JPH08176173A - ポリマー安定剤としての液状ネオジオールホスフィット - Google Patents

ポリマー安定剤としての液状ネオジオールホスフィット

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JPH08176173A
JPH08176173A JP23706295A JP23706295A JPH08176173A JP H08176173 A JPH08176173 A JP H08176173A JP 23706295 A JP23706295 A JP 23706295A JP 23706295 A JP23706295 A JP 23706295A JP H08176173 A JPH08176173 A JP H08176173A
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phosphite
tert
styrene
bis
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JP23706295A
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James Alan Mahood
ジェームズ・アラン・マフッド
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General Electric Co
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Publication date
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    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/547Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6564Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
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    • C07F9/6574Esters of oxyacids of phosphorus
    • C07F9/65742Esters of oxyacids of phosphorus non-condensed with carbocyclic rings or heterocyclic rings or ring systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08K5/49Phosphorus-containing compounds
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 すぐれた加水分解安定性と紫外線抵抗性を示
し、熱可塑組成物を安定化させるのに有用な液状ホスフ
ィットの提供。 【解決手段】 式 【化1】 (式中Y1 はアルキル基であり、Y2 はsec−ブチル
基である。)の液状ネオアルキルフェニルホスフィット
とこれを含むホスフィット組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はホスフィット、特に
液状ネオアルキルフェニルホスフィットに関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】ネオアルキルフェニルホスフィットは、
本明細書に引用されているDeverらの米国特許3,
714,302に見られるように、公知である。Dev
erらによれば式(化2)
【0003】
【化2】 (式中、RとR’は個々に低級アルキル基であり、X,
Y及びZは個々に−H及び炭素数1−5のアルキル基よ
りなる群から選ばれる。但し、X,Y及びZの炭素数の
和は5を超えない。)のネオアルキルフェニルホスフィ
ットは触媒,HClアクセプターや溶媒の存在なしにネ
オグリコールをPCl3 と反応させて式(化3)
【0004】
【化3】 (式中RとR’は前記に同じ。)の粗製品をつくり、続
いてフェノールまたは式(化4)
【0005】
【化4】 (式中X,YとZは前記に同じ。)の化合物と反応させ
ることによって簡単且つ経済的につくることが出来る。
Deverらの望む製品は蒸留により回収することがで
きる。
【0006】適当なグリコールがあげられ、その一つに
2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオールが
ある。
【0007】Deverらの米国特許3,714,30
2はXとZが共にアルキル基である化合物からこれらの
基は立体障害をおこすことを明かに示している。すなわ
ちその第3欄63−65行を見るとX,Y,Zの合計が
5を超えないという条件があるため2,6−ジ−ter
t−ブチルフェノールのようなフェノールは立体障害問
題のために考慮から除外されると述べている。
【0008】Deverらの米国特許3,467,73
3は式(化5)
【0009】
【化5】 [式中、Rは個々に水素、炭素数1−6のアルキルおよ
びハロゲンよりなる群から選ばれ、Xは式(化6)
【0010】
【化6】 (式中R2 は個々に水素、炭素数1−12のアルキルお
よびハロゲンよりなる群から選ばれ、R3 は個々に炭素
数1−12のアルキルおよびハロゲンよりなる群から選
ばれる。)の1価の基である。]の化合物を開示し、請
求項7に式(化7)
【0011】
【化7】 のホスフィットを記載している。
【0012】しかし、これらのホスフィットの多くは熱
安定性、加水分解安定性および/または紫外線変色の諸
問題に遭遇する可能性がある。
【0013】1968年12月10日発行のShepa
rdらの米国特許3,415,906にはホスフィット
ホスホランおよびホリナン化合物が開示され、2−エチ
ル−2−n−ブチル−1,3−プロパンジオールなどの
多くのジオールや、2,4,6−トリ−tert−ブチ
ルフェニルホスホロジクロルダイトおよび2,6−ジ−
tert−ブチルフェニルホスホロジクロルダイトなど
の多くのホスホロジハリダイトが記載されている。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明は紫外線
安定性および加水分解安定性の改善されたネオアルキル
アリールホスフィットを提供することを課題とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、式(化8)
【0016】
【化8】 (式中Y1 は個々にアルキル基よりなる群から選ばれ好
ましくはtert−ブチル基であり、Y2 はsec−ブ
チル基である。)の液状ネオアルキルアリールホスフィ
ットを含むホスフィット組成物が目的に合致することを
見出した。このホスフィットは有機材料を熱的酸化劣化
に対し安定化させるのに有用であり、すぐれた加水分解
安定性を示しまた紫外線黄変に対し抵抗性がある。
【0017】
【発明の実施の形態】本発明のホスフィットは式(化
9)
【0018】
【化9】 (式中Y2 はsec−ブチルであり、Y1 は好ましくは
tert−ブチルである。)の化合物である。Y2 とし
てtert−ブチルよりもむしろsec−ブチルを用い
ると室温で固体のホスフィットではなくて液体のホスフ
ィットが利用される。このホスフィットが液状であるこ
とは驚くべきまた予期せざることで、このため本明細書
記載のいろいろなすぐれた性質を示す一群種のホスフィ
ットが得られ、また固体種に比べて容積当りの表面積が
小さくなり、このためこのすぐれたホスフィットの加水
分解安定性が更に向上している。
【0019】本発明のホスフィットは触媒、HClアク
セプターや溶剤の存在なしに2−エチル−2−ブチル−
1,3−プロパンジオールをPCl3 と反応させて式
(化10)
【0020】
【化10】 の中間生成物をつくり、続いて式(化11)
【0021】
【化11】 (式中Y1 とY2 は上記の通り。)のヒドロキシアリー
ル化合物と反応させてつくることができる。適当な反応
方法は英国特許2087399A、1982年発行のS
pivakらの米国特許4318845、およびJ.
