JPH0955409A - 半導体素子の検査方法および装置 - Google Patents

半導体素子の検査方法および装置

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JPH0955409A
JPH0955409A JP7205491A JP20549195A JPH0955409A JP H0955409 A JPH0955409 A JP H0955409A JP 7205491 A JP7205491 A JP 7205491A JP 20549195 A JP20549195 A JP 20549195A JP H0955409 A JPH0955409 A JP H0955409A
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JP
Japan
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inspection
semiconductor
prober
inspection system
semiconductor wafer
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JP7205491A
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English (en)
Inventor
Tsuneo Kogure
恒男 木暮
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Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 複数個の検査系を用いたプローブ検査のスル
ープットの向上を図る半導体素子の検査方法および装置
を提供する。 【構成】 半導体ウェハ1を搬送する第1搬送部2と半
導体ウェハ1上の半導体素子1aのプローブ検査が行わ
れる第1プロービング部3とを備えた第1ステーション
4と、半導体ウェハ11を搬送する第2搬送部12と半
導体ウェハ11上の半導体素子11aのプローブ検査が
行われる第2プロービング部13とを備えた第2ステー
ション14と、検査時に各々のステーションに設置され
た第1プローブカード5および第2プローブカード15
に電気信号を印加するテスタ本体部40とからなり、テ
スタ本体部40には、第1プローバ6および第2プロー
バ16を別々に制御する制御用回路41と、検査保留状
態のステーションの電気的印加条件を変化させない保留
用回路42とが設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造技術におい
て、半導体ウェハに形成された半導体素子のプローブ検
査に関し、特に、プローブ検査のスループット向上を図
る半導体素子の検査方法および装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を研究、
完成するに際し、本発明者によって検討されたものであ
り、その概要は次のとおりである。
【0003】半導体ウェハに形成された半導体素子のプ
ローブ検査は、スループットの向上のために多数個同時
検査機能を備えた検査装置によって行われる。
【0004】前記検査装置は、例えば、2つの検査系、
すなわち2つのステーションに別々に半導体ウェハを準
備し、両ステーションで同時にプローブ検査を行うもの
である。
【0005】なお、前記検査装置による検査方法では、
被検査デバイスである半導体素子(以降、DUTと呼
ぶ)が全てFAIL(不良品)となった場合か、または
一連のテスト項目実行の後に各DUTの判定を行い、全
てFAILとなった場合に、両ステーションとも次のD
UTに対して検査を実行していく。
【0006】すなわち、DUTの同時検査は、どちらか
一方のステーションにPASS(良品)素子がある場
合、その検査時間は、前記PASS素子に一連のテスト
項目が実行される迄の時間に依存している。
【0007】なお、プローブ検査を行うプローバについ
ては、例えば、株式会社工業調査会発行「超LSI製造
・試験装置ガイドブック<1994年版>」電子材料1
1月号別冊、1993年11月20日発行、193頁〜
197頁に紹介されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記した技
術においては、半導体素子の高集積化や高機能化により
検査時間が増加傾向にある。したがって、一連の半導体
素子の検査の途中段階で、既に一方のステーションの全
DUTがFAILしていても、他方のステーションのD
UTにPASS素子が存在する場合は、そのPASS素
子が全検査を終了する迄、前記一方のステーションは次
のDUTの検査へ移れないことが検査のスループット低
下を引き起こし、問題とされている。
【0009】そこで、本発明の目的は、複数個の検査系
を用いたプローブ検査のスループットの向上を図る半導
体素子の検査方法および装置を提供することにある。
【0010】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0011】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0012】すなわち、本発明の半導体素子の検査方法
は、複数個の検査系でプローブ検査を行う半導体ウェハ
を準備し、前記複数個の検査系において、各々の半導体
ウェハに形成された半導体素子をプローバによってそれ
ぞれ検査し、所定検査終了後、各検査系ごとの不良品有
無の判定を行うことによって、良品の半導体素子が存在
した検査系についてはそこで検査を保留状態とし、検査
済みの半導体素子が全て不良品となった検査系について
は繰り返して未検査の半導体素子の所定検査を行うもの
である。
【0013】さらに、本発明の半導体素子の検査方法
は、2つの検査系である第1および第2検査系でプロー
ブ検査を行う半導体ウェハを準備し、前記第1および第
2検査系において、各々の半導体ウェハに形成された半
導体素子の中の所定個数を前記プローバによってそれぞ
れ所定項目検査し、所定項目の検査終了後、各検査系ご
との不良品有無の判定を行うことによって、良品が存在
する一方の検査系についてはその検査を保留状態とし、
所定個数の半導体素子全てが不良品となった他方の検査
系では、他の半導体素子について前記所定項目の検査を
繰り返して行い、前記他方の検査系に良品が存在した時
点で、前記一方の検査系の保留状態を解除し、2つの検
査系とも良品の半導体素子について、次項目の検査を行
うものである。
【0014】また、本発明の半導体素子の検査装置は、
半導体ウェハを搬送する第1搬送部と前記半導体ウェハ
に形成された半導体素子のプローブ検査が行われる第1
プロービング部とを備えた第1検査系と、半導体ウェハ
を搬送する第2搬送部と前記半導体ウェハに形成された
半導体素子のプローブ検査が行われる第2プロービング
部とを備えた第2検査系と、前記第1および第2検査系
に接続されかつ検査時に各々の検査系の第1または第2
プローバに設置された第1または第2プローブカードに
電気信号を印加するテスタ本体部とを有し、前記テスタ
本体部に、前記第1または第2プローバを別々に制御す
る制御手段と、検査保留状態の検査系の電気的印加条件
を変化させない保留手段とが設けられているものであ
る。
【0015】
【作用】上記した手段によれば、複数個の検査系を用い
た半導体素子の同時検査において、検査項目の途中段階
で各検査系ごとの不良品有無の判定を行うことにより、
各検査系の同時検査の検査時間が、PASS素子がある
検査系の検査終了迄の待機時間よりも短いため、検査対
象の半導体素子が全てFAILした検査系の検査時間に
依存することになる。
【0016】その結果、複数個の検査系の同時検査に費
やす全体の検査時間を短縮することができる。
【0017】また、不良品有無の判定を複数回行うこと
により、全ての半導体素子がFAILした直後の検査時
間に近づけることができるため、同時検査における全体
の検査時間をさらに短縮させることができる。
【0018】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
【0019】図1は本発明による半導体素子の検査装置
の構造の一実施例を示す構成概念図、図2は本発明によ
る半導体素子の検査方法の手順の一実施例を示すフロー
チャートである。
【0020】本実施例の半導体素子の検査装置は、複数
個の検査系であるステーションを備えることにより、多
数の半導体素子を同時にプローブ検査するものである
が、ここでは、2つのステーションを備えた場合につい
て説明する。
【0021】まず、前記半導体素子の検査装置の構成に
ついて説明すると、半導体ウェハ1を搬送する第1搬送
部2と半導体ウェハ1に形成された半導体素子1a(D
UT)のプローブ検査が行われる第1プロービング部3
とを備えた第1検査系である第1ステーション4と、半
導体ウェハ11を搬送する第2搬送部12と半導体ウェ
ハ11に形成された半導体素子11a(DUT)のプロ
ーブ検査が行われる第2プロービング部13とを備えた
第2検査系である第2ステーション14と、第1ステー
ション4および第2ステーション14に接続され、かつ
検査時に各々のステーションに設置された第1プローブ
カード5および第2プローブカード15に電気信号を印
加するテスタ本体部40とから構成されている。
【0022】なお、第1ステーション4および第2ステ
ーション14には、それぞれ第1プローバ6と第2プロ
ーバ16とが設置され、さらに、第1プローバ6には第
1プローブカード5が、第2プローバ16には第2プロ
ーブカード15がそれぞれ設けられている。また、第1
プローバ6は第1プロービング部3と第1ローダ部6a
とからなり、第2プローバ16は第2プロービング部1
3と第2ローダ部16aとからなる。
【0023】ここで、テスタ本体部40には、第1プロ
ーバ6および第2プローバ16を別々に制御する制御手
段である制御用回路41と、検査保留状態のステーショ
ンの電気的印加条件を変化させない保留手段である保留
用回路42とが設けられている。
【0024】また、第1搬送部2には、半導体ウェハ1
を供給する第1ローダ7と検査後の半導体ウェハ1を収
容する第1アンローダ8とが接続され、同様に、第2搬
送部12には、半導体ウェハ11を供給する第2ローダ
17と検査後の半導体ウェハ11を収容する第2アンロ
ーダ18とが接続されている。
【0025】さらに、第1プロービング部3には、第1
アライメント光学系9aによって半導体ウェハ1を位置
決めする第1アライメント部9と、検査時に半導体ウェ
ハ1を保持する第1ウェハチャック10とが設置され、
同様に、第2プロービング部13には、第2アライメン
ト光学系19aによって半導体ウェハ11を位置決めす
る第2アライメント部19と、検査時に半導体ウェハ1
1を保持する第2ウェハチャック20とが設置されてい
る。
【0026】ここで、第1ウェハチャック10および第
2ウェハチャック20は、第1プロービング部3または
第2プロービング部13の動作によってそれぞれX方向
43、Y方向44、Z方向45に移動することができ、
さらに、θ回転46を行うこともできる。
【0027】なお、第1ステーション4の第1プロービ
ング部3におけるプローブ検査は、第1プローブカード
5に取り付けられた第1プローブ針5aを半導体ウェハ
1に形成された半導体素子1aに接触させて行う。同様
に、第2ステーション14の第2プロービング部13に
おけるプローブ検査は、第2プローブカード15に取り
付けられた第2プローブ針15aを半導体ウェハ11に
形成された半導体素子11aに接触させて行う。
【0028】次に、本実施例の半導体素子の検査方法に
おける基本動作について説明する。
【0029】なお、第1ステーション4と第2ステーシ
ョン14とにおけるプローブ検査に関して、検査を開始
するまでの手順は、両ステーションとも同様であるた
め、ここでは、第1ステーション4についてだけ説明
し、第2ステーション14についての説明は省略する。
【0030】まず、半導体ウェハ1が収容されたウェハ
収容用の第1ローダ7を第1プローバ6の第1ローダ部
6aにセットする。続いて、検査対象の半導体素子1a
が形成された半導体ウェハ1を、第1搬送部2を経由し
て第1アライメント光学系19aおよび第1アライメン
ト部19によって位置決めを行った後、第1ウェハチャ
ックl0上に載置する。
【0031】ここで、半導体ウェハ1上の半導体素子1
aを検査するため、第1プロービング部3において、第
1ウェハチャックl0上の半導体ウェハ1を第1プロー
ブカード5に取付けられた第1プローブ針5aと電気的
に接触させる。
【0032】その後、第1プローバ6からテスタ本体部
40に検査開始の信号を出力する。なお、テスタ本体部
40には、プローブ検査を行うための検査プログラムが
格納されているため、検査開始の信号を受けた後、テス
タ本体部40は前記検査プログラムに基づいてプローブ
検査を実行する。
【0033】また、第1ステーション4は、検査するた
めの電気信号を第1プロービング部3に供給し、第1プ
ローブ針5aを介して半導体素子1aに印加する。
【0034】検査終了時には、テスタ本体部40から検
査終了の信号を第1プローバ6に対して出力することに
より、第1ウェハチャック10とともに半導体ウェハ1
が移動し、第1プローバ6は次の検査対象の半導体素子
1aの検査を行う。
【0035】これを繰り返して、半導体ウェハ1上の検
査対象とする全ての半導体素子1aの検査を終え、その
後、検査済みの半導体ウェハ1を、第1搬送部2を経由
してウェハ収容用の第1アンローダ8に収容する。
【0036】なお、第2検査系である第2ステーション
14における第2プローバ16についても第1プローバ
6と同様の検査方法によってプローブ検査を行う。
【0037】また、本実施例の半導体素子の検査方法
は、第1ステーション4と第2ステーション14とを1
つのテスタ本体部40が制御するものである。
【0038】ただし、前記半導体素子の検査装置が複数
個の検査系を有する場合には、1つのテスタ本体部40
が前記複数個の検査系を制御する。
【0039】ここで、テスタ本体部40には、第1プロ
ーバ6および第2プローバ16を別々に制御する制御手
段である制御用回路41と、検査保留状態のステーショ
ンの電気的印加条件を変化させない保留手段である保留
用回路42とが設けられているため、第1ウェハチャッ
ク10および第2ウェハチャック20を同時だけでな
く、個々に移動させることができ、かつ半導体素子1a
または半導体素子11aの検査を行うことができる。
【0040】次に、本実施例の半導体素子の検査方法に
おける2ステーションの同時検査方法について説明す
る。
【0041】なお、前記半導体素子の検査方法は、2ス
テーション同時検査におけるプローブ検査の任意の途中
段階でステーションごとの不良品有無の判定を行う不良
判別命令21が設定されているものである。
【0042】また、本実施例では、不良判別命令21が
実行されるまでの所定項目の検査を前段検査22と呼
び、不良判別命令21が実行された後の次項目の検査を
後段検査23と呼ぶことにする。
【0043】したがって、不良判別命令21は前段検査
22終了時におけるステーションごとの良不良判別を行
うための命令である。
【0044】まず、第1ステーション4および第2ステ
ーション14に半導体ウェハ1および半導体ウェハ11
をそれぞれ準備して、検査開始24を実行する。
【0045】続いて、第1ステーション4および第2ス
テーション14において、半導体ウェハ1に形成された
半導体素子1a、半導体ウェハ11に形成された半導体
素子11aの中のそれぞれ所定個数を第1プローバ6ま
たは第2プローバ16によって各々所定項目を検査す
る。
【0046】すなわち、各々のステーションにおいて、
前段検査22である第1検査項目25から第m検査項目
26までを実行、すなわち検査する。
【0047】なお、各検査の終了時には、検査済みの半
導体素子1aおよび半導体素子11aが全てFAILか
否かの判定を行い、全てFAILの場合には、未検査の
半導体素子1aおよび半導体素子11aについて同じ検
査を繰り返して行う。
【0048】さらに、前段検査22が全て終了した時点
で、不良判別命令21を実行する。これにより、例え
ば、第1ステーション4の検査対象の全ての半導体素子
1aがFAILし、第2ステーション14には1つでも
PASS素子が存在した場合、第2ステーション14は
保留用回路42の動作によって保留状態実行27が行わ
れ、保留状態になる。
【0049】また、第1ステーション4では、検査済み
の半導体素子1aに対しFAIL処理(終了処理)28
を行なった後、半導体ウェハ1上の未検査の半導体素子
1aについて、所定項目の検査、すなわち、前段検査2
2を繰り返して行う。
【0050】その結果、第1ステーション4の前段検査
22で1つでもPASS素子が存在すれば、第2ステー
ション14の保留状態解除29を実行し、第2ステーシ
ョン14の保留状態を解除する。
【0051】その後、両ステーションとも次項目の検
査、すなわち後段検査23を行う。つまり、両ステーシ
ョンにおいて、後段検査23である第m+1検査項目30
から第n検査項目31までの検査を行う。
【0052】さらに、両ステーションの半導体素子1a
および半導体素子11aのPASS/FAIL判定32を行い、
その後、検査終了33を実行して両ステーションの検査
を終了する。
【0053】次に、本実施例の半導体素子の検査方法お
よび装置によれば、以下のような作用効果が得られる。
【0054】すなわち、半導体素子1aおよび半導体素
子11aの2ステーション同時検査において、検査項目
の任意の途中段階に、各ステーションごとの不良品有無
の判定を行う不良判別命令21を設けることにより、両
ステーションの同時検査の検査時間が、PASS素子が
あるステーションの検査終了迄の待機時間よりも短いた
め、検査対象の半導体素子1aまたは半導体素子11a
が、全てFAILしたステーションの検査時間に依存す
ることになる。
【0055】その結果、2ステーション同時検査に費や
す全体の検査時間を短縮することができ、検査時間のス
ループットの向上を図ることができる。
【0056】また、複数個の不良判別命令21を設ける
ことにより、全ての半導体素子1aまたは半導体素子1
1aがFAILした直後の検査時間に近づけることがで
きるため、全体の検査時間をさらに短縮させることがで
きる。
【0057】その結果、2ステーションを用いたプロー
ブ検査のスループットをさらに向上させることができ
る。
【0058】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。
【0059】例えば、前記実施例においては、半導体素
子の検査装置が2つの検査系を備えた場合について説明
したが、前記検査系は3つもしくは3つ以上の複数個で
あってもよい。
【0060】また、前記半導体素子の検査装置では、2
つの検査系が1つのテスタ本体部にそれぞれ接続された
場合を説明したが、前記テスタ本体部は1つに限らず、
例えば、2つ、もしくは検査系と同数の台数を備えてい
てもよく、その場合、それぞれの検査系とテスタ本体部
とを1対1の関係で接続することも可能である。
【0061】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0062】(1).複数個の検査系を用いた半導体素
子の同時検査において、検査項目の途中段階で各検査系
ごとの不良品有無の判定を行うことにより、各検査系の
同時検査の検査時間が、PASS素子がある検査系の検
査終了迄の待機時間よりも短いため、検査対象の半導体
素子が全てFAILした検査系の検査時間に依存するこ
とになる。その結果、複数個の検査系の同時検査に費や
す全体の検査時間を短縮することができ、検査時間のス
ループットの向上を図ることができる。
【0063】(2).不良品有無の判定を複数回行うこ
とにより、全ての半導体素子がFAILした直後の検査
時間に近づけることができるため、同時検査における全
体の検査時間をさらに短縮させることができる。その結
果、複数個の検査系を備えた半導体素子の検査装置にお
けるプローブ検査のスループットをさらに向上させるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による半導体素子の検査装置の構造の一
実施例を示す構成概念図である。
【図2】本発明による半導体素子の検査方法の手順の一
実施例を示すフローチャートである。
【符号の説明】
1 半導体ウェハ 1a 半導体素子(DUT) 2 第1搬送部 3 第1プロービング部 4 第1ステーション(第1検査系) 5 第1プローブカード 5a 第1プローブ針 6 第1プローバ 6a 第1ローダ部 7 第1ローダ 8 第1アンローダ 9 第1アライメント部 9a 第1アライメント光学系 10 第1ウェハチャック 11 半導体ウェハ 11a 半導体素子(DUT) 12 第2搬送部 13 第2プロービング部 14 第2ステーション(第2検査系) 15 第2プローブカード 15a 第2プローブ針 16 第2プローバ 16a 第2ローダ部 17 第2ローダ 18 第2アンローダ 19 第2アライメント部 19a 第2アライメント光学系 20 第2ウェハチャック 21 不良判別命令(不良品有無の判定) 22 前段検査(所定項目の検査) 23 後段検査(次項目の検査) 24 検査開始 25 第1検査項目 26 第m検査項目 27 保留状態実行 28 FAIL処理 29 保留状態解除 30 第m+1検査項目 31 第n検査項目 32 PASS/FAIL判定 33 検査終了 40 テスタ本体部 41 制御用回路(制御手段) 42 保留用回路(保留手段) 43 X方向 44 Y方向 45 Z方向 46 θ回転

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プローバを用いる半導体素子の検査方法
    であって、 複数個の検査系でプローブ検査を行う半導体ウェハを準
    備し、 前記複数個の検査系において、各々の半導体ウェハに形
    成された半導体素子を前記プローバによってそれぞれ検
    査し、 所定検査終了後、各検査系ごとの不良品有無の判定を行
    うことによって、良品の半導体素子が存在した検査系に
    ついてはそこで検査を保留状態とし、検査済みの半導体
    素子が全て不良品となった検査系については繰り返して
    未検査の半導体素子の所定検査を行うことを特徴とする
    半導体素子の検査方法。
  2. 【請求項2】 プローバを用いる半導体素子の検査方法
    であって、 2つの検査系である第1および第2検査系でプローブ検
    査を行う半導体ウェハを準備し、 前記第1および第2検査系において、各々の半導体ウェ
    ハに形成された半導体素子の中の所定個数を前記プロー
    バによってそれぞれ所定項目検査し、 所定項目の検査終了後、各検査系ごとの不良品有無の判
    定を行うことによって、良品が存在する一方の検査系に
    ついてはその検査を保留状態とし、 所定個数の半導体素子全てが不良品となった他方の検査
    系では、他の半導体素子について前記所定項目の検査を
    繰り返して行い、 前記他方の検査系に良品が存在した時点で、前記一方の
    検査系の保留状態を解除し、 2つの検査系とも良品の半導体素子について、次項目の
    検査を行うことを特徴とする半導体素子の検査方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載の半導体素子の検
    査方法であって、前記複数個の検査系または前記第1検
    査系と第2検査系とを1つのテスタ本体部が制御するこ
    とを特徴とする半導体素子の検査方法。
  4. 【請求項4】 2つの検査系を備えた半導体素子の検査
    装置であって、 半導体ウェハを搬送する第1搬送部と前記半導体ウェハ
    に形成された半導体素子のプローブ検査が行われる第1
    プロービング部とを備えた第1検査系と、 半導体ウェハを搬送する第2搬送部と前記半導体ウェハ
    に形成された半導体素子のプローブ検査が行われる第2
    プロービング部とを備えた第2検査系と、 前記第1および第2検査系に接続され、かつ検査時に各
    々の検査系の第1または第2プローバに設置された第1
    または第2プローブカードに電気信号を印加するテスタ
    本体部とを有し、 前記テスタ本体部に、前記第1または第2プローバを別
    々に制御する制御手段と、検査保留状態の検査系の電気
    的印加条件を変化させない保留手段とが設けられている
    ことを特徴とする半導体素子の検査装置。
JP7205491A 1995-08-11 1995-08-11 半導体素子の検査方法および装置 Pending JPH0955409A (ja)

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JPH0955409A true JPH0955409A (ja) 1997-02-25

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JP7205491A Pending JPH0955409A (ja) 1995-08-11 1995-08-11 半導体素子の検査方法および装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG117490A1 (en) * 2004-04-23 2005-12-29 Systems On Silicon Mfg Co Pte A method for detecting probing stripes

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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SG117490A1 (en) * 2004-04-23 2005-12-29 Systems On Silicon Mfg Co Pte A method for detecting probing stripes

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