JPH0951062A - 半導体チップの実装方法,半導体チップ,半導体チップの製造方法,tabテープ,フリップチップ実装方法,フリップチップ実装基板,マイクロ波装置の製造方法及びマイクロ波装置 - Google Patents
半導体チップの実装方法,半導体チップ,半導体チップの製造方法,tabテープ,フリップチップ実装方法,フリップチップ実装基板,マイクロ波装置の製造方法及びマイクロ波装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体チップを実装する際に、半導体チップ
と基板との接続部に使用される金等の高価な材料を用い
ることなく実装を行なうことで、低コスト化を図る。 【解決手段】 半導体チップ2をTABテープ8に実装
する際に、該半導体チップ2の電極パッド6と上記TA
Bテープ8のインナーリード9との間に、ボンディング
材として導電性熱可塑性ポリイミド7を配置し、ホット
ステージ1により該半導体チップ2を介して加熱し、ウ
エッジ10により加圧することにより、上記半導体チッ
プ2をTABテープ8に実装するものである。
と基板との接続部に使用される金等の高価な材料を用い
ることなく実装を行なうことで、低コスト化を図る。 【解決手段】 半導体チップ2をTABテープ8に実装
する際に、該半導体チップ2の電極パッド6と上記TA
Bテープ8のインナーリード9との間に、ボンディング
材として導電性熱可塑性ポリイミド7を配置し、ホット
ステージ1により該半導体チップ2を介して加熱し、ウ
エッジ10により加圧することにより、上記半導体チッ
プ2をTABテープ8に実装するものである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体チップの実
装方法,半導体チップ,半導体チップの製造方法,及び
TABテープに関し、ボンディング材として導電性熱可
塑性ポリイミドを使うことにより、コスト削減を目的と
したものである。
装方法,半導体チップ,半導体チップの製造方法,及び
TABテープに関し、ボンディング材として導電性熱可
塑性ポリイミドを使うことにより、コスト削減を目的と
したものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、半導体チップを実装する方法
には周知の様に、TABテープを用いる方法やフリップ
チップ実装方法があり、以下それぞれの方法について説
明する。図11は従来の、TAB(tape automated bond
ing)テープを用いた半導体チップの実装方法を示す半導
体チップ近傍の主要素の断面図である。半導体チップ2
は、半導体基板3上に、信号を伝達させる信号線路4,
該信号線路4を保護する保護膜5,該保護膜5の設けら
れていない上記信号線路4上に配された金あるいはアル
ミニウムからなる電極パッド6を備え、ホットステージ
1上に配されている。また、TABテープ8は、その表
面に金メッキ24が施された銅製インナーリード9を備
えている。また、10は上記インナーリード9を上から
押圧するウエッジを示す。
には周知の様に、TABテープを用いる方法やフリップ
チップ実装方法があり、以下それぞれの方法について説
明する。図11は従来の、TAB(tape automated bond
ing)テープを用いた半導体チップの実装方法を示す半導
体チップ近傍の主要素の断面図である。半導体チップ2
は、半導体基板3上に、信号を伝達させる信号線路4,
該信号線路4を保護する保護膜5,該保護膜5の設けら
れていない上記信号線路4上に配された金あるいはアル
ミニウムからなる電極パッド6を備え、ホットステージ
1上に配されている。また、TABテープ8は、その表
面に金メッキ24が施された銅製インナーリード9を備
えている。また、10は上記インナーリード9を上から
押圧するウエッジを示す。
【0003】次に従来の半導体チップのTABテープへ
の実装方法について説明する。半導体チップ2の電極パ
ッド6上に、その表面に金メッキ24を施した銅製イン
ナーリード9を配置し、ホットステージ1により該半導
体チップ2を介して銅製インナーリード9と半導体チッ
プ2の電極パッド6を加熱し、さらにウエッジ10によ
り加圧することにより、半導体チップ2をTABテープ
8のインナーリード9に接続実装してきた。
の実装方法について説明する。半導体チップ2の電極パ
ッド6上に、その表面に金メッキ24を施した銅製イン
ナーリード9を配置し、ホットステージ1により該半導
体チップ2を介して銅製インナーリード9と半導体チッ
プ2の電極パッド6を加熱し、さらにウエッジ10によ
り加圧することにより、半導体チップ2をTABテープ
8のインナーリード9に接続実装してきた。
【0004】次に従来のフリップチップ実装について説
明する。図12は従来のフリップチップ実装を示す半導
体チップ近傍の主要素の断面図であり、図12におい
て、図11と同一符号は、同一または相当する部分を示
し、フリップチップ実装基板15は、信号を伝達させる
信号線路16,該信号線路16を保護する保護膜17,
及び該保護膜17の設けられていない上記信号線路16
上に配置された金,すず合金からなる半田材25を備
え、ホットステージ1上に配置されている。また、18
は半導体チップ2を上から押圧するコレットである。
明する。図12は従来のフリップチップ実装を示す半導
体チップ近傍の主要素の断面図であり、図12におい
て、図11と同一符号は、同一または相当する部分を示
し、フリップチップ実装基板15は、信号を伝達させる
信号線路16,該信号線路16を保護する保護膜17,
及び該保護膜17の設けられていない上記信号線路16
上に配置された金,すず合金からなる半田材25を備
え、ホットステージ1上に配置されている。また、18
は半導体チップ2を上から押圧するコレットである。
【0005】次に従来の半導体チップのフリップチップ
実装基板への実装方法について説明する。半導体チップ
2のような電子部品をフリップチップ実装基板15上の
所定の位置に配した後、ホットステージ1によりフリッ
プチップ実装基板15を介して半田材28をその溶融温
度まで加熱し、さらにコレット18により半導体チップ
2とフリップチップ実装基板15とを加圧することによ
り、半導体チップ2をフリップチップ実装基板15の信
号線路16に実装してきた。
実装基板への実装方法について説明する。半導体チップ
2のような電子部品をフリップチップ実装基板15上の
所定の位置に配した後、ホットステージ1によりフリッ
プチップ実装基板15を介して半田材28をその溶融温
度まで加熱し、さらにコレット18により半導体チップ
2とフリップチップ実装基板15とを加圧することによ
り、半導体チップ2をフリップチップ実装基板15の信
号線路16に実装してきた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体チップの
TABテープへの実装方法は、以上の様に行われてお
り、TABテープのインナーリードは銅製であるため、
金、アルミニウム等からできた半導体チップの電極パッ
ドとは直接実装できないため、銅製のTABテープのイ
ンナーリード表面に金メッキを施す必要があり、半導体
チップ,及びTABテープの低コスト化が困難であると
いう問題点があった。
TABテープへの実装方法は、以上の様に行われてお
り、TABテープのインナーリードは銅製であるため、
金、アルミニウム等からできた半導体チップの電極パッ
ドとは直接実装できないため、銅製のTABテープのイ
ンナーリード表面に金メッキを施す必要があり、半導体
チップ,及びTABテープの低コスト化が困難であると
いう問題点があった。
【0007】また従来の半導体チップのフリップチップ
実装基板への実装方法では、フリップチップ実装基板上
に信号線路を形成した後、信号線路上に金,すず合金か
らなる半田材を形成する必要があり、半導体チップ及び
フリップチップ実装基板の低コスト化が困難であるとい
う問題点があった。
実装基板への実装方法では、フリップチップ実装基板上
に信号線路を形成した後、信号線路上に金,すず合金か
らなる半田材を形成する必要があり、半導体チップ及び
フリップチップ実装基板の低コスト化が困難であるとい
う問題点があった。
【0008】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、半導体チップをTABテープへ
実装するに際して、低コストな実装を実現する方法を提
供することを目的としている。
ためになされたもので、半導体チップをTABテープへ
実装するに際して、低コストな実装を実現する方法を提
供することを目的としている。
【0009】また、半導体チップをTABテープへ実装
するに際して、低コストな実装を可能とするための半導
体チップ,及びTABテープを提供することを目的とし
ている。
するに際して、低コストな実装を可能とするための半導
体チップ,及びTABテープを提供することを目的とし
ている。
【0010】また、この発明は上記のような問題点を解
決するためになされたもので、半導体チップをフリップ
チップ実装基板へ実装するに際して、低コストな実装を
実現する方法を提供することを目的としている。
決するためになされたもので、半導体チップをフリップ
チップ実装基板へ実装するに際して、低コストな実装を
実現する方法を提供することを目的としている。
【0011】また、半導体チップのフリップチップ実装
基板への実装において、低コストな実装を可能とするフ
リップチップ実装基板を提供することを目的としてい
る。
基板への実装において、低コストな実装を可能とするフ
リップチップ実装基板を提供することを目的としてい
る。
【0012】また、上述のような半導体チップ及びTA
Bテープを用いることにより、低コストなマイクロ波装
置とその製造方法を提供することを目的としている。
Bテープを用いることにより、低コストなマイクロ波装
置とその製造方法を提供することを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体チ
ップの実装方法は、TABテープのインナーリードに、
半導体チップの外部接続用電極を接着させて、該半導体
チップを上記TABテープのインナーリードに実装する
方法において、上記TABテープのインナーリードと該
半導体チップの外部接続用電極との間に、ボンディング
材として導電性熱可塑性ポリイミドを配置し、該導電性
熱可塑性ポリイミドを,上記半導体チップをその上に配
置するホットステージにより半導体チップを介して加熱
することにより該導電性熱可塑性ポリイミドに可塑性を
与えながら、上記導電性熱可塑性ポリイミドに対し、上
記インナーリードを上から押圧するウエッジにより上記
半導体チップの上部より加圧することにより、該半導体
チップを上記TABテープのインナーリードに実装する
ようにしたものである。
ップの実装方法は、TABテープのインナーリードに、
半導体チップの外部接続用電極を接着させて、該半導体
チップを上記TABテープのインナーリードに実装する
方法において、上記TABテープのインナーリードと該
半導体チップの外部接続用電極との間に、ボンディング
材として導電性熱可塑性ポリイミドを配置し、該導電性
熱可塑性ポリイミドを,上記半導体チップをその上に配
置するホットステージにより半導体チップを介して加熱
することにより該導電性熱可塑性ポリイミドに可塑性を
与えながら、上記導電性熱可塑性ポリイミドに対し、上
記インナーリードを上から押圧するウエッジにより上記
半導体チップの上部より加圧することにより、該半導体
チップを上記TABテープのインナーリードに実装する
ようにしたものである。
【0014】また、この発明に係る半導体チップの実装
方法は、TABテープのインナーリードに半導体チップ
の外部接続用電極を接着させて、該半導体チップを上記
TABテープのインナーリードに実装する方法におい
て、上記TABテープのインナーリードと該半導体チッ
プの外部接続用電極との間に、ボンディング材として導
電性熱可塑性ポリイミドを配置し、該導電性熱可塑性ポ
リイミドを,上記インナーリードを上から押圧するウエ
ッジにより加熱することにより該導電性熱可塑性ポリイ
ミドに可塑性を与えながら、上記導電性熱可塑性ポリイ
ミドに対し上記インナーリードを上から押圧するウエッ
ジにより上記半導体チップの上部より加圧することによ
り、該半導体チップを上記TABテープのインナーリー
ドに実装するようにしたものである。
方法は、TABテープのインナーリードに半導体チップ
の外部接続用電極を接着させて、該半導体チップを上記
TABテープのインナーリードに実装する方法におい
て、上記TABテープのインナーリードと該半導体チッ
プの外部接続用電極との間に、ボンディング材として導
電性熱可塑性ポリイミドを配置し、該導電性熱可塑性ポ
リイミドを,上記インナーリードを上から押圧するウエ
ッジにより加熱することにより該導電性熱可塑性ポリイ
ミドに可塑性を与えながら、上記導電性熱可塑性ポリイ
ミドに対し上記インナーリードを上から押圧するウエッ
ジにより上記半導体チップの上部より加圧することによ
り、該半導体チップを上記TABテープのインナーリー
ドに実装するようにしたものである。
【0015】また、この発明に係る半導体チップの実装
方法は、TABテープのインナーリードに半導体チップ
の外部接続用電極を接着させて、該半導体チップを上記
TABテープのインナーリードに実装する方法におい
て、上記半導体チップは、その外部接続用電極上に導電
性熱可塑性ポリイミドを固着したものである。
方法は、TABテープのインナーリードに半導体チップ
の外部接続用電極を接着させて、該半導体チップを上記
TABテープのインナーリードに実装する方法におい
て、上記半導体チップは、その外部接続用電極上に導電
性熱可塑性ポリイミドを固着したものである。
【0016】また、この発明に係る半導体チップは、T
ABテープのインナーリードに半導体チップの外部接続
用電極を接着させて、上記TABテープのインナーリー
ドに実装される半導体チップにおいて、上記半導体チッ
プは、その外部接続用電極上に上記導電性熱可塑性ポリ
イミドを固着してなるものである。
ABテープのインナーリードに半導体チップの外部接続
用電極を接着させて、上記TABテープのインナーリー
ドに実装される半導体チップにおいて、上記半導体チッ
プは、その外部接続用電極上に上記導電性熱可塑性ポリ
イミドを固着してなるものである。
【0017】また、この発明に係る半導体チップは、上
記外部接続用電極が、信号を伝達させる信号線路,該信
号線路を保護する保護膜,及び該保護膜の設けられてい
ない上記信号線路上に配された電極パッドからなり、該
電極パッド上に導電性熱可塑性ポリイミドを固着してな
るものである。
記外部接続用電極が、信号を伝達させる信号線路,該信
号線路を保護する保護膜,及び該保護膜の設けられてい
ない上記信号線路上に配された電極パッドからなり、該
電極パッド上に導電性熱可塑性ポリイミドを固着してな
るものである。
【0018】また、この発明に係る半導体チップは、上
記外部接用電極部が、信号を伝達させる信号線路,及び
該信号線路を保護する保護膜からなり、該保護膜の設け
られていない上記信号線路上に導電性熱可塑性ポリイミ
ドを固着してなるものである。
記外部接用電極部が、信号を伝達させる信号線路,及び
該信号線路を保護する保護膜からなり、該保護膜の設け
られていない上記信号線路上に導電性熱可塑性ポリイミ
ドを固着してなるものである。
【0019】また、この発明に係る半導体チップの製造
方法は、半導体ウエハ上に、信号を伝達させる信号線
路,及び該信号線路を保護する保護膜と,かつ該保護膜
の設けられていない上記信号線路上に、電極パッドを形
成する工程と,導電性熱可塑性ポリイミド層をスピンコ
ーターにより上記半導体ウエハ上に形成する工程と、上
記導電性熱可塑性ポリイミド層上にレジストを形成し、
マスクとしてエッチングすることにより、上記電極パッ
ド上に上記導電性熱可塑性ポリイミドを形成する工程を
含むものである。
方法は、半導体ウエハ上に、信号を伝達させる信号線
路,及び該信号線路を保護する保護膜と,かつ該保護膜
の設けられていない上記信号線路上に、電極パッドを形
成する工程と,導電性熱可塑性ポリイミド層をスピンコ
ーターにより上記半導体ウエハ上に形成する工程と、上
記導電性熱可塑性ポリイミド層上にレジストを形成し、
マスクとしてエッチングすることにより、上記電極パッ
ド上に上記導電性熱可塑性ポリイミドを形成する工程を
含むものである。
【0020】また、この発明に係る半導体チップの実装
方法は、TABテープのインナーリードに半導体チップ
の外部接続用電極を接着させて、該半導体チップを上記
TABテープのインナーリードに実装する半導体チップ
の実装方法において、上記半導体チップは、その外部接
続用電極上に上記導電性熱可塑性ポリイミドを固着して
なり、上記TABテープのインナーリード表面には金メ
ッキが施されていないものである。
方法は、TABテープのインナーリードに半導体チップ
の外部接続用電極を接着させて、該半導体チップを上記
TABテープのインナーリードに実装する半導体チップ
の実装方法において、上記半導体チップは、その外部接
続用電極上に上記導電性熱可塑性ポリイミドを固着して
なり、上記TABテープのインナーリード表面には金メ
ッキが施されていないものである。
【0021】また、この発明に係るTABテープは、そ
のインナーリードに上記半導体チップの外部接続用電極
を接着させて、上記半導体チップを実装するTABテー
プにおいて、上記TABテープのインナーリード表面に
は金メッキが施されていないものである。
のインナーリードに上記半導体チップの外部接続用電極
を接着させて、上記半導体チップを実装するTABテー
プにおいて、上記TABテープのインナーリード表面に
は金メッキが施されていないものである。
【0022】また、この発明に係る半導体チップの実装
方法は、TABテープのインナーリードに半導体チップ
の外部接続用電極を接着させて、該半導体チップを上記
TABテープのインナーリードに実装する半導体チップ
の実装方法において、該TABテープのインナーリード
は、その外部接続用電極との接着部に上記導電性熱可塑
性ポリイミドを固着してなるものである。
方法は、TABテープのインナーリードに半導体チップ
の外部接続用電極を接着させて、該半導体チップを上記
TABテープのインナーリードに実装する半導体チップ
の実装方法において、該TABテープのインナーリード
は、その外部接続用電極との接着部に上記導電性熱可塑
性ポリイミドを固着してなるものである。
【0023】また、この発明に係るTABテープは、そ
のインナーリードに上記半導体チップの外部接続用電極
を接着させて上記半導体チップを実装するTABテープ
において、該TABテープのインナーリードは、上記半
導体チップの外部接続用電極との接着部に上記導電性熱
可塑性ポリイミドを固着してなるものである。
のインナーリードに上記半導体チップの外部接続用電極
を接着させて上記半導体チップを実装するTABテープ
において、該TABテープのインナーリードは、上記半
導体チップの外部接続用電極との接着部に上記導電性熱
可塑性ポリイミドを固着してなるものである。
【0024】また、この発明に係る半導体チップの実装
方法は、TABテープのインナーリードに半導体チップ
の外部接続用電極を接着させて、該半導体チップを上記
TABテープのインナーリードに実装する半導体チップ
の実装方法において、上記TABテープのインナーリー
ドは、導電性熱可塑性ポリイミドにより形成されてなる
ものである。
方法は、TABテープのインナーリードに半導体チップ
の外部接続用電極を接着させて、該半導体チップを上記
TABテープのインナーリードに実装する半導体チップ
の実装方法において、上記TABテープのインナーリー
ドは、導電性熱可塑性ポリイミドにより形成されてなる
ものである。
【0025】また、この発明に係るTABテープは、そ
のインナーリードに半導体チップの外部接続用電極を接
着させて該半導体チップを該インナーリードに実装する
TABテープにおいて、該TABテープのインナーリー
ドは、導電性熱可塑性ポリイミドにより形成してなるも
のである。
のインナーリードに半導体チップの外部接続用電極を接
着させて該半導体チップを該インナーリードに実装する
TABテープにおいて、該TABテープのインナーリー
ドは、導電性熱可塑性ポリイミドにより形成してなるも
のである。
【0026】また、この発明に係るフリップチップ実装
方法は、フリップチップ実装基板の半導体チップ接続用
電極に半導体チップの外部接続用電極を接着させて、該
半導体チップを上記フリップチップ実装基板の半導体チ
ップ接続用電極に実装する方法において、上記フリップ
チップ実装基板の半導体チップ接続用電極と上記半導体
チップの外部接続用電極との間に、ボンディング材とし
て導電性熱可塑性ポリイミドを配置し、該導電性熱可塑
性ポリイミドを、上記半導体チップをその上に配置する
ホットステージによりフリップチップ実装基板を介して
加熱することにより上記導電性熱可塑性ポリイミドに可
塑性を与えながら、上記半導体チップを上から押圧する
コレットにより上記半導体チップ上部より加圧すること
により、上記半導体チップを上記フリップチップ実装基
板の半導体チップ接続用電極に実装するようにしたもの
である。
方法は、フリップチップ実装基板の半導体チップ接続用
電極に半導体チップの外部接続用電極を接着させて、該
半導体チップを上記フリップチップ実装基板の半導体チ
ップ接続用電極に実装する方法において、上記フリップ
チップ実装基板の半導体チップ接続用電極と上記半導体
チップの外部接続用電極との間に、ボンディング材とし
て導電性熱可塑性ポリイミドを配置し、該導電性熱可塑
性ポリイミドを、上記半導体チップをその上に配置する
ホットステージによりフリップチップ実装基板を介して
加熱することにより上記導電性熱可塑性ポリイミドに可
塑性を与えながら、上記半導体チップを上から押圧する
コレットにより上記半導体チップ上部より加圧すること
により、上記半導体チップを上記フリップチップ実装基
板の半導体チップ接続用電極に実装するようにしたもの
である。
【0027】また、この発明に係るフリップチップ実装
基板は、その半導体チップ接続用電極に上記半導体チッ
プの外部接続用電極を接着させて、上記半導体チップを
実装するためのフリップチップ実装基板において、該フ
リップチップ実装基板の半導体チップ接続用電極は信号
を伝達させる信号線路、及び該信号線路を保護する保護
膜からなり、該保護膜の設けられていない信号線路上に
導電性熱可塑性ポリイミドを固着してなるものである。
基板は、その半導体チップ接続用電極に上記半導体チッ
プの外部接続用電極を接着させて、上記半導体チップを
実装するためのフリップチップ実装基板において、該フ
リップチップ実装基板の半導体チップ接続用電極は信号
を伝達させる信号線路、及び該信号線路を保護する保護
膜からなり、該保護膜の設けられていない信号線路上に
導電性熱可塑性ポリイミドを固着してなるものである。
【0028】また、この発明に係るフリップチップ実装
基板は、その半導体チップ接続用電極に上記半導体チッ
プの外部接続用電極を接着させて、上記半導体チップを
実装するためのフリップチップ実装基板において、上記
フリップチップ実装基板上の信号を伝達させる信号線路
は、導電性熱可塑性ポリイミドにより形成されているも
のである。
基板は、その半導体チップ接続用電極に上記半導体チッ
プの外部接続用電極を接着させて、上記半導体チップを
実装するためのフリップチップ実装基板において、上記
フリップチップ実装基板上の信号を伝達させる信号線路
は、導電性熱可塑性ポリイミドにより形成されているも
のである。
【0029】また、この発明に係るマイクロ波装置の製
造方法は、TABテープのインナーリードに半導体チッ
プの外部接続用電極を接着させて、上記半導体チップを
上記TABテープのインナーリードに実装してなる,マ
イクロ波装置を製造する方法において、上記半導体チッ
プは、その半導体チップの外部接続用電極上に上記導電
性熱可塑性ポリイミドを固着してなるものである。
造方法は、TABテープのインナーリードに半導体チッ
プの外部接続用電極を接着させて、上記半導体チップを
上記TABテープのインナーリードに実装してなる,マ
イクロ波装置を製造する方法において、上記半導体チッ
プは、その半導体チップの外部接続用電極上に上記導電
性熱可塑性ポリイミドを固着してなるものである。
【0030】また、この発明に係るマイクロ波装置は、
TABテープのインナーリードに半導体チップの外部接
続用電極を接着させて、上記半導体チップを上記TAB
テープのインナーリードに実装してなる,マイクロ波装
置において、上記半導体チップは、その外部接続用電極
上に上記導電性熱可塑性ポリイミドを固着してなるもの
である。
TABテープのインナーリードに半導体チップの外部接
続用電極を接着させて、上記半導体チップを上記TAB
テープのインナーリードに実装してなる,マイクロ波装
置において、上記半導体チップは、その外部接続用電極
上に上記導電性熱可塑性ポリイミドを固着してなるもの
である。
【0031】
実施の形態1.図1はこの発明の実施の形態1による半
導体チップのTABテープのインナーリードへの実装方
法を示す半導体チップ近傍における主要素の断面図であ
る。
導体チップのTABテープのインナーリードへの実装方
法を示す半導体チップ近傍における主要素の断面図であ
る。
【0032】構成1.図1において、半導体チップ2
は、半導体基板3上に、信号を伝達させる信号線路4,
該信号線路4を保護する保護膜5,該保護膜5の設けら
れていない上記信号線路4上に配された金あるいはアル
ミニウムからなる電極パッド6を備え、ホットステージ
1上に配されている。またTABテープ8のインナーリ
ード9表面には金メッキが施されておらず、また該TA
Bテープ8のインナーリード9と半導体チップ2の外部
接続用電極の電極パッド6との間には、導電性熱可塑性
ポリイミド7が配されている。また10は上記インナー
リード9を上から押圧するウエッジを示す。
は、半導体基板3上に、信号を伝達させる信号線路4,
該信号線路4を保護する保護膜5,該保護膜5の設けら
れていない上記信号線路4上に配された金あるいはアル
ミニウムからなる電極パッド6を備え、ホットステージ
1上に配されている。またTABテープ8のインナーリ
ード9表面には金メッキが施されておらず、また該TA
Bテープ8のインナーリード9と半導体チップ2の外部
接続用電極の電極パッド6との間には、導電性熱可塑性
ポリイミド7が配されている。また10は上記インナー
リード9を上から押圧するウエッジを示す。
【0033】この発明の実施の形態1による半導体チッ
プの実装方法は、図1に示すように、上記TABテープ
8のインナーリード9と上記半導体チップ2の外部接続
用電極部との間に、ボンディング材として導電性熱可塑
性ポリイミド7を配置し、次に上記導電性熱可塑性ポリ
イミド7を,上記半導体チップ2をその上に配置するホ
ットステージ1により該半導体チップ2を介して加熱す
ることにより該導電性熱可塑性ポリイミド7に可塑性を
与えながら、上記導電性熱可塑性ポリイミド7に対し、
上記インナーリード9を上から押圧するウエッジ10に
より上記半導体チップ2の上部より加圧することによ
り、該半導体チップ2を上記TABテープ8のインナー
リード9に実装するものである。
プの実装方法は、図1に示すように、上記TABテープ
8のインナーリード9と上記半導体チップ2の外部接続
用電極部との間に、ボンディング材として導電性熱可塑
性ポリイミド7を配置し、次に上記導電性熱可塑性ポリ
イミド7を,上記半導体チップ2をその上に配置するホ
ットステージ1により該半導体チップ2を介して加熱す
ることにより該導電性熱可塑性ポリイミド7に可塑性を
与えながら、上記導電性熱可塑性ポリイミド7に対し、
上記インナーリード9を上から押圧するウエッジ10に
より上記半導体チップ2の上部より加圧することによ
り、該半導体チップ2を上記TABテープ8のインナー
リード9に実装するものである。
【0034】以上のように、本実施の形態1によれば、
上記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅への被着性が良好
であり、同時に金またはアルミニウムへの被着性も良好
であるため、銅製のインナーリード9と、金,アルミニ
ウム製の電極パッド6の間を上記導電性熱可塑性ポリイ
ミド7を介して接続することができ、このため、TAB
テープ8のインナーリード9に金メッキを施す必要がな
くなり、実装の低コスト化を図ることができる。
上記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅への被着性が良好
であり、同時に金またはアルミニウムへの被着性も良好
であるため、銅製のインナーリード9と、金,アルミニ
ウム製の電極パッド6の間を上記導電性熱可塑性ポリイ
ミド7を介して接続することができ、このため、TAB
テープ8のインナーリード9に金メッキを施す必要がな
くなり、実装の低コスト化を図ることができる。
【0035】構成2.さらに、この実施の形態1におけ
る半導体チップの実装方法は、図1に示すように、上記
TABテープ8のインナーリード9と上記半導体チップ
2の外部接続用電極部との間に、ボンディング材として
導電性熱可塑性ポリイミド7を配置し、該導電性熱可塑
性ポリイミド7を,上記インナーリード9を上から押圧
するウエッジ10により加熱することにより該導電性熱
可塑性ポリイミド7に可塑性を与えながら、上記導電性
熱可塑性ポリイミド7に対し、上記インナーリード9を
上から押圧するウエッジ10により上記半導体チップ2
の上部より加圧することにより、該半導体チップ2を上
記TABテープ8のインナーリード9に実装するもので
ある。
る半導体チップの実装方法は、図1に示すように、上記
TABテープ8のインナーリード9と上記半導体チップ
2の外部接続用電極部との間に、ボンディング材として
導電性熱可塑性ポリイミド7を配置し、該導電性熱可塑
性ポリイミド7を,上記インナーリード9を上から押圧
するウエッジ10により加熱することにより該導電性熱
可塑性ポリイミド7に可塑性を与えながら、上記導電性
熱可塑性ポリイミド7に対し、上記インナーリード9を
上から押圧するウエッジ10により上記半導体チップ2
の上部より加圧することにより、該半導体チップ2を上
記TABテープ8のインナーリード9に実装するもので
ある。
【0036】以上のように本実施の形態1によれば、上
記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅への被着性が良好で
あり、同時に金またはアルミニウムへの被着性も良好で
あるため、銅製のインナーリード9と、金,アルミニウ
ム製の電極パッド6の間を上記導電性熱可塑性ポリイミ
ド7を介して接続することができ、このため、TABテ
ープ8のインナーリード9に金メッキを施す必要がなく
なり、実装の低コスト化を図ることができる。また、ウ
エッジ10により加熱することにより導電性熱可塑性ポ
リイミド7に可塑性を与えるので、上記構成1.の半導
体チップ2のTABテープ8のインナーリード9への実
装方法のように、ホットステージ1により半導体チップ
2を介して加熱することにより導電性熱可塑性ポリイミ
ド7に可塑性を与えるものに比し、加熱部位が小さくな
り、半導体チップ2の信頼性を向上でき、寿命をより延
ばすことができる。
記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅への被着性が良好で
あり、同時に金またはアルミニウムへの被着性も良好で
あるため、銅製のインナーリード9と、金,アルミニウ
ム製の電極パッド6の間を上記導電性熱可塑性ポリイミ
ド7を介して接続することができ、このため、TABテ
ープ8のインナーリード9に金メッキを施す必要がなく
なり、実装の低コスト化を図ることができる。また、ウ
エッジ10により加熱することにより導電性熱可塑性ポ
リイミド7に可塑性を与えるので、上記構成1.の半導
体チップ2のTABテープ8のインナーリード9への実
装方法のように、ホットステージ1により半導体チップ
2を介して加熱することにより導電性熱可塑性ポリイミ
ド7に可塑性を与えるものに比し、加熱部位が小さくな
り、半導体チップ2の信頼性を向上でき、寿命をより延
ばすことができる。
【0037】実施の形態2.図2,図3,図4は、本発
明の実施の形態2による半導体チップ及びその製造方法
を説明する断面図である。
明の実施の形態2による半導体チップ及びその製造方法
を説明する断面図である。
【0038】構成1.図2において、図1と同一符号
は、同一又は相当する部分を示し、図2における半導体
チップ2の構成としては、該半導体チップ2の外部接続
用電極上に導電性熱可塑性ポリイミド7を固着したもの
である。
は、同一又は相当する部分を示し、図2における半導体
チップ2の構成としては、該半導体チップ2の外部接続
用電極上に導電性熱可塑性ポリイミド7を固着したもの
である。
【0039】以上のように本実施の形態2による半導体
チップによれば、上記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅
への被着性が良好であり、同時に金またはアルミニウム
への被着性も良好であるため、銅製のインナーリード9
と外部接続用電極の間を上記導電性熱可塑性ポリイミド
7を介して接続することができ、このため、TABテー
プ8のインナーリード9に金メッキを施す必要がなく、
実装の低コスト化を図ることができる。
チップによれば、上記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅
への被着性が良好であり、同時に金またはアルミニウム
への被着性も良好であるため、銅製のインナーリード9
と外部接続用電極の間を上記導電性熱可塑性ポリイミド
7を介して接続することができ、このため、TABテー
プ8のインナーリード9に金メッキを施す必要がなく、
実装の低コスト化を図ることができる。
【0040】構成2.さらに、この実施の形態2におけ
る半導体チップについて説明する。図2において、図1
と同一符号は、同一又は相当する部分を示し、図2にお
ける半導体チップ2の構成としては、該半導体チップ2
の外部接続用電極が、信号を伝達させる信号線路4,該
信号を保護する保護膜5,及び該保護膜の設けられてい
ない上記信号線路上に配された電極パッド6からなり、
該電極パッド6上に上記導電性熱可塑性ポリイミド7を
固着してなるものである。
る半導体チップについて説明する。図2において、図1
と同一符号は、同一又は相当する部分を示し、図2にお
ける半導体チップ2の構成としては、該半導体チップ2
の外部接続用電極が、信号を伝達させる信号線路4,該
信号を保護する保護膜5,及び該保護膜の設けられてい
ない上記信号線路上に配された電極パッド6からなり、
該電極パッド6上に上記導電性熱可塑性ポリイミド7を
固着してなるものである。
【0041】以上のように本実施の形態2による半導体
チップによれば、上記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅
への被着性が良好であり、同時に金またはアルミニウム
への被着性も良好であるため、銅製のインナーリード9
と金,アルミニウム製の電極パッド6の間を上記導電性
熱可塑性ポリイミド7を介して接続することができ、こ
のため、TABテープ8のインナーリード9に金メッキ
を施す必要がなくなり、実装の低コスト化を図ることが
できる。
チップによれば、上記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅
への被着性が良好であり、同時に金またはアルミニウム
への被着性も良好であるため、銅製のインナーリード9
と金,アルミニウム製の電極パッド6の間を上記導電性
熱可塑性ポリイミド7を介して接続することができ、こ
のため、TABテープ8のインナーリード9に金メッキ
を施す必要がなくなり、実装の低コスト化を図ることが
できる。
【0042】構成3.さらに、この実施の形態2におけ
る半導体チップの製造方法について説明する。図3にお
いて、図1と同一符号は、同一又は相当する部分を示
し、11は半導体ウエハ、12はレジストを示す。図3
における半導体チップの製造方法は、半導体ウエハ11
上に、信号を伝達させる信号線路4,及び該信号線路を
保護する保護膜5と,かつ該保護膜の設けられていない
上記信号線路上に、電極パッド6を形成する工程と、導
電性熱可塑性ポリイミド層7をスピンコーターにより上
記半導体ウエハ11上に形成する工程と、上記導電性熱
可塑性ポリイミド層7上にレジスト12を形成し、これ
をマスクとしてエッチングすることにより、上記電極パ
ッド6上に導電性熱可塑性ポリイミド7を形成する工程
を含むものである。
る半導体チップの製造方法について説明する。図3にお
いて、図1と同一符号は、同一又は相当する部分を示
し、11は半導体ウエハ、12はレジストを示す。図3
における半導体チップの製造方法は、半導体ウエハ11
上に、信号を伝達させる信号線路4,及び該信号線路を
保護する保護膜5と,かつ該保護膜の設けられていない
上記信号線路上に、電極パッド6を形成する工程と、導
電性熱可塑性ポリイミド層7をスピンコーターにより上
記半導体ウエハ11上に形成する工程と、上記導電性熱
可塑性ポリイミド層7上にレジスト12を形成し、これ
をマスクとしてエッチングすることにより、上記電極パ
ッド6上に導電性熱可塑性ポリイミド7を形成する工程
を含むものである。
【0043】以上のように本実施の形態2による半導体
チップの製造方法によれば、銅への被着性が良好であ
り、同時に金またはアルミニウムへの被着性も良好であ
る導電性熱可塑性ポリイミド7を半導体チップ2の電極
パッド6上に配したため、銅製のTABテープ8のイン
ナーリード9と金,アルミニウム製の電極パッド6の間
を上記導電性熱可塑性ポリイミド7を介して接続するこ
とができ、このため、TABテープ8のインナーリード
9に金メッキを施す必要がなくなり、実装の低コスト化
を図ることができる。
チップの製造方法によれば、銅への被着性が良好であ
り、同時に金またはアルミニウムへの被着性も良好であ
る導電性熱可塑性ポリイミド7を半導体チップ2の電極
パッド6上に配したため、銅製のTABテープ8のイン
ナーリード9と金,アルミニウム製の電極パッド6の間
を上記導電性熱可塑性ポリイミド7を介して接続するこ
とができ、このため、TABテープ8のインナーリード
9に金メッキを施す必要がなくなり、実装の低コスト化
を図ることができる。
【0044】構成4.さらに、この実施の形態2におけ
る半導体チップについて説明する。図4において、図1
と同一符号は、同一又は相当する部分を示す。図4にお
ける半導体チップの構成としては、該半導体チップ2の
外部接続用電極が、信号を伝達させる信号線路4,該信
号線路を保護する保護膜5からなり、該保護膜5の設け
られていない上記信号線路4上に導電性熱可塑性ポリイ
ミド7を固着してなるものである。
る半導体チップについて説明する。図4において、図1
と同一符号は、同一又は相当する部分を示す。図4にお
ける半導体チップの構成としては、該半導体チップ2の
外部接続用電極が、信号を伝達させる信号線路4,該信
号線路を保護する保護膜5からなり、該保護膜5の設け
られていない上記信号線路4上に導電性熱可塑性ポリイ
ミド7を固着してなるものである。
【0045】以上のように本実施の形態2による半導体
チップによれば、上記導電性熱可塑性ポリイミド7は銅
への被着性が良好であるため、銅製のTABテープ8の
インナーリード9と銅製の信号線路4の間を上記導電性
熱可塑性ポリイミド7を介して接続することができ、こ
のため、TABテープ8のインナーリード9に金メッキ
を施す必要がなく、また金,またはアルミニウム製の電
極パッドを備える必要がなくなり、実装の低コスト化を
図ることができる。
チップによれば、上記導電性熱可塑性ポリイミド7は銅
への被着性が良好であるため、銅製のTABテープ8の
インナーリード9と銅製の信号線路4の間を上記導電性
熱可塑性ポリイミド7を介して接続することができ、こ
のため、TABテープ8のインナーリード9に金メッキ
を施す必要がなく、また金,またはアルミニウム製の電
極パッドを備える必要がなくなり、実装の低コスト化を
図ることができる。
【0046】実施の形態3.図5,図6は、この発明の
実施の形態3によるTABテープを示す断面図である。
実施の形態3によるTABテープを示す断面図である。
【0047】構成1.この発明の実施の形態3における
TABテープについて説明する。図5において、図1と
同一符号は、同一又は相当する部分を示す。図5におけ
るTABテープの構成としては、該TABテープ8のイ
ンナーリード9は、その半導体チップ2の外部接続用電
極との接着部に上記導電性熱可塑性ポリイミド7を固着
してなるものである。
TABテープについて説明する。図5において、図1と
同一符号は、同一又は相当する部分を示す。図5におけ
るTABテープの構成としては、該TABテープ8のイ
ンナーリード9は、その半導体チップ2の外部接続用電
極との接着部に上記導電性熱可塑性ポリイミド7を固着
してなるものである。
【0048】以上のように本実施の形態3によれば、上
記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅への被着性が良好で
あり、同時に金またはアルミニウムへの被着性も良好で
あるため、TABテープ8の銅製インナーリード9と半
導体チップ2の金またはアルミニウム製電極パッド6と
の間を上記導電性熱可塑性ポリイミド7を介して接続す
ることができ、このため、TABテープ8のインナーリ
ード9表面に金メッキを施す必要がなくなり、実装の低
コスト化を図ることができる。
記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅への被着性が良好で
あり、同時に金またはアルミニウムへの被着性も良好で
あるため、TABテープ8の銅製インナーリード9と半
導体チップ2の金またはアルミニウム製電極パッド6と
の間を上記導電性熱可塑性ポリイミド7を介して接続す
ることができ、このため、TABテープ8のインナーリ
ード9表面に金メッキを施す必要がなくなり、実装の低
コスト化を図ることができる。
【0049】構成2.さらに、この実施の形態3におけ
るTABテープについて説明する。図6において、図1
と同一符号は、同一又は相当する部分を示し、13は導
電性熱可塑性ポリイミドにより形成されたインナーリー
ド、14は熱可塑性ではない樹脂を示す。図6における
TABテープの構成としては、該TABテープ8は、導
電性熱可塑性ポリイミドにより形成されたインナーリー
ド13を備え、該導電性熱可塑性ポリイミドにより形成
されたインナーリード13上には熱可塑性ではない樹脂
14が配置されている。
るTABテープについて説明する。図6において、図1
と同一符号は、同一又は相当する部分を示し、13は導
電性熱可塑性ポリイミドにより形成されたインナーリー
ド、14は熱可塑性ではない樹脂を示す。図6における
TABテープの構成としては、該TABテープ8は、導
電性熱可塑性ポリイミドにより形成されたインナーリー
ド13を備え、該導電性熱可塑性ポリイミドにより形成
されたインナーリード13上には熱可塑性ではない樹脂
14が配置されている。
【0050】以上のように本実施の形態3によれば、上
記導電性熱可塑性ポリイミドにより形成されたインナー
リード13が銅への被着性が良好であり、同時に金また
はアルミニウムへの被着性も良好であるため、半導体チ
ップ2の外部接続用電極部に金またはアルミニウム製電
極パッドを備える必要がなくなり、またTABテープ8
のインナーリードを銅により形成する必要がなくなり、
実装の低コスト化を図ることができる。また、上記導電
性熱可塑性ポリイミドにより形成されたインナーリード
13上には熱可塑性ではない樹脂14が配されているた
め、上記導電性熱可塑性ポリイミドにより形成されたイ
ンナーリード13が加熱され、可塑性を与えられ、上記
ウエッジ10により押圧されても、該ウエッジ10には
上記導電性熱可塑性ポリイミドにより形成されたインナ
ーリード13は付着せず、実装をスムーズに進めること
ができる。
記導電性熱可塑性ポリイミドにより形成されたインナー
リード13が銅への被着性が良好であり、同時に金また
はアルミニウムへの被着性も良好であるため、半導体チ
ップ2の外部接続用電極部に金またはアルミニウム製電
極パッドを備える必要がなくなり、またTABテープ8
のインナーリードを銅により形成する必要がなくなり、
実装の低コスト化を図ることができる。また、上記導電
性熱可塑性ポリイミドにより形成されたインナーリード
13上には熱可塑性ではない樹脂14が配されているた
め、上記導電性熱可塑性ポリイミドにより形成されたイ
ンナーリード13が加熱され、可塑性を与えられ、上記
ウエッジ10により押圧されても、該ウエッジ10には
上記導電性熱可塑性ポリイミドにより形成されたインナ
ーリード13は付着せず、実装をスムーズに進めること
ができる。
【0051】実施の形態4.図7は、この発明の第4の
実施の形態によるフリップチップ実装方法を示す半導体
チップ近傍の主要素の断面図である。
実施の形態によるフリップチップ実装方法を示す半導体
チップ近傍の主要素の断面図である。
【0052】構成1.この発明の実施の形態4における
フリップチップ実装方法について説明する。図7におい
て、図1と同一符号は、同一又は相当する部分を示し、
フリップチップ実装基板15は、信号を伝達させる信号
線路16,及び該信号線路16を保護する保護膜17を
備え、ホットステージ1上に配置されている。また、1
8は半導体チップ2を上から押圧するコレットである。
また、フリップチップ実装基板15の半導体チップ接続
用電極上には半田材が配置されておらず、また該フリッ
プチップ実装基板15の半導体チップ接続用電極と半導
体チップの外部接続用電極との間には、導電性熱可塑性
ポリイミド7が配置されている。
フリップチップ実装方法について説明する。図7におい
て、図1と同一符号は、同一又は相当する部分を示し、
フリップチップ実装基板15は、信号を伝達させる信号
線路16,及び該信号線路16を保護する保護膜17を
備え、ホットステージ1上に配置されている。また、1
8は半導体チップ2を上から押圧するコレットである。
また、フリップチップ実装基板15の半導体チップ接続
用電極上には半田材が配置されておらず、また該フリッ
プチップ実装基板15の半導体チップ接続用電極と半導
体チップの外部接続用電極との間には、導電性熱可塑性
ポリイミド7が配置されている。
【0053】この発明の実施の形態4におけるフリップ
チップ実装方法は図7に示すように、フリップチップ実
装基板15の半導体チップ接続用電極と上記半導体チッ
プの外部接続用電極との間に、ボンディング材として導
電性熱可塑性ポリイミド7を配置し、該導電性熱可塑性
ポリイミド7を,上記フリップチップ実装基板15をそ
の上に配置するホットステージ1によりフリップチップ
実装基板15を介して加熱することにより上記導電性熱
可塑性ポリイミド7に可塑性を与えながら、上記半導体
チップ2上部より押圧するコレット18により上記半導
体チップ2上部より加圧することにより、上記半導体チ
ップ2を上記フリップチップ実装基板15の半導体チッ
プ接続用電極に実装するものである。
チップ実装方法は図7に示すように、フリップチップ実
装基板15の半導体チップ接続用電極と上記半導体チッ
プの外部接続用電極との間に、ボンディング材として導
電性熱可塑性ポリイミド7を配置し、該導電性熱可塑性
ポリイミド7を,上記フリップチップ実装基板15をそ
の上に配置するホットステージ1によりフリップチップ
実装基板15を介して加熱することにより上記導電性熱
可塑性ポリイミド7に可塑性を与えながら、上記半導体
チップ2上部より押圧するコレット18により上記半導
体チップ2上部より加圧することにより、上記半導体チ
ップ2を上記フリップチップ実装基板15の半導体チッ
プ接続用電極に実装するものである。
【0054】以上のように本実施の形態4によれば、上
記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅への被着性が良好で
あり、同時に金またはアルミニウムへの被着性も良好で
あるため、銅製のフリップチップ実装基板15上の半導
体チップの信号線路16と、金,アルミニウム製の電極
パッド6の間を上記導電性熱可塑性ポリイミド7を介し
て接続することができ、このため、フリップチップ実装
基板15の半導体チップ接続用電極上に半田材を形成す
る必要がなくなり、実装の低コスト化を図ることができ
る。
記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅への被着性が良好で
あり、同時に金またはアルミニウムへの被着性も良好で
あるため、銅製のフリップチップ実装基板15上の半導
体チップの信号線路16と、金,アルミニウム製の電極
パッド6の間を上記導電性熱可塑性ポリイミド7を介し
て接続することができ、このため、フリップチップ実装
基板15の半導体チップ接続用電極上に半田材を形成す
る必要がなくなり、実装の低コスト化を図ることができ
る。
【0055】実施の形態5.図8,図9は、この発明の
実施の形態5によるフリップチップ実装基板を示す断面
図である。
実施の形態5によるフリップチップ実装基板を示す断面
図である。
【0056】構成1.この発明の実施の形態5における
フリップチップ実装基板について説明する。図8におい
て、図7と同一符号は、同一又は相当する部分を示す。
図8におけるフリップチップ実装基板の構成としては、
フリップチップ実装基板15の半導体チップ接続用電極
は、信号を伝達させる信号線路16,及び該信号線路を
保護する保護膜17とからなり、該保護膜17の設けら
れていない上記信号線路16上に上記導電性熱可塑性ポ
リイミド7を固着してなるものである。
フリップチップ実装基板について説明する。図8におい
て、図7と同一符号は、同一又は相当する部分を示す。
図8におけるフリップチップ実装基板の構成としては、
フリップチップ実装基板15の半導体チップ接続用電極
は、信号を伝達させる信号線路16,及び該信号線路を
保護する保護膜17とからなり、該保護膜17の設けら
れていない上記信号線路16上に上記導電性熱可塑性ポ
リイミド7を固着してなるものである。
【0057】以上のように本実施の形態5によれば、上
記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅への被着性が良好で
あり、同時に金またはアルミニウムへの被着性も良好で
あるため、銅製のフリップチップ実装基板15上の半導
体チップの信号線路16と、金,アルミニウム製の電極
パッド6の間を上記導電性熱可塑性ポリイミド7を介し
て接続することができ、このため、フリップチップ実装
基板15の半導体チップ接続用電極上に半田材を形成す
る必要がなくなり、また半導体チップの外部接続用電極
に電極パッドを構成する必要もなくなり、実装の低コス
ト化を図ることができる。
記導電性熱可塑性ポリイミド7が銅への被着性が良好で
あり、同時に金またはアルミニウムへの被着性も良好で
あるため、銅製のフリップチップ実装基板15上の半導
体チップの信号線路16と、金,アルミニウム製の電極
パッド6の間を上記導電性熱可塑性ポリイミド7を介し
て接続することができ、このため、フリップチップ実装
基板15の半導体チップ接続用電極上に半田材を形成す
る必要がなくなり、また半導体チップの外部接続用電極
に電極パッドを構成する必要もなくなり、実装の低コス
ト化を図ることができる。
【0058】構成2.さらに、この実施の形態における
フリップチップ実装基板について説明する。図9におい
て、図7と同一符号は、同一又は相当する部分を示し、
19は導電性熱可塑性ポリイミドにより形成された信号
線路を示す。図9におけるフリップチップ実装基板の構
成としては、フリップチップ実装基板15上の信号を伝
達させる信号線路は導電性熱可塑性ポリイミドにより形
成されているもの19である。
フリップチップ実装基板について説明する。図9におい
て、図7と同一符号は、同一又は相当する部分を示し、
19は導電性熱可塑性ポリイミドにより形成された信号
線路を示す。図9におけるフリップチップ実装基板の構
成としては、フリップチップ実装基板15上の信号を伝
達させる信号線路は導電性熱可塑性ポリイミドにより形
成されているもの19である。
【0059】以上のように本実施の形態5によれば、上
記導電性熱可塑性ポリイミドにより形成された信号線路
19は、銅への被着性が良好であり、同時に金またはア
ルミニウムへの被着性も良好であるため、これにより、
フリップチップ実装基板15上に銅製の信号線路を形成
する必要がなくなり、また半導体チップの外部接続用電
極に電極パッドを構成する必要もなくなり、実装の低コ
スト化を図ることができる。
記導電性熱可塑性ポリイミドにより形成された信号線路
19は、銅への被着性が良好であり、同時に金またはア
ルミニウムへの被着性も良好であるため、これにより、
フリップチップ実装基板15上に銅製の信号線路を形成
する必要がなくなり、また半導体チップの外部接続用電
極に電極パッドを構成する必要もなくなり、実装の低コ
スト化を図ることができる。
【0060】実施の形態6.図10は、本発明の実施の
形態6によるマイクロ波装置の製造方法,及びマイクロ
波装置を示す図である。
形態6によるマイクロ波装置の製造方法,及びマイクロ
波装置を示す図である。
【0061】構成1.この発明の実施の形態6における
マイクロ波装置の製造方法について説明する。図10に
おいて、図1と同一符号は、同一又は相当する部分を示
し、6aは信号用電極パッド、6bはグランド用電極パ
ッド、20はモジュール基板、21はチップ抵抗、22
はチップコンデンサ、23はインダクタを示す。図10
におけるマイクロ波装置の構成としては、半導体チップ
2は、信号用電極パッド6a,グランド用電極パッド6
b等からなる外部接続用電極上に導電性熱可塑性ポリイ
ミド7を固着してなるものであり、これを該半導体チッ
プ2を実装するよう設計されたTABテープ8に実装
し、さらにこのTABテープ8を、チップ抵抗21,チ
ップコンデンサ22,及びインダクタ23等を備えたモ
ジュール基板20に実装するものである。
マイクロ波装置の製造方法について説明する。図10に
おいて、図1と同一符号は、同一又は相当する部分を示
し、6aは信号用電極パッド、6bはグランド用電極パ
ッド、20はモジュール基板、21はチップ抵抗、22
はチップコンデンサ、23はインダクタを示す。図10
におけるマイクロ波装置の構成としては、半導体チップ
2は、信号用電極パッド6a,グランド用電極パッド6
b等からなる外部接続用電極上に導電性熱可塑性ポリイ
ミド7を固着してなるものであり、これを該半導体チッ
プ2を実装するよう設計されたTABテープ8に実装
し、さらにこのTABテープ8を、チップ抵抗21,チ
ップコンデンサ22,及びインダクタ23等を備えたモ
ジュール基板20に実装するものである。
【0062】以上のように本実施の形態6によるフリッ
プチップ実装基板15においては、上記導電性熱可塑性
ポリイミド7は、銅への被着性が良好であり、同時に金
またはアルミニウムへの被着性も良好であるため、銅製
のインナーリード9と、金,アルミニウム製の電極パッ
ド6の間を上記導電性熱可塑性ポリイミド7を介して接
続することができ、このため、TABテープのインナー
リードに金メッキを施す必要がなくなり、マイクロ波装
置を製造する際、低コスト化を図ることができる。
プチップ実装基板15においては、上記導電性熱可塑性
ポリイミド7は、銅への被着性が良好であり、同時に金
またはアルミニウムへの被着性も良好であるため、銅製
のインナーリード9と、金,アルミニウム製の電極パッ
ド6の間を上記導電性熱可塑性ポリイミド7を介して接
続することができ、このため、TABテープのインナー
リードに金メッキを施す必要がなくなり、マイクロ波装
置を製造する際、低コスト化を図ることができる。
【0063】
実施例1.図10はこの発明の一実施例によるマイクロ
波部品の製造方法を示す図であり、図10(a) は、マイ
クロ波部品となる半導体チップを示す斜視図、図10
(b)は、上記半導体チップと上記半導体チップを実装す
るTABテープを示す斜視図、図10(c) は、図10
(b) における半導体チップと上記半導体チップを実装す
るTABテープを示す断面図、図10(d) は図10(c)
において形成された半導体チップとTABテープからな
る電子部品とそれを実装するモジュール基板を示す斜視
図であり、図1と同一符号は、同一又は相当部分を示
し、6aは信号用電極パッド、6bはグランド用電極パ
ッド、20はモジュール基板、21はチップ抵抗、22
はチップコンデンサ、23はインダクタを示している。
波部品の製造方法を示す図であり、図10(a) は、マイ
クロ波部品となる半導体チップを示す斜視図、図10
(b)は、上記半導体チップと上記半導体チップを実装す
るTABテープを示す斜視図、図10(c) は、図10
(b) における半導体チップと上記半導体チップを実装す
るTABテープを示す断面図、図10(d) は図10(c)
において形成された半導体チップとTABテープからな
る電子部品とそれを実装するモジュール基板を示す斜視
図であり、図1と同一符号は、同一又は相当部分を示
し、6aは信号用電極パッド、6bはグランド用電極パ
ッド、20はモジュール基板、21はチップ抵抗、22
はチップコンデンサ、23はインダクタを示している。
【0064】次に、本実施例のマイクロ波部品の製造方
法を図10を用いて説明する。本実施例1の半導体チッ
プ2は、1つ以上のFET等の能動素子あるいは信号線
路,MIM,インダクタ,フィルタ等の受動素子,及び
RF信号,ミリ波,マイクロ波信号DC信号を伝達する
ための金,アルミニウム等からなる電極パッド6を有し
ている。特にRF〜ミリ波信号用の電極としては、伝送
損失の低減のため、信号用電極パッド6aをグランド用
電極パッド6bで挟み込むようなコプレーナ型に形成さ
れた電極を形成しており、またそれぞれの電極パッド6
上には導電性熱可塑性ポリイミド7を固着してある(図
10(a) )。次に、半導体チップ2や、整合回路等のR
F〜ミリ波部品を、TABテープ8上に配置し、実装す
る場合、各々の半導体チップの電極パッド6とTABテ
ープのインナーリード9とを位置合わせし、熱圧着する
(図10(b) ,図10(c) )。次に、モジュール基板2
0に、図10(c) に示される半導体チップ2とRF〜ミ
リ波部品等と,TABテープからなるマイクロ波部品を
配し、他の電子部品、例えばチップ抵抗21,チップコ
ンデンサ22,インダクタ23等とともに、所要のRF
モジュールを構成する。(図10(d) ) このようにマイクロ波部品を製造する際、半導体チップ
2の電極パッド6上に導電性熱可塑性ポリイミド7を固
着したため、TABテープ8のインナーリード9に金メ
ッキを施す必要がなく、低コストでマイクロ波部品を製
造することが可能である。
法を図10を用いて説明する。本実施例1の半導体チッ
プ2は、1つ以上のFET等の能動素子あるいは信号線
路,MIM,インダクタ,フィルタ等の受動素子,及び
RF信号,ミリ波,マイクロ波信号DC信号を伝達する
ための金,アルミニウム等からなる電極パッド6を有し
ている。特にRF〜ミリ波信号用の電極としては、伝送
損失の低減のため、信号用電極パッド6aをグランド用
電極パッド6bで挟み込むようなコプレーナ型に形成さ
れた電極を形成しており、またそれぞれの電極パッド6
上には導電性熱可塑性ポリイミド7を固着してある(図
10(a) )。次に、半導体チップ2や、整合回路等のR
F〜ミリ波部品を、TABテープ8上に配置し、実装す
る場合、各々の半導体チップの電極パッド6とTABテ
ープのインナーリード9とを位置合わせし、熱圧着する
(図10(b) ,図10(c) )。次に、モジュール基板2
0に、図10(c) に示される半導体チップ2とRF〜ミ
リ波部品等と,TABテープからなるマイクロ波部品を
配し、他の電子部品、例えばチップ抵抗21,チップコ
ンデンサ22,インダクタ23等とともに、所要のRF
モジュールを構成する。(図10(d) ) このようにマイクロ波部品を製造する際、半導体チップ
2の電極パッド6上に導電性熱可塑性ポリイミド7を固
着したため、TABテープ8のインナーリード9に金メ
ッキを施す必要がなく、低コストでマイクロ波部品を製
造することが可能である。
【0065】実施例2.上記実施例1においては、半導
体チップ2の電極部に電極パッド6を備え、該電極パッ
ド6上に導電性熱可塑性ポリイミド7を固着する構造と
したが、本実施例2は、図4に示すように、上記半導体
チップの電極部には電極パッドを備えず、半導体チップ
2の信号線路4上に、導電性熱可塑性ポリイミド7を固
着する構造としたものである。これにより、実施例1同
様、TABテープ8のインナーリード9に金メッキを施
す必要がなく、また、金,又はアルミニウムからなる電
極パッド6を備える必要がなく、低コストなマイクロ波
部品の製造が可能である。
体チップ2の電極部に電極パッド6を備え、該電極パッ
ド6上に導電性熱可塑性ポリイミド7を固着する構造と
したが、本実施例2は、図4に示すように、上記半導体
チップの電極部には電極パッドを備えず、半導体チップ
2の信号線路4上に、導電性熱可塑性ポリイミド7を固
着する構造としたものである。これにより、実施例1同
様、TABテープ8のインナーリード9に金メッキを施
す必要がなく、また、金,又はアルミニウムからなる電
極パッド6を備える必要がなく、低コストなマイクロ波
部品の製造が可能である。
【0066】実施例3.上記実施例1においては、半導
体チップ2の電極部に電極パッドを備え、該電極パッド
6上に導電性熱可塑性ポリイミド7を固着する構造とし
たが、本実施例3は、図5に示すように、TABテープ
のインナーリード9上に導電性熱可塑性ポリイミド7を
固着する構造としたものである。これにより、実施例1
同様、TABテープ8のインナーリード9に金メッキを
施す必要がなく、また、金,又はアルミニウムからなる
電極パッド6を備える必要がなく、低コストなマイクロ
波部品の製造が可能である。
体チップ2の電極部に電極パッドを備え、該電極パッド
6上に導電性熱可塑性ポリイミド7を固着する構造とし
たが、本実施例3は、図5に示すように、TABテープ
のインナーリード9上に導電性熱可塑性ポリイミド7を
固着する構造としたものである。これにより、実施例1
同様、TABテープ8のインナーリード9に金メッキを
施す必要がなく、また、金,又はアルミニウムからなる
電極パッド6を備える必要がなく、低コストなマイクロ
波部品の製造が可能である。
【0067】実施例4.上記実施例1においては、半導
体チップ2の電極部に電極パッド6を備え、該電極パッ
ド6上に導電性熱可塑性ポリイミド7を固着する構造と
したが、本実施例4は、図6に示すように、TABテー
プ8のインナーリードを導電性熱可塑性ポリイミド13
により形成した構造としたものである。これにより、実
施例1同様、TABテープ8のインナーリード9に金メ
ッキを施す必要がなく、また、金,又はアルミニウムか
らなる電極パッド6を備える必要がなく、低コストなマ
イクロ波部品の製造が可能である。
体チップ2の電極部に電極パッド6を備え、該電極パッ
ド6上に導電性熱可塑性ポリイミド7を固着する構造と
したが、本実施例4は、図6に示すように、TABテー
プ8のインナーリードを導電性熱可塑性ポリイミド13
により形成した構造としたものである。これにより、実
施例1同様、TABテープ8のインナーリード9に金メ
ッキを施す必要がなく、また、金,又はアルミニウムか
らなる電極パッド6を備える必要がなく、低コストなマ
イクロ波部品の製造が可能である。
【図1】 この発明の第1の実施の形態による半導体チ
ップのTABテープへの実装方法を示す断面図である。
ップのTABテープへの実装方法を示す断面図である。
【図2】 この発明の第2の実施の形態による半導体チ
ップを示す断面図である。
ップを示す断面図である。
【図3】 この発明の第2の実施の形態による半導体チ
ップの製造方法を示す断面図である。
ップの製造方法を示す断面図である。
【図4】 この発明の第2の実施の形態による半導体チ
ップを示す断面図である。
ップを示す断面図である。
【図5】 この発明の第3の実施の形態によるTABテ
ープを示す断面図である。
ープを示す断面図である。
【図6】 この発明の第3の実施の形態によるTABテ
ープを示す断面図である。
ープを示す断面図である。
【図7】 この発明の第4の実施の形態による半導体チ
ップのフリップチップ実装基板への実装方法を示す断面
図である。
ップのフリップチップ実装基板への実装方法を示す断面
図である。
【図8】 この発明の第5の実施の形態によるフリップ
チップ実装基板を示す断面図である。
チップ実装基板を示す断面図である。
【図9】 この発明の第5の実施の形態によるフリップ
チップ実装基板を示す断面図である。
チップ実装基板を示す断面図である。
【図10】 この発明の第6の実施の形態によるマイク
ロ波部品の製造方法を示す図である。
ロ波部品の製造方法を示す図である。
【図11】 従来の半導体チップのTABテープへの実
装方法を示す断面図である。
装方法を示す断面図である。
【図12】 従来の半導体チップのフリップチップ実装
基板への実装方法を示す断面図である。
基板への実装方法を示す断面図である。
1 ホットステージ、2 半導体チップ、3 半導体基
板、4 信号線路(半導体基板上)、5 保護膜(半導
体基板上)、6 電極パッド、6a 信号用電極パッ
ド、6b グランド用電極パッド、7 導電性熱可塑性
ポリイミド、8 TABテープ、9 インナーリード、
10 ウエッジ、11 半導体ウエハ、12 レジス
ト、13 導電性熱可塑性ポリイミドにより形成された
インナーリード、14 熱可塑性でない樹脂、15 フ
リップチップ実装基板、16 信号線路(フリップチッ
プ実装基板上)、17 保護膜(フリップチップ実装基
板上)、18 コレット、19 導電性熱可塑性ポリイ
ミドにより形成された信号線路、20 モジュール基
板、21 チップ抵抗、22 チップコンデンサ、23
インダクタ。
板、4 信号線路(半導体基板上)、5 保護膜(半導
体基板上)、6 電極パッド、6a 信号用電極パッ
ド、6b グランド用電極パッド、7 導電性熱可塑性
ポリイミド、8 TABテープ、9 インナーリード、
10 ウエッジ、11 半導体ウエハ、12 レジス
ト、13 導電性熱可塑性ポリイミドにより形成された
インナーリード、14 熱可塑性でない樹脂、15 フ
リップチップ実装基板、16 信号線路(フリップチッ
プ実装基板上)、17 保護膜(フリップチップ実装基
板上)、18 コレット、19 導電性熱可塑性ポリイ
ミドにより形成された信号線路、20 モジュール基
板、21 チップ抵抗、22 チップコンデンサ、23
インダクタ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中島 康晴 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 井上 晃 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 松林 弘人 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内
Claims (18)
- 【請求項1】 TABテープのインナーリードに半導体
チップの外部接続用電極を接着させて、該半導体チップ
を上記TABテープのインナーリードに実装する方法に
おいて、 上記TABテープのインナーリードと該半導体チップの
外部接続用電極との間に、ボンディング材として導電性
熱可塑性ポリイミドを配置し、該導電性熱可塑性ポリイ
ミドを,上記半導体チップをその上に配置するホットス
テージにより該半導体チップを介して加熱することによ
り該導電性熱可塑性ポリイミドに可塑性を与えながら、
上記導電性熱可塑性ポリイミドに対し、上記インナーリ
ードを上から押圧するウエッジにより上記半導体チップ
の上部より加圧することにより、該半導体チップを上記
TABテープのインナーリードに実装することを特徴と
するTABテープへの半導体チップの実装方法。 - 【請求項2】 TABテープのインナーリードに半導体
チップの外部接続用電極を接着させて、該半導体チップ
を上記TABテープのインナーリードに実装する方法に
おいて、 上記TABテープのインナーリードと該半導体チップの
外部接続用電極との間に、ボンディング材として導電性
熱可塑性ポリイミドを配置し、該導電性熱可塑性ポリイ
ミドを,上記インナーリードを上から押圧するウエッジ
により加熱することにより該導電性熱可塑性ポリイミド
に可塑性を与えながら、上記導電性熱可塑性ポリイミド
に対し、上記インナーリードを上から押圧するウエッジ
により上記半導体チップの上部より加圧することによ
り、該半導体チップを上記TABテープのインナーリー
ドに実装することを特徴とするTABテープへの半導体
チップの実装方法。 - 【請求項3】 TABテープのインナーリードに半導体
チップの外部接続用電極を接着させて、該半導体チップ
を上記TABテープのインナーリードに実装する半導体
チップの実装方法において、 上記半導体チップは、その外部接続用電極上に導電性熱
可塑性ポリイミドを固着したものであることを特徴とす
る半導体チップの実装方法。 - 【請求項4】 TABテープのインナーリードに半導体
チップの外部接続用電極を接着させることにより、上記
TABテープのインナーリードに実装されてなる半導体
チップにおいて、 上記半導体チップは、その外部接続用電極上に導電性熱
可塑性ポリイミドを固着してなるものであることを特徴
とする半導体チップ。 - 【請求項5】 請求項4記載の半導体チップにおいて、 上記外部接続用電極が、信号を伝達させる信号線路,該
信号線路を保護する保護膜,及び該保護膜の設けられて
いない上記信号線路上に配された電極パッドからなり、
該電極パッド上に導電性熱可塑性ポリイミドを固着して
なるものであることを特徴とする半導体チップ。 - 【請求項6】 請求項4記載の半導体チップにおいて、 上記外部接用電極部が、信号を伝達させる信号線路,及
び該信号線路を保護する保護膜からなり、該保護膜の設
けられていない上記信号線路上に導電性熱可塑性ポリイ
ミドを固着してなるものであることを特徴とする半導体
チップ。 - 【請求項7】 半導体ウエハ上に、信号を伝達させる信
号線路,及び該信号線路を保護する保護膜と,かつ該保
護膜の設けられていない上記信号線路上に、電極パッド
を形成する工程と、 導電性熱可塑性ポリイミド層をスピンコーターにより上
記半導体ウエハ上に形成する工程と、 上記導電性熱可塑性ポリイミド層上にレジストを形成
し、これをマスクとしてエッチングすることにより、上
記電極パッド上に導電性熱可塑性ポリイミドを形成する
工程を含むことを特徴とする半導体チップの製造方法。 - 【請求項8】 TABテープのインナーリードに半導体
チップの外部接続用電極を接着させて、該半導体チップ
を上記TABテープのインナーリードに実装する半導体
チップの実装方法において、 上記半導体チップは、その外部接続用電極上に導電性熱
可塑性ポリイミドを固着してなり、上記TABテープの
インナーリード表面には金メッキが施されていないこと
を特徴とする半導体チップの実装方法。 - 【請求項9】 TABテープのインナーリードに半導体
チップの外部接続用電極を接着させて、上記半導体チッ
プを実装するTABテープにおいて、 上記TABテープのインナーリード表面には金メッキが
施されていないことを特徴とするTABテープ。 - 【請求項10】 TABテープのインナーリードに半導
体チップの外部接続用電極を接着させて、該半導体チッ
プを上記TABテープのインナーリードに実装する半導
体チップの実装方法において、 該TABテープのインナーリードは、その半導体チップ
の外部接続用電極との接着部に導電性熱可塑性ポリイミ
ドを固着してなるものであることを特徴とする半導体チ
ップの実装方法。 - 【請求項11】 TABテープのインナーリードに半導
体チップの外部接続用電極を接着させて該半導体チップ
を実装するTABテープにおいて、 該TABテープのインナーリードは、その半導体チップ
の外部接続用電極との接着部に導電性熱可塑性ポリイミ
ドを固着してなるものであることを特徴とするTABテ
ープ。 - 【請求項12】 TABテープのインナーリードに半導
体チップの外部接続用電極を接着させて、該半導体チッ
プを上記TABテープのインナーリードに実装する半導
体チップの実装方法において、 上記TABテープのインナーリードは、導電性熱可塑性
ポリイミドにより形成されてなるものであることを特徴
とする半導体チップの実装方法。 - 【請求項13】 TABテープのインナーリードに半導
体チップの外部接続用電極を接着させて、該半導体チッ
プを該インナーリードに実装するTABテープにおい
て、 上記TABテープのインナーリードは、導電性熱可塑性
ポリイミドにより形成してなるものであることを特徴と
するTABテープ。 - 【請求項14】 フリップチップ実装基板の半導体チッ
プ接続用電極に半導体チップの外部接続用電極を接着さ
せて該半導体チップを上記フリップチップ実装基板の半
導体チップ接続用電極に実装する方法において、 上記フリップチップ実装基板の半導体チップ接続用電極
と上記半導体チップの外部接続用電極との間に、ボンデ
ィング材として導電性熱可塑性ポリイミドを配置し、該
導電性熱可塑性ポリイミドを、上記フリップチップ実装
基板をその上に配置するホットステージによりフリップ
チップ実装基板を介して加熱することにより上記導電性
熱可塑性ポリイミドに可塑性を与えながら、上記半導体
チップを上から押圧するコレットにより上記半導体チッ
プ上部より加圧することにより、上記半導体チップを上
記フリップチップ実装基板の半導体チップ接続用電極に
実装することを特徴とするフリップチップ実装基板への
半導体チップの実装方法。 - 【請求項15】 フリップチップ実装基板の半導体チッ
プ接続用電極と該半導体チップの外部接続用電極を接着
させて、該半導体チップを実装するためのフリップチッ
プ実装基板において、 該フリップチップ実装基板の半導体チップ接続用電極は
信号を伝達させる信号線路、及び該信号線路を保護する
保護膜からなり、該保護膜の設けられていない上記信号
線路上に導電性熱可塑性ポリイミドを固着してなるもの
であることを特徴とするフリップチップ実装基板。 - 【請求項16】 フリップチップ実装基板の半導体チッ
プ接続用電極と該半導体チップの外部接続用電極を接着
させて、該半導体チップを実装するためのフリップチッ
プ実装基板において、 上記フリップチップ実装基板上の信号を伝達させる信号
線路は、導電性熱可塑性ポリイミドにより形成されてい
ることを特徴とするフリップチップ実装基板。 - 【請求項17】 TABテープのインナーリードに半導
体チップの外部接続用電極を接着させて、該半導体チッ
プを上記TABテープのインナーリードに実装してな
る,マイクロ波装置を製造する方法において、 上記半導体チップは、その外部接続用電極上に導電性熱
可塑性ポリイミドを固着してなるものであることを特徴
とするマイクロ波装置の製造方法。 - 【請求項18】 TABテープのインナーリードに半導
体チップの外部接続用電極を接着させて、上記半導体チ
ップを上記TABテープのインナーリードに実装してな
る,マイクロ波装置において、 上記半導体チップは、その外部接続用電極上に導電性熱
可塑性ポリイミドを固着してなるものであることを特徴
とするマイクロ波装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7201177A JPH0951062A (ja) | 1995-08-07 | 1995-08-07 | 半導体チップの実装方法,半導体チップ,半導体チップの製造方法,tabテープ,フリップチップ実装方法,フリップチップ実装基板,マイクロ波装置の製造方法及びマイクロ波装置 |
US08/584,293 US5767569A (en) | 1995-08-07 | 1996-01-11 | Tab tape and semiconductor chip mounted on tab tape |
EP96108575A EP0758146A3 (en) | 1995-08-07 | 1996-05-30 | Flip chip semiconductor device |
US08/692,441 US5837388A (en) | 1995-08-07 | 1996-08-05 | Aluminum alloy solder material, its manufacturing method, brazing sheet using this material, and method of manufacturing aluminum alloy heat exchanger using this sheet |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7201177A JPH0951062A (ja) | 1995-08-07 | 1995-08-07 | 半導体チップの実装方法,半導体チップ,半導体チップの製造方法,tabテープ,フリップチップ実装方法,フリップチップ実装基板,マイクロ波装置の製造方法及びマイクロ波装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0951062A true JPH0951062A (ja) | 1997-02-18 |
Family
ID=16436640
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7201177A Pending JPH0951062A (ja) | 1995-08-07 | 1995-08-07 | 半導体チップの実装方法,半導体チップ,半導体チップの製造方法,tabテープ,フリップチップ実装方法,フリップチップ実装基板,マイクロ波装置の製造方法及びマイクロ波装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5767569A (ja) |
EP (1) | EP0758146A3 (ja) |
JP (1) | JPH0951062A (ja) |
Families Citing this family (4)
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---|---|---|---|---|
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JPH11305205A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-05 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2004079760A (ja) * | 2002-08-19 | 2004-03-11 | Nec Electronics Corp | 半導体装置及びその組立方法 |
US7564138B2 (en) * | 2004-12-23 | 2009-07-21 | Alcatel-Lucent Usa Inc. | Method for attaching chips in a flip-chip arrangement |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3696229A (en) * | 1970-04-14 | 1972-10-03 | Thomas L Angelucci | Bonding tool for through the tool observation bonding and method of bonding |
JPS5961940A (ja) * | 1982-09-30 | 1984-04-09 | Sharp Corp | 半導体チツプのボンデイング方法 |
JPS6116534A (ja) * | 1984-07-03 | 1986-01-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 半導体装置の製造法 |
US5270253A (en) * | 1986-01-27 | 1993-12-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of producing semiconductor device |
JPS6315448A (ja) * | 1986-07-07 | 1988-01-22 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
US4811081A (en) * | 1987-03-23 | 1989-03-07 | Motorola, Inc. | Semiconductor die bonding with conductive adhesive |
US5074947A (en) * | 1989-12-18 | 1991-12-24 | Epoxy Technology, Inc. | Flip chip technology using electrically conductive polymers and dielectrics |
US5206712A (en) * | 1990-04-05 | 1993-04-27 | General Electric Company | Building block approach to microwave modules |
JPH03291947A (ja) * | 1990-04-09 | 1991-12-24 | Mitsubishi Electric Corp | ハイブリッド型デバイス |
US5338975A (en) * | 1990-07-02 | 1994-08-16 | General Electric Company | High density interconnect structure including a spacer structure and a gap |
US5086558A (en) * | 1990-09-13 | 1992-02-11 | International Business Machines Corporation | Direct attachment of semiconductor chips to a substrate with a substrate with a thermoplastic interposer |
JPH04320390A (ja) * | 1991-04-19 | 1992-11-11 | Hitachi Ltd | 表面実装型半導体部品の実装方法 |
CA2108542A1 (en) * | 1992-02-18 | 1993-08-19 | Bidyut K. Bhattacharyya | Advance multilayer molded plastic package using mesic technology |
KR100269281B1 (ko) * | 1992-12-17 | 2000-10-16 | 윤종용 | 반도체장치 |
JPH06232189A (ja) * | 1993-02-01 | 1994-08-19 | Toshiba Chem Corp | 半導体装置 |
US5399902A (en) * | 1993-03-04 | 1995-03-21 | International Business Machines Corporation | Semiconductor chip packaging structure including a ground plane |
EP0641019A3 (en) * | 1993-08-27 | 1995-12-20 | Poly Flex Circuits Inc | Flexible lead frame printed on a polymer. |
-
1995
- 1995-08-07 JP JP7201177A patent/JPH0951062A/ja active Pending
-
1996
- 1996-01-11 US US08/584,293 patent/US5767569A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-30 EP EP96108575A patent/EP0758146A3/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5767569A (en) | 1998-06-16 |
EP0758146A3 (en) | 1999-08-04 |
EP0758146A2 (en) | 1997-02-12 |
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