JP3120574B2 - 有機ホスファイト化合物およびその用途 - Google Patents
有機ホスファイト化合物およびその用途Info
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- JP3120574B2 JP3120574B2 JP04162113A JP16211392A JP3120574B2 JP 3120574 B2 JP3120574 B2 JP 3120574B2 JP 04162113 A JP04162113 A JP 04162113A JP 16211392 A JP16211392 A JP 16211392A JP 3120574 B2 JP3120574 B2 JP 3120574B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、有機材料の安定剤とし
て有用な新規な有機ホスファイト化合物およびその用途
に関する。
て有用な新規な有機ホスファイト化合物およびその用途
に関する。
【０００２】
【従来の技術】天然高分子、合成高分子、油脂、潤滑
油、作動油等有機材料は酸化を受けて有用性を減じるの
で、種々の酸化防止剤が工夫されて、これら有機材料中
に添加されている。たとえば、ヒンダードフェノール系
化合物、チオアルカン酸エステル化合物、有機リン化合
物、芳香族アミン等の安定化剤を単独で、あるいは複数
の組合せで用いると安定化効果のあることが知られてい
る。 特にポリエチレン、ポリプロピレン、アクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂等の合成樹脂は熱、酸素、光等の作用により劣化し、
変色したり、機械的強度を低下させたりして使用寿命が
極端に短くなることが知られている。その劣化防止のた
めに多種類の酸化防止剤が開発されているが、そのなか
でリン系酸化防止剤は樹脂の変色を防止し、耐熱性、耐
候性を増加させるため多用されてきた。最近は高速成型
のための高温化やエンジニアリングプラスチック等との
アロイによる高温成型などのため、高温で揮散しにくい
耐熱性、加工安定性のすぐれた酸化防止剤の要求が高ま
ってきており、その目的のためにリン系酸化防止剤とし
てホスファイトやホスホナイト化合物が開発、商品化さ
れている。
油、作動油等有機材料は酸化を受けて有用性を減じるの
で、種々の酸化防止剤が工夫されて、これら有機材料中
に添加されている。たとえば、ヒンダードフェノール系
化合物、チオアルカン酸エステル化合物、有機リン化合
物、芳香族アミン等の安定化剤を単独で、あるいは複数
の組合せで用いると安定化効果のあることが知られてい
る。 特にポリエチレン、ポリプロピレン、アクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂等の合成樹脂は熱、酸素、光等の作用により劣化し、
変色したり、機械的強度を低下させたりして使用寿命が
極端に短くなることが知られている。その劣化防止のた
めに多種類の酸化防止剤が開発されているが、そのなか
でリン系酸化防止剤は樹脂の変色を防止し、耐熱性、耐
候性を増加させるため多用されてきた。最近は高速成型
のための高温化やエンジニアリングプラスチック等との
アロイによる高温成型などのため、高温で揮散しにくい
耐熱性、加工安定性のすぐれた酸化防止剤の要求が高ま
ってきており、その目的のためにリン系酸化防止剤とし
てホスファイトやホスホナイト化合物が開発、商品化さ
れている。
【０００３】特開昭５８−１０３５３７号公報には、ビ
ス〔２，２’−メチレンビス（６−第３級ブチル−４−
メチルフェニル）〕２，２−ジメチルトリメチレンホス
ファイトなどの化合物を添加してなる安定化された合成
樹脂組成物が開示され、また、特開平２−２８４９３９
号公報には、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３
級ブチルフェニル）２−エチルヘキシルホスファイトな
どのホスファイト化合物を添加して成る安定化されたポ
リオレフィン樹脂組成物が開示されている。
ス〔２，２’−メチレンビス（６−第３級ブチル−４−
メチルフェニル）〕２，２−ジメチルトリメチレンホス
ファイトなどの化合物を添加してなる安定化された合成
樹脂組成物が開示され、また、特開平２−２８４９３９
号公報には、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３
級ブチルフェニル）２−エチルヘキシルホスファイトな
どのホスファイト化合物を添加して成る安定化されたポ
リオレフィン樹脂組成物が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、汎用されてい
るホスファイトやホスホナイト化合物においてもなお化
合物それ自体の耐加水分解性、熱安定性および有効成分
を配合した樹脂組成物の非着色性、熱安定性などの点で
いまだ満足されるものでない。
るホスファイトやホスホナイト化合物においてもなお化
合物それ自体の耐加水分解性、熱安定性および有効成分
を配合した樹脂組成物の非着色性、熱安定性などの点で
いまだ満足されるものでない。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らはこのような
実状に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、耐加水分解性、熱
安定性がすぐれた特定の有機ホスファイト化合物を有機
材料に添加することにより加工安定性、耐熱性を向上さ
せ、さらに初期および加熱後の着色度合も改善されたバ
ランスのとれた有機材料が得られることを見出して本発
明を完成するに至った。すなわち、本発明は一般式
実状に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、耐加水分解性、熱
安定性がすぐれた特定の有機ホスファイト化合物を有機
材料に添加することにより加工安定性、耐熱性を向上さ
せ、さらに初期および加熱後の着色度合も改善されたバ
ランスのとれた有機材料が得られることを見出して本発
明を完成するに至った。すなわち、本発明は一般式
【化７】 〔式中、ｎ＝は１〜６の整数を示し、ｎ＝１のとき、Ｒ
は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、置換基を
有していてもよいシクロアルキル、置換基を有していて
もよいアラルキル、置換基を有していてもよいアリー
ル、２，２，６，６−テトラアルキル−４−ピペリジル
を示し、ｎ＝２のとき、Ｒはアルキレン、アルケニレ
ン、アルキニレン、置換基を有していてもよいシクロア
ルキレン、置換基を有していてもよいアリレン、式
（ａ）
は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、置換基を
有していてもよいシクロアルキル、置換基を有していて
もよいアラルキル、置換基を有していてもよいアリー
ル、２，２，６，６−テトラアルキル−４−ピペリジル
を示し、ｎ＝２のとき、Ｒはアルキレン、アルケニレ
ン、アルキニレン、置換基を有していてもよいシクロア
ルキレン、置換基を有していてもよいアリレン、式
（ａ）
【化８】 （式中、Ａはアルキレン、−Ｏ−、 −Ｓ−、 −ＳＯ
−、 −ＳＯ2 −を示し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 は同
一または異なって水素、炭素数１〜８個のアルキルを示
す。）により表される基、式（ｂ）
−、 −ＳＯ2 −を示し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 は同
一または異なって水素、炭素数１〜８個のアルキルを示
す。）により表される基、式（ｂ）
【化９】 により表される基〔以下、式（ｂ）はＳＰＧ基と称する
こともある。〕、式（ｃ）
こともある。〕、式（ｃ）
【化１０】 により表される基〔以下、式（ｃ）はＣＫＧ基と称する
こともある。〕、式（ｄ）
こともある。〕、式（ｄ）
【化１１】 により表される基〔以下、式（ｄ）はＥＴＧ基と称する
こともある。〕、式（ｅ）
こともある。〕、式（ｅ）
【化１２】 により表される基を示し、ｎ＝３のとき、Ｒは炭素数２
〜６個の直鎖または分枝鎖状のアルカン−トリイルを示
し、ｎ＝４のとき、Ｒは炭素数２〜６個の直鎖または分
枝鎖状のアルカン−テトライルを示し、ｎ＝５のとき、
Ｒは炭素数２〜６個の直鎖または分枝鎖状のアルカン−
ペンタイルを示し、ｎ＝６のとき、Ｒは炭素数２〜６個
の直鎖または分枝鎖状のアルカン−ヘキサイルを示し、
Ｘは炭素数１〜６個の直鎖または分枝鎖状のアルキレ
ン、−Ｏ−、 −Ｓ−、−ＳＯ−、 −ＳＯ2 −を示
す。〕により表される有機ホスファイト化合物、該化合
物からなる有機材料の安定剤および該化合物を安定剤と
して含有することを特徴とする安定化された有機材料に
関する。
〜６個の直鎖または分枝鎖状のアルカン−トリイルを示
し、ｎ＝４のとき、Ｒは炭素数２〜６個の直鎖または分
枝鎖状のアルカン−テトライルを示し、ｎ＝５のとき、
Ｒは炭素数２〜６個の直鎖または分枝鎖状のアルカン−
ペンタイルを示し、ｎ＝６のとき、Ｒは炭素数２〜６個
の直鎖または分枝鎖状のアルカン−ヘキサイルを示し、
Ｘは炭素数１〜６個の直鎖または分枝鎖状のアルキレ
ン、−Ｏ−、 −Ｓ−、−ＳＯ−、 −ＳＯ2 −を示
す。〕により表される有機ホスファイト化合物、該化合
物からなる有機材料の安定剤および該化合物を安定剤と
して含有することを特徴とする安定化された有機材料に
関する。
【０００６】上記定義中、Ｒの置換基を説明すると、ア
ルキルとはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、第２級ブチル、第３級ブチル、ペ
ンチル、イソペンチル、第２級ペンチル、第３級ペンチ
ル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、２
−エチルヘキシル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデ
シル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキ
サデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、
イコシル、ドコシルなどの炭素数１〜２２個の直鎖また
は分枝鎖状のアルキルを示し、アルケニルとはビニル、
１−プロペニル、アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキ
セニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニ
ル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペン
タデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オクタ
デセニル、ノナデセニル、イコセニル、ドコセニルなど
の炭素数２〜２２個の直鎖または分枝鎖状のアルケニル
を示し、アルキニルとはエチニル、１−プロピニル、プ
ロパルギル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプ
チニル、オクチニル、ノニニル、デシニル、ウンデシニ
ル、ドデシニル、トリデシニル、テトラデシニル、ペン
タデシニル、ヘキサデシニル、ヘプタデシニル、オクタ
デシニル、ノナデシニル、イコシニル、ドコシニルなど
の炭素数２〜２２個の直鎖または分枝鎖状のアルキニル
を示し、置換基を有してもよいシクロアルキルのシクロ
アルキル基とはシクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなどの炭素
数３〜７個のシクロアルキルまたはその他の天然または
合成されたテルペン系の基を示し、置換基として炭素数
１〜８個の直鎖または分枝鎖状のアルキル（メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
第２級ブチル、第３級ブチル、ヘプチル、オクチルな
ど）またはフェニルなどを該シクロアルキルに１〜３個
有していてもよい。置換基を有してもよいアラルキルの
アラルキル基とはベンジル、２−フェニルエチル、３−
フェニルプロピル、４−フェニルブチル、１−ナフチル
メチル、２−ナフチルメチル、２−（２−ナフチル）エ
チルなどを示し、置換基として炭素数１〜８個の直鎖ま
たは分枝鎖状のアルキルまたはフェニルなどを該アラル
キルに１〜３個有していてもよい。置換基を有してもよ
いアリールのアリール基とはフェニルまたはナフチルを
示し、置換基として炭素数１〜８個の直鎖または分枝鎖
状のアルキル、炭素数２〜２４個のアルコキシカルボニ
ルまたはフェニル、炭素数２〜２４個のアルコキシカル
ボニルが置換されている上記アルキルなどを該アリール
に１〜３個有していてもよい。ここで、炭素数２〜２４
個のアルコキシカルボニルとはメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカ
ルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシ
カルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキ
シカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デシルオキシ
カルボニル、ウンデシオキシカルボニル、ドデシルオキ
シカルボニル、トリデシルオキシカルボニル、テトラデ
シルオキシカルボニル、ペンタデシルオキシカルボニ
ル、ヘキサデシルオキシカルボニル、ヘプタデシルオキ
シカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、ノナデ
シルオキシカルボニル、イコシルオキシカルボニル、ド
コシルオキシカルボニルなどがあげられる。アルキレン
とはメチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、
テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘ
プタメチレン、オクタメチレン、メチルメチレン、エチ
ルメチレン、ジメチルメチレン、ジエチルメチレン、ジ
メチルエチレン、ジエチルエチレン、ジメチルトリメチ
レン、ジエチルトリメチレン、ジメチルテトラメチレ
ン、ジエチルテトラメチレン、ノナメチレン、デカメチ
レン、ドデカメチレンなどの炭素数１〜１２個の直鎖ま
たは分枝鎖状のアルキレンを示し、アルケニレンとはビ
ニレン、プロペニレン、ブテニレン、ペンテニレン、ヘ
キセニレン、オクテニレン、ノネニレン、デセニレン、
ウンデセニレン、ドデセニレンなどの炭素数２〜１２個
の直鎖または分枝鎖状のアルケニレンを示し、アルキニ
レンとはエチニレン、プロピニレン、ブチニレン、ペン
チニレン、ヘキシニレン、ヘプチニレン、オクチニレ
ン、ノネニレン、デシニレン、ウンデシニレン、ドデシ
ニレンなどの炭素数２〜１２個の直鎖または分枝鎖状の
アルキニレンを示し、置換基を有してもよいシクロアル
キレンのシクロアルキレン基とはシクロプロピレン、シ
クロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、
シクロヘプチレンなどの炭素数３〜７個のシクロアルキ
レンまたはその他の天然または合成されたテルペン系の
基を示し、その置換基とは炭素数１〜８個の直鎖または
分枝鎖状のアルキルまたはフェニルなどである。置換基
を有してもよいアリレンのアリレン基とはフェニレン、
ビフェニレンまたはナフタレンジイルを示し、その置換
基とは炭素数１〜８個の直鎖または分枝鎖状のアルキル
であって、たとえば、１，４−フェニレン、トリレン、
２，４，６−トリメチル−１，３−フェニレン、２，
３，５，６−テトラメチル−１，４−フェニレン、２，
５−ジ第３級ブチル−１，４−フェニレンなどである。
炭素数２〜６個の直鎖または分枝鎖状のアルカン−トリ
イルとはエタントリイル、プロパントリイル、ブタント
リイル、ペンタントリイル、ヘキサントリイルなどを示
し、炭素数２〜６個の直鎖または分枝鎖状のアルカン−
テトライルとはエタンテトライル、プロパンテトライ
ル、ブタンテトライル、ペンタンテトライル、ヘキサン
テトライルなどを示し、炭素数２〜６個の直鎖または分
枝鎖状のアルカン−ペンタイルとはプロパンペンタイ
ル、ブタンペンタイル、ペンタンペンタイル、ヘキサン
ペンタイルなどを示し、炭素数２〜６個の直鎖または分
枝鎖状のアルカン−ヘキサイルとはプロパンヘキサイ
ル、ブタンヘキサイル、ペンタンヘキサイル、ヘキサン
ヘキサイルなどを示す。式（ａ）の具体例としては、
ルキルとはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、第２級ブチル、第３級ブチル、ペ
ンチル、イソペンチル、第２級ペンチル、第３級ペンチ
ル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、２
−エチルヘキシル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデ
シル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキ
サデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、
イコシル、ドコシルなどの炭素数１〜２２個の直鎖また
は分枝鎖状のアルキルを示し、アルケニルとはビニル、
１−プロペニル、アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキ
セニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニ
ル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペン
タデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オクタ
デセニル、ノナデセニル、イコセニル、ドコセニルなど
の炭素数２〜２２個の直鎖または分枝鎖状のアルケニル
を示し、アルキニルとはエチニル、１−プロピニル、プ
ロパルギル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプ
チニル、オクチニル、ノニニル、デシニル、ウンデシニ
ル、ドデシニル、トリデシニル、テトラデシニル、ペン
タデシニル、ヘキサデシニル、ヘプタデシニル、オクタ
デシニル、ノナデシニル、イコシニル、ドコシニルなど
の炭素数２〜２２個の直鎖または分枝鎖状のアルキニル
を示し、置換基を有してもよいシクロアルキルのシクロ
アルキル基とはシクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなどの炭素
数３〜７個のシクロアルキルまたはその他の天然または
合成されたテルペン系の基を示し、置換基として炭素数
１〜８個の直鎖または分枝鎖状のアルキル（メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
第２級ブチル、第３級ブチル、ヘプチル、オクチルな
ど）またはフェニルなどを該シクロアルキルに１〜３個
有していてもよい。置換基を有してもよいアラルキルの
アラルキル基とはベンジル、２−フェニルエチル、３−
フェニルプロピル、４−フェニルブチル、１−ナフチル
メチル、２−ナフチルメチル、２−（２−ナフチル）エ
チルなどを示し、置換基として炭素数１〜８個の直鎖ま
たは分枝鎖状のアルキルまたはフェニルなどを該アラル
キルに１〜３個有していてもよい。置換基を有してもよ
いアリールのアリール基とはフェニルまたはナフチルを
示し、置換基として炭素数１〜８個の直鎖または分枝鎖
状のアルキル、炭素数２〜２４個のアルコキシカルボニ
ルまたはフェニル、炭素数２〜２４個のアルコキシカル
ボニルが置換されている上記アルキルなどを該アリール
に１〜３個有していてもよい。ここで、炭素数２〜２４
個のアルコキシカルボニルとはメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカ
ルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシ
カルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキ
シカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デシルオキシ
カルボニル、ウンデシオキシカルボニル、ドデシルオキ
シカルボニル、トリデシルオキシカルボニル、テトラデ
シルオキシカルボニル、ペンタデシルオキシカルボニ
ル、ヘキサデシルオキシカルボニル、ヘプタデシルオキ
シカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、ノナデ
シルオキシカルボニル、イコシルオキシカルボニル、ド
コシルオキシカルボニルなどがあげられる。アルキレン
とはメチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、
テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘ
プタメチレン、オクタメチレン、メチルメチレン、エチ
ルメチレン、ジメチルメチレン、ジエチルメチレン、ジ
メチルエチレン、ジエチルエチレン、ジメチルトリメチ
レン、ジエチルトリメチレン、ジメチルテトラメチレ
ン、ジエチルテトラメチレン、ノナメチレン、デカメチ
レン、ドデカメチレンなどの炭素数１〜１２個の直鎖ま
たは分枝鎖状のアルキレンを示し、アルケニレンとはビ
ニレン、プロペニレン、ブテニレン、ペンテニレン、ヘ
キセニレン、オクテニレン、ノネニレン、デセニレン、
ウンデセニレン、ドデセニレンなどの炭素数２〜１２個
の直鎖または分枝鎖状のアルケニレンを示し、アルキニ
レンとはエチニレン、プロピニレン、ブチニレン、ペン
チニレン、ヘキシニレン、ヘプチニレン、オクチニレ
ン、ノネニレン、デシニレン、ウンデシニレン、ドデシ
ニレンなどの炭素数２〜１２個の直鎖または分枝鎖状の
アルキニレンを示し、置換基を有してもよいシクロアル
キレンのシクロアルキレン基とはシクロプロピレン、シ
クロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、
シクロヘプチレンなどの炭素数３〜７個のシクロアルキ
レンまたはその他の天然または合成されたテルペン系の
基を示し、その置換基とは炭素数１〜８個の直鎖または
分枝鎖状のアルキルまたはフェニルなどである。置換基
を有してもよいアリレンのアリレン基とはフェニレン、
ビフェニレンまたはナフタレンジイルを示し、その置換
基とは炭素数１〜８個の直鎖または分枝鎖状のアルキル
であって、たとえば、１，４−フェニレン、トリレン、
２，４，６−トリメチル−１，３−フェニレン、２，
３，５，６−テトラメチル−１，４−フェニレン、２，
５−ジ第３級ブチル−１，４−フェニレンなどである。
炭素数２〜６個の直鎖または分枝鎖状のアルカン−トリ
イルとはエタントリイル、プロパントリイル、ブタント
リイル、ペンタントリイル、ヘキサントリイルなどを示
し、炭素数２〜６個の直鎖または分枝鎖状のアルカン−
テトライルとはエタンテトライル、プロパンテトライ
ル、ブタンテトライル、ペンタンテトライル、ヘキサン
テトライルなどを示し、炭素数２〜６個の直鎖または分
枝鎖状のアルカン−ペンタイルとはプロパンペンタイ
ル、ブタンペンタイル、ペンタンペンタイル、ヘキサン
ペンタイルなどを示し、炭素数２〜６個の直鎖または分
枝鎖状のアルカン−ヘキサイルとはプロパンヘキサイ
ル、ブタンヘキサイル、ペンタンヘキサイル、ヘキサン
ヘキサイルなどを示す。式（ａ）の具体例としては、
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】 などが上げられる。Ｘの炭素数１〜６個の直鎖または分
枝鎖状のアルキレンとはメチレン、エチレン、プロピレ
ン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、
ヘキサメチレン、メチルメチレン、エチルメチレン、ジ
メチルメチレン、ジエチルメチレン、ジメチルエチレ
ン、ジメチルトリメチレンなどを示す。
枝鎖状のアルキレンとはメチレン、エチレン、プロピレ
ン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、
ヘキサメチレン、メチルメチレン、エチルメチレン、ジ
メチルメチレン、ジエチルメチレン、ジメチルエチレ
ン、ジメチルトリメチレンなどを示す。
【０００７】本発明の有機ホスファイト化合物は、次の
ようなそれ自体公知の方法により製造することができ
る。たとえば、ハロゲン化リン、本発明の特定の基を有
するビスフェノール化合物およびアルコール類またはフ
ェノール類を逐次的にあるいは一段階で反応させること
により製造できる。また、ハロゲン化リンに代えて、ト
リフェニルホスファイトあるいはトリメチルホスファイ
トを用いてエステル交換反応により製造できる。すなわ
ち、本発明の有機ホスファイト化合物は以下の方法によ
り製造される。２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第
３級ブチル−３−メチルフェニル）とハロゲン化リン
（三塩化リン、三臭化リン、三沃化リンなど）を第３級
アミン（トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピ
リジンなど）のようなプロトン受容体の存在下、好まし
くは溶媒（ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロトルエン、ク
ロロベンゼンなど）中、冷却下または室温から用いる溶
媒の沸点までの温度で、好ましくは加熱還流下に反応さ
せ、次いで、得られたホスホクロリド化合物と化学量論
量もしくはそれ以上の一般式（II) Ｒ−（ＯＨ）ｎ （II) （式中、各記号は前記と同義である。）により表される
化合物をジメチルホルムアミド、トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、モルホリン、ジメチルアニリン、ピリ
ジン、キノリン、コリジン、アミノピリジン、１，８−
ビス（ジメチルアミノ）ナフタリン、１，８−アザビシ
クロ〔５．４．０〕ウンデカ−７−エンなどのアミンの
存在下、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロトルエン、クロロ
ベンゼンなどの溶媒中、冷却下または室温から用いる溶
媒の沸点までの温度で３０分から２４時間反応させるこ
とにより製造することができる。
ようなそれ自体公知の方法により製造することができ
る。たとえば、ハロゲン化リン、本発明の特定の基を有
するビスフェノール化合物およびアルコール類またはフ
ェノール類を逐次的にあるいは一段階で反応させること
により製造できる。また、ハロゲン化リンに代えて、ト
リフェニルホスファイトあるいはトリメチルホスファイ
トを用いてエステル交換反応により製造できる。すなわ
ち、本発明の有機ホスファイト化合物は以下の方法によ
り製造される。２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第
３級ブチル−３−メチルフェニル）とハロゲン化リン
（三塩化リン、三臭化リン、三沃化リンなど）を第３級
アミン（トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピ
リジンなど）のようなプロトン受容体の存在下、好まし
くは溶媒（ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロトルエン、ク
ロロベンゼンなど）中、冷却下または室温から用いる溶
媒の沸点までの温度で、好ましくは加熱還流下に反応さ
せ、次いで、得られたホスホクロリド化合物と化学量論
量もしくはそれ以上の一般式（II) Ｒ−（ＯＨ）ｎ （II) （式中、各記号は前記と同義である。）により表される
化合物をジメチルホルムアミド、トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、モルホリン、ジメチルアニリン、ピリ
ジン、キノリン、コリジン、アミノピリジン、１，８−
ビス（ジメチルアミノ）ナフタリン、１，８−アザビシ
クロ〔５．４．０〕ウンデカ−７−エンなどのアミンの
存在下、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロトルエン、クロロ
ベンゼンなどの溶媒中、冷却下または室温から用いる溶
媒の沸点までの温度で３０分から２４時間反応させるこ
とにより製造することができる。
【０００８】得られた目的化合物は再結晶法、クロマト
グラフィー法などの通常の手段により精製することがで
きる。
グラフィー法などの通常の手段により精製することがで
きる。
【０００９】本発明の新規な有機ホスファイト化合物
は、特に耐加水分解性に優れた特徴を有し、精製が容易
で取扱い易い化合物で、しかも吸湿性がほとんどなく、
保存安定性がよく、高温揮散性が少ないなどの特徴を有
し、有機材料の酸化劣化を防止する安定剤として有用で
ある。
は、特に耐加水分解性に優れた特徴を有し、精製が容易
で取扱い易い化合物で、しかも吸湿性がほとんどなく、
保存安定性がよく、高温揮散性が少ないなどの特徴を有
し、有機材料の酸化劣化を防止する安定剤として有用で
ある。
【００１０】本発明化合物により安定化される有機材料
は、高分子重合体、油脂、鉱油など自体およびこれより
なるものに代表されるものであり、高分子重合体として
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリ
ペンテン、ポリ−３−メチルブチレンなどのα−オレフ
ィン重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチ
レン−プロピレン共重合体などのポリオレフィン、ポリ
塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、塩素化ポリエ
チレン、塩素化ポリプロピレン、臭素化ポリエチレン、
塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合
体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソ
ブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合
体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル三元共重
合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−
イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレン
共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三
元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合
体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−ア
クリロニトリル共重合体、内部可塑性ポリ塩化ビニルな
どの含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポ
リスチレン、スチレンと他の単量体（無水マレイン酸、
ブタジエン、アクリロニトリルなど）との共重合体（ス
チレン系共重合体ともいう）、アクリロニトリル−ブタ
ジエン−スチレン樹脂、アクリル酸エステル−ブタジエ
ン−スチレン樹脂、、メタクリル酸エステル−ブタジエ
ン−スチレン樹脂などのスチレン系樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルブチラール、アクリル樹脂、メタクリレート樹
脂、ポリアクリロニトリル、直鎖ポリエステル、ポリフ
ェニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネート、変
性ポリフェニレンオキシド、ポリアセタール、ポリウレ
タン、繊維素系樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノ
ール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シ
リコン樹脂、ポリエチレンテレフタレート、強化ポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、
ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリフェ
ニレンスルフィッド、ポリエーテルケトン、ポリエーテ
ルイミド、ポリオキシベンゾイル、ポリイミド、ポリマ
レイミド、ポリアミドイミドなどをあげることができ
る。さらに天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴ
ム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴムなどの合
成ゴム類や、これらの樹脂のブレンド品であってもよ
い。前記ポリオレフィンは重合後、触媒残査を除去する
工程を入れた僅かに精製処理を行ったものや、比較的高
