JP2982675B2 - 新規なホスフィン化合物およびその用途 - Google Patents
新規なホスフィン化合物およびその用途Info
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- JP2982675B2 JP2982675B2 JP34232395A JP34232395A JP2982675B2 JP 2982675 B2 JP2982675 B2 JP 2982675B2 JP 34232395 A JP34232395 A JP 34232395A JP 34232395 A JP34232395 A JP 34232395A JP 2982675 B2 JP2982675 B2 JP 2982675B2
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- Lubricants (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機材料の安定剤
として有用な新規なホスフィン化合物またはホスフィン
オキサイド化合物、およびそれらの用途に関する。
として有用な新規なホスフィン化合物またはホスフィン
オキサイド化合物、およびそれらの用途に関する。
【０００２】
【従来の技術】天然高分子、合成高分子、油脂、潤滑
油、作動油などの有機材料は酸化を受けて有用性を減じ
るので、種々の酸化防止剤が工夫されて、これら有機材
料中に添加されている。たとえば、フェノール系酸化防
止剤、硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、リ
ン系酸化防止剤などの安定化剤を単独で、あるいは複数
の組合せで用いると安定化効果のあることが知られてい
る。特に、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂などの合成樹脂は熱、酸素、光などの作用により劣化
し、変色したり、機械的強度を低下させたりして使用寿
命が極端に短くなることが知られている。その劣化防止
のために多種類の酸化防止剤が開発されているが、その
なかでリン系酸化防止剤は樹脂の変色を防止し、耐熱
性、耐候性を増加させるため多用されてきた。最近は高
速成型のための高温化やエンジニアリングプラスチック
などとのアロイによる高温成型などのため、高温で揮散
しにくい耐熱性、加工安定性の優れた酸化防止剤の要求
が高まってきており、その目的のためにリン系酸化防止
剤としてホスファイトやホスホナイト化合物が開発、商
品化されている。すなわち、特公昭５０−３５０９６号
公報には、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトを代表と
する４，４’−ビフェニレンジホスホナイト化合物が、
特開平１−２５４７４４号公報には、テトラキス（２，
４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレ
ンジホスホナイトと対応するモノホスホナイトを含有す
る組成物が、特開平２−２７０８９２号公報には、テト
ラキス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトなどから
なる組成物が、特開平５−２０２０７８号公報には、テ
トラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，
４’−ビフェニレンジホスホネートなどからなる組成物
が、更に特開平５−１７８８７０号公報には、テトラキ
ス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスホナイト化合物が、それ
ぞれ開示されている。
油、作動油などの有機材料は酸化を受けて有用性を減じ
るので、種々の酸化防止剤が工夫されて、これら有機材
料中に添加されている。たとえば、フェノール系酸化防
止剤、硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、リ
ン系酸化防止剤などの安定化剤を単独で、あるいは複数
の組合せで用いると安定化効果のあることが知られてい
る。特に、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂などの合成樹脂は熱、酸素、光などの作用により劣化
し、変色したり、機械的強度を低下させたりして使用寿
命が極端に短くなることが知られている。その劣化防止
のために多種類の酸化防止剤が開発されているが、その
なかでリン系酸化防止剤は樹脂の変色を防止し、耐熱
性、耐候性を増加させるため多用されてきた。最近は高
速成型のための高温化やエンジニアリングプラスチック
などとのアロイによる高温成型などのため、高温で揮散
しにくい耐熱性、加工安定性の優れた酸化防止剤の要求
が高まってきており、その目的のためにリン系酸化防止
剤としてホスファイトやホスホナイト化合物が開発、商
品化されている。すなわち、特公昭５０−３５０９６号
公報には、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトを代表と
する４，４’−ビフェニレンジホスホナイト化合物が、
特開平１−２５４７４４号公報には、テトラキス（２，
４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレ
ンジホスホナイトと対応するモノホスホナイトを含有す
る組成物が、特開平２−２７０８９２号公報には、テト
ラキス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトなどから
なる組成物が、特開平５−２０２０７８号公報には、テ
トラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，
４’−ビフェニレンジホスホネートなどからなる組成物
が、更に特開平５−１７８８７０号公報には、テトラキ
ス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスホナイト化合物が、それ
ぞれ開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これら既存の
リン系酸化防止剤においてもなお、化合物自体の熱安定
性および有効成分を配合した樹脂組成物の非着色性、熱
安定性などの点で満足されるものはない。また、前記組
成物による安定化効果も満足すべきものではなかった。
リン系酸化防止剤においてもなお、化合物自体の熱安定
性および有効成分を配合した樹脂組成物の非着色性、熱
安定性などの点で満足されるものはない。また、前記組
成物による安定化効果も満足すべきものではなかった。
【０００４】また、リン系酸化防止剤は、樹脂の変色を
防止するなどの耐熱性、耐候性を増加させ、有機材料の
安定化効果の向上に主眼をおいて開発されてきたが、リ
ン系酸化防止剤が有機材料より移行し、酸化防止剤を添
加した有機材料の酸化防止効果が早期に消失する問題点
があった。したがって、本発明の目的は、それ自体が、
熱安定性に優れ、かつ、有機材料に配合することにより
優れた安定化効果をもたらし、加えて、有機材料中より
当該酸化防止剤の移行（Ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）を制御
し、その酸化防止効果を維持できる、新規なホスフィン
化合物またはホスフィンオキサイド化合物およびその用
途を提供することにある。
防止するなどの耐熱性、耐候性を増加させ、有機材料の
安定化効果の向上に主眼をおいて開発されてきたが、リ
ン系酸化防止剤が有機材料より移行し、酸化防止剤を添
加した有機材料の酸化防止効果が早期に消失する問題点
があった。したがって、本発明の目的は、それ自体が、
熱安定性に優れ、かつ、有機材料に配合することにより
優れた安定化効果をもたらし、加えて、有機材料中より
当該酸化防止剤の移行（Ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）を制御
し、その酸化防止効果を維持できる、新規なホスフィン
化合物またはホスフィンオキサイド化合物およびその用
途を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らはこのような
実状に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、特に、熱安定性が
優れたホスフィン化合物またはホスフィンオキサイド化
合物を見いだし、更に有機材料に添加することにより有
機材料の熱に対する安定性を極めて改良することを見い
出し、加えて、有機材料中より当該酸化防止剤の移行を
制御し、その酸化防止効果を維持できることを見い出
し、本発明を完成するに至った。すなわち、
実状に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、特に、熱安定性が
優れたホスフィン化合物またはホスフィンオキサイド化
合物を見いだし、更に有機材料に添加することにより有
機材料の熱に対する安定性を極めて改良することを見い
出し、加えて、有機材料中より当該酸化防止剤の移行を
制御し、その酸化防止効果を維持できることを見い出
し、本発明を完成するに至った。すなわち、
【０００６】（１）：一般式（Ｉ）
【０００７】
【化３６】
【０００８】（式中、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ4 は、それぞ
れ独立して、式
れ独立して、式
【０００９】
【化３７】
【００１０】（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示
す。）を示し、Ｘ3 はそれぞれの繰り返し単位について
独立して式
す。）を示し、Ｘ3 はそれぞれの繰り返し単位について
独立して式
【００１１】
【化３８】
【００１２】（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示
す。）を示し、ｐは０または１を示し、ｑはそれぞれの
繰り返し単位について独立して０または１を示し、ｍは
２〜１０の整数を示す。）により表されるホスフィン化
合物またはホスフィンオキサイド化合物（以下、化合物
（Ｉ）ともいう）、
す。）を示し、ｐは０または１を示し、ｑはそれぞれの
繰り返し単位について独立して０または１を示し、ｍは
２〜１０の整数を示す。）により表されるホスフィン化
合物またはホスフィンオキサイド化合物（以下、化合物
（Ｉ）ともいう）、
【００１３】（２）：一般式（ＩＩ）
【００１４】
【化３９】
【００１５】（式中、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、Ｘ4 およびＸ
5 はそれぞれ独立して
5 はそれぞれ独立して
【００１６】
【化４０】
【００１７】（式中、Ｒは水素またはメチル基を示
す。）を示し、ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０ま
たは１の整数を示す。）により表されるホスフィン化合
物またはホスフィンオキサイド化合物（以下、化合物
（ＩＩ）ともいう）、
す。）を示し、ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０ま
たは１の整数を示す。）により表されるホスフィン化合
物またはホスフィンオキサイド化合物（以下、化合物
（ＩＩ）ともいう）、
【００１８】（３）：一般式（ＩＩＩ）
【００１９】
【化４１】
【００２０】（式中、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、Ｘ4 およびＸ
5 はそれぞれ独立して式
5 はそれぞれ独立して式
【００２１】
【化４２】
【００２２】（式中、Ｒは水素またはメチル基を示
す。）を示し、ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０ま
たは１の整数を示す。）により表されるホスフィン化合
物またはホスフィンオキサイド化合物（以下、化合物
（ＩＩＩ）ともいう）、
す。）を示し、ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０ま
たは１の整数を示す。）により表されるホスフィン化合
物またはホスフィンオキサイド化合物（以下、化合物
（ＩＩＩ）ともいう）、
【００２３】（４）：化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）ま
たは化合物（ＩＩＩ）により表されるホスフィン化合物
またはホスフィンオキサイド化合物からなる有機材料用
安定剤、 （５）：化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）または化合物
（ＩＩＩ）により表されるホスフィン化合物またはホス
フィンオキサイド化合物を含有してなる安定化された有
機材料、 （６）：化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）または化合物
（ＩＩＩ）により表されるホスフィン化合物またはホス
フィンオキサイド化合物と、フェノール系酸化防止剤、
硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤およびリン
系酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を含有してな
る有機材料用安定剤、 （７）：化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）または化合物
（ＩＩＩ）により表されるホスフィン化合物またはホス
フィンオキサイド化合物と、フェノール系酸化防止剤、
硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤およびリン
系酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を含有してな
る安定化された有機材料に関する。化合物（Ｉ）、化合
物（ＩＩ）または化合物（ＩＩＩ）により表される化合
物においては、各リン原子の原子価は、それぞれ独立し
て３価または５価、すなわち、
たは化合物（ＩＩＩ）により表されるホスフィン化合物
またはホスフィンオキサイド化合物からなる有機材料用
安定剤、 （５）：化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）または化合物
（ＩＩＩ）により表されるホスフィン化合物またはホス
フィンオキサイド化合物を含有してなる安定化された有
機材料、 （６）：化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）または化合物
（ＩＩＩ）により表されるホスフィン化合物またはホス
フィンオキサイド化合物と、フェノール系酸化防止剤、
硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤およびリン
系酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を含有してな
る有機材料用安定剤、 （７）：化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）または化合物
（ＩＩＩ）により表されるホスフィン化合物またはホス
フィンオキサイド化合物と、フェノール系酸化防止剤、
硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤およびリン
系酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を含有してな
る安定化された有機材料に関する。化合物（Ｉ）、化合
物（ＩＩ）または化合物（ＩＩＩ）により表される化合
物においては、各リン原子の原子価は、それぞれ独立し
て３価または５価、すなわち、
【００２４】
【化４３】
【００２５】または
【００２６】
【化４４】
【００２７】であり、各リン原子に結合される式
【００２８】
【化４５】
【００２９】（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示
す。）におけるＲは、それぞれ独立して水素またはメチ
ル基である。
す。）におけるＲは、それぞれ独立して水素またはメチ
ル基である。
【００３０】
【発明の実施の形態】本発明の化合物（Ｉ）、化合物
（ＩＩ）または化合物（ＩＩＩ）により表されるホスフ
ィン化合物またはホスフィンオキサイド化合物は、たと
えば次の方法によって製造される。
（ＩＩ）または化合物（ＩＩＩ）により表されるホスフ
ィン化合物またはホスフィンオキサイド化合物は、たと
えば次の方法によって製造される。
【００３１】ビフェニルとハロゲン化リン（三塩化リ
ン、三臭化リン、三ヨウ化リンなど）を高温気相で、ま
たはルイス酸（塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、
ヨウ化アルミニウム、塩化ガリウム、臭化ガリウム、塩
化インジウム、臭化インジウム、塩化スズ、塩化チタ
ン、塩化ジルコニウム、塩化ロジウム、フッ化アンチモ
ン、塩化アンチモン、塩化タングステン、塩化鉄、塩化
亜鉛、フッ化ホウ素、塩化ホウ素、塩化ニオブなど）な
どの触媒の存在下、溶媒（ベンゼン、トルエン、ヘキサ
ン、ヘプタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼンなど）中、または、好ましくは前記に例示し
たハロゲン化リンまたはオキシ塩化リンを溶媒と兼ねて
使用して、冷却下または室温から用いる溶媒の沸点まで
の温度、好ましくは加熱還流下に反応させ、次いで得ら
れたビフェニルハロホスフィンと化学量論的量もしくは
それ以上の量の一般式
ン、三臭化リン、三ヨウ化リンなど）を高温気相で、ま
たはルイス酸（塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、
ヨウ化アルミニウム、塩化ガリウム、臭化ガリウム、塩
化インジウム、臭化インジウム、塩化スズ、塩化チタ
ン、塩化ジルコニウム、塩化ロジウム、フッ化アンチモ
ン、塩化アンチモン、塩化タングステン、塩化鉄、塩化
亜鉛、フッ化ホウ素、塩化ホウ素、塩化ニオブなど）な
どの触媒の存在下、溶媒（ベンゼン、トルエン、ヘキサ
ン、ヘプタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼンなど）中、または、好ましくは前記に例示し
たハロゲン化リンまたはオキシ塩化リンを溶媒と兼ねて
使用して、冷却下または室温から用いる溶媒の沸点まで
の温度、好ましくは加熱還流下に反応させ、次いで得ら
れたビフェニルハロホスフィンと化学量論的量もしくは
それ以上の量の一般式
【００３２】
【化４６】
【００３３】（式中、Ｒは水素またはメチル基を示
す。）により表される化合物（以下、化合物（ＩＶ）と
もいう）を、アミン（ジメチルホルムアミド、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン、モルホリン、ジメチルア
ニリン、ピリジン、キノリン、コリジン、アミノピリジ
ン、１，８−ビス（ジメチルアミノ）ナフタリン、１，
８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン
など）の存在下、溶媒（ベンゼン、トルエン、ヘキサ
ン、ヘプタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロトルエン、クロロベンゼンなど）中、冷却下または室
温から用いる溶媒の沸点までの温度で３０分から２４時
間反応させることによって製造することができる。
す。）により表される化合物（以下、化合物（ＩＶ）と
もいう）を、アミン（ジメチルホルムアミド、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン、モルホリン、ジメチルア
ニリン、ピリジン、キノリン、コリジン、アミノピリジ
ン、１，８−ビス（ジメチルアミノ）ナフタリン、１，
８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン
など）の存在下、溶媒（ベンゼン、トルエン、ヘキサ
ン、ヘプタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロトルエン、クロロベンゼンなど）中、冷却下または室
温から用いる溶媒の沸点までの温度で３０分から２４時
間反応させることによって製造することができる。
【００３４】なお、化合物（ＩＶ）により示される化合
物としては、２，４−ジ第３級ブチルフェノール、２，
４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノール、２，４−
ジ第３級ブチル−６−メチルフェノールが好ましい。得
られた目的化合物は再結晶法、クロマトグラフィー法な
どの通常の手段により精製することができる。
物としては、２，４−ジ第３級ブチルフェノール、２，
４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノール、２，４−
ジ第３級ブチル−６−メチルフェノールが好ましい。得
られた目的化合物は再結晶法、クロマトグラフィー法な
どの通常の手段により精製することができる。
【００３５】本発明の化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）ま
たは化合物（ＩＩＩ）により表されるホスフィン化合物
またはホスフィンオキサイド化合物としては、例えば、
下記の化合物Ａ
たは化合物（ＩＩＩ）により表されるホスフィン化合物
またはホスフィンオキサイド化合物としては、例えば、
下記の化合物Ａ
【００３６】
【化４７】
【００３７】、化合物Ｂ
【００３８】
【化４８】
【００３９】、化合物Ｃ
【００４０】
【化４９】
【００４１】、化合物Ｄ、化合物Ｅ、化合物Ｆ、化合物
Ｇ、化合物Ｈ、化合物Ｉ、化合物Ｊ、化合物Ｋ、化合物
Ｌ、化合物Ｍ、化合物Ｎ、化合物Ｏ、化合物Ｐ、化合物
Ｑ、化合物Ｒなど（化合物Ｄから化合物Ｒは下記に示
す。）が挙げられ、好ましくは、化合物Ａ、化合物Ｂ、
化合物Ｃが挙げられる。これらの化合物において、各リ
ン原子の原子価はそれぞれ独立して３価または５価、す
なわち
Ｇ、化合物Ｈ、化合物Ｉ、化合物Ｊ、化合物Ｋ、化合物
Ｌ、化合物Ｍ、化合物Ｎ、化合物Ｏ、化合物Ｐ、化合物
Ｑ、化合物Ｒなど（化合物Ｄから化合物Ｒは下記に示
す。）が挙げられ、好ましくは、化合物Ａ、化合物Ｂ、
化合物Ｃが挙げられる。これらの化合物において、各リ
ン原子の原子価はそれぞれ独立して３価または５価、す
なわち
【００４２】
【化５０】
【００４３】または
【００４４】
【化５１】
【００４５】であり、また、各リン原子に結合される式
【００４６】
【化５２】
【００４７】（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示
す。）におけるＲは、それぞれ独立して水素原子である
か、５位がメチル基または６位がメチル基である。本発
明の化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）または化合物（ＩＩ
Ｉ）は、特に、熱安定性に優れた特徴を有し、高温揮散
性が少なく、有機材料の酸化劣化を防止する安定剤とし
て有用であり、特に、化合物Ａ、化合物Ｂまたは化合物
Ｃが有用である。本発明の化合物（Ｉ）、化合物（Ｉ
Ｉ）または化合物（ＩＩＩ）は１種でも用いられるが、
２種以上、たとえば、化合物Ａの場合は、化合物Ｄ
す。）におけるＲは、それぞれ独立して水素原子である
か、５位がメチル基または６位がメチル基である。本発
明の化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）または化合物（ＩＩ
Ｉ）は、特に、熱安定性に優れた特徴を有し、高温揮散
性が少なく、有機材料の酸化劣化を防止する安定剤とし
て有用であり、特に、化合物Ａ、化合物Ｂまたは化合物
Ｃが有用である。本発明の化合物（Ｉ）、化合物（Ｉ
Ｉ）または化合物（ＩＩＩ）は１種でも用いられるが、
２種以上、たとえば、化合物Ａの場合は、化合物Ｄ
【００４８】
【化５３】
【００４９】、化合物Ｅ
【００５０】
【化５４】
【００５１】、化合物Ｆ
【００５２】
【化５５】
【００５３】、化合物Ｇ
【００５４】
【化５６】
【００５５】、化合物Ｈ
【００５６】
【化５７】
【００５７】から選ばれた１種以上の化合物と、化合物
Ｂの場合は、化合物Ｉ
Ｂの場合は、化合物Ｉ
【００５８】
【化５８】
【００５９】、化合物Ｊ
【００６０】
【化５９】
【００６１】、化合物Ｋ
【００６２】
【化６０】
【００６３】、化合物Ｌ
【００６４】
【化６１】
【００６５】、化合物Ｍ
【００６６】
【化６２】
【００６７】
【００６８】から選ばれた１種以上の化合物と、それぞ
れ併用または混合して用いることもできる。さらに、こ
れらに、化合物Ｎ
れ併用または混合して用いることもできる。さらに、こ
れらに、化合物Ｎ
【００６９】
【化６３】
【００７０】、化合物Ｏ
【００７１】
【化６４】
【００７２】、化合物Ｐ
【００７３】
【化６５】
【００７４】、化合物Ｑ
【００７５】
【化６６】
【００７６】、化合物Ｒ
【００７７】
【化６７】
【００７８】などの化合物をそれぞれ併用または混合し
て用いることもできる。
て用いることもできる。
【００７９】本発明化合物により安定化される有機材料
は、高分子重合体、油脂、鉱油など自体およびこれより
なるものに代表されるものであり、このうち高分子重合
体としては、ポリオレフィン、含ハロゲン合成樹脂、石
油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、スチレン系共重
合体、スチレン系樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、アクリル樹脂、メタクリレート樹脂、ポリアクリロ
ニトリル、直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキシ
ド、ポリアミド、ポリカーボネート、変性ポリフェニレ
ンオキシド、ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、尿素
樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポ
リエチレンテレフタレート、強化ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリスルホン系
樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィ
ッド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリ
オキシベンゾイル、ポリイミド、ポリマレイミド、ポリ
アミドイミド、天然ゴム、合成ゴムおよびこれらのブレ
ンド品などがあげられる。
は、高分子重合体、油脂、鉱油など自体およびこれより
なるものに代表されるものであり、このうち高分子重合
体としては、ポリオレフィン、含ハロゲン合成樹脂、石
油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、スチレン系共重
合体、スチレン系樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、アクリル樹脂、メタクリレート樹脂、ポリアクリロ
ニトリル、直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキシ
ド、ポリアミド、ポリカーボネート、変性ポリフェニレ
ンオキシド、ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、尿素
樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ポ
リエチレンテレフタレート、強化ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリスルホン系
樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィ
ッド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリ
オキシベンゾイル、ポリイミド、ポリマレイミド、ポリ
アミドイミド、天然ゴム、合成ゴムおよびこれらのブレ
ンド品などがあげられる。
【００８０】ポリオレフィンとしては、ポリエチレン
（高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、線状低密
度ポリエチレン、線状中密度ポリエチレンなど）、ポリ
プロピレン、ポリブテン、ポリペンテン、ポリ−３−メ
チルブチレンなどのα−オレフィン重合体、ポリスチレ
ンおよびポリエチレンとポリプロピレンと他の相溶性重
合体との混和物またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、
エチレン−プロピレン共重合体などがあげられる。当該
ポリオレフィンは重合後、触媒残渣を除去する工程を入
れた僅かに精製処理を行ったものや、比較的高度に精製
したもののほかに、高活性触媒を用い、触媒除去工程を
経ていないか、または簡略化して得られる触媒残渣を含
有するポリオレフィン、特に、ハロゲン含有マグネシウ
ム化合物を触媒担体とするチグラー型触媒やクロム系触
媒を用いて得られ、未だ触媒残留物除去工程を経ていな
い結晶性ポリオレフィンであってもよい（特公昭６２−
４４１８号公報、特公平３−５６２４５号公報、米国特
許第４１１５６３９号明細書参照）。さらに、メタロセ
ン系シングルサイト触媒によって得られる分子量分布の
非常に狭いポリオレフィンであってもよい〔ジャーナル
・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリ
ー・エディション（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍ
ｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓ
ｔｒｙ Ｅｄｉｔｉｏｎ）第２３巻，２１５１頁（１９
８５年）〕。
（高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、線状低密
度ポリエチレン、線状中密度ポリエチレンなど）、ポリ
プロピレン、ポリブテン、ポリペンテン、ポリ−３−メ
チルブチレンなどのα−オレフィン重合体、ポリスチレ
ンおよびポリエチレンとポリプロピレンと他の相溶性重
合体との混和物またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、
エチレン−プロピレン共重合体などがあげられる。当該
ポリオレフィンは重合後、触媒残渣を除去する工程を入
れた僅かに精製処理を行ったものや、比較的高度に精製
したもののほかに、高活性触媒を用い、触媒除去工程を
経ていないか、または簡略化して得られる触媒残渣を含
有するポリオレフィン、特に、ハロゲン含有マグネシウ
ム化合物を触媒担体とするチグラー型触媒やクロム系触
媒を用いて得られ、未だ触媒残留物除去工程を経ていな
い結晶性ポリオレフィンであってもよい（特公昭６２−
４４１８号公報、特公平３−５６２４５号公報、米国特
許第４１１５６３９号明細書参照）。さらに、メタロセ
ン系シングルサイト触媒によって得られる分子量分布の
非常に狭いポリオレフィンであってもよい〔ジャーナル
・オブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリ
ー・エディション（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍ
ｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓ
ｔｒｙ Ｅｄｉｔｉｏｎ）第２３巻，２１５１頁（１９
８５年）〕。
【００８１】含ハロゲン合成樹脂としては、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリフッ化ビニリデン、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、臭素化ポリエチレン、塩化
ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−
エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、
塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソブチ
レン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合体、
塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル三元共重合
体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−イ
ソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレン共
重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元
共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、
塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル
−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリ
ロニトリル共重合体、内部可塑性ポリ塩化ビニルなどが
あげられる。
ニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリフッ化ビニリデン、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、臭素化ポリエチレン、塩化
ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−
エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、
塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イソブチ
レン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重合体、
塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル三元共重合
体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−イ
ソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレン共
重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元
共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、
塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル
−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリ
ロニトリル共重合体、内部可塑性ポリ塩化ビニルなどが
あげられる。
【００８２】スチレン系共重合体としては、スチレンと
他の単量体との共重合体であって、他の単量体として
は、無水マレイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルな
どがあげられる。スチレン系樹脂としては、アクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン樹脂、アクリル酸エステ
ル−ブタジエン−スチレン樹脂、メタクリル酸エステル
−ブタジエン−スチレン樹脂などがあげられる。
他の単量体との共重合体であって、他の単量体として
は、無水マレイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルな
どがあげられる。スチレン系樹脂としては、アクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン樹脂、アクリル酸エステ
ル−ブタジエン−スチレン樹脂、メタクリル酸エステル
−ブタジエン−スチレン樹脂などがあげられる。
【００８３】合成ゴムとしては、イソプレンゴム、ブタ
ジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム
などがあげられる。
ジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム
などがあげられる。
【００８４】本発明化合物により安定化される有機材料
のうち、好ましくは前記した高分子重合体であり、より
好ましくはポリエチレン（高密度ポリエチレン、低密度
ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、線状中密度ポ
リエチレンなど）、ポリプロピレンなどのポリオレフィ
ン、ポリ塩化ビニル、アクリロニトリル−ブタジエン−
スチレン樹脂、ポリカーボネート、変性ポリフェニレン
オキサイドなどがあげられる。
のうち、好ましくは前記した高分子重合体であり、より
好ましくはポリエチレン（高密度ポリエチレン、低密度
ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、線状中密度ポ
リエチレンなど）、ポリプロピレンなどのポリオレフィ
ン、ポリ塩化ビニル、アクリロニトリル−ブタジエン−
スチレン樹脂、ポリカーボネート、変性ポリフェニレン
オキサイドなどがあげられる。
【００８５】本発明化合物は、上記に示した有機材料と
の相溶性が良好であり、有機材料より本発明化合物が移
行を制御でき、長期に渡り、有機材料中に本発明化合物
が残存することにより、有機材料を安定化させる優れた
効果を持続することができると考えられる。本発明化合
物を有機材料用安定剤として用いる場合、有機材料に対
し、好ましくは０．０１〜１０重量％、より好ましくは
０．０１〜５重量％の割合で配合するのがよい。
の相溶性が良好であり、有機材料より本発明化合物が移
行を制御でき、長期に渡り、有機材料中に本発明化合物
が残存することにより、有機材料を安定化させる優れた
効果を持続することができると考えられる。本発明化合
物を有機材料用安定剤として用いる場合、有機材料に対
し、好ましくは０．０１〜１０重量％、より好ましくは
０．０１〜５重量％の割合で配合するのがよい。
【００８６】さらに、本発明の安定剤化合物は、特に、
フェノール系酸化防止剤または硫黄系酸化防止剤と組合
せることにより、さらに、熱安定性に優れた有機材料を
得ることができる。本発明において、これらフェノール
系酸化防止剤または硫黄系酸化防止剤の１種以上を組合
せて、有機材料用安定剤として用いる場合、それら酸化
防止剤を有機材料に対し、好ましくはそれぞれ０．０１
〜１０重量％、より好ましくは０．０１〜５重量％の割
合で配合するのがよい。併用する場合には、別々に添加
してもよい。また、予め本発明化合物と上記以外の他の
参加防止剤とを混合して添加してもよく、それらの酸化
防止剤の混合割合は、本発明化合物に対し、０．１〜１
０倍量の範囲が好ましい。
フェノール系酸化防止剤または硫黄系酸化防止剤と組合
せることにより、さらに、熱安定性に優れた有機材料を
得ることができる。本発明において、これらフェノール
系酸化防止剤または硫黄系酸化防止剤の１種以上を組合
せて、有機材料用安定剤として用いる場合、それら酸化
防止剤を有機材料に対し、好ましくはそれぞれ０．０１
〜１０重量％、より好ましくは０．０１〜５重量％の割
合で配合するのがよい。併用する場合には、別々に添加
してもよい。また、予め本発明化合物と上記以外の他の