D.Spivakらによる燐/硫黄学会誌1983,第
15巻,9−13頁(Phosphorous & S
ulfur Journal 1983,vol.1
5,pp.9−13)の論文に記述されており、これら
は皆本明細書に引用されている。
【0022】ジオールとPCl3 の反応は、室温で反応
物を混合するかあるいは好ましくは予めPCl3 を5−
15℃の温度に冷却してからジオールを反応器に加える
などの公知の方法で行うことができる。実質的に理論量
のジオールとPCl3 で反応を行うのが好ましいが反応
物のどちらかを過剰に用いても差支えない。反応温度は
5〜15℃に維持するのが好ましい。この温度はジオー
ル添加の速度を調節することによって容易に調整するこ
とができる。このエステル化反応は溶剤が存在しなけれ
ばかなり発熱するが、はげしいHCl発生による冷却効
果によって温度調整効果が生ずる。従ってジオールの添
加を効果的に調節することにより反応は5−15℃の温
度範囲に自ら調整される。
【0023】反応が終了後、生成物の温度を徐々に約5
0℃に上げて真空にすると、副産物HClの大部分が任
意に除去される。
【0024】先に述べた反応の中間生成物とヒドロキシ
アリール化合物の反応は、この粗中間物をつくるのに用
いた同じ反応器の中で、単にヒドロキシアリール化合物
を反応器に導入することにより行われる。
【0025】ヒドロキシアリール化合物と中間生成物の
反応は、ある場合には35−100℃の温度で行われる
が、約45−約80℃の温度で行うことが好ましい。反
応系の圧力は約50mmHg(絶対圧)から大気圧の範
囲に維持される。反応は約1−8時間で実質的に終了す
るが、実用的には約3−5時間で最大量の製品を与える
温度圧力の条件の下に行うことが好ましい。反応物のど
ちらかを理論的に過剰に用いてもよいが、反応は実質的
に理論量で行うことが好ましい。
【0026】ヒドロキシアリール化合物は式(化12)
【0027】
【化12】 (式中Y1 は好ましくは炭素数1−8のアルキル基より
なる群から選ばれ、メチルまたはt−ブチルがより好ま
しい。)の化合物である。反応はアミンアクセプターの
ような塩基の存在下で完了する。Y1 はアルキル基であ
るから、この反応を促進するためにアミンアクセプター
を加えなければならない。もしY1 がt−ブチルのよう
なtert−アルキル基である場合は、理論量のアミン
アクセプターが存在しなければならない。Y2 はsec
−ブチルであり、得られるホスフィットは室温(25
℃)で液体である。
【0028】反応が終了するかほゞ終了した後で、工程
の途中で発生したHClは反応器を排気することによっ
て容易かつ実質的に除去される。存在するHClを全部
除去するために、HClアクセプターの添加や酸性度の
中和を調節するなどの対策を特にとる必要はない。製品
は蒸溜または晶出によって回収される。
【0029】本発明のホスフィットは、ホスフィットの
紫外線黄変を防止するために、Y1にメチルまたはt−
ブチルなどのアルキル基をもっている。もしY1 が水素
であればホスフィットは紫外線黄変に対して敏感にな
る。好ましいホスフィットはフェノール分解生成物の沸
点が250℃以上、好ましくは260℃以上であり、そ
のため240℃以上で加工するポリプロピレンなどのポ
リオレフィンのような安定化したポリマーを加工する際
に分解生成物の揮発性が最少になる。過剰の揮発物の問
題は2−t−ブチル−4−sec−ブチル−6−アルキ
ルフェニル基を用いることによって、できる丈け少くす
ることができる。何故ならばこのような基は260℃以
上の沸点をもつ相当する2−t−ブチル−4−sec−
ブチル−6−アルキルフェノール分解生成物を生ずるか
らである。
【0030】本発明はまた効果的な量の一種以上の上記
のホスフィットを含有する安定化ポリマー組成物であ
る。本発明のホスフィットを含有するポリマー組成物が
本発明のホスフィットを含有しない類似のポリマー組成
物に比べてその物理的性質または色の性質において向上
した安定性を示す場合、本発明のホスフィットの量は
“効果的な量”であるとみなされる。しかし多くのポリ
マー組成物において、ホスフィットは樹脂100重量部
当り約0.01−約2重量部(phr)に等しい量で存
在することが好ましい。多くの組成物は約0.025p
hr以上を含有しているけれども約0.01−約1ph
rの量がより好ましい。このポリマー組成物は本来熱硬
化性であってもよく、不飽和ポリエステル、フェノール
樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、塗料用樹脂や架橋
性ラテックスを含有してもよい。
【0031】ポリマーはまた公知のいかなる熱可塑性樹
脂であってもよく、例えばポリエステル、ポリウレタ
ン、ポリアルキレンテレフタレート、ポリスルフォン、
ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、スチレン系ポリ
マー、ポリカーボネート、アクリル系ポリマー、ポリア
ミド、ポリアセタール、ハライド含有ポリマーおよびポ
リオレフィンのホモポリマーやコポリマーなどがあげら
れる。異ったポリマーの混合物、例えばポリフェニレン
エーテル/スチレン系樹脂ブレンド、ポリ塩化ビニル/
ABSまたは他の耐衝撃性改良ポリマー、例えばメタク
リロニトリルやα−メチルスチレンを含有するABS、
およびポリエステル/ABSまたはポリカーボネート/
ABSおよびポリエステルと他の耐衝撃性改良剤、もま
た使用できる。このようなポリマーは市販されているか
または公知の方法でつくることができる。しかし本発明
のホスフィットは特にポリオレフィン、ポリカーボネー
ト、ポリエステル、ポリフェニレンエーテルやスチレン
系ポリマーなどの熱可塑性ポリマーに対して有用であ
る。これは熱可塑性ポリマーはしばしば非常に高温で加
工されそして/または用いられるからである。
【0032】モノオレフィンやジオレフィンのポリマ
ー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブ
テン−1、ポリメチルペンテン−1、ポリイソプレンま
たはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィンのポリ
マー、例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリ
マー、(任意に架橋可能な)ポリエチレン、例えば高密
度ポリエチレン(HDPE),低密度ポリエチレン(L
DPE)および線状低密度ポリエチレン(LLDPE)