度に精製したもののほかに、高活性触媒を用い、触媒除
去工程を経ていないか、または簡略化して得られる触媒
残査を含有するポリオレフィン、特にハロゲン含有マグ
ネシウム化合物を触媒担体とするチグラー型触媒を用い
て得られ、未だ触媒残留物除去工程を経ていない結晶性
ポリオレフィンであってもよい（特公昭６２−４４１８
号公報参照）。
は、高分子重合体、油脂、鉱油など自体およびこれより
なるものに代表されるものであり、高分子重合体として
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリ
ペンテン、ポリ−３−メチルブチレンなどのα−オレフ
ィン重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチ
レン−プロピレン共重合体などのポリオレフィン、ポリ
塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、塩素化ポリエ
チレン、塩素化ポリプロピレン、臭素化ポリエチレン、
塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合
体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソ
ブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合
体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル三元共重
合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−
イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレン
共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三
元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合
体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−ア
クリロニトリル共重合体、内部可塑性ポリ塩化ビニルな
どの含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポ
リスチレン、スチレンと他の単量体（無水マレイン酸、
ブタジエン、アクリロニトリルなど）との共重合体（ス
チレン系共重合体ともいう）、アクリロニトリル−ブタ
ジエン−スチレン樹脂、アクリル酸エステル−ブタジエ
ン−スチレン樹脂、、メタクリル酸エステル−ブタジエ
ン−スチレン樹脂などのスチレン系樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルブチラール、アクリル樹脂、メタクリレート樹
脂、ポリアクリロニトリル、直鎖ポリエステル、ポリフ
ェニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネート、変
性ポリフェニレンオキシド、ポリアセタール、ポリウレ
タン、繊維素系樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノ
ール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シ
リコン樹脂、ポリエチレンテレフタレート、強化ポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、
ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリフェ
ニレンスルフィッド、ポリエーテルケトン、ポリエーテ
ルイミド、ポリオキシベンゾイル、ポリイミド、ポリマ
レイミド、ポリアミドイミドなどをあげることができ
る。さらに天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴ
ム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴムなどの合
成ゴム類や、これらの樹脂のブレンド品であってもよ
い。前記ポリオレフィンは重合後、触媒残査を除去する
工程を入れた僅かに精製処理を行ったものや、比較的高
度に精製したもののほかに、高活性触媒を用い、触媒除
去工程を経ていないか、または簡略化して得られる触媒
残査を含有するポリオレフィン、特にハロゲン含有マグ
ネシウム化合物を触媒担体とするチグラー型触媒を用い
て得られ、未だ触媒残留物除去工程を経ていない結晶性
ポリオレフィンであってもよい（特公昭６２−４４１８
号公報参照）。
【００１１】より好ましくはポリエチレン（高密度ポリ
エチレン、低密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレ
ン、線状中密度ポリエチレンなど）、ポリプロピレンな
どのポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、アクリロニトリ
ル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート、変
性ポリフェニレンオキサイドなどがあげられる。
エチレン、低密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレ
ン、線状中密度ポリエチレンなど）、ポリプロピレンな
どのポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、アクリロニトリ
ル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリカーボネート、変
性ポリフェニレンオキサイドなどがあげられる。
【００１２】本発明化合物を有機材料用安定剤として用
いる場合、有機材料に対し、好ましくは０．０１〜１０
重量％、より好ましくは０．０１〜５重量％の割合で配
合するのがよい。
いる場合、有機材料に対し、好ましくは０．０１〜１０
重量％、より好ましくは０．０１〜５重量％の割合で配
合するのがよい。
【００１３】さらに、本発明の安定剤化合物は、特にフ
ェノール系酸化防止剤または硫黄系酸化防止剤と組合せ
ることにより、熱安定性にすぐれた有機材料を得ること
ができる。本発明において、これらフェノール系酸化防
止剤または硫黄系酸化防止剤の１種以上を組合せて、有
機材料用安定剤として用いる場合、それら酸化防止剤を
有機材料に対し、好ましくはそれぞれ０．０１〜１０重
量％、より好ましくは０．０１〜５重量％の割合で配合
するのがよい。併用する場合には、別々に添加してもよ
く、または予め混合しておいた配合剤として添加しても
よい。また、配合割合は本発明化合物に対し、０．１〜
１０倍量の範囲が好ましい。
ェノール系酸化防止剤または硫黄系酸化防止剤と組合せ
ることにより、熱安定性にすぐれた有機材料を得ること
ができる。本発明において、これらフェノール系酸化防
止剤または硫黄系酸化防止剤の１種以上を組合せて、有
機材料用安定剤として用いる場合、それら酸化防止剤を
有機材料に対し、好ましくはそれぞれ０．０１〜１０重
量％、より好ましくは０．０１〜５重量％の割合で配合
するのがよい。併用する場合には、別々に添加してもよ
く、または予め混合しておいた配合剤として添加しても
よい。また、配合割合は本発明化合物に対し、０．１〜
１０倍量の範囲が好ましい。
【００１４】フェノール系酸化防止剤として、２，６−
ジ第３級ブチル−４−メチルフェノール、４−ヒドロキ
シメチル−２，６−ジ第３級ブチルフェノール、２，６
−ジ第３級ブチル−４−エチルフェノール、ブチル化ヒ
ドロキシアニソール、ｎ−オクタデシル・３−（４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピオ
ネート、ジステアリル・（４−ヒドロキシ−３−メチル
−５−第３級ブチル）ベンジルマロネート、没食子酸プ
ロピル、没食子酸オクチル、没食子酸ドデシル、トコフ
ェロール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−
第３級ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（４−エチル−６−第３級ブチルフェノール）、４，
４’−メチレンビス（２，６−ジ第３級ブチルフェノー
ル）、４，４’−ブチリデンビス（６−第３級ブチル−
ｍ−クレゾール）、４，４’−チオビス（６−第３級ブ
チル−ｍ−クレゾール）、スチレン化フェノール、Ｎ，
Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、ビス（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチ
ルエステル）カルシウム、１，１，３−トリス（２−メ
チル−４−ヒドロキシ−５−第３級ブチルフェニル）ブ
タン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ベンゼン、テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス〔６−（１−メチルシクロヘキシル）−ｐ−ク
レゾール〕、１，３，５−トリス（４−第３級ブチル−
３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシア
ヌル酸、１，３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル酸、トリエチ
レングリコール−ビス〔３−（３−第３級ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕、
２，２’−オキザミドビス〔エチル・３−（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチル
アニリノ）−２，４−ジオクチルチオ−１，３，５−ト
リアジン、ビス〔２−第３級ブチル−４−メチル−６−
（２−ヒドロキシ−３−第３級ブチル−５−メチルベン
ジル）フェニル〕テレフタレート、３，９−ビス〔２−
〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチル
エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ
〔５．５〕ウンデカンまたは３，９−ビス〔２−〔３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル〕−
２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウン
デカンなどがあげられるが、これらに限定されるもので
はない。
ジ第３級ブチル−４−メチルフェノール、４−ヒドロキ
シメチル−２，６−ジ第３級ブチルフェノール、２，６
−ジ第３級ブチル−４−エチルフェノール、ブチル化ヒ
ドロキシアニソール、ｎ−オクタデシル・３−（４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピオ
ネート、ジステアリル・（４−ヒドロキシ−３−メチル
−５−第３級ブチル）ベンジルマロネート、没食子酸プ