参加防止剤とを混合して添加してもよく、それらの酸化
防止剤の混合割合は、本発明化合物に対し、０．１〜１
０倍量の範囲が好ましい。
【００８７】フェノール系酸化防止剤としては、２，６
−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノール、４−ヒドロ
キシメチル−２，６−ジ第３級ブチルフェノール、２，
６−ジ第３級ブチル−４−エチルフェノール、ブチル化
ヒドロキシアニソール、ｎ−オクタデシル・３−（４−
ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピ
オネート、ジステアリル・（４−ヒドロキシ−３−メチ
ル−５−第３級ブチル）ベンジルマロネート、没食子酸
プロピル、没食子酸オクチル、没食子酸ドデシル、トコ
フェロール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６
−第３級ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（４−エチル−６−第３級ブチルフェノール）、４，
４’−メチレンビス（２，６−ジ第３級ブチルフェノー
ル）、４，４’−ブチリデンビス（６−第３級ブチル−
ｍ−クレゾール）、４，４’−チオビス（６−第３級ブ
チル−ｍ−クレゾール）、スチレン化フェノール、Ｎ，
Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、ビス（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチ
ルエステル）カルシウム、１，１，３−トリス（２−メ
チル−４−ヒドロキシ−５−第３級ブチルフェニル）ブ
タン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ベンゼン、テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス〔６−（１−メチルシクロヘキシル）−ｐ−ク
レゾール〕、１，３，５−トリス（４−第３級ブチル−
３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシア
ヌル酸、１，３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル酸、トリエチ
レングリコール−ビス〔３−（３−第３級ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕、
２，２’−オキザミドビス〔エチル・３−（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチル
アニリノ）−２，４−ジオクチルチオ−１，３，５−ト
リアジン、ビス〔２−第３級ブチル−４−メチル−６−
（２−ヒドロキシ−３−第３級ブチル−５−メチルベン
ジル）フェニル〕テレフタレート、３，９−ビス〔２−
〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチル
エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ
〔５．５〕ウンデカンまたは３，９−ビス〔２−〔３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル〕−
２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウン
デカンなどがあげられるが、これらに限定されるもので
はない。
−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノール、４−ヒドロ
キシメチル−２，６−ジ第３級ブチルフェノール、２，
６−ジ第３級ブチル−４−エチルフェノール、ブチル化
ヒドロキシアニソール、ｎ−オクタデシル・３−（４−
ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフェニル）プロピ
オネート、ジステアリル・（４−ヒドロキシ−３−メチ
ル−５−第３級ブチル）ベンジルマロネート、没食子酸
プロピル、没食子酸オクチル、没食子酸ドデシル、トコ
フェロール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６
−第３級ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（４−エチル−６−第３級ブチルフェノール）、４，
４’−メチレンビス（２，６−ジ第３級ブチルフェノー
ル）、４，４’−ブチリデンビス（６−第３級ブチル−
ｍ−クレゾール）、４，４’−チオビス（６−第３級ブ
チル−ｍ−クレゾール）、スチレン化フェノール、Ｎ，
Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ第３級ブチル−
４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、ビス（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチ
ルエステル）カルシウム、１，１，３−トリス（２−メ
チル−４−ヒドロキシ−５−第３級ブチルフェニル）ブ
タン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ベンゼン、テトラキス〔３−（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル〕メタン、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス〔６−（１−メチルシクロヘキシル）−ｐ−ク
レゾール〕、１，３，５−トリス（４−第３級ブチル−
３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシア
ヌル酸、１，３，５−トリス（３，５−ジ第３級ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル酸、トリエチ
レングリコール−ビス〔３−（３−第３級ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕、
２，２’−オキザミドビス〔エチル・３−（３，５−ジ
第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチル
アニリノ）−２，４−ジオクチルチオ−１，３，５−ト
リアジン、ビス〔２−第３級ブチル−４−メチル−６−
（２−ヒドロキシ−３−第３級ブチル−５−メチルベン
ジル）フェニル〕テレフタレート、３，９−ビス〔２−
〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチル
エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ
〔５．５〕ウンデカンまたは３，９−ビス〔２−〔３−
（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル〕−
２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウン
デカンなどがあげられるが、これらに限定されるもので
はない。
【００８８】好ましいフェノール系酸化防止剤として
は、２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノール、
ｎ−オクタデシル・３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
第３級ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス
〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシメチル〕メタン、トリエチレ
ングリコール−ビス〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕、
４，４’−ブチリデンビス（６−第３級ブチル−ｍ−ク
レゾール）、４，４’−チオビス（６−第３級ブチル−
ｍ−クレゾール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ第
３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル
酸、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ
−５−第３級ブチルフェニル）ブタン、３，９−ビス
〔２−〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジ
メチルエチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピ
ロ〔５．５〕ウンデカンなどがあげられる。
は、２，６−ジ第３級ブチル−４−メチルフェノール、
ｎ−オクタデシル・３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ
第３級ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス
〔３−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシメチル〕メタン、トリエチレ
ングリコール−ビス〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕、
４，４’−ブチリデンビス（６−第３級ブチル−ｍ−ク
レゾール）、４，４’−チオビス（６−第３級ブチル−
ｍ−クレゾール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ第
３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル
酸、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ
−５−第３級ブチルフェニル）ブタン、３，９−ビス
〔２−〔３−（３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジ
メチルエチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピ
ロ〔５．５〕ウンデカンなどがあげられる。
【００８９】硫黄系酸化防止剤としては、チオアルカン
酸のエステルであって、ジラウリルエステル、ジミリス
チルエステル、ジステアリルエステル、ジドコシルエス
テルなどや、グリセリン、トリメチロールエタン、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒ
ドロキシエチルイソシアヌレートなどの多価アルコール
とのエステルがあげられる。
酸のエステルであって、ジラウリルエステル、ジミリス
チルエステル、ジステアリルエステル、ジドコシルエス
テルなどや、グリセリン、トリメチロールエタン、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒ
ドロキシエチルイソシアヌレートなどの多価アルコール
とのエステルがあげられる。
【００９０】好ましい硫黄系酸化防止剤としては、ジラ
ウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロ
ピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ペン
タエリスリトール−テトラキス（β−ラウリルチオプロ
ピオネート）があげられる。
ウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロ
ピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ペン
タエリスリトール−テトラキス（β−ラウリルチオプロ
ピオネート）があげられる。
【００９１】また、本発明の安定剤化合物と共に、有機
材料の耐候性をされに向上させるために、紫外線吸収剤
や光安定剤などを併用させることもできる。
材料の耐候性をされに向上させるために、紫外線吸収剤
や光安定剤などを併用させることもできる。
【００９２】これら紫外線吸収剤および光安定剤として
は、フェニルサリチレート、ｐ−第３級ブチルフェニル
サリチレート、ｐ−オクチルフェニルサリチレート、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−アセトキシエトキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒド
ロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシルオキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキ
シ−５，５’−ジスルホベンゾフェノン・２ナトリウ
ム、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタ
クリルオキシ）プロポキシベンゾフェノン、２−（２−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−