などが用いられる。これらのポリマーの混合物、例えば
ポリプロピレンとポリイソブチレンやポリプロピレンと
ポリエチレン(例えばPP/HDPE,PP/LDP
E)の混合物および異るタイプのポリエチレン(例えば
LDPE/HDPE)の混合物もまた用いることができ
る。またモノオレフィンやジオレフィン相互のコポリマ
ーや他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン/プロピレン、LLDPEとそのLDPEとの混合
物、プロピレン/ブテン−1、エチレン/ヘキセン、エ
チレン/エチルペンテン、エチレン/ヘプテン、エチレ
ン/オクテン、プロピレン/イソブチレン、エチレン/
ブタン−1、プロピレン/ブタジエン、イソブチレンま
たはイソプレン,エチレン/アクリル酸アルキル、エチ
レン/メタクリル酸アルキル、エチレン/醋酸ビニル
(EVA)またはエチレン/アクリル酸(EAA)のコ
ポリマーおよびそれらの塩(イオノマー)およびエチレ
ンとプロピレンならびにヘキサジエン,ジシクロペンタ
ジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのようなジエン
のターポリマー;ならびにこのようなコポリマーの混合
物とこれらコポリマーと上記のポリマーの混合物、例え
ばポリプロピレン/エチレンプロピレンコポリマー、L
DPE/EVA、LDPE/EAA、LLDPE/EV
AおよびLLDPE/EAA、もまた有用である。
【0033】熱可塑性ポリマーにはまたスチレン系ポリ
マーが含まれる。例えばポリスチレン,ポリ(p−メチ
ルスチレン),ポリ(α−メチルスチレン),スチレン
またはα−メチルスチレンとジエンまたはアクリル誘導
体のコポリマー、例えば、スチレン/ブタジエン、スチ
レン/アクリロニトリル、スチレン/メタクリル酸アル
キル、スチレン/無水マレイン酸、スチレン/ブタジエ
ン/アクリル酸エチルまたはスチレン/アクリロニトリ
ル/アクリル酸メチルのコポリマー,スチレンコポリマ
ーと他のポリマー、例えばポリアクリル酸エステル、ジ
エンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジエンター
ポリマーなどとの耐衝撃性混合物;およびスチレンのブ
ロックコポリマー、例えばスチレン/ブタジエン/スチ
レン、スチレン/イソプレン/スチレン、スチレン/エ
チレン/ブタジエン/スチレンまたはスチレン/エチレ
ン/プロピレン/スチレンなどのブロックコポリマーが
あげられる。スチレン系ポリマーには附加的にまたは交
互にスチレンやα−メチルスチレンを含むグラフトコポ
リマーがあり、例えばポリブタジエンへのスチレン、ポ
リブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリ
ロニトリルへのスチレン;ポリブタジエンとそのコポリ
マーへのスチレンとアクリロニトリル(またはメタクリ
ロニトリル);ポリブタジエンへのスチレンと無水マレ
イン酸またはマレイミド;ポリブタジエンへのスチレ
ン,アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマレ
イミド;ポリブタジエンへのスチレン,アクリロニトリ
ルおよびメタクリル酸メチル;ポリブタジエンへのスチ
レンとアクリル酸またはメタクリル酸アルキル,エチレ
ン/プロピレン/ジエンターポリマーへのスチレンとア
クリロニトリル,ポリアクリレートまたはポリメタクリ
レートへのスチレンとアクリロニトリル,アクリレート
/ブタジエンコポリマーへのスチレンとアクリロニトリ
ル、ならびにこれらと上記スチレン系コポリマーの混合
物があげられる。
【0034】ニトリルポリマーもまた本発明のポリマー
組成物において有用である。これらニトリルポリマーに
はアクリロニトリルおよびその類似体のホモポリマーお
よびコポリマー、例えばポリメタクリロニトリル、ポリ
アクリロニトリル、アクリロニトリル/ブタジエンポリ
マー、アクリロニトリル/アクリル酸アルキルポリマ
ー、アクリロニトリル/メタクリル酸アルキル/ブタジ
エンポリマー、およびスチレン系樹脂に関して先に述べ
た種々のABS組成物があげられる。
【0035】アクリル系酸、例えばアクリル酸、メタク
リル酸、メチルメタクリル酸やエタクリル酸およびこれ
らのエステル、をベースにしたポリマーもまた用いられ
る。このようなポリマーにはポリメチルメタクリレー
ト、及びアクリロニトリル系のモノマーが全部または部
分的にアクリル酸エステルまたはアクリル酸アミドでお
きかえられたABS型のグラフトコポリマーがある。他
のアクリル系モノマー、例えばアクロレイン、メタクロ
レイン、アクリルアミドやメタクリルアミドなどを含む
ポリマーもまた使用できる。
【0036】ハロゲン含有ポリマーもまた有用である。
これらハロゲン含有ポリマーとしてポリクロロプレン、
エピクロロヒドリンのホモおよびコポリマー、ポリ塩化
ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリ弗化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレ
ン、弗素化ポリビニリデン、臭素化ポリエチレン、塩素
化ゴム、塩化ビニル/醋酸ビニルコポリマー、塩化ビニ
ル/エチレンコポリマー、塩化ビニル/プロピレンコポ
リマー、塩化ビニル/スチレンコポリマー、塩化ビニル
/イソブチレンコポリマー、塩化ビニル/塩化ビニリデ
ンコポリマー、塩化ビニル/スチレン/無水マレイン酸
ターポリマー、塩化ビニル/スチレン/アクリロニトリ
ルコポリマー、塩化ビニル/ブタジエンコポリマー、塩
化ビニル/イソプレンコポリマー、塩化ビニル/塩素化
プロピレンコポリマー、塩化ビニル/塩化ビニリデン/
醋酸ビニルターポリマー、塩化ビニル/アクリル酸エス
テルコポリマー、塩化ビニル/マレイン酸エステルコポ
リマー、塩化ビニル/メタクリル酸エステルコポリマ
ー、塩化ビニル/アクリロニトリルコポリマー、および
内部的に可塑化されたポリ塩化ビニル、などの樹脂があ
げられる。
【0037】他の有用な熱可塑性ポリマーには環状エー
テルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアル
キレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピ
レンオキシドまたはこれらとビスグリシジルエーテルの
コポリマー;ポリアセタール、例えばポリオキシメチレ
ン及びエチレンオキシドをコモノマーとして含有するポ
リオキシメチレン;熱可塑性ポリウレタンやアクリレー
