JPH0422595A - クリームはんだ - Google Patents
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- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 160
- 239000006071 cream Substances 0.000 title claims abstract description 65
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 70
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 58
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 58
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims abstract description 40
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 39
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 39
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 31
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 14
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 abstract 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 22
- 239000006023 eutectic alloy Substances 0.000 description 18
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 14
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 13
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005536 corrosion prevention Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017401 Au—Ge Inorganic materials 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3457—Solder materials or compositions; Methods of application thereof
- H05K3/3485—Applying solder paste, slurry or powder
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、電子部品の表面実装に用いるはんだ合金を、
はんだ付け作業中に任意の組成に合金化することができ
、はんだ継ぎ手に必要な最終組成合金の固相温度(融点
)より低い温度ではんだ付けすることが可能なりリーム
はんだに関する。
はんだ付け作業中に任意の組成に合金化することができ
、はんだ継ぎ手に必要な最終組成合金の固相温度(融点
)より低い温度ではんだ付けすることが可能なりリーム
はんだに関する。
(従来の技術)
はんだ付けは、電子部品を電子回路基板に接続し電気回
路を形成する方法として、最も一般的に行われている方
法である。近年、エレクトロニクスの急速な発展による
電子機器の小形化、電子部品や素子のチップ化により、
はんだ付けも微細で、かつ高密度の接続が要求されるよ
うになってきている。
路を形成する方法として、最も一般的に行われている方
法である。近年、エレクトロニクスの急速な発展による
電子機器の小形化、電子部品や素子のチップ化により、
はんだ付けも微細で、かつ高密度の接続が要求されるよ
うになってきている。
電子部品の高密度実装のためのはんだ付け法としては、
クリームはんだを用いたりフロー法が一般的である。リ
フロー法には加熱方法の違いにより、温風リフロー、赤
外線リフロー、ベーノ(−フェイズソルダリング等の方
法があり、いずれの方法もプリント基板のランド上にク
リームはんだを印刷により塗布し、その上に電子部品を
載せた後、はんだを溶して基板との接続を行う方法であ
る。
クリームはんだを用いたりフロー法が一般的である。リ
フロー法には加熱方法の違いにより、温風リフロー、赤
外線リフロー、ベーノ(−フェイズソルダリング等の方
法があり、いずれの方法もプリント基板のランド上にク
リームはんだを印刷により塗布し、その上に電子部品を
載せた後、はんだを溶して基板との接続を行う方法であ
る。
上記リフロー法で使用するクリームはんだとしては、は
んだ金属として融点が183℃の63重量%5n−Pb
共晶合金粉末を用い、これとペーストとを均一に混合し
たものが一般的に用いられており、リフロー温度(はん
だ付け温度)は上記はんだ金属の融点プラス50℃とい
うように、はんだ金属の融点+a℃が一つの目安となっ
てきた。
んだ金属として融点が183℃の63重量%5n−Pb
共晶合金粉末を用い、これとペーストとを均一に混合し
たものが一般的に用いられており、リフロー温度(はん
だ付け温度)は上記はんだ金属の融点プラス50℃とい
うように、はんだ金属の融点+a℃が一つの目安となっ
てきた。
ところが、耐熱性に乏しい電子部品の高密度実装時にお
いては、上述した従来のはんだ合金を用いたはんだ付け
てはりフロー温度が高く、はんだ付け時に電子部品が熱
劣化することによって、不良発生率が高くなるという問
題があった。また、電子部品のリートや電極かはんだ金
属中に溶は込む銅くわれ現象や、銀電極や銀メツキを施
した電子部品の場合、銀がはんだ金属中に溶は込む銀く
われ現象を起こし、はんだ付け強度を著しく低下させて
しまうという問題があった。
いては、上述した従来のはんだ合金を用いたはんだ付け
てはりフロー温度が高く、はんだ付け時に電子部品が熱
劣化することによって、不良発生率が高くなるという問
題があった。また、電子部品のリートや電極かはんだ金
属中に溶は込む銅くわれ現象や、銀電極や銀メツキを施
した電子部品の場合、銀がはんだ金属中に溶は込む銀く
われ現象を起こし、はんだ付け強度を著しく低下させて
しまうという問題があった。
そこで、従来から融点(固相温度)の低いはんだ合金に
関する各種の提案がなされており、たとえばB1−Pb
−3n系(特開昭58−218394号公報参照)、B
Bl−Pb−3n−A系(特開昭61−82994号公
報参照)等が知られている。これらのはんだ合金は、最
も多く使用されている 5n−Pb共晶はんだより固相
温度(融点)が低く、クリームはんだのはんだ合金とし
て使用した場合、リフロー温度を5n−Pb共晶はんだ
を使用した場合より低下させることができる。
関する各種の提案がなされており、たとえばB1−Pb
−3n系(特開昭58−218394号公報参照)、B
Bl−Pb−3n−A系(特開昭61−82994号公
報参照)等が知られている。これらのはんだ合金は、最
も多く使用されている 5n−Pb共晶はんだより固相
温度(融点)が低く、クリームはんだのはんだ合金とし
て使用した場合、リフロー温度を5n−Pb共晶はんだ
を使用した場合より低下させることができる。
しかし、最近の電子機器の小形化、両面実装化、半導体
パッケージの薄型化等により、上述したようなはんだ合
金を用いたはんだ付けにおいても、はんだ付け温度が高
く、電子部品の信頼性に大きな影響を与えるという新た
な問題が生じてきた。
パッケージの薄型化等により、上述したようなはんだ合
金を用いたはんだ付けにおいても、はんだ付け温度が高
く、電子部品の信頼性に大きな影響を与えるという新た
な問題が生じてきた。
さらに、上述したようなはんだ合金は、合金系か三元系
あるいは四元系と多元系であるため、組成の調整など製
造上の難しさもあった。
あるいは四元系と多元系であるため、組成の調整など製
造上の難しさもあった。
また、従来のはんだ合金より融点が低いBi系の合金と
しては、Bt−8n二元共晶(融点138℃)合金、B
1−Pb二元共晶(融点124℃)合金、B1−3n−
Pb三元共晶(融点95℃)合金等が知られており、既
にB1−3n共晶組成を使用したクリームはんだは市販
されている。しかしなから、B1−8n共晶合金は、5
n−Pb共晶はんだに比べると機械的強度には優れるも
のの、伸びがなく、延性に乏しいことから、繰返し応力
を受けるような接合部には不向きであると共に、ぬれ性
がやや劣っていた。また、B1−Pb共晶合金は、Sn
を含まないことから、プリント基板上のCuランドとの
間で金属間化合物を生成せず、そのためにぬれ性が悪く
、電子部品の接続を行うことができない。Bt−3n−
Pb共晶合金は、ぬれ性、延性とも優れているものの、
機械的強度が低く、電子部品の接続強度や信頼性の点て
難点かあった。このように、従来はんだ合金より融点の
低い合金系においても各種の問題を有していた。
しては、Bt−8n二元共晶(融点138℃)合金、B
1−Pb二元共晶(融点124℃)合金、B1−3n−
Pb三元共晶(融点95℃)合金等が知られており、既
にB1−3n共晶組成を使用したクリームはんだは市販
されている。しかしなから、B1−8n共晶合金は、5
n−Pb共晶はんだに比べると機械的強度には優れるも
のの、伸びがなく、延性に乏しいことから、繰返し応力
を受けるような接合部には不向きであると共に、ぬれ性
がやや劣っていた。また、B1−Pb共晶合金は、Sn
を含まないことから、プリント基板上のCuランドとの
間で金属間化合物を生成せず、そのためにぬれ性が悪く
、電子部品の接続を行うことができない。Bt−3n−
Pb共晶合金は、ぬれ性、延性とも優れているものの、
機械的強度が低く、電子部品の接続強度や信頼性の点て
難点かあった。このように、従来はんだ合金より融点の
低い合金系においても各種の問題を有していた。
一方、はんだ接続部の多様化に伴い、使用するはんだは
少量・多品種となり、はんだ付け温度の管理やクリーム
はんだの保存等の問題も生じていた。例えば電子機器の
使用環境も、寒冷地で使われるなど苛酷となってきてい
るが、Snは温度が低くなると同素変態を起こすことが
知られており、はんだ中のSnか同素変態を起こすと、
はんだの性質も変わり事故の原因となることがある。す
なわち、室温では白色銀と呼ばれるβ−9nが、極低温
では灰色錫と呼ばれる脆いα−9nに変態する。この変
態温度は13.2℃にあるが、変態速度が遅く実際には
一45℃でその速度が最大となる。したかつて、はんだ
が極低温の環境に置かれると、その主成分であるSnが
変態を起こし、はんだの機械的性質を著しく低下させ、
思わぬ事故を起こすことがあった。
少量・多品種となり、はんだ付け温度の管理やクリーム
はんだの保存等の問題も生じていた。例えば電子機器の
使用環境も、寒冷地で使われるなど苛酷となってきてい
るが、Snは温度が低くなると同素変態を起こすことが
知られており、はんだ中のSnか同素変態を起こすと、
はんだの性質も変わり事故の原因となることがある。す
なわち、室温では白色銀と呼ばれるβ−9nが、極低温
では灰色錫と呼ばれる脆いα−9nに変態する。この変
態温度は13.2℃にあるが、変態速度が遅く実際には
一45℃でその速度が最大となる。したかつて、はんだ
が極低温の環境に置かれると、その主成分であるSnが
変態を起こし、はんだの機械的性質を著しく低下させ、
思わぬ事故を起こすことがあった。
(発明か解決しようとする課題)
上述したように、電子機器の小形化、電子部品や素子の
チップ化による高密度実装化に伴い、低い温度ではんだ
付けができ、ぬれ性が良く、優れた機械的性質を有する
はんだ継ぎ手か得られるクリームはんだの開発が強く要
望されている。さらに、上記条件を満足した上て、銀く
われや銅くわれを防止したり、低温脆化を防止したクリ
ームはんだの開発か要望されている。
チップ化による高密度実装化に伴い、低い温度ではんだ
付けができ、ぬれ性が良く、優れた機械的性質を有する
はんだ継ぎ手か得られるクリームはんだの開発が強く要
望されている。さらに、上記条件を満足した上て、銀く
われや銅くわれを防止したり、低温脆化を防止したクリ
ームはんだの開発か要望されている。
本発明は、このような課題に対処するためになされたも
ので、はんだ付け温度を低く維持した上で、ぬれ性の悪
いはんだのぬれ性の改善、機械的性質の劣るはんだの機
械的性質の改善等をはんだ付け作業中に行うことかでき
るクリームはんだを提供することを目的としており、さ
らに銀くわれや銅くわれを防止したり、低温脆化を防止
することが可能なりリームはんだを提供することを目的
としている。
ので、はんだ付け温度を低く維持した上で、ぬれ性の悪
いはんだのぬれ性の改善、機械的性質の劣るはんだの機
械的性質の改善等をはんだ付け作業中に行うことかでき
るクリームはんだを提供することを目的としており、さ
らに銀くわれや銅くわれを防止したり、低温脆化を防止
することが可能なりリームはんだを提供することを目的
としている。
[発明の構成]
(課題を解決するだめの手段と作用)
すなわち本発明のクリームはんだは、はんだ金属と、フ
ラックスとを含有するクリームはんだにおいて、前記は
んだ金属は、少なくとも2種類以上の金属粉末からなり
、前記複数の金属粉末は、はんだ付け作業中に該金属粉
末どうしが合金化することにより、はんだ継ぎ手に必要
な最終組成合金か得られるよう組合わされており、かつ
前記複数の金属粉末の少なくとも 1種は、前記最終組
成合金の固相温度より低い融点を有していることを特徴
としている。
ラックスとを含有するクリームはんだにおいて、前記は
んだ金属は、少なくとも2種類以上の金属粉末からなり
、前記複数の金属粉末は、はんだ付け作業中に該金属粉
末どうしが合金化することにより、はんだ継ぎ手に必要
な最終組成合金か得られるよう組合わされており、かつ
前記複数の金属粉末の少なくとも 1種は、前記最終組
成合金の固相温度より低い融点を有していることを特徴
としている。
また、本発明のクリームはんだは、上記はんだ金属がは
んだ継ぎ手に必要な最終組成として、旧を20〜35重
ff196、Snを30〜40重量%含有し、残部が実
質的にPbからなる組成を満足することを特徴としてい
る。
んだ継ぎ手に必要な最終組成として、旧を20〜35重
ff196、Snを30〜40重量%含有し、残部が実
質的にPbからなる組成を満足することを特徴としてい
る。
さらに、上記クリームはんだにおいて、上記はんだ金属
が最終組成として、0,3〜3,5重量%のAg、
0.1〜3.5重量%のCu、 0.2〜3.5重量
%のSbの少なくとも 1種(ただし、Ag、 Cus
Sbの合計量は3.5重量%以下)をさらに含むこと
を特徴としている。
が最終組成として、0,3〜3,5重量%のAg、
0.1〜3.5重量%のCu、 0.2〜3.5重量
%のSbの少なくとも 1種(ただし、Ag、 Cus
Sbの合計量は3.5重量%以下)をさらに含むこと
を特徴としている。
本発明のクリームはんだに用いるはんだ金属は、少なく
とも2種類以上の金属粉末、例えば純金属粉末や合金粉
末を、はんだ付け作業中にこれら金属粉末とうしか合金
化することにより、はんだ継ぎ手に必要な最終組成合金
が得られるよう組合わせたものである。そして、本発明
のクリームはんだかその機能を十分に発揮するためには
、上記複数の金属粉末の少なくとも 1種の融点(固相
温度)が、最終組成の融点(固相温度)より低い必要が
ある。これにより、はんだ継ぎ手に必要な最終組成合金
の融点(固相温度)以下の温度ではんだ付け作業を行う
ことが可能となる。
とも2種類以上の金属粉末、例えば純金属粉末や合金粉
末を、はんだ付け作業中にこれら金属粉末とうしか合金
化することにより、はんだ継ぎ手に必要な最終組成合金
が得られるよう組合わせたものである。そして、本発明
のクリームはんだかその機能を十分に発揮するためには
、上記複数の金属粉末の少なくとも 1種の融点(固相
温度)が、最終組成の融点(固相温度)より低い必要が
ある。これにより、はんだ継ぎ手に必要な最終組成合金
の融点(固相温度)以下の温度ではんだ付け作業を行う
ことが可能となる。
本発明における複数の金属粉末の組み合わせの具体例と
しては、融点は低いかぬれ性の悪いBi−Pb二元共晶
合金と、純Snあるいは5n−Pb合金との組合わせや
、機械的性質はやや劣るが融点がB1−8n−Pb三元
系で最も低いB1−8n−Pb三元共晶合金と、純りn
、純Pbあるいは5n−Pb合金との組合わせ等が例示
される。
しては、融点は低いかぬれ性の悪いBi−Pb二元共晶
合金と、純Snあるいは5n−Pb合金との組合わせや
、機械的性質はやや劣るが融点がB1−8n−Pb三元
系で最も低いB1−8n−Pb三元共晶合金と、純りn
、純Pbあるいは5n−Pb合金との組合わせ等が例示
される。
上記B1−Pb二元共晶合金(融点124℃)粉末と、
純Sn粉末あるいは5n−Pb合金粉末との組合わせに
おいては、この金属粉末の組合わせでクリームはんだを
構成した場合、リフロー時の基板加熱により低融点のB
1−Pb三元共晶合金の溶融、クリームはんだ中のSn
と上記B1−Pb合金との合金化、あるいは5n−Pb
合金と旧−Pb金合金の合金化、プリント基板上のCu
ランドとSnとの反応が相次いで起こり、B1−Pb三
元共晶合金のぬれ性を改善しつつ、はんだ付け継ぎ手に
必要な最終組成のB1−3n−Pb系のはんだ合金の融
点より低い、B1−Pb二元共晶合金の融点+10〜2
0℃程度の低温で、はんだ付けが可能となる。
純Sn粉末あるいは5n−Pb合金粉末との組合わせに
おいては、この金属粉末の組合わせでクリームはんだを
構成した場合、リフロー時の基板加熱により低融点のB
1−Pb三元共晶合金の溶融、クリームはんだ中のSn
と上記B1−Pb合金との合金化、あるいは5n−Pb
合金と旧−Pb金合金の合金化、プリント基板上のCu
ランドとSnとの反応が相次いで起こり、B1−Pb三
元共晶合金のぬれ性を改善しつつ、はんだ付け継ぎ手に
必要な最終組成のB1−3n−Pb系のはんだ合金の融
点より低い、B1−Pb二元共晶合金の融点+10〜2
0℃程度の低温で、はんだ付けが可能となる。
また、Bj−8n−Pb三三元共晶金合金融点95℃)
粉末と、純Sn粉末、純Pb粉末あるいは5n−Pb合
金粉末との組合わせにおいては、この金属粉末の組合わ
せでクリームはんだを構成した場合、リフロー時の基板
加熱により融点の低いB1−8n−Pb三元共晶合金の
溶融、クリームはんだ中のSn、 Pbあるいは5n−
Pb金合金B1−3n−Pb合金との合金化が相次いで
起こり、B1−8n−Pb三元共晶合金の機械的性質の
改善を低温はんだ付け作業中に改善することができる。
粉末と、純Sn粉末、純Pb粉末あるいは5n−Pb合
金粉末との組合わせにおいては、この金属粉末の組合わ
せでクリームはんだを構成した場合、リフロー時の基板
加熱により融点の低いB1−8n−Pb三元共晶合金の
溶融、クリームはんだ中のSn、 Pbあるいは5n−
Pb金合金B1−3n−Pb合金との合金化が相次いで
起こり、B1−8n−Pb三元共晶合金の機械的性質の
改善を低温はんだ付け作業中に改善することができる。
また、上述したはんだ金属中に必要に応じて、予めAg
5Cu、 Sb等を合金化させたり、上記はんだ金属粉
末とAg粉末、Cu粉末、Sb粉末等を混合させてクリ
ームはんだとしてもよい。例えば八gの添加は、はんだ
付け作業中に他のはんだ金属とAgとの合金化が起こる
ことによって、銀くわれ現象を防止し、またCuの添加
は同様な合金化により、銅くわれ現象を防止し、さらに
Sbの添加は同様な合金化により、低温脆化現象を防止
する。
5Cu、 Sb等を合金化させたり、上記はんだ金属粉
末とAg粉末、Cu粉末、Sb粉末等を混合させてクリ
ームはんだとしてもよい。例えば八gの添加は、はんだ
付け作業中に他のはんだ金属とAgとの合金化が起こる
ことによって、銀くわれ現象を防止し、またCuの添加
は同様な合金化により、銅くわれ現象を防止し、さらに
Sbの添加は同様な合金化により、低温脆化現象を防止
する。
なお、本発明におけるはんだ金属は、上述したBiを含
む5n−Pb系の低温はんだに限定されるものではなく
、例えばPb−3nはんだ粉末とAg粉末、Pb−3n
はんだ粉末とAg粉末およびIn粉末、 Pb−8nは
んだ粉末とAg粉末およびCu粉末、5n−Pbはんだ
粉末とAg粉末、Au−Ge粉末とSb粉末等でもよく
、さらに三元系、四元系の合金粉末に、二元系、三元系
の合金粉末というような多元系同志の組合わせでもよい
。
む5n−Pb系の低温はんだに限定されるものではなく
、例えばPb−3nはんだ粉末とAg粉末、Pb−3n
はんだ粉末とAg粉末およびIn粉末、 Pb−8nは
んだ粉末とAg粉末およびCu粉末、5n−Pbはんだ
粉末とAg粉末、Au−Ge粉末とSb粉末等でもよく
、さらに三元系、四元系の合金粉末に、二元系、三元系
の合金粉末というような多元系同志の組合わせでもよい
。
また、使用するはんだ金属粉末としては、粒度か1.0
0メツシユ以下のものが好ましく、これによりはんだ付
け作業性のよいクリームはんだが得られる。はんだ金属
粉末の形状は、球状、不定形のどちらでもよく、また表
面が酸化していないことが望ましい。
0メツシユ以下のものが好ましく、これによりはんだ付
け作業性のよいクリームはんだが得られる。はんだ金属
粉末の形状は、球状、不定形のどちらでもよく、また表
面が酸化していないことが望ましい。
本発明のクリームはんだにおけるはんだ金属のの合計組
成、換言すればはんだ付けにより得られるはんだ継ぎ手
の最終組成を上述した範囲に限定したのは、以下の理由
による。
成、換言すればはんだ付けにより得られるはんだ継ぎ手
の最終組成を上述した範囲に限定したのは、以下の理由
による。
ビスマス(Bi)は、はんだ自体の融点を低下させる効
果があり、少なくとも20重量%の含有か必要であるが
、過剰に含まれるとはんだ継ぎ手の機械的性質、特に延
性を低下させることから35重量%以下とする。
果があり、少なくとも20重量%の含有か必要であるが
、過剰に含まれるとはんだ継ぎ手の機械的性質、特に延
性を低下させることから35重量%以下とする。
錫(Sn)は、はんだ継ぎ手の機械的性質、ぬれ性、は
んだ付け作業性を向上させるために、30重量%以上の
含有が必要であるが、過剰の添加ははんだ付け時の融点
上昇につながるので、40重量%以下とする。
んだ付け作業性を向上させるために、30重量%以上の
含有が必要であるが、過剰の添加ははんだ付け時の融点
上昇につながるので、40重量%以下とする。
銀(Ag)は、電極および電子部品のリードの銀メツキ
部の銀くわれ現象を防止するものであり、上記効果を得
るためには、0.3重量%以上含有させることが好まし
いが、過剰の添加は融点を上昇させると共にコストの上
昇につながることから、3.5重量%以下とする。
部の銀くわれ現象を防止するものであり、上記効果を得
るためには、0.3重量%以上含有させることが好まし
いが、過剰の添加は融点を上昇させると共にコストの上
昇につながることから、3.5重量%以下とする。
銅(Cu)は、電極および電子部品のリードの銅くわれ
現象を防止するものであり、上記効果を得るためには、
0,1%以上含有させることが好ましいが、過剰の添加
は融点を上昇させることがら、3.5重量%以下とする
。
現象を防止するものであり、上記効果を得るためには、
0,1%以上含有させることが好ましいが、過剰の添加
は融点を上昇させることがら、3.5重量%以下とする
。
Sb(アンチモン)は、はんだの低温での脆化を防止す
るするものであり、上記効果を得るためには、0.2%
以上含有させることが好ましいが、過剰の添加は融点を
上昇させることから、3.5重量%以下とするか、望ま
しくは0.2重量%〜0.5重量%の範囲である。
るするものであり、上記効果を得るためには、0.2%
以上含有させることが好ましいが、過剰の添加は融点を
上昇させることから、3.5重量%以下とするか、望ま
しくは0.2重量%〜0.5重量%の範囲である。
また、Ag、 CuSSbの合計量を3.5重量%以下
としたのは、合計量か3.5重量%を超えると融点の上
昇につなかるためである。
としたのは、合計量か3.5重量%を超えると融点の上
昇につなかるためである。
一方、本発明のクリームはんだに用いるフラックスとし
ては、ロジン系フラック、ザーシンフラックス、有機酸
系フラックス、合成活性フラックス等の一般のはんだ付
け用のフラックスでよく、特殊なフラックスを必要とし
ない。
ては、ロジン系フラック、ザーシンフラックス、有機酸
系フラックス、合成活性フラックス等の一般のはんだ付
け用のフラックスでよく、特殊なフラックスを必要とし
ない。
(実施例)
以下、本発明のクリームはんだの実施例について説明す
る。
る。
まず、第1表に示す合金組成を有するB1−Pb共晶合
金、Bj−3n−Pb共晶合金、5n−Pb共晶合金を
それぞれ溶解炉により溶製した後、アトマイズ法により
それぞれ共晶合金の粉末を作製した。次いて、得られた
共晶合金粉末をふるいにより 200メツシユ以下の粉
末に選別し、はんだ金属粉末とした。
金、Bj−3n−Pb共晶合金、5n−Pb共晶合金を
それぞれ溶解炉により溶製した後、アトマイズ法により
それぞれ共晶合金の粉末を作製した。次いて、得られた
共晶合金粉末をふるいにより 200メツシユ以下の粉
末に選別し、はんだ金属粉末とした。
また、同様な方法によりSn粉末およびPb粉末を作製
した。なお、へg粉末、Cu粉末、Sb粉末は市販の粉
末(粒度100メツシユ以下)を用いた。
した。なお、へg粉末、Cu粉末、Sb粉末は市販の粉
末(粒度100メツシユ以下)を用いた。
第 1 表
*:共晶組成。
実施例1〜16
上述した各はんだ金属粉末を選択して用い、第2表に示
すように、それぞれ最終組成が20〜35重量%Bi、
30〜40重量%Sn、残部が実質的にPbとなるよ
うに混合した後、それぞれロジン系のフラックスとフラ
ックス含有量が9〜20重量%となるように均一に混合
して、複数のクリームはんだを作製した。
すように、それぞれ最終組成が20〜35重量%Bi、
30〜40重量%Sn、残部が実質的にPbとなるよ
うに混合した後、それぞれロジン系のフラックスとフラ
ックス含有量が9〜20重量%となるように均一に混合
して、複数のクリームはんだを作製した。
また、表中の比較例1はB1−Pb共共合合金粉末みに
より製造したSnを含有しないクリームはんだであり、
比較例2.3は市販のクリームはんだである。
より製造したSnを含有しないクリームはんだであり、
比較例2.3は市販のクリームはんだである。
次に、第2表に示す各クリームはんだをそれぞれ用い、
以下に示す特性評価を行った。
以下に示す特性評価を行った。
ぬれ性試験は、3mm X 10mmのランドを設けた
カラスエポキシ基板に、各クリームはんだを厚さ200
、cz+nで印刷により塗布し、N2 (154)
/+jn)雰囲気中にて250℃で10秒間処理して行
った。その結果を第2表に示す。
カラスエポキシ基板に、各クリームはんだを厚さ200
、cz+nで印刷により塗布し、N2 (154)
/+jn)雰囲気中にて250℃で10秒間処理して行
った。その結果を第2表に示す。
次に、ぬれ性の良好な結果か得られた各試料を用いて、
はんだ接合部のせん断試験を行い、接合部の強度を調べ
た。せん断試験は、ぬれ性試験に用いたガラスエポキシ
基板を、クリームはんだ量200μm、200℃で10
秒間、N2 (15F 7m1n)雰囲気中で突合せ
、はんだ付けした後にせん断用治具にエポキシ系の接着
剤で接着し、引張り速度0.1mm/a+inで行った
。その結果を第2表に併せて示す。
はんだ接合部のせん断試験を行い、接合部の強度を調べ
た。せん断試験は、ぬれ性試験に用いたガラスエポキシ
基板を、クリームはんだ量200μm、200℃で10
秒間、N2 (15F 7m1n)雰囲気中で突合せ
、はんだ付けした後にせん断用治具にエポキシ系の接着
剤で接着し、引張り速度0.1mm/a+inで行った
。その結果を第2表に併せて示す。
(以下余白)
第
表
本ぬれ性、◎−良好、O−やや劣る、×−悪い。
(以下同じ)
第2表の結果から明らかなように、クリームはんだ中に
Snを含まない比較例1は、全くぬれ性を示さない。ま
た、比較例2の市販のクリームはんだによるはんだ接合
部のせん断強さは、最も大きな値を示したが、ぬれ性が
実施例による試料に比べて劣っている。さらに、比較例
3は最も一般的な5n−Pb共晶はんだを用いたクリー
ムはんだであるか、このクリームはんだはぬれ性はよい
が、せん断強さがやや劣っており、融点が実施例の試料
に比べ高いため、低温でのはんだ付けには向かないこと
が分る。これらに対し、本発明の各実施例によるクリー
ムはんだは、ぬれ性がよく、優れたはんだ付け作業性を
示し、またせん断強さも5nPb共品はんだと同等以上
と機械的性質にも優れており、電子部品のはんだ付けに
用いるクリームはんだとして適していることか分る。
Snを含まない比較例1は、全くぬれ性を示さない。ま
た、比較例2の市販のクリームはんだによるはんだ接合
部のせん断強さは、最も大きな値を示したが、ぬれ性が
実施例による試料に比べて劣っている。さらに、比較例
3は最も一般的な5n−Pb共晶はんだを用いたクリー
ムはんだであるか、このクリームはんだはぬれ性はよい
が、せん断強さがやや劣っており、融点が実施例の試料
に比べ高いため、低温でのはんだ付けには向かないこと
が分る。これらに対し、本発明の各実施例によるクリー
ムはんだは、ぬれ性がよく、優れたはんだ付け作業性を
示し、またせん断強さも5nPb共品はんだと同等以上
と機械的性質にも優れており、電子部品のはんだ付けに
用いるクリームはんだとして適していることか分る。
実施例17〜20
上記実施例1と同様にして、第1表に示した各はんだ金
属粉末を選択して用い、第3表に示すように、最終組成
が20〜35重量%Bi、 30〜40重量%Sn、
0.3〜3.5重量%Ag、残部が実質的にPbとな
るような複数のクリームはんだを作製した。
属粉末を選択して用い、第3表に示すように、最終組成
が20〜35重量%Bi、 30〜40重量%Sn、
0.3〜3.5重量%Ag、残部が実質的にPbとな
るような複数のクリームはんだを作製した。
次に、第3表に示す各クリームはんだをそれぞれ用い、
前述した実施例と同様な方法で、ぬれ性試験およびせん
断強さの測定を行った。また、以下に示す要領で、銀く
われ防止効果を評価した。
前述した実施例と同様な方法で、ぬれ性試験およびせん
断強さの測定を行った。また、以下に示す要領で、銀く
われ防止効果を評価した。
実施例17.19および比較例2.3のクリームはんだ
に用いた混合粉末を使用し、250℃のはんだ槽に銀電
極を焼き付けしたセラミックスコンデンサを浮かべ、銀
電極がはんだ中にくわれて消失するまでの時間を測定し
て、銀くわれ防止効果を評価した。
に用いた混合粉末を使用し、250℃のはんだ槽に銀電
極を焼き付けしたセラミックスコンデンサを浮かべ、銀
電極がはんだ中にくわれて消失するまでの時間を測定し
て、銀くわれ防止効果を評価した。
それらの結果を第4表に示す。
(以下余白)
第
表
第
表
第4表の結果から明らかなように、本発明の各実施例に
よるクリームはんだは、前述した実施例によるものと同
様に、ぬれ性がよく、優れたはんだ付け作業性を有し、
またせん断強さも5n−Pb共晶はんだと同等以上と機
械的性質にも優れており、さらに銀くわれも有効に防止
でき、電子部品のはんだ付けに用いるクリームはんだと
して適していることが分る。
よるクリームはんだは、前述した実施例によるものと同
様に、ぬれ性がよく、優れたはんだ付け作業性を有し、
またせん断強さも5n−Pb共晶はんだと同等以上と機
械的性質にも優れており、さらに銀くわれも有効に防止
でき、電子部品のはんだ付けに用いるクリームはんだと
して適していることが分る。
実施例21〜24
上記実施例1と同様にして、第1表に示した各はんだ金
属粉末を選択して用い、第5表に示すように、最終組成
か20〜35重量%Bj、 30〜40重量%Sn、
0.1〜3.5重量%Cu、残部が実質的にPbとな
るような複数のクリームはんだを作製した。
属粉末を選択して用い、第5表に示すように、最終組成
か20〜35重量%Bj、 30〜40重量%Sn、
0.1〜3.5重量%Cu、残部が実質的にPbとな
るような複数のクリームはんだを作製した。
次に、第5表に示す各クリームはんだをそれぞれ用い、
前述した実施例と同様な方法で、ぬれ性試験およびせん
断強度の測定を行った。また、以下に示す要領で、銅く
われ防止効果を評価した。
前述した実施例と同様な方法で、ぬれ性試験およびせん
断強度の測定を行った。また、以下に示す要領で、銅く
われ防止効果を評価した。
実施例21.23および比較例2.3のクリームはんだ
に用いた混合粉末を使用し、250℃のはんだ槽に0.
11φの銅線を浸漬し、銅線がはんだ中にくわれて消失
するまでの時間を測定して、銅くわれ防止効果を評価し
た。
に用いた混合粉末を使用し、250℃のはんだ槽に0.
11φの銅線を浸漬し、銅線がはんだ中にくわれて消失
するまでの時間を測定して、銅くわれ防止効果を評価し
た。
それらの結果を第6表に示す。
(以下余白)
第
表
第
表
第6表の結果から明らかなように、本発明の各実施例に
よるクリームはんだは、前述した実施例によるものと同
様に、ぬれ性がよく、優れたはんだ付け作業性を有し、
またせん断強さも5n−Pb共品はんだと同等以上と機
械的性質にも優れており、さらに銅くわれも有効に防止
でき、電子部品のはんだ付けに用いるクリームはんだと
して適していることが分る。
よるクリームはんだは、前述した実施例によるものと同
様に、ぬれ性がよく、優れたはんだ付け作業性を有し、
またせん断強さも5n−Pb共品はんだと同等以上と機
械的性質にも優れており、さらに銅くわれも有効に防止
でき、電子部品のはんだ付けに用いるクリームはんだと
して適していることが分る。
実施例25〜28
前述した実施例1と同様にして、第1表に示した各はん
だ金属粉末を選択して用い、第7表に示すように、最終
組成が20〜35重量%B1.30〜40重量%Sn、
0.2〜3.5重量%Sb、残部が実質的にPbと
なるような複数のクリームはんだを作製した。
だ金属粉末を選択して用い、第7表に示すように、最終
組成が20〜35重量%B1.30〜40重量%Sn、
0.2〜3.5重量%Sb、残部が実質的にPbと
なるような複数のクリームはんだを作製した。
次に、第7表に示す各クリームはんだをそれぞれ用い、
前述した実施例と同様な方法で、ぬれ性試験およびせん
断強さ強度の測定を行った。また、以下に示す要領で、
低温脆化防止効果を評価した。
前述した実施例と同様な方法で、ぬれ性試験およびせん
断強さ強度の測定を行った。また、以下に示す要領で、
低温脆化防止効果を評価した。
実施例25.27および比較例2.3のクリームはんだ
に用いた混合粉末を使用し、250℃のはんだ槽より各
はんだを内径5■、長さ 300gvの耐熱ガラス管に
真空吸引鋳造して得られた丸棒を、ドライアイスを混入
したエタノール中で曲げ試験を行い、割れの有無により
低温脆化防止効果を評価した。
に用いた混合粉末を使用し、250℃のはんだ槽より各
はんだを内径5■、長さ 300gvの耐熱ガラス管に
真空吸引鋳造して得られた丸棒を、ドライアイスを混入
したエタノール中で曲げ試験を行い、割れの有無により
低温脆化防止効果を評価した。
それらの結果を第8表に示す。
(以下余白)
第
表
第
表
第8表の結果から明らかなように、本発明の各実施例に
よるクリームはんだは、前述した実施例によるものと同
様に、ぬれ性かよく、優れたはんだ付け作業性を有し、
またせん断強さも5n−Pb共晶はんだと同等以上と機
械的性質にも優れており、さらに低温脆化も有効に防止
でき、電子部品のはんだ付けに用いるクリームはんだと
して適していることが分る。
よるクリームはんだは、前述した実施例によるものと同
様に、ぬれ性かよく、優れたはんだ付け作業性を有し、
またせん断強さも5n−Pb共晶はんだと同等以上と機
械的性質にも優れており、さらに低温脆化も有効に防止
でき、電子部品のはんだ付けに用いるクリームはんだと
して適していることが分る。
実施例29〜32
前述した実施例1と同様にして、第1表に示した各はん
だ金属粉末を選択して用い、第9表に示すように、最終
組成が20〜35重量%B1.30〜40重量%Sn、
および0.3〜3.5重量%Ag、 0.1〜3.5
重量%Cu、 0.2〜3.5重量%Sbの少なくと
も 2種、残部が実質的にPbとなるような複数のクリ
ームはんだを作製した。
だ金属粉末を選択して用い、第9表に示すように、最終
組成が20〜35重量%B1.30〜40重量%Sn、
および0.3〜3.5重量%Ag、 0.1〜3.5
重量%Cu、 0.2〜3.5重量%Sbの少なくと
も 2種、残部が実質的にPbとなるような複数のクリ
ームはんだを作製した。
次に、第9表に示す各クリームはんだをそれぞれ用い、
前述した各実施例と同様な方法で、ぬれ性試験、せん断
強さの測定、銀くわれ防止効果、銅くわれ防止効果、低
温脆化防止効果の各評価を行った。
前述した各実施例と同様な方法で、ぬれ性試験、せん断
強さの測定、銀くわれ防止効果、銅くわれ防止効果、低
温脆化防止効果の各評価を行った。
それらの結果を第1
0表に示す。
(以下余白)
第
表
第
表
[発明の効果コ
以上説明したように本発明によるクリームはんだは、極
めて優れたはんだ付け作業性を有し、かつはんだ接合部
の機械的特性も良好なことから、電子部品の実装等に際
して有用なりリームはんだを提供することが可能となる
。
めて優れたはんだ付け作業性を有し、かつはんだ接合部
の機械的特性も良好なことから、電子部品の実装等に際
して有用なりリームはんだを提供することが可能となる
。
出願人 株式会社 東芝
Claims (4)
- (1)はんだ金属と、フラックスとを含有するクリーム
はんだにおいて、 前記はんだ金属は、少なくとも2種類以上の金属粉末か
らなり、 前記複数の金属粉末は、はんだ付け作業中に該金属粉末
どうしが合金化することにより、はんだ継ぎ手に必要な
最終組成合金が得られるよう組み合わされており、かつ
前記複数の金属粉末の少なくとも1種は、前記最終組成
合金の固相温度より低い融点を有していることを特徴と
するクリームはんだ。 - (2)はんだ金属と、フラックスとを含有するクリーム
はんだにおいて、 前記はんだ金属は、はんだ継ぎ手に必要な最終組成とし
て、Biを20〜35重量%、Snを30〜40重量%
含有し、残部が実質的にPbからなる組成を満足するこ
と特徴とするクリームはんだ。 - (3)請求項2記載のクリームはんだにおいて、前記は
んだ金属は、前記最終組成として、0.3〜3.5重量
%のAg、0.1〜3.5重量%のCu、0.2〜3.
5重量%のSbの少なくとも1種(ただし、Ag、Cu
、Sbの合計量は3.5重量%以下)をさらに含むこと
を特徴とするクリームはんだ。 - (4)請求項2または請求項3記載のクリームはんだに
おいて、 前記はんだ金属は、少なくとも2種類以上の金属粉末か
らなり、 前記複数の金属粉末は、はんだ付け作業中に該金属粉末
どうしが合金化することにより、はんだ継ぎ手に必要な
最終組成合金が得られるよう組み合わされており、かつ
前記複数の金属粉末の少なくとも1種は、前記最終組成
合金の固相温度より低い融点を有していることを特徴と
するクリームはんだ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2128403A JPH0422595A (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | クリームはんだ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2128403A JPH0422595A (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | クリームはんだ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0422595A true JPH0422595A (ja) | 1992-01-27 |
Family
ID=14983928
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2128403A Pending JPH0422595A (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | クリームはんだ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0422595A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0788679A (ja) * | 1993-06-16 | 1995-04-04 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 無鉛すずアンチモン・ビスマス銅はんだ合金 |
JPH0788680A (ja) * | 1993-06-16 | 1995-04-04 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 高温無鉛すずベースはんだの組成 |
EP0753374A1 (en) * | 1995-07-13 | 1997-01-15 | Toshiba Corporation | Low-melting alloy and cream solder using a powder of the alloy |
US6033488A (en) * | 1996-11-05 | 2000-03-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Solder alloy |
WO2007055308A1 (ja) * | 2005-11-11 | 2007-05-18 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | ソルダペーストとはんだ継手 |
JP2010516478A (ja) * | 2007-01-22 | 2010-05-20 | ユニヴァーシティー オブ メリーランド | 高温はんだ材料 |
-
1990
- 1990-05-18 JP JP2128403A patent/JPH0422595A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0788679A (ja) * | 1993-06-16 | 1995-04-04 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 無鉛すずアンチモン・ビスマス銅はんだ合金 |
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EP0753374A1 (en) * | 1995-07-13 | 1997-01-15 | Toshiba Corporation | Low-melting alloy and cream solder using a powder of the alloy |
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EP1952934A1 (en) * | 2005-11-11 | 2008-08-06 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Soldering paste and solder joints |
EP1952934A4 (en) * | 2005-11-11 | 2009-10-21 | Senju Metal Industry Co | SOLDER PAD AND SOLDERING CONNECTIONS |
JP5067163B2 (ja) * | 2005-11-11 | 2012-11-07 | 千住金属工業株式会社 | ソルダペーストとはんだ継手 |
US9162324B2 (en) | 2005-11-11 | 2015-10-20 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Solder paste and solder joint |
JP2010516478A (ja) * | 2007-01-22 | 2010-05-20 | ユニヴァーシティー オブ メリーランド | 高温はんだ材料 |
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