３−第３級ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロ
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−
ジ第３級ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２−〔２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、
ｎ−ヘキサデシル・３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、２，４−ジ第３級ブチルフェニル
・３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、エチル・２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレ
ート、｛２，２’−チオビス〔４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）フェノラート〕｝−ｎ−ブチルア
ミン・ニッケル、｛２，２’−チオビス〔４−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）フェノラート〕｝ニ
ッケル、ビス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホン酸エチル）ニッケル、ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ぺリジル）−２−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、ビス
（１−アクリロイル−２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピぺリジル）・ビス（３，５−ジ第３級ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）マロネート、テトラキス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピぺリジル）−１，
２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ
｛〔６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミ
ノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル〕〔（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕ヘキ
サメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ぺリジル）イミノ〕｝、ポリ｛（６−モルホリノ−ｓ−
トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピぺリジル）イミノ〕ヘキサメチレン
〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ〕｝、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸縮合物、
塩化シアヌル／第３級オクチルアミン／１，６−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミ
ノ）ヘキサン縮合物などに代表されるサリチル酸系、ベ
ンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリ
レート系、ニッケル化合物系もしくは２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン系化合物などがあげられる。
は、フェニルサリチレート、ｐ−第３級ブチルフェニル
サリチレート、ｐ−オクチルフェニルサリチレート、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−アセトキシエトキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒド
ロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシルオキシベンゾフ
ェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキ
シ−５，５’−ジスルホベンゾフェノン・２ナトリウ
ム、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタ
クリルオキシ）プロポキシベンゾフェノン、２−（２−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−
３−第３級ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロ
ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−
ジ第３級ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２−〔２−ヒドロキシ−５−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、
ｎ−ヘキサデシル・３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエート、２，４−ジ第３級ブチルフェニル
・３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、エチル・２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレ
ート、｛２，２’−チオビス〔４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）フェノラート〕｝−ｎ−ブチルア
ミン・ニッケル、｛２，２’−チオビス〔４−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）フェノラート〕｝ニ
ッケル、ビス（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホン酸エチル）ニッケル、ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ぺリジル）−２−（３，５−ジ第３級ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、ビス
（１−アクリロイル−２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピぺリジル）・ビス（３，５−ジ第３級ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）マロネート、テトラキス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピぺリジル）−１，
２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ
｛〔６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミ
ノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル〕〔（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕ヘキ
サメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ぺリジル）イミノ〕｝、ポリ｛（６−モルホリノ−ｓ−
トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピぺリジル）イミノ〕ヘキサメチレン
〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ〕｝、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸縮合物、
塩化シアヌル／第３級オクチルアミン／１，６−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミ
ノ）ヘキサン縮合物などに代表されるサリチル酸系、ベ
ンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリ
レート系、ニッケル化合物系もしくは２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン系化合物などがあげられる。
【００９３】好ましい紫外線吸収剤および光安定剤とし
ては、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾ
フェノン、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−
第３級ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベン
ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第
３級ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）セバケート、ポリ｛〔６−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）イミノ−ｓ−トリアジン−２，４−
ジイル〕〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕｝などがあげ
られる。
ては、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾ
フェノン、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−
第３級ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベン
ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第
３級ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）セバケート、ポリ｛〔６−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）イミノ−ｓ−トリアジン−２，４−
ジイル〕〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕｝などがあげ
られる。
【００９４】さらに本発明化合物は、他のリン系酸化防
止剤と組み合わせることにより、有機材料の酸化劣化を
防止する安定剤として使用することができる。他のリン
系酸化防止剤としては、テトラキス（２，４−ジ第３級
ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト、トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホス
ファイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−
４−ビフェニルホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ
第３級ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフ
ェニレンジホスホナイト、トリス（２，４−ジ第３級ブ
チル−５−メチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，
４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−４−ビフ
ェニルホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブ
チル−６−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレン
ジホスホナイト、トリス（２，４−ジ第３級ブチル−６
−メチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジ第
３級ブチル−６−メチルフェニル）−４−ビフェニルホ
スホナイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−
ジ第３級ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリ
トールジホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，
６−ジ第３級ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホ
スファイトまたはそれらの混合物などがあげられる。
止剤と組み合わせることにより、有機材料の酸化劣化を
防止する安定剤として使用することができる。他のリン
系酸化防止剤としては、テトラキス（２，４−ジ第３級
ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト、トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）ホス
ファイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−
４−ビフェニルホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ
第３級ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフ
ェニレンジホスホナイト、トリス（２，４−ジ第３級ブ
チル−５−メチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，
４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）−４−ビフ
ェニルホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブ
チル−６−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレン
ジホスホナイト、トリス（２，４−ジ第３級ブチル−６
−メチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジ第
３級ブチル−６−メチルフェニル）−４−ビフェニルホ
スホナイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−
ジ第３級ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリ
トールジホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，
６−ジ第３級ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホ
スファイトまたはそれらの混合物などがあげられる。
【００９５】好ましいリン系酸化防止剤としては、テト
ラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’
−ビフェニレンジホスホナイト、トリス（２，４−ジ第
３級ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジ
第３級ブチルフェニル）−４−ビフェニルホスホナイ
ト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチル
フェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、
トリス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニ
ル）ホスファイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５
−メチルフェニル）−４−ビフェニルホスホナイト、テ
トラキス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、トリス
（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）ホス
ファイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチル
フェニル）−４−ビフェニルホスホナイトまたはそれら
の混合物があげられる。
ラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’
−ビフェニレンジホスホナイト、トリス（２，４−ジ第
３級ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジ
第３級ブチルフェニル）−４−ビフェニルホスホナイ
ト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチル
フェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、
トリス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニ
ル）ホスファイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５
−メチルフェニル）−４−ビフェニルホスホナイト、テ
トラキス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、トリス
（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）ホス
ファイト、ビス（２，４−ジ第３級ブチル−６−メチル
フェニル）−４−ビフェニルホスホナイトまたはそれら
の混合物があげられる。
【００９６】本発明において、化合物Ａを有機材料用安
定剤として用いる場合、化合物Ｄ、化合物Ｅ、化合物
Ｆ、化合物Ｇおよび化合物Ｈの他に、２，４−ジ第３級
ブチルフェノール、ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェ
ニル）−４−ビフェニルホスホナイト、トリス（２，４
−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス
（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフ
ェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ第３
級ブチルフェニル）−４，４−ビフェニレンジホスホネ
ート、および、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフ
ェニル）−４，４−ビフェニレンジホスホネートホスホ
ナイトから選ばれる１種以上の化合物と併用することも
できる。
定剤として用いる場合、化合物Ｄ、化合物Ｅ、化合物
Ｆ、化合物Ｇおよび化合物Ｈの他に、２，４−ジ第３級
ブチルフェノール、ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェ
ニル）−４−ビフェニルホスホナイト、トリス（２，４
−ジ第３級ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス
（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）−４，４’−ビフ
ェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ第３
級ブチルフェニル）−４，４−ビフェニレンジホスホネ
ート、および、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフ
ェニル）−４，４−ビフェニレンジホスホネートホスホ
ナイトから選ばれる１種以上の化合物と併用することも
できる。
【００９７】化合物Ｂを有機材料用安定剤として用いる
場合、化合物Ｉ、化合物Ｊ、化合物Ｋ、化合物Ｌおよび
化合物Ｍの他に、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチル
フェノール、ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチ
ルフェニル）−４−ビフェニルホスホナイト、トリス
（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）ホス
ファイト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチ
ルフェニル）−４，４−ビフェニレンジホスホネート、
および、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メ
チルフェニル）−４，４−ビフェニレンジホスホネート
ホスホナイトから選ばれる１種以上の化合物と併用する
こともできる。
場合、化合物Ｉ、化合物Ｊ、化合物Ｋ、化合物Ｌおよび
化合物Ｍの他に、２，４−ジ第３級ブチル−５−メチル
フェノール、ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチ
ルフェニル）−４−ビフェニルホスホナイト、トリス
（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェニル）ホス
ファイト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチ
ルフェニル）−４，４−ビフェニレンジホスホネート、
および、テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メ
チルフェニル）−４，４−ビフェニレンジホスホネート
ホスホナイトから選ばれる１種以上の化合物と併用する
こともできる。
【００９８】さらに、化合物Ｃを有機材料用安定剤とし
て用いる場合、化合物Ａまたは化合物Ｂと同様に、化合
物Ｃの各リン原子の原子価は、それぞれ独立して３価ま
たは５価、すなわち、
て用いる場合、化合物Ａまたは化合物Ｂと同様に、化合
物Ｃの各リン原子の原子価は、それぞれ独立して３価ま
たは５価、すなわち、
【００９９】
【化６８】
【０１００】または
【０１０１】
【化６９】
【０１０２】である化合物と、それぞれ併用または混合
して用いてもよい。また、これらの化合物に、２，４−
ジ第３級ブチル−６−メチルフェノール、ビス（２，４
−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）−４−ビフェ
ニルホスホナイト、トリス（２，４−ジ第３級ブチル−
６−メチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，
４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）−４，４’
−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−
ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）−４，４−ビフ
ェニレンジホスホネート、および、テトラキス（２，４
−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）−４，４−ビ
フェニレンジホスホネートホスホナイトから選ばれる１
種以上の化合物と併用することもできる。
して用いてもよい。また、これらの化合物に、２，４−
ジ第３級ブチル−６−メチルフェノール、ビス（２，４
−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）−４−ビフェ
ニルホスホナイト、トリス（２，４−ジ第３級ブチル−
６−メチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，
４−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）−４，４’
−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−
ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）−４，４−ビフ
ェニレンジホスホネート、および、テトラキス（２，４
−ジ第３級ブチル−６−メチルフェニル）−４，４−ビ
フェニレンジホスホネートホスホナイトから選ばれる１
種以上の化合物と併用することもできる。
【０１０３】さらに、化合物Ｎのように、４，４’−ビ
フェニレンジホスホナイト化合物以外の、例えば、３，
３’−ビフェニレンジホスホナイト化合物などを用いる
こともでき、また、化合物Ｏ、化合物Ｐ、化合物Ｑ、化
合物Ｒのように、４個以上１１個以下のリン原子を分子
内に含むホスフィン化合物を用いることもできる。
フェニレンジホスホナイト化合物以外の、例えば、３，
３’−ビフェニレンジホスホナイト化合物などを用いる
こともでき、また、化合物Ｏ、化合物Ｐ、化合物Ｑ、化
合物Ｒのように、４個以上１１個以下のリン原子を分子
内に含むホスフィン化合物を用いることもできる。
【０１０４】本発明において紫外線吸収剤、光安定剤、
リン系酸化防止剤などの安定剤をそれぞれ少なくとも１
種以上組合せて有機材料用安定剤として用いる場合、こ
れら安定剤は有機材料に対し、好ましくはそれぞれ０．
０１〜１０重量％、より好ましくは０．０１〜５重量％
の割合で配合するのがよい。
リン系酸化防止剤などの安定剤をそれぞれ少なくとも１
種以上組合せて有機材料用安定剤として用いる場合、こ
れら安定剤は有機材料に対し、好ましくはそれぞれ０．
０１〜１０重量％、より好ましくは０．０１〜５重量％
の割合で配合するのがよい。
【０１０５】このように、本発明化合物の１種または２
種以上と、フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止
剤、紫外線吸収剤、光安定剤およびリン系酸化防止剤か
ら選ばれる少なくとも１種とからなる有機材料の安定剤
が提供される。また、それら安定化剤を配合してなる有
機材料も提供される。
種以上と、フェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止
剤、紫外線吸収剤、光安定剤およびリン系酸化防止剤か
ら選ばれる少なくとも１種とからなる有機材料の安定剤
が提供される。また、それら安定化剤を配合してなる有
機材料も提供される。
【０１０６】本発明化合物の１種または２種以上、また
は本発明化合物とその他の酸化防止剤または紫外線吸収
剤、光安定剤などの安定剤の１種以上を併用して、有機
材料へ配合する方法としては混合し、ついで混練り、押
出しなどの工程で処理することができる。さらに本発明
化合物は、ステアリン酸カルシウムなどの金属石鹸、ヒ
ドラジン系化合物などの重金属不活性化剤、ビス（ｐ−
第三級ブチル安息香酸）アルミニウム水酸化物などの造
核剤、モノブチル錫オキサイドまたはジブチル錫オキサ
イドなどの有機錫安定剤、ジ−２−エチルヘキシルフタ
レートまたはジ−２−エチルヘキシルアジペートなどの
可塑剤、エポキシ化大豆油またはエポキシオクチルステ
アレートなどのエポキシ化合物、各種の有機顔料、酸化
アルミニウムなどの充填剤、重炭酸ナトリウムまたはア
ゾジカルボンアミドなどの発泡剤、カチオン系またはア
ニオン系界面活性剤などの帯電防止剤、リン酸エステル
などの難燃剤、脂肪族アミド、脂肪酸の低級アルコール
エステル類などの滑剤、アクリル系高分子加工助剤など
と併用することもできる。
は本発明化合物とその他の酸化防止剤または紫外線吸収
剤、光安定剤などの安定剤の１種以上を併用して、有機
材料へ配合する方法としては混合し、ついで混練り、押
出しなどの工程で処理することができる。さらに本発明
化合物は、ステアリン酸カルシウムなどの金属石鹸、ヒ
ドラジン系化合物などの重金属不活性化剤、ビス（ｐ−
第三級ブチル安息香酸）アルミニウム水酸化物などの造
核剤、モノブチル錫オキサイドまたはジブチル錫オキサ
イドなどの有機錫安定剤、ジ−２−エチルヘキシルフタ
レートまたはジ−２−エチルヘキシルアジペートなどの
可塑剤、エポキシ化大豆油またはエポキシオクチルステ
アレートなどのエポキシ化合物、各種の有機顔料、酸化
アルミニウムなどの充填剤、重炭酸ナトリウムまたはア
ゾジカルボンアミドなどの発泡剤、カチオン系またはア
ニオン系界面活性剤などの帯電防止剤、リン酸エステル
などの難燃剤、脂肪族アミド、脂肪酸の低級アルコール
エステル類などの滑剤、アクリル系高分子加工助剤など
と併用することもできる。
【０１０７】
【実施例】以下、本発明を実施例および実験例により詳
述するが、本発明はこれらにより何ら限定されるもので
はない。
述するが、本発明はこれらにより何ら限定されるもので
はない。
【０１０８】実施例１ （２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ビス〔４’−
〔ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスフィ
ノ〕ビフェニル−４−イル〕ホスフィン（化合物Ａ）
〔ビス（２，４−ジ第３級ブチルフェノキシ）ホスフィ
ノ〕ビフェニル−４−イル〕ホスフィン（化合物Ａ）
【０１０９】（１）ビフェニル１６．９ｇと三塩化リン
５８ｇに塩化アルミニウム３８．５ｇを加え、８時間加
熱還流した。放冷後に減圧下、５５〜９０℃において過
剰の三塩化リンを留去した。
５８ｇに塩化アルミニウム３８．５ｇを加え、８時間加
熱還流した。放冷後に減圧下、５５〜９０℃において過
剰の三塩化リンを留去した。
【０１１０】（２）（１）で得られた赤色のビフェニル
クロロホスフィン・塩化アルミニウム錯体混合物を８０
℃において１時間かけて、トルエン２３０ｇ，ピリジン
６９ｇおよび２，４−ジ第３級ブチルフェノール９０．
８ｇの溶液に滴下し、次いで８０℃で５時間反応させ
た。反応物より塩化アルミニウム−ピリジン錯体とピリ
ジンの塩酸塩を分離した後、吸着剤により処理した。次
いで溶媒を減圧濃縮し、アセトニトリルとトルエンの混
合溶媒から繰り返し精製すると黄色粉末状物質４．６ｇ
が得られた。一部をさらにゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー分取により精製すると、融点１２６〜１３
９℃の淡黄色粉末が得られた。なお、得られた化合物は
赤外線吸収スペクトル、核磁気共鳴スペクトルにより化
合物Ａであることを確認した。
クロロホスフィン・塩化アルミニウム錯体混合物を８０
℃において１時間かけて、トルエン２３０ｇ，ピリジン
６９ｇおよび２，４−ジ第３級ブチルフェノール９０．
８ｇの溶液に滴下し、次いで８０℃で５時間反応させ
た。反応物より塩化アルミニウム−ピリジン錯体とピリ
ジンの塩酸塩を分離した後、吸着剤により処理した。次
いで溶媒を減圧濃縮し、アセトニトリルとトルエンの混
合溶媒から繰り返し精製すると黄色粉末状物質４．６ｇ
が得られた。一部をさらにゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー分取により精製すると、融点１２６〜１３
９℃の淡黄色粉末が得られた。なお、得られた化合物は
赤外線吸収スペクトル、核磁気共鳴スペクトルにより化
合物Ａであることを確認した。
【０１１１】また、この化合物は液体クロマトグラフィ
ー質量スペクトルにより、化合物Ａの他に化合物Ｄ、化
合物Ｆ，化合物Ｇが検出された。
ー質量スペクトルにより、化合物Ａの他に化合物Ｄ、化
合物Ｆ，化合物Ｇが検出された。
【０１１２】実施例２ （２，４−ジ第３級ブチル−５−メチルフェノキシ）ビ
ス〔４’−〔ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチ
ルフェノキシ）ホスフィノ〕ビフェニル−４−イル〕ホ
スフィン（化合物Ｂ）
ス〔４’−〔ビス（２，４−ジ第３級ブチル−５−メチ
ルフェノキシ）ホスフィノ〕ビフェニル−４−イル〕ホ
スフィン（化合物Ｂ）
【０１１３】（１）ビフェニル４．６ｇと三塩化リン６
５．９ｇに塩化アルミニウム１０．７ｇを加え、１０時
間加熱還流した。放冷後５℃以下に冷却し、オキシ塩化
リン１２．３ｇを滴下した後、０．５時間反応させた。
生成した塩化アルミニウム・オキシ塩化リン錯体を濾別
し、クロロベンゼンで充分に洗浄し、濾液を減圧濃縮し
て赤黄色粘稠なビフェニルクロロホスフィン混合物を得
た。
５．９ｇに塩化アルミニウム１０．７ｇを加え、１０時
間加熱還流した。放冷後５℃以下に冷却し、オキシ塩化
リン１２．３ｇを滴下した後、０．５時間反応させた。
生成した塩化アルミニウム・オキシ塩化リン錯体を濾別
し、クロロベンゼンで充分に洗浄し、濾液を減圧濃縮し
て赤黄色粘稠なビフェニルクロロホスフィン混合物を得
た。
【０１１４】（２）２，４−ジ第３級ブチル−５−メチ
ルフェノール１７．６ｇとトリエチルアミン８．１ｇを
トルエン８０ｇに溶解させ、５℃以下に冷却した。これ
に（１）で得られたビフェニルクロロホスフィン混合物
７．６ｇのトルエン５０ｇ溶液を滴下した。４０〜１０
０℃で６時間反応させた。反応後放冷し、トリエチルア
ミン塩酸塩を濾別した。濾液を減圧濃縮し、アセトニト
リルとトルエンの混合溶媒から繰り返し精製すると黄色
粉末状物質５．５ｇが得られた。一部をさらにゲルパー
ミエーションクロマトグラフィー分取により精製する
と、融点１３４〜１４８℃の淡黄色粉末が得られた。な
お、得られた化合物は赤外線吸収スペクトル、核磁気共
鳴スペクトルにより化合物Ｂであることを確認した。
ルフェノール１７．６ｇとトリエチルアミン８．１ｇを
トルエン８０ｇに溶解させ、５℃以下に冷却した。これ
に（１）で得られたビフェニルクロロホスフィン混合物
７．６ｇのトルエン５０ｇ溶液を滴下した。４０〜１０
０℃で６時間反応させた。反応後放冷し、トリエチルア
ミン塩酸塩を濾別した。濾液を減圧濃縮し、アセトニト
リルとトルエンの混合溶媒から繰り返し精製すると黄色
粉末状物質５．５ｇが得られた。一部をさらにゲルパー
ミエーションクロマトグラフィー分取により精製する
と、融点１３４〜１４８℃の淡黄色粉末が得られた。な
お、得られた化合物は赤外線吸収スペクトル、核磁気共
鳴スペクトルにより化合物Ｂであることを確認した。
【０１１５】また、この化合物は液体クロマトグラフィ
ー質量スペクトルにより、化合物Ｂの他に化合物Ｉ、化
合物Ｋ、化合物Ｌが検出された。次に実験例により本発
明の効果を説明する。
ー質量スペクトルにより、化合物Ｂの他に化合物Ｉ、化
合物Ｋ、化合物Ｌが検出された。次に実験例により本発
明の効果を説明する。
【０１１６】実験例１：熱揮散性試験 窒素雰囲気中、昇温速度１０℃／分の条件で熱重量分析
により減量開始温度（℃）および５０％減量時の温度
（℃）を求めた。
により減量開始温度（℃）および５０％減量時の温度
（℃）を求めた。
【０１１７】表中、比較例１〜３は以下の化合物を示
す。（以下の実験例でも同様である。） 比較例１：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト 比較例２：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト 比較例３：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト その結果を表１に示す。表中に示した値の単位は、℃で
ある。
す。（以下の実験例でも同様である。） 比較例１：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト 比較例２：テトラキス（２，４−ジ第３級ブチル−５−
メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナ
イト 比較例３：トリス（２，４−ジ第３級ブチルフェニル）
ホスファイト その結果を表１に示す。表中に示した値の単位は、℃で
ある。
【０１１８】
【表１】
【０１１９】表１から本発明化合物は、比較例の化合物
と比較して、高温での揮散性に優れた熱安定性を保持し
ている。
と比較して、高温での揮散性に優れた熱安定性を保持し
ている。
【０１２０】実験例２：酸素吸収誘導期の測定 添加剤無添加のポリプロピレン（ホモポリマー）樹脂に
以下の配合例に記載した化合物を添加し、ミキサーによ
り５分間混合後、押出機（２０ｍｍφ）にてぺレットを
作成した（ダイス温度２８０℃）。このぺレットを用い
て熱安定性（高分子劣化測定装置による１９０℃での酸
素吸収誘導期の測定）を測定した。
以下の配合例に記載した化合物を添加し、ミキサーによ
り５分間混合後、押出機（２０ｍｍφ）にてぺレットを
作成した（ダイス温度２８０℃）。このぺレットを用い
て熱安定性（高分子劣化測定装置による１９０℃での酸
素吸収誘導期の測定）を測定した。
【０１２１】配合例： ・ポリプロピレン（ホモポリマー） ９９．７重量％ 樹脂 ・試験化合物 ０．１重量％ ・テトラキス〔３−（３，５− ０．１重量％ ジ第３級ブチル−４−ヒドロ キシフェニル）プロピオニル オキシメチル〕メタン ・ステアリン酸カルシウム ０．１重量％ その結果を表２に示す。表中に示した値の単位は、分で
ある。
ある。
【０１２２】
【表２】
【０１２３】表２から、本発明化合物は、比較例の化合
物と比較して、ペレットの酸素吸収誘導期が長く、熱安
定性に優れ、かつ酸化劣化防止能に優れている。
物と比較して、ペレットの酸素吸収誘導期が長く、熱安
定性に優れ、かつ酸化劣化防止能に優れている。
【０１２４】実験例３ ポリプロピレン粉末（添加剤未添加ホモポリマー）と、
本発明のホスフィン化合物を、ダイス温度２６０℃の押
出機（２０ｍｍφ）にてペレットを作成し、そのペレッ
トを１８０℃で加圧成形して得られたプレス板より、１
２．７ｃｍ×１２．７ｃｍ×０．４ｍｍの試験片をと
り、ＪＩＳ−Ｋ−６９１１−Ａ法に準じて難燃性を測定
することができる。
本発明のホスフィン化合物を、ダイス温度２６０℃の押
出機（２０ｍｍφ）にてペレットを作成し、そのペレッ
トを１８０℃で加圧成形して得られたプレス板より、１
２．７ｃｍ×１２．７ｃｍ×０．４ｍｍの試験片をと
り、ＪＩＳ−Ｋ−６９１１−Ａ法に準じて難燃性を測定
することができる。
【０１２５】本発明の化合物を有機材料に添加すること
により、難燃性向上効果を得ることもできる。
により、難燃性向上効果を得ることもできる。
【０１２６】
【発明の効果】本発明のホスフィン化合物は、高温揮散
性が少なく、本化合物を有機材料の安定剤として使用す
ることにより、熱安定性に優れ、酸化劣化が防止され、
特に、有機材料からの移行が制御されることから、安定
化効果が持続した、極めて有効な有機材料を得ることが
できる。
性が少なく、本化合物を有機材料の安定剤として使用す
ることにより、熱安定性に優れ、酸化劣化が防止され、
特に、有機材料からの移行が制御されることから、安定
化効果が持続した、極めて有効な有機材料を得ることが
できる。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07F 9/50 C07F 9/53 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (15)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ4 は、それぞれ独立して、
式 【化２】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
し、Ｘ3 はそれぞれの繰り返し単位について独立して式 【化３】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
し、ｐは０または１を示し、ｑはそれぞれの繰り返し単
位について独立して０または１を示し、ｍは２〜１０の