トまたはメタクリロニトリル含有のABSで変性したポ
リアセタール;ポリフェニレンオキシドおよびスルフィ
ド、およびポリフェニレンオキシドとポリスチレンまた
はポリアミドの混合物;ポリカーボネートとポリエステ
ル−カーボネート;ポリスルフォン,ポリエーテルスル
フォンおよびポリエーテルケトン;およびジカルボン酸
とジオールからおよび/またはヒドロキシカルボン酸ま
たは相当するラクトンから得られるポリエステル、例え
ばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタ
レート、ポリ−1,4−ジメチロール−シクロヘキサン
テレフタレート、ポリ−2(2,2,4(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン)テレフタレートおよびポリヒド
ロキシベンゾエートならびにヒドロキシ末端基をもつポ
リエーテルから得られるブロックコポリエーテルエステ
ルが含まれる。
【0038】ジアミンとジカルボン酸からおよび/また
はアミノカルボン酸或は相当するラクタムから得られる
ポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド4,
ポリアミド6,ポリアミド6/6,6/10,6/9,
6/12および4/6,ポリアミド11,ポリアミド1
2,m−キシレンジアミンとアジピン酸の縮合によって
得られる芳香族ポリアミド;ヘキサメチレンジアミンと
イソフタール酸または/およびテレフタル酸と任意に変
性剤として加えられたエラストマーから得られるポリア
ミド、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチ
レンテレフタルアミドまたはポリ−m−フェニレンイソ
フタルアミドなどが有用である。更に上記のポリアミド
とポリオレフィン、オレフィンコポリマー,イオノマー
または化学的に結合またはグラフトしたエラストマーと
のコポリマー;またはポリエーテル、例えばポリエチレ
ングリコール,ポリプロピレングリコールまたはポリテ
トラメチレングリコールなどとのコポリマーおよびEP
DMまたはABSで変性したポリアミドまたはコポリア
ミドが用いられる。
【0039】ポリオレフィン、ポリアルキレンテレフタ
レート、ポリフェニレンエーテル、スチレン系樹脂およ
びこれらの混合物がより好ましく、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニ
レンエーテルホモポリマーおよびコポリマー、ポリスチ
レン、耐衝撃性ポリスチレン、ポリカーボネート、AB
S型グラフトコポリマーおよびこれらの混合物が特に好
ましい。
【0040】このようにして得られる本発明の安定化ポ
リマー組成物はまた下記のような種々の通常用いられる
添加剤を任意に含有し(または含有しなく)てもよい。
【0041】1.酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール、例えば、2,6
−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2−
tert−ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,
6−ジ−tert−ブチル−4−エチルフェノール、
2,6−ジ−tert−ブチル−4−n−ブチルフェノ
ール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−イソブチル
フェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフ
ェノール、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6
−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−4−
メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシフェ
ノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキシ
メチルフェノール。
【0042】1.2 アルキル化ハイドロキノン、例
えば、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキシフ
ェノール、2,5−ジ−tert−ブチル−ヒドロキノ
ン、2,5−ジ−tert−アミルヒドロキノン、2,
6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノール。
【0043】1.3 ヒドロキシル化チオジフェニル
エーテル、例えば、2,2’−チオ−ビス(6−ter
t−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−チオ
−ビス(4−オクチルフェノール)、4,4’−チオ−
ビス(6−tert−ブチル−3−メチルフェノー
ル)、4,4’−チオ−ビス(6−tert−ブチル−
2−メチルフェノール)。
【0044】1.4 アルキリデン−ビスフェノー
ル、例えば、2,2’−メチレン−ビス(6−tert
−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレ
ン−ビス(6−tert−ブチル−4−エチルフェノー
ル)、2,2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−
(α−メチルシクロヘキシル)フェノール)、2,2’
−メチレン−ビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフ
ェノール)、2,2’−メチレン−ビス(6−ノニル−
4−メチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス
(6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノー
ル)、2,2’−メチレン−ビス(6−(α,α−ジメ
チルベンジル)−4−ノニルフェノール)、2,2’−
メチレン−ビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェノ
ール)、2,2’−エチリデン−ビス(6−tert−
ブチル−4−イソブチルフェノール)、4,4’−メチ
レン−ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェノー
ル)、4,4’−メチレン−ビス(6−tert−ブチ
ル−2−メチルフェノール)、1,1’−ビス(5−t
ert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェノー
ル)ブタン、2,6−ジ(3−tert−ブチル−5−
メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノ
ール、1,1,3−トリス(5−tert−ブチル−4
−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−
ビス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メ
チルフェニル)−3−ドデシルメルカプトブタン、エチ
レングリコール−ビス(3,3−ビス−(3’−ter
t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)ブチレート)
−ジ−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ジ−(2−
(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−
メチルベンジル)−6−tert−ブチル−4−メチル
フェニル)テレフタレート。
【0045】1.5 ベンジル化合物、例えば、1,
3,5−トリス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベン
ゼン、ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)−スルフィド、イソオクチル−3,5
−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルメル
カプトアセテート、ビス(4−tert−ブチル−3−
ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオールテ
レフタレート、1,3,5−トリス(3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレ
ート、1,3,5−トリス(4−tert−ブチル−3
−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌ
レート、ジオクタデシル−3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル
−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスホネートのカルシウム塩、1,3,5−トリス
(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジ
ル)イソシアヌレート。
【0046】1.6 アシルアミノフェノール、例え
ば、4−ヒドロキシラウリン酸アニリド、4−ヒドロキ
システアリン酸アニリド、2,4−ビス−オクチルメル
カプト−6−(3,5−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシアニリノ)−s−トリアジン、オクチル−N−
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)カルバメート。
【0047】1.7 β−(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェノール)プロピオン酸と1
価または多価アルコール、例えば、メタノール、ジエチ
レングリコール、オクタデカノール、トリエチレングリ
コール、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリトリト
ール、ネオペンチルグリコール、トリスヒドロキシエチ
ルイソシアヌレート、チオジエチレングリコール、ジヒ
ドロキシエチル蓚酸ジアミドなどとのエステル。
【0048】1.8 β−(5−tert−ブチル−
4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−プロピオン酸
と1価または多価アルコール、例えば、メタノール、ジ
エチレングリコール、オクタデカノール、トリエチレン
グリコール、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリス
リトール、ネオペンチルグリコール、トリスヒドロキシ
エチルイソシアヌレート、チオジエチレングリコール、
ジヒドロキシエチル蓚酸ジアミド、などとのエステル。
【0049】1.9 β−(5−tert−ブチル−
4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸と
1価または多価アルコール、例えば、メタノール、ジエ
チレングリコール、オクタデカノール、トリエチレング
リコール、1,6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリ
トール、ネオペンチルグリコール、トリス(ヒドロキシ
エチル)イソシアヌレート、チオジエチレングリコー
ル、N,N−ビス(ヒドロキシエチル)蓚酸ジアミドな
どとのエステル。
【0050】1.10 β−(3,5−ジ−tert
−ブチル−4−ヒドロキシフェノール)プロピオン酸の
アミド、例えば、N,N’−ジ(3,5−ジ−tert
−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキ
サメチレンジアミン、N,N’−ジ(3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)
トリメチレンジアミン、N,N’−ジ(3,5−ジ−t
ert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)ヒドラジン。
【0051】2.紫外線吸収剤と光安定剤 2.1 2−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾト
リアゾール、例えば、その5’−メチル−、3’,5’
−ジ−tert−ブチル−、5’−tert−ブチル
−、5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)
−、5−クロロ−3’,5’−ジ−tert−ブチル
−、5−クロロ−3’−tert−ブチル−5’−メチ
ル−、3’−sec−ブチル−5’−tert−ブチル
−、4’−オクトキシ−3’,5’−ジ−tert−ア
ミル−、および3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベ
ンジル)−誘導体。
【0052】2.2 2−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、例えばその4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4
−オクトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオ
キシ−、4−ベンジルオキシ−、4,2’,4’−トリ
ヒドロキシ−および2’ーヒドロキシ−4,4’−ジメ
トキシ−誘導体。
【0053】2.3 置換および非置換の安息香酸の
エスエル、例えば、フェニルサリチレート、4−ter
t−ブチルフェニルサリチレート、オクチルフェニルサ
リチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−
tert−ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾ
イルレゾルシノール、2,4−ジ−tert−ブチル−
フェニル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシベンゾエートおよびヘキサデシル−3,5−ジ−t
ert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
【0054】2.4 アクリレート、例えば、α−シ
アノ−β,β−ジフェニルアクリル酸エチルエステルま
たはイソオクチルエステル、α−カルボメトキシ桂皮酸
メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−p−メトキ
シ桂皮酸メチルエステルまたはブチルエスエル、α−カ
ルボメトキシ−p−メトキシ桂皮酸メチルエステル、N
−(β−カルボメトキシ−β−シアノ−ビニル)−2−
メチルインドリン。
【0055】2.5 ニッケル化合物、例えば、2,
2’−チオビス(4−(1,1,1,3−テトラメチル
ブチル)フェノール)のニッケル錯体、例えば、任意に
n−ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはN−シ
クロヘキシルジエタノールアミンなどの他の配位子との
1:1または1:2錯体、ジブチルジチオカルバミド酸
ニッケル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブ
チルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル、例えば
そのメチル、エチルまたはブチルエステルなどのニッケ
ル塩、2−ヒドロキシ−4−メチルフェニルウンデシル
ケトキシムなどのケトキシムのニッケル錯体、1−フェ
ニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピラゾールの任
意に他の配位子とのニッケル錯体。
【0056】2.6 立体的ヒンダードアミン、例え
ば、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)
セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル
ピペリジル)−セバケート、n−ブチル−3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロン酸ビ
ス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)エ
ステル、1−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ヒドロキシピペリジンと琥珀酸の縮合
物、N,N’−(2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジル)ヘキサメチレンジアミンと4−tert−オクチ
ルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−s−トリア
ジンの縮合物、トリス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−
1,2,3,4−ブタン−テトラ炭酸、1,1’−
(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テ
トラメチルピペラジノン)。このようなアミンにはヒン
ダードアミンから得られるヒドロキシルアミン、例えば
ジ(1−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル)セバケート;1−ヒドロキシ−
2,2,6,6−テトラメチル−4−ベンゾキシピペリ
ジン;1−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル
−4−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シヒドロシナモイルオキシ)ピペリジン;およびN−
(1−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル)−ε−カプロラクタムなどが含まれ
る。
【0057】2.7 蓚酸ジアミド、例えば、4,
4’−ジオクチルオキシ−オキサニリド、2,2’−ジ
−オクチルオキシ−5,5’−ジ−tert−ブチルオ
キサニリド、2,2’−ジ−ドデシルオキシ−5,5’
−ジ−tert−ブチルオキサニリド、2−エトキシ−
2’−エチルオキサニリド、N,N’−ビス(3−ジメ
チルアミノプロピル)オキサルアミド、2−エトキシ−
5−tert−ブチル−2’−エチルオキサニリド及び
これと2−エトキシ−2’−エチル−5,4−ジ−te
rt−ブチルオキサニリドの混合物、およびo−および
p−メトキシ−ならびにo−およびp−エトキシ−2置
換のオキサニリドの混合物。
【0058】3. 金属脱活剤、例えば、N,N’−ジ
フェニル蓚酸ジアミド、N−サリチラル−N’−サリチ
ロイルヒドラジン、N,N’−ビス−サリチロイルヒド
ラジン、N,N’−ビス(3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロフェニルプロピオニル)ヒドラジン、サ
リチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、ビスベ
ンジリデン蓚酸ジヒドラジド。
【0059】4. ホスフィットとホスホニット、例え
ば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホ
スフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス
(ノニル−フェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス(2,
4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスフィット、ジ
イソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス
−(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエ
リトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビト
ールトリホスフィットおよびテトラキス(2,4−ジ−
tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレン
ジホスホニット。
【0060】5. 過酸化物スカベンジャー、例えば、
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばそのラウリ
ル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステ
ル、メルカプトベンゾイミダゾールまたは2−メルカプ
トベンゾイミダゾール亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミ
ド酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリト
リトールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピ
オネート。
【0061】6. ポリアミド安定剤、例えば、銅塩と
沃化物および/または燐化合物の組合せおよび2価のマ
ンガン塩。
【0062】7. 塩基性補助安定剤、例えば、メラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩とアルカリ土類金属塩、例えば、ステアリン酸
カルシウム、乳酸ステアロイルカルシウム、乳酸カルシ
ウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、
リシノール酸ナトリウムおよびパルミチン酸カリウム、
ピロカテコール酸アンチモンまたはピロカテコール酸亜
鉛。
【0063】8. 核剤、例えば、4−tert−ブチ
ル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル醋酸。
【0064】9. 充填剤と補強剤、例えば、炭酸カル
シウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カ
オリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物と水酸化物、
カーボンブラックおよび黒鉛。
【0065】10. 本発明はまたアミノオキシプロパ
ノエート誘導体、例えばメチル−3−(N,N−ジベン
ジルアミノオキシ)プロパノエート;エチル−3−
(N,N−ジベンジルアミノオキシ)プロパノエート;
1,6−ヘキサメチンレンビス(3−N,N−ジベンジ
ルアミノオキシ)プロパノエート;メチル(2−(メチ
ル)−3(N,N−ジベンジルアミノオキシ)プロパノ
エート);オクタデシル−3−(N,N−ジベンジルア
ミノオキシ)プロピオン酸;テトラキス(N,N−ジベ
ンジルアミノオキシ)エチルカルボニルオキシメチルメ
タン;オクタデシル−3−(N,N−ジエチルアミノオ
キシ)プロパノエート;3−(N,N−ジベンジルアミ
ノオキシ)プロピオン酸カリウム塩;および1,6−ヘ
キサメチレンビス(3−(N−アリル−N−ドデシルア
ミノオキシ)プロパノエート)など,と組合せて用いる
ことができる。
【0066】11. 他の添加剤、例えば、可塑剤、エ
ポキシ化大豆油などのエポキシ化植物油,滑剤、乳化
剤、顔料、ヒドロキシルアミン、例えばRがプロピルま
たはステアリルなどのC1 −C30のアルキル基であるR
2 NOH,蛍光増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤、発泡
剤およびジラウリルチオジプロピオネートまたはジステ
アリルチオジプロピオネートなどのチオ相乗剤。
【0067】ポリマー材を安定化するためにポリマー粒
子を本発明のホスフィット単独でまたは他の安定剤と組
合せてコーティングすることができる。粒子は形状は球
形でプラスチック技術者協会の1991年2月24−2
7日の国際会議ポリオレフィンIII で発表のP.ガリと
J.C.ハロックの反応器粒体−新世代のポリマーブレ
ンド生産のための独特な技術(P. Galli and J.C.Haloc
k, The Reactor Granule-A Unique Technology for the
Production of a New Generation of PolymerBlends,
Society of Plastics Engineers, Polyolefin III Inte
rnational Conference February 24-27, 1991)或は1
987年11月24日発行のペドラゼットらの米国特許
4708979、球状重合ポリオレフィンの安定方法
(Pedrazzeth et al. U.S.4708979 entitled Process f
or the Stabilization of Spherically Polymerized Po
lyolefins issued November 24, 1987)に開示された
“反応器粒体技術”などの方法によってつくることがで
きる。これらの方法は共に本明細書で引用されている。
粒子生成はチグラー/ナッタ触媒系の支援により達成さ
れる。適当な商業プロセスはスフェリポール(Sphe
ripol),アジポール(Addipol)およびス
フェリレン(Spherilene)の商標で知られて
いる。
【0068】オレフィンポリマーはチーグラー/ナッタ
触媒の存在下にオレフィンを重合させて製造される。こ
れらチーグラー/ナッタ触媒は、任意にシリカまたは他
の物質上に支持された、MgCl2 ,クロム塩およびこ
れらの錯体など(但しこれらに限定されるものではな
い)のキャリヤー上に任意に支持されている。オレフィ
ンポリマーはまた金属のシクロペンタジエン錯体、特に
TiとZrの錯体、をベースにした触媒を用いて製造す
ることができる。
【0069】本発明に従って、本発明のホスフィットは
製品に二次加工する前または途中でいつでもポリマーに
加えることができ、またプレブレンディングや二次加工
装置に直接補給するなどのいろいろな公知の方法でポリ
マーと配合することができる。
【0070】次の実施例は本発明を例証するものであ
る。
【0071】
【実施例】
【0072】
【化13】
【0073】
【化14】 実施例は1重量%のホスフィットを含有するポリプロピ
レン樹脂組成物をプレスしてつくったフィルム中のそれ
ぞれのホスフィットの半減期を述べている。半減期はフ
ィルムを60℃の温度と75%の公称相対湿度に暴露し
て初期のホスフィット量が1/2に減少するまでの時間
を測定する。フィルム中のホスフィットの減少は主とし
てホスフィットの加水分解によると思われる。ホス8は
本発明のホスフィットであり、その結果は実施例1に示
されている。実施例A,B,C,D,E,Fは比較例で
ある。添加剤はポリマーに5,000−10,000p
pm配合され、初期の色を記録する。次にポリマー試料
を短波紫外線[ミネラライトランプ(Minerali
teR Lamp)モデルUVGL−5からの254mm
紫外線]に光源からの所定の距離(通常1インチ以下)
で所定の時間間隔(通常10分)の間暴露する。ポリマ
ー試料の色を記録し、黄色度指数の変化(ΔYI)を計
算する。紫外線黄変試験で不合格の試料のΔYIは5よ
り大きく典型的には20−40の範囲にある。紫外線黄
変試験に合格の試料のΔYIは5より小さく典型的には
0−2の範囲にある。
【0074】
【表1】 表 I 実施例 ホスの型 半減期(日数) 紫外線黄変 液体(25℃) A ホス1 4 なし ○ B ホス2 15 あり ○ C ホス3 21 なし ○ D ホス4 22 あり × E ホス6 <2 なし ○ F ホス7 12 あり × 1 ホス8 >36 なし ○ G ホス9 5 なし ○ 註: ○・・・液体, ×・・・液体でない。 本発明のホスフィットが比較例のホスフィットよりも加
水分解安定性が大きいことや実施例1の紫外線黄変に対
する抵抗性に注目すべきである。表IIは実施例1のフェ
ノール分解物の沸点が高いことを示している。本明細書
のデーターから本発明のホスフィットの性質および性質
の組合せが向上していることがわかる。本発明のホスフ
ィットはホス6やホス7に比べて高い加水分解安定性を
示している。(ホス8とホス7を比較)。ホス1,2,
3と6は室温で液体である。
【0075】
【表2】
【0076】
【表3】 表 III H I 2 ホス10 600 0 0 ホス11 0 600 0 ホス8 0 0 600 ステアリン酸カルシウム 500 500 500 HPAO 500 500 500 メルトフロー(12@230℃) 第1パス 4.58 5.95 4.75 第3パス 5.51 8.45 5.01 第5パス 6.2 11.49 5.72 色(黄色度指数) 第1パス 2.98 2.96 1.3 第3パス 4.31 4.76 2.04 第5パス 5.01 5.87 3.6 ホス8:(2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール)(2,6− ジ−tert−ブチル−4−sec−ブチルフェニル)ホスフィット ホス10:ビス(2,4−ジ−tert−ブチルペンタエリトリトール)ジホ スフィット ホス11:トリ(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスフィット HPAO:イルガノックス1010(Irganox−1010)として市販 のヒンダードフェノール化合物
【0077】
【発明の効果】本発明のホスフィットは有機材料を熱的
酸化劣化に対し安定化させるのに有用であり、すぐれた
加水分解安定性を示し、また紫外線黄変に対し抵抗性が
ある。実施例2,第5パスのメルトフローは比較的低く
(安定であり)、また第5パスの黄色度指数も比較的低
いことに注目。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 67/00 KKD 69/00 KKM

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (化1) 【化1】 (式中、Y1 はアルキル基よりなる群から選ばれ、Y2
    はsec−ブチルである。)の25℃で液体であるホス
    フィット。
  2. 【請求項2】 Y1 がメチルである請求項1記載のホス
    フィット。
  3. 【請求項3】 熱可塑性樹脂と、組成物の全重量を規準
    にして0.01乃至1.0重量%の請求項1記載のホス
    フィットよりなる熱可塑性高分子組成物。
  4. 【請求項4】 熱可塑性樹脂と、組成物の全重量を規準
    にして0.01乃至1.0重量%の請求項2記載のホス
    フィットよりなる熱可塑性高分子組成物。
  5. 【請求項5】 熱可塑性樹脂と、組成物の全重量を規準
    にして0.01乃至1.0重量%の請求項3記載のホス
    フィットよりなる熱可塑性高分子組成物。
  6. 【請求項6】 該熱可塑性樹脂がポリオレフィン,ポリ
    カーボネート,ポリエステル,ポリ塩化ビニル及びポリ
    スチレンよりなる群から選ばれる請求項4記載の熱可塑
    性組成物。
  7. 【請求項7】 該熱可塑性樹脂がポリプロピレンである
    請求項4記載の熱可塑性組成物。
  8. 【請求項8】 該組成物が本質的に該熱可塑性樹脂と該
    ホスフィットよりなる請求項4記載の熱可塑性組成物。
JP23706295A 1994-09-16 1995-09-14 ポリマー安定剤としての液状ネオジオールホスフィット Withdrawn JPH08176173A (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US361073 1989-06-05
US08/307,545 US5424348A (en) 1993-07-22 1994-09-16 Neo-diol phosphites as polymer stabilizers
US307545 1994-09-16
US36107394A 1994-12-21 1994-12-21

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