JPH09331021A - 抵抗回路及びその調整方法 - Google Patents

抵抗回路及びその調整方法

Info

Publication number
JPH09331021A
JPH09331021A JP8149527A JP14952796A JPH09331021A JP H09331021 A JPH09331021 A JP H09331021A JP 8149527 A JP8149527 A JP 8149527A JP 14952796 A JP14952796 A JP 14952796A JP H09331021 A JPH09331021 A JP H09331021A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
resistance
resistors
cut
line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8149527A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3570086B2 (ja
Inventor
Yuji Yamanaka
祐司 山中
Jun Funaki
純 船木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsumi Electric Co Ltd
Original Assignee
Mitsumi Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsumi Electric Co Ltd filed Critical Mitsumi Electric Co Ltd
Priority to JP14952796A priority Critical patent/JP3570086B2/ja
Publication of JPH09331021A publication Critical patent/JPH09331021A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3570086B2 publication Critical patent/JP3570086B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 内部回路に接続される抵抗値を可変できる抵
抗回路及びその調整方法に関し、抵抗値の調整を効率よ
く行える抵抗回路及びその調整方法を提供することを目
的とする。 【解決手段】 第1の抵抗と、第1の抵抗に並列に接続
された第2の抵抗と、第1の抵抗と第2の抵抗よりなる
並列回路にレーザショットにより切断可能に形成された
第2の接続線を介して並列に接続された第3の抵抗と、
第1〜第3の抵抗よりなる並列回路にレーザショットに
より切断可能に形成された第3の接続線を介して並列に
接続された第4の抵抗と、第1〜第4の抵抗よりなる並
列回路にレーザショットにより切断可能に形成された第
4の接続線を介して並列に接続された第5の抵抗と、第
1〜第5の抵抗よりなる並列回路にレーザショットによ
り切断可能に形成された第5及び第6の接続線を介して
並列に接続された第6の抵抗と、レーザショットにより
切断可能に形成され、第1〜第6の抵抗よりなる並列回
路に並列に接続された第1の接続線よりなる調整用抵抗
回路を有してなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する詳細な説明】本発明は抵抗回路及びその
調整方法に係り、特に、内部回路に接続される抵抗値を
可変できる抵抗回路及びその調整方法に関する。
【0002】
【従来の技術】IC(Integrated circuit)などの半導
体チップの内部回路に用いられる抵抗としては一般に拡
散抵抗、ポリシリコン抵抗などが知られている。この拡
散抵抗やポリシリコン抵抗はチップ毎にばらつきが生じ
易く、均一な特性を得ることはできない。そこで、半導
体装置の特性を均一にするために、レーザ光により切断
可能な調整用の抵抗回路を搭載した半導体装置が開発さ
れいる。このような半導体装置では内部回路の信号を検
出し、その検出結果に応じて抵抗を切断するいわゆるレ
ーザトリミングにより抵抗値の調整が行われている。
【0003】図4に従来の半導体装置の構成図示す。従
来のこの種の半導体装置11は、内部回路12及び調整
用抵抗回路13を有してなる。抵抗調整用抵抗回路13
は所定の抵抗値の抵抗R11〜R16を並列に接続するとと
もに、その両端を短絡する短絡線L11により構成されて
いる。第2〜第6の抵抗R12〜R16はそれぞれに切断可
能に形成された接続線L12〜L16を介して接続されてい
る。短絡線L11及び接続線L12〜L16はアルミ配線など
をチップの表面に表出させ、レーザ光により切断可能な
構成とされている。
【0004】調整用抵抗回路13は内部回路12の抵抗
に直列に接続されており、短絡又は抵抗R11〜R16を接
続することにより抵抗値を可変できる構成とされてい
る。調整用抵抗回路13の調整は内部回路12の信号を
検出し、検出した信号に応じて短絡線L11、接続線L12
〜L16上の所定の切断位置P11〜P16にレーザ光を照射
することにより短絡線L11、接続線L12〜L16を切断す
ることにより行われる。
【0005】例えば、抵抗値0は短絡線L11及び接続線
L12〜L16は切断せず、調整用抵抗回路13を短絡状態
とすることにより実現される。また、短絡線L11を切断
することにより、抵抗R11〜R16が並列に接続された構
成とされるため、抵抗R11〜R16の抵抗値をすべてRと
すると、合成抵抗R/6を実現できる。
【0006】さらに、短絡線L11及び接続線L12の2カ
所を切断すると、5つの抵抗R11,R13,R14,R15,
R16が並列に接続された構成とされるため、合成抵抗R
/5を実現できる。また、短絡線L11及び接続線L12,
L13の3カ所を切断すると、4つの抵抗R11,R14,R
15,R16が並列に接続された構成とされるため、合成抵
抗R/4を実現できる。さらに、短絡線L11及び接続線
L12,L13,L14の4カ所を切断すると、3つの抵抗R
11,R15,R16が並列に接続された構成とされるため、
合成抵抗R/3を実現できる。
【0007】また、短絡線L11及び接続線L12,L13,
L14,L15の5カ所を切断すると、2つの抵抗R11,R
16が並列に接続された構成とされるため、合成抵抗R/
2を実現できる。さらに、短絡線L11及び接続線L12,
L13,L14,L15,L16の6カ所を切断すると、1つの
抵抗R11だけが接続された構成とされるため、合成抵抗
Rを実現できる。
【0008】図5に従来の切断箇所に対する合成抵抗の
関係を示す図を示す。図5に示すように従来は接続線を
0〜6本切断することにより、7段階の調整を実現して
いた。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、従来の半導
体装置では、複数の抵抗を並列に接続し、各抵抗に切断
可能に接続線が設けられ、抵抗値を調整する場合、接続
線を選択的に切断することにより調整を行う構成であっ
たため、抵抗値を調整する場合、図5に示すように短絡
線を切断するとともに、抵抗値が大きくなるに従って、
切断する抵抗の数が増加し、切断箇所が増加し、量産時
のスループットが低下するなどの問題点があった。
【0010】本発明は上記の点に鑑みてなされたもの
で、抵抗値の調整を効率よく行える抵抗回路及びその調
整方法を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1は、並
列に接続された複数の抵抗から所望の抵抗を選択的に内
部回路に接続して、該内部回路に接続される抵抗を調整
する抵抗回路において、前記複数の抵抗のうちn個の抵
抗から構成される並列回路と前記内部回路との接続を行
う共通端子との間に切断可能な接続線を有することを特
徴とする。
【0012】請求項1によれば、複数の抵抗のうちn個
の抵抗から構成される並列回路と前記内部回路との接続
を行う共通端子との間に切断可能な接続線を設けること
により、n段目の抵抗を一度の切断で除去できるため、
最小の切断で、所望の抵抗値に設定でき、従って、製造
時のスループットを向上させることができる。
【0013】請求項2は、前記複数の抵抗に並列に接続
され、前記複数の抵抗を短絡する短絡線を有することを
特徴とする。請求項2によれば、複数の抵抗を短絡する
短絡線を設けることにより抵抗値がゼロを実現でき、調
整範囲を拡大できる。
【0014】請求項3は、前記内部回路の信号の状態を
検出する検出手順と、前記検出手順で検出された前記内
部回路の信号の状態に応じて前記複数の抵抗を切断可能
に接続する前記接続線を切断する切断手順とを有するこ
とを特徴とする。
【0015】請求項3によれば、検出手順で検出された
内部回路の信号の状態に応じて切断手順で短絡線及びn
段目の抵抗と1段目〜(n-1) 段目の抵抗から構成される
抵抗回路との接続を一箇所切断するだけで、容易に抵抗
値を所望の抵抗値に設定でき、従って、製造時のスルー
プットを向上させることができる。
【0016】請求項4は、前記切断手順が前記検出手順
で検出された前記内部回路の信号の状態に応じて前記接
続線として前記短絡線を切断する第1の切断手順と、前
記検出手順で検出された前記内部回路の信号の状態に応
じて前記複数の抵抗を接続する前記接続線として前記n
段目の抵抗と前記1段目〜(n-1) 段目の抵抗から構成さ
れる抵抗回路とを接続する接続線を択一的に切断する第
2の切断手順とを有することを特徴とする。
【0017】請求項4によれば、検出手順で検出された
内部回路の信号の状態に応じて第1の切断手順で短絡線
を切断し、検出工程で検出された内部回路の信号の状態
に応じて第2の切断工程でn段目の抵抗と1段目〜(n-
1) 段目の抵抗から構成される抵抗回路との接続を一箇
所切断するだけで、容易に抵抗値を所望の抵抗値に設定
でき、従って、製造時のスループットを向上させること
ができる。
【0018】
【発明の実施の形態】図1に本発明の一実施例の構成図
を示す。本実施例の半導体装置1は、信号を処理する内
部回路2及び内部回路2に接続され、内部回路2で信号
処理に用いられる基準電圧などの調整を行うための調整
用抵抗値を設定する調整用抵抗回路3を有する。
【0019】内部回路2は、増幅回路等を内蔵し、たと
えば、増幅回路を構成するトランジスタのバイアス回路
に調整用抵抗回路3が接続される。内部回路2の基準電
圧回路は、調整用抵抗回路3の抵抗値に応じてトランジ
スタのバイアス電圧が調整され、出力信号レベル等が調
整される。
【0020】調整用抵抗回路3は、6個の抵抗R1 〜R
6 、抵抗R1 〜R6 を接続する接続線L2 〜L6 、短絡
線L1 から構成される。調整用抵抗回路3を構成する第
1の抵抗R1 は、一端が端子Ta に接続され、他端が切
断可能に形成された第2の接続線L2 の一端に接続され
る。
【0021】第2の抵抗R2 は、一端が端子Ta に接続
され、他端が第1の抵抗R1 と第2の接続線L2 の一端
との接続点に接続され、第1の抵抗R1 と並列回路を構
成している。第3の抵抗R3 は、一端が端子Ta に接続
され、他端が第2の接続線L2 の他端に接続されるとと
もに、切断可能に形成された第3の接続線L3 の一端に
接続される。
【0022】また、第4の抵抗R4 は一端が端子Ta に
接続され、他端が第3の接続線L3の他端に接続される
とともに、断線可能に形成された第4の接続線L4 の一
端にに接続される。第5の抵抗R5 は、一端が端子Ta
に接続され、他端が第4の接続線L4 の他端に接続され
るとともに、断線可能に構成された第5の接続線L5の
一端に接続される。
【0023】さらに、第6の抵抗R6 は、一端が端子T
a に接続され、他端が切断可能に形成された第6の接続
線L6 を介して第5の接続線L5 及び端子Tb に接続さ
れる。端子Tb は第5及び第6の接続線L5 ,L6 の接
続点に接続される。また、端子Ta と端子Tb とは切断
可能に形成された第1の接続線L1 により短絡されてい
る。
【0024】端子Ta 及び端子Tb は、内部回路2に接
続され、調整用抵抗回路3を内部回路2に接続する。第
1〜第6の接続線L1 〜L6 はアルミ配線などよりな
り、半導体装置1のチップの表面に表出して形成されて
おり、調整時に調整装置4から照射されるレーザートリ
ミング用のレーザー光により容易に切断可能な構成とさ
れている。調整装置4は内部回路2の信号レベルなどを
検出し、検出した信号レベルに応じてレーザ光を第1〜
第6の接続線L1 〜L6 上に設定された切断位置P1 〜
P6 に選択的に照射し、第1〜第6の接続線L1 〜L6
を選択的に切断する。
【0025】切断位置P1 は第1の接続線L1 の切断位
置、切断位置P2 は第6の接続線L6 の切断位置、切断
位置P3 は第2の接続線L2 の切断位置、切断位置P4
は第3の接続線L3 の切断位置、切断位置P5 は第4の
接続線L4 の切断位置、切断位置P6 は第5の接続線L
5 の切断位置を示す。
【0026】調整用抵抗回路3は第1の接続線L1 が接
続されている場合には、端子Ta と端子Tb との間が短
絡状態となるため抵抗値は0となる。また、第1の接続
線L1 を切断すると、端子Ta と端子Tb との間には第
1〜第6の抵抗R1 〜R6 が並列に接続されるため、第
1〜第6の抵抗をR1 〜R6の抵抗値をRとすると、合
成抵抗R0 はR/6となる。
【0027】また、第1の接続線L1 及び第6の接続線
L6 を切断すると、端子Ta と端子Tb との間には第1
〜第5の抵抗R1 〜R5 の5つの抵抗が並列に接続され
るため、その合成抵抗R0 はR/5となる。さらに、第
1の接続線L1 及び第2の接続線L2 を切断すると、端
子Ta と端子Tb との間には第3〜第6の抵抗R3 〜R
6 の4つの抵抗が並列に接続されるため、その合成抵抗
R0 はR/4となる。
【0028】また、第1の接続線L1 及び第3の接続線
L3 を切断すると、端子Ta と端子Tb との間には第4
〜第6の抵抗R4 〜R6 の3つの抵抗が並列に接続され
るため、その合成抵抗R0 はR/3となる。さらに、第
1の接続線L1 及び第4の接続線L4 を切断すると、端
子Ta と端子Tb との間には第5〜第6の抵抗R5 〜R
6 の2つの抵抗が並列に接続されるため、その合成抵抗
R0 はR/2となる。
【0029】また、第1の接続線L1 及び第5の接続線
L5 を切断すると、端子Ta と端子Tb との間には第6
の抵抗R6 だけが接続されるため、その抵抗R0 はRと
なる。このように、第1〜第6の接続線L1 〜L6 を切
断することにより、端子Taと端子Tb との間の抵抗値
を可変できる。
【0030】図2に本発明の一実施例の切断箇所と合成
抵抗との関係を示す図を示す。図2に示すように第1〜
第6の接続線L1 〜L6 のうち0〜2本の接続線を切断
することにより、端子Ta と端子Tb との間の抵抗を
0,R/6,R/5,R/4,R/3,R/2,Rから
選択的に設定できる。
【0031】次に半導体装置1の調整動作について説明
する。半導体装置1は、調整時には調整装置4に装着さ
れる。調整装置4は半導体装置1の検査端子Tc 等にプ
ローブが接続され、内部回路2の信号の状態を検出す
る。調整装置4は、内部回路2の状態に応じてレーザー
光を予め第1〜第6の接続線L1 〜L6 上に設定された
切断位置P1 〜P6に選択的に照射し、第1〜第6の接
続線L1 〜L6 を選択的に切断する。
【0032】例えば、調整用抵抗回路3が内部回路2の
バイアス用抵抗に直列に接続され、検査端子Tc にはバ
イアス電圧が出力され、調整用抵抗回路3の抵抗値が増
加するほどバイアス電圧が上昇するものとすると、調整
装置4は、バイアス電圧を検出し、バイアス電圧が設定
値V0 と設定値V0 にもっとも近接した第1の規定値V
1 との間にある時には、調整を行う必要はないので、第
1〜第6の接続線L1〜L6 の切断は行わず、調整用抵
抗回路3を短絡した状態とし、調整用抵抗回路3の抵抗
値を0とし、内部回路2に予め設定された抵抗によって
バイアス電圧を発生させる。
【0033】また、調整装置4は、検査端子Tc から検
出されるバイアス電圧が第1の規定値V1 と第2の規定
値V2 (<V1)との間にある時には、調整用抵抗回路
3の抵抗値R0 を大きくする必要がある。そこで、レー
ザ光を第1の切断位置P1 に照射して端子Ta と端子T
b とを短絡していた第1の接続線L1 を切断する。
【0034】第1の接続線L1 を切断することにより調
整用抵抗回路3の抵抗は第1〜第6の抵抗R1 〜R6 の
合成抵抗となる抵抗値R/6となる。このため、内部回
路2には調整用抵抗回路3の合成抵抗R0 =R/6が付
加され、バイアス電圧を上昇させ、バイアス電圧を設定
値V0 と第1の規定値V1 との間の許容範囲内に設定す
る。
【0035】さらに、調整装置4は、検査端子Tc から
検出されるバイアス電圧が第2の規定値V2 と第3の規
定値V3 (<V2 )との間にあるときには、調整用抵抗
回路3の抵抗値R0 をさらに大きくしバイアス電圧を上
昇させ設定値V0 と第1の規定値V1 との間の許容範囲
内に収まるようにする必要がある。そこで、調整装置4
はレーザ光を第1の切断位置P1 に照射して端子Ta と
端子Tb とを短絡していた第1の接続線L1 を切断する
とともに、レーザ光を第2の切断位置P2 に照射して第
6の接続線L6 を切断する。
【0036】第1の接続線L1 及び第6の接続線L6 を
切断することにより、第6の抵抗R6 が切断される。調
整用抵抗回路3が第6の抵抗R6 を切断されることによ
り、第1〜第5の抵抗R1 〜R5 の並列回路が構成さ
れ、合成抵抗R0 =R/5となる。このため、内部回路
2には調整用抵抗回路3の合成抵抗R0 =R/5が付加
され、電圧が上昇し、電圧を設定値V0 と第1の規定値
V1 との間の許容範囲内に設定する。
【0037】また、調整装置4は、検査端子Tc から検
出される電圧が第3の規定値V3 と第4の規定値V4
(<V3 )との間にあるときには、調整用抵抗回路3の
抵抗値R0 をさらに大きくし電圧を上昇させ設定値V0
と第1の規定値V1 との間の許容範囲内に収まるように
する必要がある。そこで、調整装置4は、レーザ光を第
1の切断位置P1 に照射して端子Ta と端子Tb とを短
絡していた第1の接続線L1 を切断するとともに、レー
ザ光を第3の切断位置P3 に照射して第2の接続線L2
を切断する。
【0038】第1及び第3の接続線L1 ,L3 が切断さ
れることにより、第1及び第2の抵抗R1 ,R2 が切断
される。調整用抵抗回路3は第1及び第2の抵抗R1 ,
R2が切断されることにより、第3〜第6の抵抗R3 〜
R6 により並列回路が構成され、その合成抵抗R0 はR
/4となる。このため、内部回路2には調整用抵抗回路
3の合成抵抗R0 =R/4が付加され、さらに大きくバ
イアス電圧を上昇させ、バイアス電圧を設定値V0 と第
1の規定値V1 との間の許容範囲内に設定する。
【0039】また、調整装置4は、検査端子Tc から検
出されるバイアス電圧が第4の規定値V4 と第5の規定
値V5 (<V4 )との間にあるときには、調整用抵抗回
路3の抵抗値R0 をさらに大きくしバイアス電圧を上昇
させ設定値V0 と第1の規定値V1 との間の許容範囲内
に収まるようにする必要がある。そこで、調整装置4
は、レーザ光を第1の切断位置P1 に照射して端子Ta
と端子Tb とを短絡していた第1の接続線L1 を切断す
るとともに、レーザ光を第4の切断位置P4 に照射して
第3の接続線L3 を切断する。
【0040】第1及び第4の接続線L1 ,L4 が切断さ
れることにより、第1〜第3の抵抗R1 〜R3 が切断さ
れる。調整用抵抗回路3は第1〜第3の抵抗R1 〜R3
が切断されることにより、第4〜第6の抵抗R4 〜R6
により並列回路が構成され、その合成抵抗R0 はR/3
となる。このため、内部回路2には調整用抵抗回路3の
合成抵抗R0 =R/3が付加され、さらに大きくバイア
ス電圧を上昇させ、バイアス電圧を設定値V0 と第1の
規定値V1 との間の許容範囲内に設定する。
【0041】また、調整装置4は、検査端子Tc から検
出されるバイアス電圧が第5の規定値V5 と第6の規定
値V6 (<V5 )との間にあるときには、調整用抵抗回
路3の抵抗値R0 をさらに大きくしバイアス電圧を上昇
させ設定値V0 と第1の規定値V1 との間の許容範囲内
に収まるようにする必要がある。そこで、調整装置4
は、レーザ光を第1の切断位置P1 に照射して端子Ta
と端子Tb とを短絡していた第1の接続線L1 を切断す
るとともに、レーザ光を第5の切断位置P5 に照射して
第4の接続線L4 を切断する。
【0042】第1及び第4の接続線L1 ,L4 が切断さ
れることにより、第1〜第4の抵抗R1 〜R4 が切断さ
れる。調整用抵抗回路3は第1〜第4の抵抗R1 〜R4
が切断されることにより、第5〜第6の抵抗R5 〜R6
により並列回路が構成され、その合成抵抗R0 はR/2
となる。このため、内部回路2には調整用抵抗回路3の
合成抵抗R0 =R/2が付加され、さらに大きくバイア
ス電圧を上昇させ、バイアス電圧を設定値V0 と第1の
規定値V1 との間の許容範囲内に設定する。
【0043】また、調整装置4は、検査端子Tc から検
出されるバイアス電圧が第6の規定値V6 と第7の規定
値V7 (<V6 )との間にあるときには、調整用抵抗回
路3の抵抗値R0 をさらに大きくしバイアス電圧を上昇
させ設定値V0 と第1の規定値V1 との間の許容範囲内
に収まるようにする必要がある。そこで、調整装置4
は、レーザ光を第1の切断位置P1 に照射して端子Ta
と端子Tb とを短絡していた第1の接続線L1 を切断す
るとともに、レーザ光を第6の切断位置P6 に照射して
第5の接続線L6 を切断する。
【0044】第1及び第5の接続線L1 ,L5 が切断さ
れることにより、第1〜第5の抵抗R1 〜R5 が切断さ
れる。調整用抵抗回路3は第1〜第5の抵抗R1 〜R5
が切断されることにより、端子Ta と端子Tb との間に
は第6の抵抗R6 だけが接続され、合成抵抗R0 はRと
なる。このため、内部回路2には調整用抵抗回路3の合
成抵抗R0 =Rが付加され、さらに大きくバイアス電圧
を上昇させ、バイアス電圧を設定値V0 と第1の規定値
V1 との間の許容範囲内に設定する。
【0045】また、調整装置4は、検査端子Tc から検
出されるバイアス電圧が第7の規定値V7 以下のときに
は、調整用抵抗回路3では調整不可能であるため、不要
である旨の表示・警報を行い、レーザショットは行わな
い。以上により、内部回路2に発生するバイアス電圧を
設定値V0 と第1の規定値V1 との間の許容範囲内に設
定でき、半導体装置1のばらつきを補正できる。
【0046】本実施例によれば、調整用抵抗回路3の抵
抗値を調整するときには、第1〜第6の接続線L1 〜L
6 のうち0〜2本を切断するだけで、所望の抵抗値を得
ることができるため、接続線の切断(レーザトリミン
グ)を必要最小限の回数で行え、効率よく抵抗値の補正
が行える。したがって、製品のスループットが向上でき
る。
【0047】なお、本実施例の調整用抵抗回路3は6個
の抵抗及び切断可能に形成された6本の接続線により
0,R/6,R/5,R/4,R/3,R/2,Rの7
つの調整抵抗値を実現したが、これに限ることはなく、
図3に示すようにN個の抵抗R1 〜RN 及び切断可能に
形成されたN本の接続線により(N+1)個の抵抗値を
設定可能とすることもできる。
【0048】図3は図1の調整用抵抗回路3と同様に第
1の抵抗R1 は、一端が端子Ta に接続され、他端が切
断可能に形成された第2の接続線L2 の一端に接続され
る。第2の抵抗R2 は、一端が端子Ta に接続され、他
端が第1の抵抗R1 と第2の接続線L2 の一端との接続
点に接続され、第1の抵抗R1 と並列回路を構成してい
る。第3の抵抗R3 は、一端が端子Ta に接続され、他
端が第2の接続線L2 の他端に接続されるとともに、切
断可能に形成された第3の接続線L3 の一端に接続され
る。
【0049】同様に第4の抵抗R4 〜RN-1 が接続さ
れ、さらに、第Nの抵抗RN は一端が端子Ta に接続さ
れ、他端が切断可能に形成された第Nの接続線LN を介
して第N−1の接続線LN-1 及び端子Tb に接続され
る。端子Tb は第N−1及び第Nの接続線LN-1 ,LN
の接続点に接続される。また、端子Ta と端子Tb とは
切断可能に形成された第1の接続線L1 により短絡され
ている。
【0050】端子Ta 及び端子Tb は、内部回路2に接
続され、調整用抵抗回路3は内部回路2に接続される。
第1〜第Nの接続線L1 〜LN はアルミ配線などよりな
り、半導体装置1のチップの表面に表出して形成されて
おり、調整時に調整装置4から照射されるレーザートリ
ミング用のレーザー光により容易に切断可能な構成とさ
れている。調整装置4は内部回路2の信号レベルなどを
検出し、検出した信号レベルに応じてレーザ光を第1〜
第Nの接続線L1 〜LN 上に設定された切断位置P1 〜
PN に選択的に照射し、第1〜第Nの接続線L1 〜LN
を選択的に切断する。
【0051】切断位置P1 は第1の接続線L1 の切断位
置、切断位置P2 は第Nの接続線LN の切断位置、切断
位置P3 は第2の接続線L2 の切断位置、切断位置P4
は第3の接続線L3 の切断位置、切断位置P5 は第4の
接続線L4 の切断位置・・・・・切断位置PN-2 は第N
−3の接続線LN-3 の切断位置、切断位置PN-1 は第N
−2の接続線LN-2 の切断位置, 切断位置PN は第N−
1の接続線LN-1 の切断位置を示す。
【0052】第1の接続線L1 が接続されている場合に
は、端子Ta と端子Tb との間が短絡状態となるため抵
抗値は0となる。また、第1の接続線L1 を切断する
と、端子Ta と端子Tb との間には第1〜第Nの抵抗R
1 〜RN が並列に接続されるため、第1〜第Nの抵抗R
1 〜RN の抵抗値をRとすると、合成抵抗R0 はR/N
となる。
【0053】また、第1の接続線L1 及び第Nの接続線
LN を切断すると、端子Ta と端子Tb との間には第1
〜第N-1 の抵抗R1 〜RN-1 のN-1 個の抵抗が並列に接
続されるため、その合成抵抗R0 はR/(N−1)とな
る。さらに、第1の接続線L1 及び第2の接続線L2 を
切断すると、端子Ta と端子Tb との間には第3〜第6
の抵抗R3 〜R6 の4つの抵抗が並列に接続されるた
め、その合成抵抗R0 はR/(N−2)となる。
【0054】また、第1の接続線L1 及び第3の接続線
L3 を切断すると、端子Ta と端子Tb との間には第4
〜第Nの抵抗R4 〜RN のN-3 個の抵抗が並列に接続さ
れるため、その合成抵抗R0 はR/(N−3)となる。
同様に、第1の接続線L1 及び第N-2 の接続線LN-2 を
切断すると、端子Taと端子Tb との間には第N-2 及び
第N-1 の抵抗RN-1 ,RN の2つの抵抗が並列に接続さ
れるため、その合成抵抗R0 はR/2となる。
【0055】また、第1の接続線L1 及び第N-1 の接続
線LN-1 を切断すると、端子Ta と端子Tb との間には
第Nの抵抗RN だけが接続されるため、その抵抗R0 は
Rとなる。このように、第1〜第Nの接続線L1 〜LN
を切断することにより、端子Taと端子Tb との間の抵
抗値を0〜Rの範囲でN+1段階に可変できる。しか
も、切断する切断位置はN個から0〜2個を選択的に切
断すればよく、電圧などの補正を効率よく行える。
【0056】なお、上記実施例では接続線の切断をレー
ザー光線により行っているが、要は接続線を選択的に切
断できる手段であればこれに限られるものではない。
【0057】
【発明の効果】上述の如く、本発明の請求項1によれ
ば、複数の抵抗のうちn個の抵抗から構成される並列回
路と前記内部回路との接続を行う共通端子との間に切断
可能な接続線を設けることにより、n段目の抵抗を一度
の切断で除去できるため、最小の切断で、所望の抵抗値
に設定でき、従って、製造時のスループットを向上させ
ることができる等の特長を有する。
【0058】請求項2によれば、複数の抵抗を短絡する
短絡線を設けることにより抵抗値がゼロを実現でき、調
整範囲を拡大できる等の特長を有する。請求項3によれ
ば、検出工程で検出された内部回路の信号の状態に応じ
て切断工程で短絡線及び第n段目の抵抗と第1段目〜第
(n-1) 段目の抵抗から構成される抵抗回路との接続を一
箇所切断するだけで、容易に抵抗値を所望の抵抗値に設
定でき、従って、製造時のスループットを向上させるこ
とができる等の特長を有する。
【0059】請求項4によれば、検出工程で検出された
内部回路の信号の状態に応じて第1の切断工程で短絡線
を切断し、検出工程で検出された内部回路の信号の状態
に応じて第2の切断工程で第n段目の抵抗と第1段目〜
第(n-1) 段目の抵抗から構成される抵抗回路との接続を
一箇所切断するだけで、容易に抵抗値を所望の抵抗値に
設定でき、従って、製造時のスループットを向上させる
ことができる等の特長を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の構成図である。
【図2】本発明の一実施例の動作説明図である。
【図3】本発明の他の実施例の構成図である。
【図4】従来の一例の構成図である。
【図5】従来の一例の動作説明図である。
【符号の説明】
1 半導体装置 2 内部回路 3 抵抗値調整回路 4 調整装置 R1 〜R6 第1〜第6の抵抗 L1 〜L6 第1〜第6の接続線 P1 〜P6 第1〜第6の切断部分 Tc 検出端子

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 並列に接続された複数の抵抗から所望の
    抵抗を選択的に内部回路に接続して、該内部回路に接続
    される抵抗を調整する抵抗回路において、 前記複数の抵抗のうちn個の抵抗から構成される並列回
    路と前記内部回路との接続を行う共通端子との間に切断
    可能な接続線を有することを特徴とする抵抗回路。
  2. 【請求項2】 前記複数の抵抗に並列に接続され、前記
    複数の抵抗を短絡する短絡線を有することを特徴とする
    請求項1記載の抵抗回路。
  3. 【請求項3】 前記内部回路の信号の状態を検出する検
    出手順と、 前記検出手順で検出された前記内部回路の信号の状態に
    応じて前記複数の抵抗を切断可能に接続する前記接続線
    を切断する切断手順とを有することを特徴とする請求項
    1又は2記載の抵抗回路の調整方法。
  4. 【請求項4】 前記切断手順は、前記検出手順で検出さ
    れた前記内部回路の信号の状態に応じて前記短絡線を切
    断する第1の切断手順と、 前記検出手順で検出された前記内部回路の信号の状態に
    応じて前記複数の抵抗を接続する前記接続線を択一的に
    切断する第2の切断手順とを有することを特徴とする請
    求項3記載の抵抗回路の調整方法。
JP14952796A 1996-06-11 1996-06-11 抵抗回路及びその調整方法 Expired - Fee Related JP3570086B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14952796A JP3570086B2 (ja) 1996-06-11 1996-06-11 抵抗回路及びその調整方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14952796A JP3570086B2 (ja) 1996-06-11 1996-06-11 抵抗回路及びその調整方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09331021A true JPH09331021A (ja) 1997-12-22
JP3570086B2 JP3570086B2 (ja) 2004-09-29