整数を示す。）により表されるホスフィン化合物または
ホスフィンオキサイド化合物。 - 【請求項２】 一般式（ＩＩ） 【化４】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、Ｘ4 およびＸ5 はそれぞれ
独立して式 【化５】 （式中、Ｒは水素またはメチル基を示す。）を示し、
ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０または１の整数を
示す。）により表されるホスフィン化合物またはホスフ
ィンオキサイド化合物。 - 【請求項３】 一般式（ＩＩＩ） 【化６】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、Ｘ4 およびＸ5 はそれぞれ
独立して式 【化７】 （式中、Ｒは水素またはメチル基を示す。）を示し、
ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０または１の整数を
示す。）により表されるホスフィン化合物またはホスフ
ィンオキサイド化合物。 - 【請求項４】 一般式（Ｉ） 【化８】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ4 は、それぞれ独立して、
式 【化９】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
し、Ｘ3 はそれぞれの繰り返し単位について独立して式 【化１０】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
し、ｐは０または１を示し、ｑはそれぞれの繰り返し単
位について独立して０または１を示し、ｍは２〜１０の
整数を示す。）により表されるホスフィン化合物または
ホスフィンオキサイド化合物からなる有機高分子重合体
用安定剤。 - 【請求項５】 一般式（ＩＩ） 【化１１】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、Ｘ4 およびＸ5 はそれぞれ
独立して式 【化１２】 （式中、Ｒは水素またはメチル基を示す。）を示し、
ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０または１の整数を
示す。）により表されるホスフィン化合物またはホスフ
ィンオキサイド化合物からなる有機高分子重合体用安定
剤。 - 【請求項６】 一般式（ＩＩＩ） 【化１３】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、Ｘ4 およびＸ5 はそれぞれ
独立して式 【化１４】 （式中、Ｒは水素またはメチル基を示す。）を示し、
ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０または１の整数を
示す。）により表されるホスフィン化合物またはホスフ
ィンオキサイド化合物からなる有機高分子重合体用安定
剤。 - 【請求項７】 一般式（Ｉ） 【化１５】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ4 は、それぞれ独立して、
式 【化１６】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
し、Ｘ3 はそれぞれの繰り返し単位について独立して式 【化１７】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
し、ｐは０または１を示し、ｑはそれぞれの繰り返し単
位について独立して０または１を示し、ｍは２〜１０の
整数を示す。）により表されるホスフィン化合物または
ホスフィンオキサイド化合物を含有してなる安定化され
た有機高分子重合体材料。 - 【請求項８】 一般式（ＩＩ） 【化１８】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、Ｘ4 およびＸ5 はそれぞれ
独立して式 【化１９】 （式中、Ｒは水素またはメチル基を示す。）を示し、
ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０または１の整数を
示す。）により表されるホスフィン化合物またはホスフ
ィンオキサイド化合物を含有してなる安定化された有機
高分子重合体材料。 - 【請求項９】 一般式（ＩＩＩ） 【化２０】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、Ｘ4 およびＸ5 はそれぞれ
独立して式 【化２１】 （式中、Ｒは水素またはメチル基を示す。）を示し、
ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０または１の整数を
示す。）により表されるホスフィン化合物またはホスフ
ィンオキサイド化合物を含有してなる安定化された有機
高分子重合体材料。 - 【請求項１０】 一般式（Ｉ） 【化２２】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ4 は、それぞれ独立して、
式 【化２３】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
し、Ｘ3 はそれぞれの繰り返し単位について独立して式 【化２４】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
し、ｐは０または１を示し、ｑはそれぞれの繰り返し単
位について独立して０または１を示し、ｍは２〜１０の
整数を示す。）により表されるホスフィン化合物または
ホスフィンオキサイド化合物と、フェノール系酸化防止
剤、硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤および
リン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を含有し
てなる有機高分子重合体用安定剤。 - 【請求項１１】 一般式（ＩＩ） 【化２５】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、Ｘ4 およびＸ5 はそれぞれ
独立して式 【化２６】 （式中、Ｒは水素またはメチル基を示す。）を示し、
ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０または１の整数を
示す。）により表されるホスフィン化合物またはホスフ
ィンオキサイド化合物と、フェノール系酸化防止剤、硫
黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤およびリン系
酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を含有してなる
有機高分子重合体用安定剤。 - 【請求項１２】 一般式（ＩＩＩ） 【化２７】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、Ｘ4 およびＸ5 はそれぞれ
独立して式 【化２８】 （式中、Ｒは水素またはメチル基を示す。）を示し、
ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０または１の整数を
示す。）により表されるホスフィン化合物またはホスフ
ィンオキサイド化合物と、フェノール系酸化防止剤、硫
黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤およびリン系
酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を含有してなる
有機高分子重合体用安定剤。 - 【請求項１３】 一般式（Ｉ） 【化２９】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 およびＸ4 は、それぞれ独立して、
式 【化３０】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
し、Ｘ3 はそれぞれの繰り返し単位について独立して式 【化３１】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）を示
し、ｐは０または１を示し、ｑはそれぞれの繰り返し単
位について独立して０または１を示し、ｍは２〜１０の
整数を示す。）により表されるホスフィン化合物または
ホスフィンオキサイド化合物と、フェノール系酸化防止
剤、硫黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤および
リン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を含有し
てなる安定化された有機高分子重合体材料。 - 【請求項１４】 一般式（ＩＩ） 【化３２】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、Ｘ4 およびＸ5 はそれぞれ
独立して式 【化３３】 （式中、Ｒは水素またはメチル基を示す。）を示し、
ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０または１の整数を
示す。）により表されるホスフィン化合物またはホスフ
ィンオキサイド化合物と、フェノール系酸化防止剤、硫
黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤およびリン系
酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を含有してなる
安定化された有機高分子重合体材料。 - 【請求項１５】 一般式（ＩＩＩ） 【化３４】 （式中、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｘ3 、Ｘ4 およびＸ5 はそれぞれ
独立して式 【化３５】 （式中、Ｒは水素またはメチル基を示す。）を示し、
ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立して０または１の整数を
示す。）により表されるホスフィン化合物またはホスフ
ィンオキサイド化合物と、フェノール系酸化防止剤、硫
黄系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤およびリン系
酸化防止剤から選ばれる少なくとも１種を含有してなる
安定化された有機高分子重合体材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34232395A JP2982675B2 (ja) | 1994-12-28 | 1995-12-28 | 新規なホスフィン化合物およびその用途 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-328039 | 1994-12-28 | ||
| JP32803994 | 1994-12-28 | ||
| JP34232395A JP2982675B2 (ja) | 1994-12-28 | 1995-12-28 | 新規なホスフィン化合物およびその用途 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08231568A JPH08231568A (ja) | 1996-09-10 |
| JP2982675B2 true JP2982675B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=26572735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34232395A Expired - Fee Related JP2982675B2 (ja) | 1994-12-28 | 1995-12-28 | 新規なホスフィン化合物およびその用途 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2982675B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4003480B2 (ja) * | 2002-02-27 | 2007-11-07 | 東レ株式会社 | 重合体及びその製造方法。 |
| JP5634661B2 (ja) * | 2007-10-26 | 2014-12-03 | Ntn株式会社 | 転がり軸受 |
| WO2009054338A1 (ja) * | 2007-10-26 | 2009-04-30 | Ntn Corporation | 転がり軸受および転がり軸受用シール部材 |
| EP4269543A3 (en) * | 2016-05-11 | 2023-12-20 | Commonwealth Scientific and Industrial Research Organisation | Polysiloxane hydraulic fluids |
-
1995
- 1995-12-28 JP JP34232395A patent/JP2982675B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08231568A (ja) | 1996-09-10 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |