JPH09328490A - 新規な非対称リン化合物およびその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱安定性に優れ、かつ、高分子重合体に配合
することにより優れた安定化効果をもたらし、加えて、
高分子重合体中より当該酸化防止剤が移行することな
く、その酸化防止効果を維持できる、新規なリン化合物
が求められていた。 【解決手段】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｘ¹、およびＸ²はそれぞれ独立して、式 【化２】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
し、ｐは０または１を示し、ｍは２〜１０の整数を示
す。）により表されるリン化合物、当該化合物からなる
高分子重合体用安定剤、および、当該物質を含有してな
る安定化された高分子重合体を使用することにより、標
記課題を達成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高分子重合体の安
定剤として有用な新規なリン化合物、およびそれらの用
途に関する。

【０００２】

【従来の技術】天然高分子、合成高分子、油脂、潤滑
油、作動油などの高分子重合体は、酸化を受けて有用性
を減じるので、種々の酸化防止剤が工夫されて、これら
高分子重合体中に添加されている。たとえば、フェノー
ル系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光
安定剤、リン系酸化防止剤などの安定化剤を単独で、あ
るいは複数の組合せで用いると安定化効果のあることが
知られている。特に、ポリエチレン、ポリプロピレン、
アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリ塩
化ビニル樹脂などの合成樹脂は熱、酸素、光などの作用
により劣化し、変色したり、機械的強度を低下させたり
して使用寿命が極端に短くなることが知られている。

【０００３】その劣化防止のために多種類の酸化防止剤
が開発されているが、そのなかでリン系酸化防止剤は樹
脂の変色を防止し、耐熱性、耐候性を増加させるため多
用されてきた。最近は高速成型のための高温化やエンジ
ニアリングプラスチックなどとのアロイによる高温成型
などのため、高温で揮散しにくい耐熱性、加工安定性の
優れた酸化防止剤の要求が高まってきており、その目的
のためにリン系酸化防止剤としてホスファイトやホスホ
ナイト化合物が開発、商品化されている。

【０００４】すなわち、特公昭５０−３５０９６号公報
には、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトを代表とする
４，４’−ビフェニレンジホスホナイト化合物が、特開
平１−２５４７４４号公報には、テトラキス（２，４−
ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジ
ホスホナイトと対応するモノホスホナイトを含有する組
成物が、特開平２−２７０８９２号公報には、テトラキ
ス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスホナイトなどからなる組
成物が、特開平５−２０２０７８号公報には、テトラキ
ス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビ
フェニレンジホスホネートなどからなる組成物が、さら
に特開平５−１７８８７０号公報には、テトラキス
（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスホナイト化合物が、それ
ぞれ開示されている。

【０００５】また、特願平７−３４２３２３号公報に
は、２，４−ジ第３級ブチルフェニルビス［４’−ビス
（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスファニルビ
フェニル−４−イル］ホスフィナイト（または（２，４
−第３級ブチルフェノキシ）ビス［４’−［ビス（２，
４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスフィノ］ビフェニ
ル−４−イル］ホスフィンともよばれる）、２，４−ジ
第３級ブチルフェニル ［４’−ビス（２，４−ジ第３
級ブチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イ
ル］［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキ
シ）ホスホリルビフェニル−４−イル］ホスフィナイ
ト、２，４−ジ第３級ブチルフェニル ビス［４’−ビ
ス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスファニル
ビフェニル−４−イル］ホスフィネート、２，４−ジ第
３級ブチルフェニル ［４’−ビス（２，４−ジ第３級
ブチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イ
ル］［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキ
シ）ホスホリルビフェニル−４−イル］ホスフィネー
ト、２，４−ジ第３級ブチルフェニル ビス［４’−ビ
ス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスホリルビ
フェニル−４−イル］ホスフィナイト、２，４−ジ第３
級ブチルフェニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３
級ブチルフェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イ
ル］ホスフィネート、２，４−ジ第３級ブチル−５−メ
チルフェニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブ
チル−５−メチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル
−４−イル］ホスフィナイト（または（２，４−第３級
ブチル−５−メチルフェノキシ）ビス［４’−［ビス
（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ホ
スフィノ］ビフェニル−４−イル］ホスフィンともよば
れる）、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル
［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチル
フェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イル］
［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフ
ェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イル］ホスフィ
ナイト、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル
ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メ
チルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イル］
ホスフィネート、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチル
フェニル ［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５
−メチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イ
ル］［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチ
ルフェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イル］ホス
フィネート、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
ニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５
−メチルフェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イ
ル］ホスフィナイト、および２，４−ジ第３級ブチル−
５−メチルフェニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第
３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ホスホリルビフェ
ニル−４−イル］ホスフィネート、などの化合物が、特
許請求されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、これら既存の
リン系酸化防止剤においてもなお、化合物自体の熱安定
性および有効成分を配合した樹脂組成物の非着色性、熱
安定性などの点で満足されるものはない。また、前記組
成物による安定化効果も満足すべきものではなかった。

【０００７】また、リン系酸化防止剤は、樹脂の変色を
防止するなどの耐熱性、耐候性を増加させ、高分子重合
体の安定化効果の向上に主眼をおいて開発されてきた
が、リン系酸化防止剤が高分子重合体より移行し、酸化
防止剤を添加した高分子重合体の酸化防止効果が早期に
消失する問題点があった。

【０００８】したがって、本発明の目的は、それ自体
が、熱安定性に優れ、かつ、高分子重合体に配合するこ
とにより優れた安定化効果をもたらし、加えて、高分子
重合体中より当該酸化防止剤の移行（Ｍｉｇｒａｔｉｏ
ｎ）を制御し、その酸化防止効果を維持できる、新規な
リン化合物およびその用途を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らはこのような
実状に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、特に、熱安定性が
優れたリン化合物を見いだし、さらに、高分子重合体に
添加することにより高分子重合体の熱に対する安定性を
極めて改良することを見い出し、加えて、高分子重合体
中より当該酸化防止剤の移行を制御し、その酸化防止効
果を維持できることを見い出し、本発明を完成するに至
った。すなわち、

【００１０】（１）：一般式（Ｉ）

【００１１】

【化３６】

【００１２】（式中、Ｘ¹ は、式

【００１３】

【化３７】

【００１４】（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示
す。）を示し、Ｘ² はそれぞれの繰り返し単位について
独立して式

【００１５】

【化３８】

【００１６】（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示
す。）を示し、ｐはそれぞれの繰り返し単位について独
立して０または１を示し、ｍは２〜１０の整数を示
す。）により表されるリン化合物（以下、化合物（Ｉ）
ともいう）、

【００１７】（２）：一般式（ＩＩ）

【００１８】

【化３９】

【００１９】（式中、Ｘ¹ 、Ｘ² およびＸ³ はそれぞれ
独立して式

【００２０】

【化４０】

【００２１】（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示
す。）を示し、ｐおよびｑはそれぞれ独立して０または
１の整数を示す。）により表されるリン化合物（以下、
化合物（ＩＩ）ともいう）、

【００２２】（３）：一般式（ＩＩＩ）

【００２３】

【化４１】

【００２４】（式中、Ｘ¹ 、Ｘ² およびＸ³ はそれぞれ
独立して式

【００２５】

【化４２】

【００２６】（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示
す。）を示し、ｐおよびｑはそれぞれ独立して０または
１の整数を示す。）により表されるリン化合物（以下、
化合物（ＩＩＩ）ともいう）、

【００２７】（４）：化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）ま
たは化合物（ＩＩＩ）により表されるリン化合物からな
る高分子重合体用安定剤、

【００２８】（５）：化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）ま
たは化合物（ＩＩＩ）により表されるリン化合物を含有
してなる安定化された高分子重合体、

【００２９】（６）：化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）ま
たは化合物（ＩＩＩ）により表されるリン化合物と、フ
ェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収
剤、光安定剤およびリン系酸化防止剤から選ばれる少な
くとも１種を含有してなる高分子重合体用安定剤、

【００３０】（７）：化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）ま
たは化合物（ＩＩＩ）により表されるリン化合物と、フ
ェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収
剤、光安定剤およびリン系酸化防止剤から選ばれる少な
くとも１種を含有してなる安定化された高分子重合体に
関する。

【００３１】化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）または化合
物（ＩＩＩ）により表される化合物においては、各リン
原子の原子価は、それぞれ独立して３価

【００３２】

【化４３】

【００３３】、または５価

【００３４】

【化４４】

【００３５】であり、各リン原子に結合される式

【００３６】

【化４５】

【００３７】（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示
す。）におけるＲは、それぞれ独立して水素原子または
メチル基である。

【００３８】

【発明の実施の形態】本発明の化合物（Ｉ）、化合物
（ＩＩ）または化合物（ＩＩＩ）により表されるリン化
合物は、たとえば次の方法によって製造される。

【００３９】ビフェニルと、ハロゲン化リン（三塩化リ
ン、三臭化リン、三ヨウ化リンなど）を高温気相で、ま
たはルイス酸（塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、
ヨウ化アルミニウム、塩化ガリウム、臭化ガリウム、塩
化インジウム、臭化インジウム、塩化スズ、塩化チタ
ン、塩化ジルコニウム、塩化ロジウム、フッ化アンチモ
ン、塩化アンチモン、塩化タングステン、塩化鉄、塩化
亜鉛、フッ化ホウ素、塩化ホウ素、塩化ニオブなど）な
どの触媒の存在下、溶媒（ベンゼン、トルエン、ヘキサ
ン、ヘプタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼンなど）中、または、好ましくは前記に例示し
たハロゲン化リンまたはオキシ塩化リンを溶媒と兼ねて
使用して、冷却下または室温から用いる溶媒の沸点まで
の温度、好ましくは加熱還流下に反応させ、次いで得ら
れたビフェニルハロホスフィンと化学量論的量もしくは
それ以上の量の一般式

【００４０】

【化４６】

【００４１】（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示
す。）により表される化合物（以下、化合物（ＩＶ）と
もいう）を、アミン（ジメチルホルムアミド、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン、モルホリン、ジメチルア
ニリン、ピリジン、キノリン、コリジン、アミノピリジ
ン、１，８−ビス（ジメチルアミノ）ナフタリン、１，
８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン
など）の存在下、溶媒（ベンゼン、トルエン、ヘキサ
ン、ヘプタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロトルエン、クロロベンゼンなど）中、冷却下または室
温から用いる溶媒の沸点までの温度で３０分から２４時
間反応させることによって製造することができる。

【００４２】なお、化合物（ＩＶ）により示される化合
物としては、２，４−ジ第３級ブチルフェノール、２，
４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノール、または
２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェノールが好ま
しい。

【００４３】得られた目的化合物は再結晶法、クロマト
グラフィー法などの通常の手段により精製することがで
きる。

【００４４】本発明の化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）ま
たは化合物（ＩＩＩ）により表されるリン化合物として
は、例えば、２，４−ジ第３級ブチルフェニル（ビフェ
ニル−４−イル）［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチ
ルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イル］ホ
スフィナイト（化合物Ａ）

【００４５】

【化４７】

【００４６】、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフ
ェニル（ビフェニル−４−イル）［４’−ビス（２，４
−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ホスファニ
ルビフェニル−４−イル］ホスフィナイト（化合物Ｂ）

【００４７】

【化４８】

【００４８】、２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフ
ェニル（ビフェニル−４−イル）［４’−ビス（２，４
−ジ第３級ブチル−６−メチルフェノキシ）ホスファニ
ルビフェニル−４−イル］ホスフィナイト（化合物Ｃ）

【００４９】

【化４９】

【００５０】、化合物Ｄ、化合物Ｅ、化合物Ｆ、化合物
Ｇ、化合物Ｈ、化合物Ｉ、化合物Ｊ、化合物Ｋ、化合物
Ｌ、化合物Ｍ、化合物Ｎなど（化合物Ｄから化合物Ｎは
下記に示す。）が挙げられ、好ましくは、化合物Ａ、化
合物Ｂ、化合物Ｃが挙げられる。これらの化合物におい
て、各リン原子の原子価は、それぞれ独立して３価

【００５１】

【化５０】

【００５２】、または５価

【００５３】

【化５１】

【００５４】であり、また、各リン原子に結合される式

【００５５】

【化５２】

【００５６】（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示
す。）におけるＲは、それぞれ独立して水素原子である
か、５位がメチル基または６位がメチル基である。

【００５７】本発明の化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）ま
たは化合物（ＩＩＩ）は、特に、熱安定性に優れた特徴
を有し、高温揮散性が少なく、高分子重合体の酸化劣化
を防止する安定剤として有用であり、特に、化合物Ａ、
化合物Ｂまたは化合物Ｃが有用である。本発明の化合物
（Ｉ）、化合物（ＩＩ）または化合物（ＩＩＩ）は１種
でも用いられるが、２種以上、たとえば、化合物Ａの場
合は、２，４−ジ第３級ブチルフェニル（ビフェニル−
４−イル）［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェ
ノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イル］ホスフィナ
イト（化合物Ｄ）

【００５８】

【化５３】

【００５９】、２，４−ジ第３級ブチルフェニル（ビフ
ェニル−４−イル）［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブ
チルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イル］
ホスフィネート（化合物Ｅ）

【００６０】

【化５４】

【００６１】、２，４−ジ第３級ブチルフェニル（ビフ
ェニル−４−イル）［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブ
チルフェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イル］ホ
スフィネート（化合物Ｆ）

【００６２】

【化５５】

【００６３】から選ばれた１種以上の化合物と、化合物
Ｂの場合は、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
ニル（ビフェニル−４−イル）［４’−ビス（２，４−
ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ホスホリルビ
フェニル−４−イル］ホスフィナイト（化合物Ｇ）

【００６４】

【化５６】

【００６５】、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフ
ェニル（ビフェニル−４−イル）［４’−ビス（２，４
−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ホスファニ
ルビフェニル−４−イル］ホスフィネート（化合物Ｈ）

【００６６】

【化５７】

【００６７】、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフ
ェニル（ビフェニル−４−イル）［４’−ビス（２，４
−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ホスホリル
ビフェニル−４−イル］ホスフィネート（化合物Ｉ）

【００６８】

【化５８】

【００６９】から選ばれた１種以上の化合物と、それぞ
れ併用または混合して用いることもできる。

【００７０】さらに、これらに、化合物Ｊ

【００７１】

【化５９】

【００７２】、化合物Ｋ

【００７３】

【化６０】

【００７４】、化合物Ｌ

【００７５】

【化６１】

【００７６】、化合物Ｍ

【００７７】

【化６２】

【００７８】、化合物Ｎ

【００７９】

【化６３】

【００８０】などの化合物をそれぞれ併用または混合し
て用いることもできる。

【００８１】本発明化合物により安定化される高分子重
合体は、合成高分子や天然高分子、油脂、鉱油など自体
およびこれよりなるものに代表されるものであり、たと
えば、ポリオレフィン、含ハロゲン合成樹脂、石油樹
脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、スチレン系共重合
体、スチレン系樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアル
コール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、アクリル樹脂、メタクリレート樹脂、ポリアクリロ
ニトリル、直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキシ
ド、ポリアミド、ポリカーボネート、変性ポリフェニレ
ンオキシド、ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、尿素
樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポ
リエチレンテレフタレート、強化ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリスルホン系
樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィ
ッド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリ
オキシベンゾイル、ポリイミド、ポリマレイミド、ポリ
アミドイミド、天然ゴム、合成ゴムおよびこれらのブレ
ンド品などがあげられる。

【００８２】ポリオレフィンとしては、ポリエチレン
（高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、線状低密
度ポリエチレン、線状中密度ポリエチレンなど）、ポリ
プロピレン、ポリブテン、ポリペンテン、ポリ−３−メ
チルブチレンなどのα−オレフィン重合体、ポリスチレ
ンおよびポリエチレンとポリプロピレンと他の相溶性重
合体との混和物またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、
エチレン−プロピレン共重合体などがあげられる。

【００８３】当該ポリオレフィンは重合後、触媒残渣を
除去する工程を入れた僅かに精製処理を行ったものや、
比較的高度に精製したもののほかに、高活性触媒を用
い、触媒除去工程を経ていないか、または簡略化して得
られる触媒残渣を含有するポリオレフィン、特に、ハロ
ゲン含有マグネシウム化合物を触媒担体とするチグラー
型触媒やクロム系触媒を用いて得られ、未だ触媒残留物
除去工程を経ていない結晶性ポリオレフィンであっても
よい（特公昭６２−４４１８号公報、特公平３−５６２
４５号公報、米国特許第４１１５６３９号明細書参
照）。

【００８４】さらに、メタロセン系シングルサイト触媒
によって得られる分子量分布の非常に狭いポリオレフィ
ンであってもよい〔ジャーナル・オブ・ポリマー・サイ
エンス・ポリマー・ケミストリー・エディション（Ｊｏ
ｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ．
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｅｄｉｔｉｏ
ｎ）第２３巻，２１５１頁（１９８５年）〕。

【００８５】含ハロゲン合成樹脂としては、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリフッ化ビニリデン、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、臭素化ポリエチレン、塩化
ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−
エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、
塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソブチ
レン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合体、
塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル三元共重合
体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−イ
ソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレン共
重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元
共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、
塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル
−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリ
ロニトリル共重合体、内部可塑性ポリ塩化ビニルなどが
あげられる。

【００８６】スチレン系共重合体としては、スチレンと
他の単量体との共重合体であって、他の単量体として
は、無水マレイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルな
どがあげられる。スチレン系樹脂としては、アクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン樹脂、アクリル酸エステ
ル−ブタジエン−スチレン樹脂、メタクリル酸エステル
−ブタジエン−スチレン樹脂などがあげられる。

【００８７】合成ゴムとしては、イソプレンゴム、ブタ
ジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム
などがあげられる。

【００８８】本発明化合物により安定化される高分子重
合体のうち、好ましくは前記した高分子重合体であり、
より好ましくはポリエチレン（高密度ポリエチレン、低
密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、線状中密
度ポリエチレンなど）、ポリプロピレンなどのポリオレ
フィン、ポリ塩化ビニル、アクリロニトリル−ブタジエ
ン−スチレン樹脂、ポリカーボネート、変性ポリフェニ
レンオキサイドなどがあげられる。

【００８９】本発明化合物は、上記に示した高分子重合
体との相溶性が良好であり、高分子重合体より本発明化
合物が移行を制御でき、長期に渡り、高分子重合体中に
本発明化合物が残存することにより、高分子重合体を安
定化させる優れた効果を持続することができると考えら
れる。本発明化合物を高分子重合体用安定剤として用い
る場合、高分子重合体に対し、好ましくは０．０１〜１
０重量％、より好ましくは０．０１〜５重量％の割合で
配合するのがよい。

【００９０】さらに、本発明の安定剤化合物は、特に、
フェノール系酸化防止剤または硫黄系酸化防止剤と組合
せることにより、さらに、熱安定性に優れた高分子重合
体を得ることができる。本発明において、これらフェノ
ール系酸化防止剤または硫黄系酸化防止剤の１種以上を
組合せて、高分子重合体用安定剤として用いる場合、そ
れら酸化防止剤を高分子重合体に対し、好ましくはそれ
ぞれ０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．０１〜
５重量％の割合で配合するのがよい。併用する場合に
は、別々に添加してもよい。また、予め本発明化合物と
上記以外の他の酸化防止剤とを混合して添加してもよ
く、それらの酸化防止剤の混合割合は、本発明化合物に
対し、０．１〜１０倍量の範囲が好ましい。

【００９１】フェノール系酸化防止剤としては、２，６
−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノール、４−ヒドロ
キシメチル−２，６−ジ第３級ブチルフェノール、２，
６−ジ第３級ブチル−４−エチルフェノール、ブチル化
ヒドロキシアニソール、ｎ−オクタデシル・３−（４−
ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピ
オネート、ジステアリル・（４−ヒドロキシ−３−メチ
ル−５−第３級ブチル）ベンジルマロネート、没食子酸
プロピル、没食子酸オクチル、没食子酸ドデシル、トコ
フェロール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６
−第３級ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（４−エチル−６−第３級ブチルフェノール）、４，
４’−メチレンビス（２，６−ジ第３級ブチルフェノー
ル）、４，４’−ブチリデンビス（６−第３級ブチル−
ｍ−クレゾール）、４，４’−チオビス（６−第３級ブ
チル−ｍ−クレゾール）、スチレン化フェノール、Ｎ，
Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、ビス（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチ
ルエステル）カルシウム、１，１，３−トリス（２−メ
チル−４−ヒドロキシ−５−第３級ブチルフェニル）ブ
タン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ベンゼン、テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス〔６−（１−メチルシクロヘキシル）−ｐ−ク
レゾール〕、１，３，５−トリス（４−第３級ブチル−
３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシア
ヌル酸、１，３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル酸、トリエチ
レングリコール−ビス〔３−（３−第３級ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕、
２，２’−オキザミドビス〔エチル・３−（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチル
アニリノ）−２，４−ジオクチルチオ−１，３，５−ト
リアジン、ビス〔２−第３級ブチル−４−メチル−６−
（２−ヒドロキシ−３−第３級ブチル−５−メチルベン
ジル）フェニル〕テレフタレート、３，９−ビス〔２−
〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチル
エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ
〔５．５〕ウンデカンまたは３，９−ビス〔２−〔３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル〕−
２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウン
デカンなどがあげられるが、これらに限定されるもので
はない。

【００９２】好ましいフェノール系酸化防止剤として
は、２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノール、
ｎ−オクタデシル・３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
第３級ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス
〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシメチル〕メタン、トリエチレ
ングリコール−ビス〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕、
４，４’−ブチリデンビス（６−第３級ブチル−ｍ−ク
レゾール）、４，４’−チオビス（６−第３級ブチル−
ｍ−クレゾール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ第
３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル
酸、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ
−５−第３級ブチルフェニル）ブタン、３，９−ビス
〔２−〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジ
メチルエチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピ
ロ〔５．５〕ウンデカンなどがあげられる。

【００９３】硫黄系酸化防止剤としては、チオアルカン
酸のエステルであって、ジラウリルエステル、ジミリス
チルエステル、ジステアリルエステル、ジドコシルエス
テルなどや、グリセリン、トリメチロールエタン、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒ
ドロキシエチルイソシアヌレートなどの多価アルコール
とのエステルがあげられる。

【００９４】好ましい硫黄系酸化防止剤としては、ジラ
ウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロ
ピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ペン
タエリスリトール−テトラキス（β−ラウリルチオプロ
ピオネート）があげられる。

【００９５】また、本発明の安定剤化合物と共に、高分
子重合体の耐候性をさらに向上させるために、紫外線吸
収剤や光安定剤などを併用させることもできる。

【００９６】これら紫外線吸収剤および光安定剤として
は、フェニルサリチレート、ｐ−第３級ブチルフェニル
サリチレート、ｐ−オクチルフェニルサリチレート、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−アセトキシエトキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒド
ロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシルオキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキ
シ−５，５’−ジスルホベンゾフェノン・２ナトリウ
ム、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタ
クリルオキシ）プロポキシベンゾフェノン、２−（２−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−
３−第３級ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロ
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−
ジ第３級ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２−〔２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、
ｎ−ヘキサデシル・３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、２，４−ジ第３級ブチルフェニル
・３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、エチル・２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレ
ート、｛２，２’−チオビス〔４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）フェノラート〕｝−ｎ−ブチルア
ミン・ニッケル、｛２，２’−チオビス〔４−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）フェノラート〕｝ニ
ッケル、ビス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホン酸エチル）ニッケル、ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ぺリジル）−２−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、ビス
（１−アクリロイル−２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピぺリジル）・ビス（３，５−ジ第３級ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）マロネート、テトラキス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピぺリジル）−１，
２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ
｛〔６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミ
ノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル〕〔（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕ヘキ
サメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ぺリジル）イミノ〕｝、ポリ｛（６−モルホリノ−ｓ−
トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピぺリジル）イミノ〕ヘキサメチレン
〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ〕｝、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸縮合物、
塩化シアヌル／第３級オクチルアミン／１，６−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミ
ノ）ヘキサン縮合物などに代表されるサリチル酸系、ベ
ンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリ
レート系、ニッケル化合物系もしくは２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン系化合物などがあげられる。

【００９７】好ましい紫外線吸収剤および光安定剤とし
ては、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾ
フェノン、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−
第３級ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベン
ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第
３級ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）セバケート、ポリ｛〔６−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）イミノ−ｓ−トリアジン−２，４−
ジイル〕〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕｝などがあげ
られる。

【００９８】さらに本発明化合物は、他のリン系酸化防
止剤と組み合わせることにより、高分子重合体の酸化劣
化を防止する安定剤として使用することができる。他の
リン系酸化防止剤としては、テトラキス（２，４−ジ第
３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホス
ホナイト、トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル）−４−ビフェニルホスホナイト、２，４−ジ第３級
ブチルフェニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級
ブチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イ
ル］ホスフィナイト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブ
チル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレン
ジホスホナイト、トリス（２，４−ジ第３級ブチル−５
−メチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジ第
３級ブチル−５−メチルフェニル）−４−ビフェニルホ
スホナイト、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
ニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５
−メチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イ
ル］ホスフィナイト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブ
チル−６−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレン
ジホスホナイト、トリス（２，４−ジ第３級ブチル−６
−メチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジ第
３級ブチル−６−メチルフェニル）−４−ビフェニルホ
スホナイト、２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェ
ニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−６
−メチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イ
ル］ホスフィナイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチルフ
ェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェニル）ペン
タエリスリトールジホスファイト、２，２’−メチレン
ビス（４，６−ジ第３級ブチルフェニル）−２−エチル
ヘキシルホスファイト、またはそれらの混合物などがあ
げられる。

【００９９】好ましいリン系酸化防止剤としては、テト
ラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’
−ビフェニレンジホスホナイト、トリス（２，４−ジ第
３級ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジ
第３級ブチルフェニル）−４−ビフェニルホスホナイ
ト、２，４−ジ第３級ブチルフェニル ビス［４’−ビ
ス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスファニル
ビフェニル−４−イル］ホスフィナイト、テトラキス
（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、トリス（２，
４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）ホスファイ
ト、ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニ
ル）−４−ビフェニルホスホナイト、２，４−ジ第３級
ブチル−５−メチルフェニル ビス［４’−ビス（２，
４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ホスファ
ニルビフェニル−４−イル］ホスフィナイト、テトラキ
ス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、トリス（２，
４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）ホスファイ
ト、ビス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニ
ル）−４−ビフェニルホスホナイト、２，４−ジ第３級
ブチル−６−メチルフェニル ビス［４’−ビス（２，
４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェノキシ）ホスファ
ニルビフェニル−４−イル］ホスフィナイト、またはそ
れらの混合物があげられる。

【０１００】本発明において、化合物Ａを高分子重合体
用安定剤として用いる場合、化合物Ｄ、化合物Ｅ、化合
物Ｆの他に、２，４−ジ第３級ブチルフェノール、ビス
（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４−ビフェニル
ホスホナイト、トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチ
ルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイ
ト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−
４，４−ビフェニレンジホスホネート、テトラキス
（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４−ビフェ
ニレンジホスホネートホスホナイト、２，４−ジ第３級
ブチルフェニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級
ブチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イ
ル］ホスフィナイト、２，４−ジ第３級ブチルフェニル
［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）
ホスファニルビフェニル−４−イル］［４’−ビス
（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスホリルビフ
ェニル−４−イル］ホスフィナイト、２，４−ジ第３級
ブチルフェニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級
ブチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イ
ル］ホスフィネート、２，４−ジ第３級ブチルフェニル
［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）
ホスファニルビフェニル−４−イル］［４’−ビス
（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスホリルビフ
ェニル−４−イル］ホスフィネート、２，４−ジ第３級
ブチルフェニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級
ブチルフェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イル］
ホスフィナイト、および２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノ
キシ）ホスホリルビフェニル−４−イル］ホスフィネー
ト、などから選ばれる１種以上の化合物と併用すること
もできる。

【０１０１】化合物Ｂを高分子重合体用安定剤として用
いる場合、化合物Ｇ、化合物Ｈ、化合物Ｉの他に、２，
４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノール、ビス
（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−４
−ビフェニルホスホナイト、トリス（２，４−ジ第３級
ブチル−５−メチルフェニル）ホスファイト、テトラキ
ス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス
（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−
４，４−ビフェニレンジホスホネート、テトラキス
（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−
４，４−ビフェニレンジホスホネートホスホナイト、
２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル ビス
［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフ
ェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イル］ホスフ
ィナイト、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニ
ル ［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチ
ルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イル］
［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフ
ェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イル］ホスフィ
ナイト、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル
ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メ
チルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イル］
ホスフィネート、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチル
フェニル ［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５
−メチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−４−イ
ル］［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチ
ルフェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イル］ホス
フィネート、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
ニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５
−メチルフェノキシ）ホスホリルビフェニル−４−イ
ル］ホスフィナイト、および２，４−ジ第３級ブチル−
５−メチルフェニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第
３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ホスホリルビフェ
ニル−４−イル］ホスフィネートなどから選ばれる１種
以上の化合物と併用することもできる。

【０１０２】さらに、化合物Ｃを高分子重合体用安定剤
として用いる場合、化合物Ａまたは化合物Ｂと同様に、
化合物Ｃの各リン原子の原子価が、それぞれ独立して３
価

【０１０３】

【化６４】

【０１０４】、または５価

【０１０５】

【化６５】

【０１０６】である化合物と、それぞれ併用または混合
して用いてもよい。

【０１０７】また、これらの化合物に、２，４−ジ第３
級ブチル−６−メチルフェノール、ビス（２，４−ジ第
３級ブチル−６−メチルフェニル）−４−ビフェニルホ
スホナイト、トリス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メ
チルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ
第３級ブチル−６−メチルフェニル）−４，４’−ビフ
ェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ第３
級ブチル−６−メチルフェニル）−４，４−ビフェニレ
ンジホスホネート、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチ
ル−６−メチルフェニル）−４，４−ビフェニレンジホ
スホネートホスホナイト、２，４−ジ第３級ブチル−６
−メチルフェニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ第３
級ブチル−６−メチルフェノキシ）ホスファニルビフェ
ニル−４−イル］ホスフィナイト、２，４−ジ第３級ブ
チル−６−メチルフェニル ［４’−ビス（２，４−ジ
第３級ブチル−６−メチルフェノキシ）ホスファニルビ
フェニル−４−イル］［４’−ビス（２，４−ジ第３級
ブチル−６−メチルフェノキシ）ホスホリルビフェニル
−４−イル］ホスフィナイト、２，４−ジ第３級ブチル
−６−メチルフェニル ビス［４’−ビス（２，４−ジ
第３級ブチル−６−メチルフェノキシ）ホスファニルビ
フェニル−４−イル］ホスフィネート、２，４−ジ第３
級ブチル−６−メチルフェニル ［４’−ビス（２，４
−ジ第３級ブチル−６−メチルフェノキシ）ホスファニ
ルビフェニル−４−イル］［４’−ビス（２，４−ジ第
３級ブチル−６−メチルフェノキシ）ホスホリルビフェ
ニル−４−イル］ホスフィネート、２，４−ジ第３級ブ
チル−６−メチルフェニル ビス［４’−ビス（２，４
−ジ第３級ブチル−６−メチルフェノキシ）ホスホリル
ビフェニル−４−イル］ホスフィナイト、および２，４
−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル ビス［４’−
ビス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェノキ
シ）ホスホリルビフェニル−４−イル］ホスフィネート
などから選ばれる１種以上の化合物と併用することもで
きる。

【０１０８】さらに、化合物Ｊのように、４，４’−ビ
フェニレンジホスホナイト化合物以外の、例えば、３，
３’−ビフェニレンジホスホナイト化合物などを用いる
こともでき、また、化合物Ｋ、化合物Ｌ、化合物Ｍ、化
合物Ｎのように、３個以上１０個以下のリン原子を分子
内に含むリン化合物を用いることもできる。

【０１０９】本発明において紫外線吸収剤、光安定剤、
リン系酸化防止剤などの安定剤をそれぞれ少なくとも１
種以上組合せて高分子重合体用安定剤として用いる場
合、これら安定剤は高分子重合体に対し、好ましくはそ
れぞれ０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．０１
〜５重量％の割合で配合するのがよい。

【０１１０】このように、本発明化合物の１種または２
種以上と、フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止
剤、紫外線吸収剤、光安定剤およびリン系酸化防止剤か
ら選ばれる少なくとも１種とからなる高分子重合体の安
定剤が提供される。また、それら安定化剤を配合してな
る高分子重合体も提供される。

【０１１１】本発明化合物の１種または２種以上、また
は本発明化合物とその他の酸化防止剤または紫外線吸収
剤、光安定剤などの安定剤の１種以上を併用して、高分
子重合体へ配合する方法としては混合し、ついで混練
り、押出しなどの工程で処理することができる。

【０１１２】さらに本発明化合物は、ステアリン酸カル
シウムなどの金属石鹸、ヒドラジン系化合物などの重金
属不活性化剤、ビス（ｐ−第３級ブチル安息香酸）アル
ミニウム水酸化物などの造核剤、モノブチル錫オキサイ
ドまたはジブチル錫オキサイドなどの有機錫安定剤、ジ
−２−エチルヘキシルフタレートまたはジ−２−エチル
ヘキシルアジペートなどの可塑剤、エポキシ化大豆油ま
たはエポキシオクチルステアレートなどのエポキシ化合
物、各種の有機顔料、酸化アルミニウムなどの充填剤、
重炭酸ナトリウムまたはアゾジカルボンアミドなどの発
泡剤、カチオン系またはアニオン系界面活性剤などの帯
電防止剤、リン酸エステルなどの難燃剤、脂肪族アミ
ド、脂肪酸の低級アルコールエステル類などの滑剤、ア
クリル系高分子加工助剤などと併用することもできる。

【０１１３】

【実施例】以下、本発明を実施例および実験例により詳
述するが、本発明はこれらにより何ら限定されるもので
はない。

【０１１４】実施例１ ２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル（ビフェ
ニル−４−イル）［４’−ビス（２，４−ジ第３級ブチ
ル−５−メチルフェノキシ）ホスファニルビフェニル−
４−イル］ホスフィナイト（化合物Ｂ）

【０１１５】（１）ビフェニル１６．９ｇと三塩化リン
５８ｇに塩化アルミニウム３８．５ｇを加え、８時間加
熱還流した。放冷後に減圧下、５５〜９０℃において過
剰の三塩化リンを留去した。

【０１１６】（２）（１）で得られた赤色のビフェニル
クロロホスフィン・塩化アルミニウム錯体混合物を８０
℃において１時間かけて、トルエン２３０ｇ，ピリジン
６９ｇおよび２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェ
ノール９６．８ｇの溶液に滴下し、次いで８０℃で５時
間反応させた。反応物より塩化アルミニウム−ピリジン
錯体とピリジンの塩酸塩を分離した後、吸着剤により処
理した。次いで溶媒を減圧濃縮し、アセトニトリルとト
ルエンの混合溶媒から繰り返し精製すると黄色粉末状物
質８３ｇが得られた。一部をさらに液体クロマトグラフ
ィー分取により精製すると、融点１２０〜１２２℃の白
色粉末が得られた。なお、得られた化合物は赤外線吸収
スペクトル、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトルに
より化合物Ｂであることを確認した。

【０１１７】また、この化合物は液体クロマトグラフィ
ー質量スペクトルにより、化合物Ｂの他に化合物Ｇ、化
合物Ｈが検出された。

【０１１８】次に実験例により本発明の効果を説明す
る。

【０１１９】実験例１：熱揮散性試験 窒素雰囲気中、昇温速度１０℃／分の条件で熱重量分析
により減量開始温度（℃）および５０％減量時の温度
（℃）を求めた。

【０１２０】表中、比較例１〜３は以下の化合物を示
す。（以下の実験例でも同様である。）

【０１２１】比較例１：テトラキス（２，４−ジ第３級
ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト

【０１２２】比較例２：テトラキス（２，４−ジ第３級
ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレ
ンジホスホナイト

【０１２３】比較例３：トリス（２，４−ジ第３級ブチ
ルフェニル）ホスファイト

【０１２４】その結果を表１に示した。表１に示した値
の単位は、℃である。

【０１２５】

【表１】

【０１２６】表１から、本発明化合物は、比較例の化合
物と比較して、高温での揮散性に優れた熱安定性を保持
している。実験例２：酸素吸収誘導期の測定 添加剤無添加のポリプロピレン（ホモポリマー）樹脂に
以下の配合例に記載した化合物を添加し、ミキサーによ
り５分間混合後、押出機（２０ｍｍφ）にてぺレットを
作成した（ダイス温度２８０℃）。このぺレットを用い
て熱安定性（高分子劣化測定装置による１９０℃での酸
素吸収誘導期の測定）を測定した。

【０１２７】配合例： ・ポリプロピレン（ホモポリマー） ９９．７重量％ 樹脂 ・試験化合物 ０．１重量％ ・テトラキス〔３−（３，５− ０．１重量％ ジ第３級ブチル−４−ヒドロ キシフェニル）プロピオニル オキシメチル〕メタン ・ステアリン酸カルシウム ０．１重量％ その結果を表２に示した。表中に示した値の単位は、分
である。

【０１２８】

【表２】

【０１２９】表２より、本発明化合物は、比較例の化合
物と比較して、ペレットの酸素吸収誘導期が長く、熱安
定性に優れ、かつ酸化防止能に優れている。

【０１３０】

【発明の効果】本発明のリン化合物は、高温揮散性が少
なく、本化合物を高分子重合体の安定剤として使用する
ことにより、熱安定性に優れ、酸化劣化が防止され、特
に、高分子重合体からの移行が制御されることから、安
定化効果が持続した、極めて有効な高分子重合体を得る
ことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 5/5393 Ｃ０８Ｋ 5/5393 Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｃ０８Ｌ 101/00 (72)発明者 尾崎 善弘 大阪府大阪市中央区平野町二丁目６番９号 吉富製薬株式会社化成品事業部内

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｘ¹ は、式 【化２】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、Ｘ² はそれぞれの繰り返し単位について独立して式 【化３】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、ｐはそれぞれの繰り返し単位について独立して０ま
   たは１を示し、ｍは２〜１０の整数を示す。）により表
   されるリン化合物。
2. 【請求項２】 一般式（ＩＩ） 【化４】 （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² およびＸ³ はそれぞれ独立して式 【化５】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、ｐおよびｑはそれぞれ独立して０または１の整数を
   示す。）により表されるリン化合物。
3. 【請求項３】 一般式（ＩＩＩ） 【化６】 （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² およびＸ³ はそれぞれ独立して式 【化７】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、ｐおよびｑはそれぞれ独立して０または１の整数を
   示す。）により表されるリン化合物。
4. 【請求項４】 一般式（Ｉ） 【化８】 （式中、Ｘ¹ は、式 【化９】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、Ｘ² はそれぞれの繰り返し単位について独立して式 【化１０】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、ｐはそれぞれの繰り返し単位について独立して０ま
   たは１を示し、ｍは２〜１０の整数を示す。）により表
   されるリン化合物からなる高分子重合体用安定剤。
5. 【請求項５】 一般式（ＩＩ） 【化１１】 （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² およびＸ³ はそれぞれ独立して式 【化１２】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、ｐおよびｑはそれぞれ独立して０または１の整数を
   示す。）により表されるリン化合物からなる高分子重合
   体用安定剤。
6. 【請求項６】 一般式（ＩＩＩ） 【化１３】 （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² およびＸ³ はそれぞれ独立して式 【化１４】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、ｐおよびｑはそれぞれ独立して０または１の整数を
   示す。）により表されるリン化合物からなる高分子重合
   体用安定剤。
7. 【請求項７】 一般式（Ｉ） 【化１５】 （式中、Ｘ¹ は、式 【化１６】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、Ｘ² はそれぞれの繰り返し単位について独立して式 【化１７】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、ｐはそれぞれの繰り返し単位について独立して０ま
   たは１を示し、ｍは２〜１０の整数を示す。）により表
   されるリン化合物を含有してなる安定化された高分子重
   合体。
8. 【請求項８】 一般式（ＩＩ） 【化１８】 （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² およびＸ³ はそれぞれ独立して式 【化１９】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、ｐおよびｑはそれぞれ独立して０または１の整数を
   示す。）により表されるリン化合物を含有してなる安定
   化された高分子重合体。
9. 【請求項９】 一般式（ＩＩＩ） 【化２０】 （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² およびＸ³ はそれぞれ独立して式 【化２１】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
   し、ｐおよびｑはそれぞれ独立して０または１の整数を
   示す。）により表されるリン化合物を含有してなる安定
   化された高分子重合体。
10. 【請求項１０】 一般式（Ｉ） 【化２２】 （式中、Ｘ¹ は、式 【化２３】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
    し、Ｘ² はそれぞれの繰り返し単位について独立して式 【化２４】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
    し、ｐはそれぞれの繰り返し単位について独立して０ま
    たは１を示し、ｍは２〜１０の整数を示す。）により表
    されるリン化合物と、フェノール系酸化防止剤、硫黄系
    酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤およびリン系酸化
    防止剤から選ばれる少なくとも１種を含有してなる高分
    子重合体用安定剤。
11. 【請求項１１】 一般式（ＩＩ） 【化２５】 （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² およびＸ³ はそれぞれ独立して式 【化２６】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
    し、ｐおよびｑはそれぞれ独立して０または１の整数を
    示す。）により表されるリン化合物と、フェノール系酸
    化防止剤、硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤
    およびリン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を
    含有してなる高分子重合体用安定剤。
12. 【請求項１２】 一般式（ＩＩＩ） 【化２７】 （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² およびＸ³ はそれぞれ独立して式 【化２８】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
    し、ｐおよびｑはそれぞれ独立して０または１の整数を
    示す。）により表されるリン化合物と、フェノール系酸
    化防止剤、硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤
    およびリン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を
    含有してなる高分子重合体用安定剤。
13. 【請求項１３】 一般式（Ｉ） 【化２９】 （式中、Ｘ¹ は、式 【化３０】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
    し、Ｘ² はそれぞれの繰り返し単位について独立して式 【化３１】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
    し、ｐはそれぞれの繰り返し単位について独立して０ま
    たは１を示し、ｍは２〜１０の整数を示す。）により表
    されるリン化合物と、フェノール系酸化防止剤、硫黄系
    酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤およびリン系酸化
    防止剤から選ばれる少なくとも１種を含有してなる安定
    化された高分子重合体。
14. 【請求項１４】 一般式（ＩＩ） 【化３２】 （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² およびＸ³ はそれぞれ独立して式 【化３３】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
    し、ｐおよびｑはそれぞれ独立して０または１の整数を
    示す。）により表されるリン化合物と、フェノール系酸
    化防止剤、硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤
    およびリン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を
    含有してなる安定化された高分子重合体。
15. 【請求項１５】 一般式（ＩＩＩ） 【化３４】 （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² およびＸ³ はそれぞれ独立して式 【化３５】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
    し、ｐおよびｑはそれぞれ独立して０または１の整数を
    示す。）により表されるリン化合物と、フェノール系酸
    化防止剤、硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤
    およびリン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を
    含有してなる安定化された高分子重合体。