ロピル、没食子酸オクチル、没食子酸ドデシル、トコフ
ェロール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−
第３級ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（４−エチル−６−第３級ブチルフェノール）、４，
４’−メチレンビス（２，６−ジ第３級ブチルフェノー
ル）、４，４’−ブチリデンビス（６−第３級ブチル−
ｍ−クレゾール）、４，４’−チオビス（６−第３級ブ
チル−ｍ−クレゾール）、スチレン化フェノール、Ｎ，
Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、ビス（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチ
ルエステル）カルシウム、１，１，３−トリス（２−メ
チル−４−ヒドロキシ−５−第３級ブチルフェニル）ブ
タン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ベンゼン、テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス〔６−（１−メチルシクロヘキシル）−ｐ−ク
レゾール〕、１，３，５−トリス（４−第３級ブチル−
３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシア
ヌル酸、１，３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル酸、トリエチ
レングリコール−ビス〔３−（３−第３級ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕、
２，２’−オキザミドビス〔エチル・３−（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチル
アニリノ）−２，４−ジオクチルチオ−１，３，５−ト
リアジン、ビス〔２−第３級ブチル−４−メチル−６−
（２−ヒドロキシ−３−第３級ブチル−５−メチルベン
ジル）フェニル〕テレフタレート、３，９−ビス〔２−
〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチル
エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ
〔５．５〕ウンデカンまたは３，９−ビス〔２−〔３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル〕−
２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウン
デカンなどがあげられるが、これらに限定されるもので
はない。
【００１５】好ましいフェノール系酸化防止剤として
は、２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノール、
ｎ−オクタデシル・３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
第３級ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス
〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシメチル〕メタン、トリエチレ
ングリコール−ビス〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕、
４，４’−ブチリデンビス（６−第３級ブチル−ｍ−ク
レゾール）、４，４’−チオビス（６−第３級ブチル−
ｍ−クレゾール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ第
３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル
酸、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ
−５−第３級ブチルフェニル）ブタン、３，９−ビス
〔２−〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジ
メチルエチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピ
ロ〔５．５〕ウンデカンなどがあげられる。
は、２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノール、
ｎ−オクタデシル・３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
第３級ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス
〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシメチル〕メタン、トリエチレ
ングリコール−ビス〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕、
４，４’−ブチリデンビス（６−第３級ブチル−ｍ−ク
レゾール）、４，４’−チオビス（６−第３級ブチル−
ｍ−クレゾール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ第
３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル
酸、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ
−５−第３級ブチルフェニル）ブタン、３，９−ビス
〔２−〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジ
メチルエチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピ
ロ〔５．５〕ウンデカンなどがあげられる。
【００１６】硫黄系酸化防止剤としては、チオアルカン
酸のエステルであって、ジラウリルエステル、ジミリス
チルエステル、ジステアリルエステル、ジドコシルエス
テルなどや、グリセリン、トリメチロールエタン、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒ
ドロキシエチルイソシアヌレートなどの多価アルコール
とのエステルがあげられる。
酸のエステルであって、ジラウリルエステル、ジミリス
チルエステル、ジステアリルエステル、ジドコシルエス
テルなどや、グリセリン、トリメチロールエタン、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒ
ドロキシエチルイソシアヌレートなどの多価アルコール
とのエステルがあげられる。
【００１７】好ましくは、ジラウリルチオジプロピオネ
ート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリ
ルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テト
ラキス（β−ラウリルチオプロピオネート）があげられ
る。
ート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリ
ルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テト
ラキス（β−ラウリルチオプロピオネート）があげられ
る。
【００１８】また、本発明の安定剤化合物と共に、有機
材料の耐候性をさらに向上させるために、紫外線吸収剤
や光安定剤などを併用させることもできる。
材料の耐候性をさらに向上させるために、紫外線吸収剤
や光安定剤などを併用させることもできる。
【００１９】これら紫外線吸収剤および光安定剤として
は、フェニルサリチレート、ｐ−第３級ブチルフェニル
サリチレート、ｐ−オクチルフェニルサリチレート、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−アセトキシエトキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒド
ロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシルオキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキ
シ−５，５’−ジスルホベンゾフェノン・２ナトリウ
ム、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタ
クリルオキシ）プロポキシベンゾフェノン、２−（２−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−
３−第３級ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロ
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−
ジ第３級ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２−〔２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、
ｎ−ヘキサデシル・３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、２，４−ジ第３級ブチルフェニル
・３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、エチル・２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレ
ート、｛２，２’−チオビス〔４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）フェノラート〕｝−ｎ−ブチルア
ミン・ニッケル、｛２，２’−チオビス〔４−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）フェノラート〕｝ニ
ッケル、ビス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホン酸エチル）ニッケル、ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ぺリジル）−２−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、ビス
（１−アクリロイル−２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピぺリジル）・ビス（３，５−ジ第３級ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）マロネート、テトラキス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピぺリジル）−１，
２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ
｛〔６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミ
ノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル〕〔（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕ヘキ
サメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ぺリジル）イミノ〕｝、ポリ｛（６−モルホリノ−ｓ−
トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピぺリジル）イミノ〕ヘキサメチレン
〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ〕｝、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸縮合物、
塩化シアヌル／第３級オクチルアミン／１，６−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミ
ノ）ヘキサン縮合物などに代表されるサリチル酸系、ベ
ンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリ
レート系、ニッケル化合物系もしくは２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン系化合物などがあげられる。
は、フェニルサリチレート、ｐ−第３級ブチルフェニル
サリチレート、ｐ−オクチルフェニルサリチレート、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−アセトキシエトキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒド
ロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシルオキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキ
シ−５，５’−ジスルホベンゾフェノン・２ナトリウ
ム、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタ
クリルオキシ）プロポキシベンゾフェノン、２−（２−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−
３−第３級ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロ
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−
ジ第３級ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２−〔２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、
ｎ−ヘキサデシル・３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、２，４−ジ第３級ブチルフェニル
・３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、エチル・２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレ
ート、｛２，２’−チオビス〔４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）フェノラート〕｝−ｎ−ブチルア
ミン・ニッケル、｛２，２’−チオビス〔４−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）フェノラート〕｝ニ
ッケル、ビス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホン酸エチル）ニッケル、ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ぺリジル）−２−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、ビス
（１−アクリロイル−２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピぺリジル）・ビス（３，５−ジ第３級ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）マロネート、テトラキス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピぺリジル）−１，
２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ
｛〔６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミ
ノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル〕〔（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕ヘキ
サメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ぺリジル）イミノ〕｝、ポリ｛（６−モルホリノ−ｓ−
トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピぺリジル）イミノ〕ヘキサメチレン
〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ〕｝、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸縮合物、
塩化シアヌル／第３級オクチルアミン／１，６−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミ
ノ）ヘキサン縮合物などに代表されるサリチル酸系、ベ
ンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリ
レート系、ニッケル化合物系もしくは２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン系化合物などがあげられる。
【００２０】好ましくは、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オ
クチルオキシベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−
ヒドロキシ−３−第３級ブチル−５−メチルフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキ
シ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾール、ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）セバケート、ポリ｛〔６−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−ｓ−トリア
ジン−２，４−ジイル〕〔（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）イミノ〕ヘキサメチレン
〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ〕｝などがあげられる。
クチルオキシベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−
ヒドロキシ−３−第３級ブチル−５−メチルフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキ
シ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾール、ビス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）セバケート、ポリ｛〔６−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−ｓ−トリア
ジン−２，４−ジイル〕〔（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）イミノ〕ヘキサメチレン
〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ〕｝などがあげられる。
【００２１】また、本発明の化合物は、他のリン系酸化
防止剤と併用してもよく、それらリン系酸化防止剤とし
てはトリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスフ
ァイト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス
（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第３級ブチル−
４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチ
ルフェニル）−２−エチルヘキシルホスファイトなどが
あげられる。
防止剤と併用してもよく、それらリン系酸化防止剤とし
てはトリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホスフ
ァイト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス
（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第３級ブチル−
４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチ
ルフェニル）−２−エチルヘキシルホスファイトなどが
あげられる。
【００２２】本発明において紫外線吸収剤、光安定剤、
リン系酸化防止剤などの安定剤をそれぞれ少なくとも１
種以上組合せて有機材料用安定剤として用いる場合、こ
れら安定剤は有機材料に対し、好ましくは０．０１〜１
０重量％、より好ましくは０．０１〜５重量％の割合で
配合するのがよい。
リン系酸化防止剤などの安定剤をそれぞれ少なくとも１
種以上組合せて有機材料用安定剤として用いる場合、こ
れら安定剤は有機材料に対し、好ましくは０．０１〜１
０重量％、より好ましくは０．０１〜５重量％の割合で
配合するのがよい。
【００２３】このように、本発明の有機ホスファイト化
合物と、フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、
紫外線吸収剤、光安定剤およびリン系酸化防止剤から選
ばれる少なくとも一種とからなる有機材料の安定剤が提
供される。
合物と、フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、
紫外線吸収剤、光安定剤およびリン系酸化防止剤から選
ばれる少なくとも一種とからなる有機材料の安定剤が提
供される。
【００２４】本発明の化合物単独または本発明の化合物
とその他の酸化防止剤または紫外線吸収剤、光安定剤な
どの安定剤の１種以上を併用して、有機材料へ配合する
方法としては混合し、ついで混練り、押出しなどの工程
で処理することができる。本発明化合物は、さらに金属
石鹸、重金属不活性化剤、造核剤、有機錫安定剤、可塑
剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止
剤、難燃剤、滑剤、加工助剤などと併用することもでき
る。
とその他の酸化防止剤または紫外線吸収剤、光安定剤な
どの安定剤の１種以上を併用して、有機材料へ配合する
方法としては混合し、ついで混練り、押出しなどの工程
で処理することができる。本発明化合物は、さらに金属
石鹸、重金属不活性化剤、造核剤、有機錫安定剤、可塑
剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止
剤、難燃剤、滑剤、加工助剤などと併用することもでき
る。
【００２５】
【実施例】以下、本発明を実施例および実験例により詳
述するが、本発明はこれらにより何ら限定されるもので
はない。
述するが、本発明はこれらにより何ら限定されるもので
はない。
【００２６】実施例１
【００２７】（１）２，２’−メチレンビス（４，６−
ジ第３級ブチル−３−メチルフェノール）２７．１ｇ、
トルエン１００ｇおよびピリジン９．５ｇを溶解した
後、三塩化リン９．６ｇを２０℃以下で滴下し、滴下終
了後９０〜１００℃で５時間反応させた。室温に冷却
後、反応液より生成したピリジン塩酸塩を濾別し、トル
エンで充分洗浄し、濾液を減圧濃縮して濃縮物をヘキサ
ンより再結晶すると、融点１９７〜２０２℃の２，２’
−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチル−３−メチル
フェニル）ホスホクロリドの白色結晶２５ｇを得た。 （２）メタノール１．２ｇ、トルエン５０ｇおよびトリ
エチルアミン３．７ｇを混合し、次いで２，２’−メチ
レンビス（４，６−ジ第３級ブチル−３−メチルフェニ
ル）ホスホクロリド１７．１ｇを加えて、常温で３０分
間反応させ、さらに、９０〜１００℃にて６時間反応さ
せる。反応終了後、放冷し、トリエチルアミン塩酸塩を
濾別する。濾液を減圧濃縮し、得られた黄色ガラス状物
をカラム分離により精製し、融点１９０〜１９２℃の淡
黄色結晶の２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３級
ブチル−３−メチルフェニル）メチルホスファイト８ｇ
が得られる。なお、得られた化合物は赤外線吸収スペク
トル、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル、元素分
析などの手段により目的であることを確認した。
ジ第３級ブチル−３−メチルフェノール）２７．１ｇ、
トルエン１００ｇおよびピリジン９．５ｇを溶解した
後、三塩化リン９．６ｇを２０℃以下で滴下し、滴下終
了後９０〜１００℃で５時間反応させた。室温に冷却
後、反応液より生成したピリジン塩酸塩を濾別し、トル
エンで充分洗浄し、濾液を減圧濃縮して濃縮物をヘキサ
ンより再結晶すると、融点１９７〜２０２℃の２，２’
−メチレンビス（４，６−ジ第３級ブチル−３−メチル
フェニル）ホスホクロリドの白色結晶２５ｇを得た。 （２）メタノール１．２ｇ、トルエン５０ｇおよびトリ
エチルアミン３．７ｇを混合し、次いで２，２’−メチ
レンビス（４，６−ジ第３級ブチル−３−メチルフェニ
ル）ホスホクロリド１７．１ｇを加えて、常温で３０分
間反応させ、さらに、９０〜１００℃にて６時間反応さ
せる。反応終了後、放冷し、トリエチルアミン塩酸塩を
濾別する。濾液を減圧濃縮し、得られた黄色ガラス状物
をカラム分離により精製し、融点１９０〜１９２℃の淡
黄色結晶の２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第３級
ブチル−３−メチルフェニル）メチルホスファイト８ｇ
が得られる。なお、得られた化合物は赤外線吸収スペク
トル、核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル、元素分
析などの手段により目的であることを確認した。
【００２８】以下、同様にして合成した本発明の有機ホ
スファイト化合物を表１に示した。
スファイト化合物を表１に示した。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【表２】
【００３１】次に実験例により本発明の効果を説明す
る。
る。
【００３２】実験例１
【００３３】原体熱揮散性：窒素雰囲気中、昇温速度１
０℃／分の条件で熱重量分析により減量開始温度（℃）
および１０％減量時の温度（℃）を求めた。
０℃／分の条件で熱重量分析により減量開始温度（℃）
および１０％減量時の温度（℃）を求めた。
【００３４】表中、比較例１〜４は以下の化合物を示す
（以下の実験例でも同様である）。 比較例１の化合物：２，２’−メチレンビス（４，６−
ジ第３級ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホスフ
ァイト
（以下の実験例でも同様である）。 比較例１の化合物：２，２’−メチレンビス（４，６−
ジ第３級ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホスフ
ァイト
【００３５】比較例２の化合物：ビス（２，４−ジ第３
級ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイ
ト
級ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイ
ト
【００３６】比較例３の化合物：トリス（２，４−ジ第
３級ブチルフェニル）ホスファイト
３級ブチルフェニル）ホスファイト
【００３７】比較例４の化合物：テトラキス（２，４−
ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジ
ホスホナイト
ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジ
ホスホナイト
【００３８】その結果を表３に示す。
【００３９】
【表３】
【００４０】表３から本発明化合物は高温での耐揮散性
に優れた安定性を保持している。
に優れた安定性を保持している。
【００４１】実験例２ 添加剤無添加のポリプロピレン（ホモポリマー）樹脂に
以下の配合例に記載した本発明の化合物を添加し、ミキ
サーにより５分間混合後、押出機（２０ｍｍφ）にてぺ
レットを作成した（ダイス温度280 ℃）。このぺレット
のメルトインデックス値（melt index: ＭＩ値）をメル
トインデクサー（２３０℃、荷重２．１６Ｋｇ）にて測
定し、また、着色度（黄色度：ＹＩ）をカラーメーター
により求めた。さらに、上記ミキサーにより５分間混合
後、押出機（２０ｍｍφ）にてペレット作製（樹脂温度
２８０℃、滞留時間一定）を四回繰り返した後のメルト
インデックス値を測定した。
以下の配合例に記載した本発明の化合物を添加し、ミキ
サーにより５分間混合後、押出機（２０ｍｍφ）にてぺ
レットを作成した（ダイス温度280 ℃）。このぺレット
のメルトインデックス値（melt index: ＭＩ値）をメル
トインデクサー（２３０℃、荷重２．１６Ｋｇ）にて測
定し、また、着色度（黄色度：ＹＩ）をカラーメーター
により求めた。さらに、上記ミキサーにより５分間混合
後、押出機（２０ｍｍφ）にてペレット作製（樹脂温度
２８０℃、滞留時間一定）を四回繰り返した後のメルト
インデックス値を測定した。
【００４２】その結果を表４に示す。
【００４３】
【表４】
【００４４】表４から本発明化合物は比較例と比較して
黄色度（ＹＩ）が小さく着色性が少なく、また、繰り返
し４回押し出しぺレットのメルトインデックス値の上昇
が少なく、加工安定性に優れていることがわかる。
黄色度（ＹＩ）が小さく着色性が少なく、また、繰り返
し４回押し出しぺレットのメルトインデックス値の上昇
が少なく、加工安定性に優れていることがわかる。
【００４５】
【発明の効果】本発明の有機ホスファイト化合物は、特
に耐加水分解性に優れた特徴を有し、精製が容易で取扱
い易い化合物で、しかも吸湿性がほとんどなく、保存安
定性がよく、高温揮散性が少ないなど、公知のリン系酸
化防止剤の欠点を補う特徴を有し、本化合物を有機材料
の安定剤として使用することにより、加工安定性、熱安
定性に優れ、酸化劣化が防止された極めて有効な有機材
料を得ることができる。
に耐加水分解性に優れた特徴を有し、精製が容易で取扱
い易い化合物で、しかも吸湿性がほとんどなく、保存安
定性がよく、高温揮散性が少ないなど、公知のリン系酸
化防止剤の欠点を補う特徴を有し、本化合物を有機材料
の安定剤として使用することにより、加工安定性、熱安
定性に優れ、酸化劣化が防止された極めて有効な有機材
料を得ることができる。
フロントページの続き (72)発明者 池 哲治 福岡県築上郡吉富町大字小祝955番地 吉富製薬株式会社化成品研究所内 (72)発明者 堀江 松一 大阪府大阪市中央区平野町二丁目６番９ 号 吉富製薬株式会社内 (56)参考文献 特開 平３−162443（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07F 9/6574 C08K 5/527 C08L 101/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (8)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、ｎは１〜６の整数を示し、ｎ＝１のとき、Ｒは
水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、置換基を有
していてもよいシクロアルキル、置換基を有していても
よいアラルキル、置換基を有していてもよいアリールま
たは２，２，６，６−テトラアルキル−４−ピペリジル
を示し、ｎ＝２のとき、Ｒはアルキレン、アルケニレ
ン、アルキニレン、置換基を有していてもよいシクロア
ルキレン、置換基を有していてもよいアリレン、式
（ａ） 【化２】 （式中、Ａはアルキレン、−Ｏ−、 −Ｓ−、 −ＳＯ
−、 −ＳＯ2 −を示し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 は同
一または異なって水素、炭素数１〜８個のアルキルを示
す。）により表される基、式（ｂ） 【化３】 により表される基、式（ｃ） 【化４】 により表される基、式（ｄ） 【化５】 により表される基、式（ｅ） 【化６】 により表される基を示し、ｎ＝３のとき、Ｒは炭素数２
〜６個の直鎖または分枝鎖状のアルカン−トリイルを示
し、ｎ＝４のとき、Ｒは炭素数２〜６個の直鎖または分
枝鎖状のアルカン−テトライルを示し、ｎ＝５のとき、
Ｒは炭素数２〜６個の直鎖または分枝鎖状のアルカン−
ペンタイルを示し、ｎ＝６のとき、Ｒは炭素数２〜６個
の直鎖または分枝鎖状のアルカン−ヘキサイルを示し、
Ｘは炭素数１〜６個の直鎖または分枝鎖状のアルキレ
ン、−Ｏ−、 −Ｓ−、−ＳＯ−、 −ＳＯ2 −を示
す。〕により表される有機ホスファイト化合物。 - 【請求項２】 請求項１の有機ホスファイト化合物か
らなる有機高分子重合体材料の安定剤。 - 【請求項３】 請求項１の有機ホスファイト化合物を
安定剤として含有することを特徴とする安定化された有
機高分子重合体材料。 - 【請求項４】 有機高分子重合体材料がポリオレフィ
ン、含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポ
リスチレン、スチレン系共重合体、スチレン系樹脂、ポ
リ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホル
マール、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂、メタク
リレート樹脂、ポリアクリロニトリル、直鎖ポリエステ
ル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボ
ネート、変性ポリフェニレンオキシド、ポリアセター
ル、ポリウレタン、繊維素系樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂、シリコン樹脂、ポリエチレンテレフタレー
ト、強化ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテ
レフタレート、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスル
ホン、ポリフェニレンスルフィッド、ポリエーテルケト
ン、ポリエーテルイミド、ポリオキシベンゾイル、ポリ
イミド、ポリマレイミド、ポリアミドイミド、天然ゴ
ム、合成ゴムおよびそれらのブレンド品から選ばれる請
求項２に記載の有機高分子重合体材料の安定剤。 - 【請求項５】 有機高分子重合体材料がポリオレフィ
ン、含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポ
リスチレン、スチレン系共重合体、スチレン系樹脂、ポ
リ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホル
マール、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂、メタク
リレート樹脂、ポリアクリロニトリル、直鎖ポリエステ
ル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボ
ネート、変性ポリフェニレンオキシド、ポリアセター
ル、ポリウレタン、繊維素系樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂、シリコン樹脂、ポリエチレンテレフタレー
ト、強化ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテ
レフタレート、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスル
ホン、ポリフェニレンスルフィッド、ポリエーテルケト
ン、ポリエーテルイミド、ポリオキシベンゾイル、ポリ
イミド、ポリマレイミド、ポリアミドイミド、天然ゴ
ム、合成ゴムおよびそれらのブレンド品から選ばれる請
求項３に記載の有機高分子重合体材料。 - 【請求項６】 請求項１に記載の有機ホスファイト化
合物とフェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、紫
外線吸収剤、光安定剤およびリン系酸化防止剤から選ば
れる少なくとも一種とを併用してなる有機高分子重合体
材料の安定剤。 - 【請求項７】 フェノール系酸化防止剤が２，６−ジ
第３級ブチル−４−メチルフェノール、４−ヒドロキシ
メチル−２，６−ジ第３級ブチルフェノール、２，６−
ジ第３級ブチル−４−エチルフェノール、ブチル化ヒド
ロキシアニソール、ｎ−オクタデシル・３−（４−ヒド
ロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピオネ
ート、ジステアリル・（４−ヒドロキシ−３−メチル−
５−第３級ブチル）ベンジルマロネート、没食子酸プロ
ピル、没食子酸オクチル、没食子酸ドデシル、トコフェ
ロール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−第
３級ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４
−エチル−６−第３級ブチルフェノール）、４，４’−
メチレンビス（２，６−ジ第３級ブチルフェノール）、
４，４’−ブチリデンビス（６−第３級ブチル−ｍ−ク
レゾール）、４，４’−チオビス（６−第３級ブチル−
ｍ−クレゾール）、スチレン化フェノール、Ｎ，Ｎ’−
ヘキサメチレンビス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシヒドロシンナミド）、ビス（３，５−ジ第３級
ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチルエス
テル）カルシウム、１，１，３−トリス（２−メチル−
４−ヒドロキシ−５−第３級ブチルフェニル）ブタン、
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼ
ン、テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル〕メタ
ン、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−
ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ート〕、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シ
クロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス
〔６−（１−メチルシクロヘキシル）−ｐ−クレゾー
ル〕、１，３，５−トリス（４−第３級ブチル−３−ヒ
ドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル
酸、１，３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル酸、トリエチレン
グリコール−ビス〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒド
ロキシ−５−メチルフェニル）〕プロピオネート、２，
２’−オキザミドビス〔エチル・３−（３，５−ジ第３
級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチル
アニリノ）−２，４−ジオクチルチオ−１，３，５−ト
リアジン、ビス〔２−第３級ブチル−４−メチル−６−
（２−ヒドロキシ−３−第３級ブチル−５−メチルベン
ジル）フェニル〕テレフタレート、３，９−ビス〔２−
〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチル
エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ
〔５．５〕ウンデカンまたは３，９−ビス〔２−〔３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル〕−
２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウン
デカンである請求項６に記載の有機高分子重合体材料の
安定剤。 - 【請求項８】 フェノール系酸化防止剤が２，６−ジ
第３級ブチル−４−メチルフェノール、ｎ−オクタデシ
ル・３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフ
ェニル）プロピオネート、テトラキス〔３−（３，５−
ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ルオキシメチル〕メタン、トリエチレングリコール−ビ
ス〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）プロピオネート〕、４，４’−ブチリデ
ンビス（６−第３級ブチル−ｍ−クレゾール）、４，
４’−チオビス（６−第３級ブチル−ｍ−クレゾー
ル）、１，３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル酸、１，１，３
−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第３級ブ
チルフェニル）ブタンまたは３，９−ビス〔２−〔３−
（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチ
ル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．
５〕ウンデカンである請求項６に記載の有機高分子重合
体材料の安定剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04162113A JP3120574B2 (ja) | 1992-05-27 | 1992-05-27 | 有機ホスファイト化合物およびその用途 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04162113A JP3120574B2 (ja) | 1992-05-27 | 1992-05-27 | 有機ホスファイト化合物およびその用途 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05331180A JPH05331180A (ja) | 1993-12-14 |
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ID=15748293
Family Applications (1)
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| JP04162113A Expired - Fee Related JP3120574B2 (ja) | 1992-05-27 | 1992-05-27 | 有機ホスファイト化合物およびその用途 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004091363A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Sumitomo Chem Co Ltd | 亜リン酸エステル類、その製造法及びその用途 |
-
1992
- 1992-05-27 JP JP04162113A patent/JP3120574B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05331180A (ja) | 1993-12-14 |
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