free solder electronic package interconnections
DE102004013833B4 (de) * 2003-03-17 2010-12-02 Kyocera Corp. Verfahren zur Herstellung eines Solarzellenmoduls
GB2406101C (en) * 2004-10-27 2007-09-11 Quantum Chem Tech Singapore Improvements in ro relating to solders
US20060104855A1 (en) * 2004-11-15 2006-05-18 Metallic Resources, Inc. Lead-free solder alloy
JP2007005670A (ja) * 2005-06-27 2007-01-11 Fujitsu Ltd 電子部品パッケージおよび接合組立体
CN100352595C (zh) * 2005-08-04 2007-12-05 上海交通大学 Sn-Zn-Bi-Cr合金无铅焊料
WO2009013210A1 (en) * 2007-07-23 2009-01-29 Henkel Limited Solder flux
EP2937432B1 (en) * 2012-12-18 2017-11-22 Senju Metal Industry Co., Ltd Lead-free solder alloy
JP6135885B2 (ja) * 2015-05-19 2017-05-31 パナソニックIpマネジメント株式会社 はんだ合金およびそれを用いた実装構造体
CN115476069A (zh) * 2022-10-28 2022-12-16 云南锡业集团(控股)有限责任公司研发中心 低Ag高热稳定性和高韧性的五元或六元无铅锡基焊料

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5256370B1 (en) * 1992-05-04 1996-09-03 Indium Corp America Lead-free alloy containing tin silver and indium
EP0612578A1 (en) * 1993-02-22 1994-08-31 AT&T Corp. An Article comprising a pb-free solder having improved mechanical properties
JPH0825050B2 (ja) * 1993-06-08 1996-03-13 日本アルミット株式会社 無含鉛半田合金
US5328660A (en) * 1993-06-16 1994-07-12 International Business Machines Corporation Lead-free, high temperature, tin based multi-component solder
CA2131256A1 (en) * 1993-09-07 1995-03-08 Dongkai Shangguan Lead-free solder alloy
US5435857A (en) * 1994-01-06 1995-07-25 Qualitek International, Inc. Soldering composition
US5520752A (en) * 1994-06-20 1996-05-28 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Composite solders
JP2805595B2 (ja) * 1994-11-02 1998-09-30 三井金属鉱業株式会社 鉛無含有半田合金

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008137018A (ja) * 2006-11-30 2008-06-19 Mitsubishi Materials Corp ボイド発生の少ないAu−Sn合金はんだペースト
JP2008161913A (ja) * 2006-12-28 2008-07-17 Mitsubishi Materials Corp ボイド発生の少ないSn−Au合金はんだペースト
US8598464B2 (en) 2009-04-20 2013-12-03 Panasonic Corporation Soldering material and electronic component assembly
WO2010122764A1 (ja) * 2009-04-20 2010-10-28 パナソニック株式会社 はんだ材料および電子部品接合体
JP5280520B2 (ja) * 2009-04-20 2013-09-04 パナソニック株式会社 はんだ材料および電子部品接合体
KR20160086964A (ko) 2011-02-25 2016-07-20 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 파워 디바이스용의 땜납 합금과 고전류 밀도의 땜납 조인트
KR20160101209A (ko) 2011-02-25 2016-08-24 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 파워 디바이스용의 땜납 합금과 고전류 밀도의 땜납 조인트
US11331759B2 (en) 2011-02-25 2022-05-17 Senju Metal Industry Co., Ltd. Solder alloy for power devices and solder joint having a high current density
WO2012115268A1 (ja) 2011-02-25 2012-08-30 千住金属工業株式会社 パワーデバイス用のはんだ合金と高電流密度のはんだ継手
KR20160006667A (ko) 2013-05-10 2016-01-19 후지 덴키 가부시키가이샤 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조방법
US10157877B2 (en) 2013-05-10 2018-12-18 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device
CN105377503B (zh) * 2014-06-24 2016-10-12 播磨化成株式会社 焊料合金、钎焊膏以及电子线路基板
JP5654716B1 (ja) * 2014-06-24 2015-01-14 ハリマ化成株式会社 はんだ合金、ソルダペーストおよび電子回路基板
TWI558491B (zh) * 2014-06-24 2016-11-21 Harima Chemicals Inc Solder alloy, solder paste and electronic circuit substrate
US9931716B2 (en) 2014-06-24 2018-04-03 Harima Chemicals, Incorporated Solder alloy, solder composition, solder paste, and electronic circuit board
US9956649B2 (en) 2014-06-24 2018-05-01 Harima Chemicals, Incorporated Solder alloy, solder paste, and electronic circuit board
CN105377503A (zh) * 2014-06-24 2016-03-02 播磨化成株式会社 焊料合金、钎焊膏以及电子线路基板
WO2015198497A1 (ja) * 2014-06-24 2015-12-30 ハリマ化成株式会社 はんだ合金、ソルダペーストおよび電子回路基板
CN106132612A (zh) * 2014-10-17 2016-11-16 富士电机株式会社 无铅软钎焊方法和软钎焊物品
JP2017205790A (ja) * 2016-05-18 2017-11-24 パナソニックIpマネジメント株式会社 はんだ合金およびそれを用いた実装構造体

Also Published As

Publication number Publication date
US5733501A (en) 1998-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0970687A (ja) 無鉛はんだ合金
KR100510046B1 (ko) 전자부품접합용전극의땜납합금및납땜방법
JP6767506B2 (ja) 高信頼性鉛フリーはんだ合金
US6613123B2 (en) Variable melting point solders and brazes
US5985212A (en) High strength lead-free solder materials
US6156132A (en) Solder alloys
US5538686A (en) Article comprising a PB-free solder having improved mechanical properties
CN108971793B (zh) 一种低温无铅焊料
JP3533017B2 (ja) 半田付け接合用の鉛なし合金
EP1231015B1 (en) Lead-free solder and solder joint
US6299835B1 (en) Cadmium-free silver alloy as low-melting brazing filler material
JP2019520985A6 (ja) 高信頼性鉛フリーはんだ合金
GB2319039A (en) Solder alloy
EP1598142A1 (en) Lead-free solder alloy and preparation thereof
JP3736819B2 (ja) 無鉛はんだ合金
CN111940945A (zh) 一种Sn-Zn-In-Ga无铅焊料及其制备方法
JP2000141079A (ja) 無鉛はんだ合金
JP3643008B2 (ja) はんだ付け方法
EP4299238A2 (en) Low-silver tin based alternative solder alloy to standard sac alloys for high reliability applications
EP0224068B1 (en) Improved storage life of pb-in-ag solder foil by sn addition
US4734256A (en) Wetting of low melting temperature solders by surface active additions
JPH09174278A (ja) 無鉛はんだ合金およびそれを用いた電子回路装置
JP4359983B2 (ja) 電子部品の実装構造体およびその製造方法
CN107614186A (zh) 焊料合金
JPH0422595A (ja) クリームはんだ