Family

ID=15477092

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14952796A Expired - Fee Related JP3570086B2 (ja) 1996-06-11 1996-06-11 抵抗回路及びその調整方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3570086B2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1003217A2 (en) * 1998-11-06 2000-05-24 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Regulating resistor network, semiconductor device including the resistor network, and method for fabricating the device
JP2007019186A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Seiko Epson Corp 終端抵抗を備えたインターフェース回路並びにそれを内蔵した集積回路装置及び電子機器
JP2007017399A (ja) * 2005-07-11 2007-01-25 Seiko Epson Corp バンプを有する集積回路装置内の抵抗値測定方法及び抵抗値調整方法並びに集積回路装置及び電子機器
US7205880B2 (en) 2003-11-25 2007-04-17 Sharp Kabushiki Kaisha Trimmer impedance component, semiconductor device and trimming method
CN112530936A (zh) * 2020-11-25 2021-03-19 清华大学 集成电路细致修调电阻阵列版图结构
CN113119329A (zh) * 2019-12-30 2021-07-16 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 晶体硅的切割方法和切割装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1003217A2 (en) * 1998-11-06 2000-05-24 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Regulating resistor network, semiconductor device including the resistor network, and method for fabricating the device
EP1003217A3 (en) * 1998-11-06 2001-03-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Regulating resistor network, semiconductor device including the resistor network, and method for fabricating the device
US6649463B2 (en) 1998-11-06 2003-11-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Regulating resistor network, semiconductor device including the resistor network, and method for fabricating the device
US7205880B2 (en) 2003-11-25 2007-04-17 Sharp Kabushiki Kaisha Trimmer impedance component, semiconductor device and trimming method
JP2007019186A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Seiko Epson Corp 終端抵抗を備えたインターフェース回路並びにそれを内蔵した集積回路装置及び電子機器
JP2007017399A (ja) * 2005-07-11 2007-01-25 Seiko Epson Corp バンプを有する集積回路装置内の抵抗値測定方法及び抵抗値調整方法並びに集積回路装置及び電子機器
JP4604887B2 (ja) * 2005-07-11 2011-01-05 セイコーエプソン株式会社 バンプを有する集積回路装置及び電子機器
CN113119329A (zh) * 2019-12-30 2021-07-16 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 晶体硅的切割方法和切割装置
CN112530936A (zh) * 2020-11-25 2021-03-19 清华大学 集成电路细致修调电阻阵列版图结构

Also Published As

Publication number Publication date
JP3570086B2 (ja) 2004-09-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0780851B1 (en) A semiconductor IC chip with electrically adjustable resistor structures
JPH09331021A (ja) 抵抗回路及びその調整方法
US20070054199A1 (en) Semiconductor device manufacturing method, wafer and reticle
EP0720023A1 (en) Test method for power integrated devices
JPH05198637A (ja) 半導体集積回路及びそのテスト方法
JP2003243513A (ja) 抵抗回路
JPH08204582A (ja) 半導体集積回路
US7667449B2 (en) Constant current supply circuit capable of being trimmed
JPH0422026B2 (ja)
EP0335634A2 (en) Integrated circuit incorporating a voltage detector circuit
JP2002204148A (ja) 遅延回路および該遅延回路を用いたウェーハテスト回路
JPH02291714A (ja) 集積回路
JP3727788B2 (ja) 電流検出回路
US20020072132A1 (en) Semiconductor integrated circuit
RU1819352C (ru) Способ отбраковки ненадежных КМОП ИС
JPH01225134A (ja) 半導体集積回路の製造方法
JPH0567683A (ja) 識別回路
JPH0786521A (ja) 半導体装置の特性トリミング方法
JPS63124443A (ja) 半導体装置
JPH0547934A (ja) 大規模集積回路の製造方法
JPH0475358A (ja) 半導体ウェーハ
JPH0777561A (ja) 半導体集積回路装置及び内部回路検査方法
JP2880714B2 (ja) 集積回路
JPS59101931A (ja) 電子回路
JPH0314230B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040601

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040614

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100702

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100702

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110702

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120702

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120702

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130702

Year of fee payment: 9

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees