JPH09316060A - ビスベンゾトリアゾリルフェノール化合物 - Google Patents

ビスベンゾトリアゾリルフェノール化合物

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JPH09316060A JP9056190A JP5619097A JPH09316060A JP H09316060 A JPH09316060 A JP H09316060A JP 9056190 A JP9056190 A JP 9056190A JP 5619097 A JP5619097 A JP 5619097A JP H09316060 A JPH09316060 A JP H09316060A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、紫外線吸収効果を有する新規なビ
スベンゾトリアゾリルフェノール化合物を提供すること
を課題とする。 【解決手段】 本発明のビスベンゾトリアゾリルフェノ
ール化合物は、一般式 【化1】 [式中Aは直接結合するか或いは炭素数1〜6個のアル
キレン基、−C(CH32−基、−C(C25)(CH
3)−基、−O−基又は−NH−基を示す。R1及びR3
は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜4のアル
キル基、アリール基、炭素数1〜4のアルコキシ基又は
ハロゲン原子を示す。R2及びR4は、同一又は異なっ
て、水酸基又は炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐鎖
状のヒドロキシアルキル基を示す。]で表される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なビスベンゾ
トリアゾリルフェノール化合物及び該化合物を共重合成
分として含有するコポリマーに関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】2−ヒドロキシフェニ
ルベンゾトリアゾール化合物はプラスチックを紫外線か
ら保護するのに有用な、いわゆる紫外線吸収剤として知
られている。しかしながら従来公知の紫外線吸収剤の大
部分は低分子化合物であり、そのため多くの問題点を抱
えていた。例えば従来のベンゾトリアゾール系紫外線吸
収剤は低分子化合物であるが故に蒸気圧が高く、樹脂に
ブレンドして成形加工する際、蒸散して作業環境を汚染
したり、金型を汚す等の問題が生じることが知られてい
る。更には、従来の紫外線吸収剤は添加型であり、ベー
ス樹脂と単に混ぜ合わせて使用するため、一旦得られた
成形体や塗膜の表面から経時的にブリードアウトした
り、使用環境において雨や洗剤を含む水等により流れ出
して、製品に長期間光安定性を付与することができなか
った。
【0003】そこで上記した従来の低分子紫外線吸収剤
の抱える問題点を、上記低分子化合物を高分子化するこ
とで解決する方法がいくつか提案されている。
【0004】例えば特開昭38−25036号公報、特
開昭60−51181号公報、特開昭61−11206
2号公報等には、重合性ベンゾトリアゾール化合物から
得られる高分子紫外線吸収剤が開示されている。しかし
ながら、これらの化合物は付加重合性モノマーとの共重
合に利用できるのみで、重縮合反応によって製造するポ
リマーには適用することができない。
【0005】特開平2−188581号公報、特開平3
−200788号公報等では分子内に複数のカルボキシ
ル基を有する縮重合性のベンゾトリアゾール化合物が開
示されている。しかしながら、これらの化合物は、その
構造からも明らかなようにポリエステルやポリアミドの
製造には使用可能であっても、とりわけ紫外線による劣
化が顕著で問題があるポリカーボネートやポリウレタン
の製造には使用できない。
【0006】また、特公平4−20913号公報には複
数のヒドロキシアルキル基を有するベンゾトリアゾール
化合物及びビスベンゾトリアゾール化合物が開示されて
いる。しかしながらこれらの化合物はヒドロキシアルキ
ル基がエステル結合により導入されており、該化合物を
縮重合反応のコモノマーとして利用した場合、加水分解
反応もしくはエステル交換反応を引き起こす。これはア
ルカリ条件下で重合する場合や高温で重合させることが
求められるポリエステル製造においてとりわけ問題とな
る。加えて副生するカルボキシル基やエステル基を有す
るベンゾトリアゾール化合物が停止剤として作用するた
め、重合度を高めようとする際にしばしば障害となる。
【0007】更に、特公昭55−39180号公報には
二量化されたベンゾトリアゾール化合物が、特開平3−
39326号公報には該二量化化合物をポリカーボネー
ト製造の共重合モノマーとして使用した耐候性を有する
ポリカーボネートがそれぞれ開示されている。しかしな
がら上記二量化化合物をポリカーボネートの共重合モノ
マーとして使用した場合、共重合反応の際に紫外線吸収
機能を発現する上で必要不可欠な官能基であるフェノー
ル性水酸基が重合反応に関与して失われるのが避けられ
ない。その結果、当然のことながら得られるポリカーボ
ネートに満足な耐光性を付与することができない。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、紫外線吸収効果を有
する新規な化合物を得ることに成功し、ここに本発明を
完成するに至った。
【0009】即ち本発明のビスベンゾトリアゾリルフェ
ノール化合物は、文献未記載の新規化合物であって、下
記一般式(1)で表される。
【0010】
【化2】
【0011】[式中Aは直接結合するか或いは炭素数1
〜6個のアルキレン基、−C(CH32−基、−C(C
25)(CH3)−基、−O−基又は−NH−基を示
す。R1及びR3は、同一又は異なって、水素原子、炭素
数1〜4のアルキル基、アリール基、炭素数1〜4のア
ルコキシ基又はハロゲン原子を示す。R2及びR4は、同
一又は異なって、水酸基又は炭素数1〜12の直鎖状も
しくは分岐鎖状のヒドロキシアルキル基を示す。] 本発明の上記一般式(1)で表されるビスベンゾトリア
ゾリルフェノール化合物は、例えば、紫外線吸収剤とし
て有用である。即ち、本発明のビスベンゾトリアゾール
フェノール化合物は、紫外線吸収性能が良好であり、蒸
気圧が極めて低く、且つ熱安定性が高いことから添加型
紫外線吸収剤として有用である。
【0012】本発明のビスベンゾトリアゾリルフェノー
ル化合物は、エンジニアリングプラスチックスのように
成形時に高温を必要とする樹脂にブレンドして溶融成形
しても蒸散することがない。
【0013】更に本発明のビスベンゾトリアゾリルフェ
ノール化合物のうち、分子内に2個のヒドロキシアルキ
ル基を有する化合物は、ホスゲンと反応するためポリカ
ーボネート主鎖中に導入することができ、ジカルボン酸
又はジカルボン酸エステルと反応するためにポリエステ
ル主鎖中に導入することができ、イソシアネートと反応
するが故にウレタン樹脂主鎖中に導入できる等従来の紫
外線吸収剤にはない数多くの優れた特徴を有している。
【0014】本発明のビスベンゾトリアゾリルフェノー
ル化合物は、重縮合性モノマーと共重合し得るので、紫
外線吸収剤ユニットを重縮合反応で得られるポリマー
(例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレ
タン等)の主鎖中又は側鎖に化学結合でほぼ任意の割合
で導入することができる。その結果得られる紫外線吸収
性のコポリマーは、成形加工時の加熱によって紫外線吸
収性能を失うことがなく、また蒸散することもない。更
に、これを含む成形体から紫外線吸収剤がブリードアウ
トすることもないので、製品に長期間、充分な耐候性を
付与することができる。
【0015】反応性の高いヒドロキシアルキル基を分子
内に複数個有する本発明のビスベンゾトリアゾールフェ
ノール化合物の場合には、該化合物とこれと共重合可能
なコモノマーを反応させてコポリマーを得る際、フェノ
ール性水酸基を失うことなく且つ紫外線吸収ユニットを
ポリマーの主鎖内部に任意の共重合組成で導入すること
ができる。従って、得られたコポリマーは、ベンゾトリ
アゾールフェノール化合物の優れた紫外線吸収能を10
0%保持し得る。
【0016】更に、本発明のビスベンゾトリアゾールフ
ェノール化合物は蒸気圧が極めて低く、また分解温度も
350℃以上と著しく高いので、これを高温で縮重合に
供する場合でも反応時に蒸散、分解等を引き起こすこと
がなく、極めて収率よく耐候性重縮合ポリマーを任意の
分子量で製造することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】上記一般式(1)に示される各基
はより具体的にはそれぞれ次の通りである。
【0018】炭素数1〜6のアルキレン基としては、例
えばメチレン、エチレン、トリメチレン、2−メチルト
リメチレン、2,2−ジメチルトリメチレン、1−メチ
ルトリメチレン、メチルメチレン、エチルメチレン、テ
トラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン基等を
挙げることができる。
【0019】炭素数1〜4のアルキル基としては、例え
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、tert−ブチル等を挙げることができ
る。
【0020】アリール基としては、フェニル環上に炭素
数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、
ハロゲン原子等を有することのあるフェニル、ナフチル
基等を挙げることができる。
【0021】炭素数1〜4のアルコキシ基としては、例
えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、tert−ブトキシ等を挙げることがで
きる。
【0022】ハロゲン原子としては、例えば弗素原子、
塩素原子、臭素原子、沃素原子等を挙げることができ
る。
【0023】炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐鎖状
のヒドロキシアルキル基としては、例えばヒドロキシメ
チル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、
3−ヒドロキシプロピル、2,3−ジヒドロキシプロピ
ル、4−ヒドロキシブチル、1,1−ジメチル−2−ヒ
ドロキシエチル、5,5,4−トリヒドロキシペンチ
ル、5−ヒドロキシペンチル、6−ヒドロキシヘキシ
ル、1−ヒドロキシイソプロピル、2−メチル−3−ヒ
ドロキシプロピル、7−ヒドロキシヘプチル、8−ヒド
ロキシオクチル、9−ヒドロキシノニル、10−ヒドロ
キシデシル、11−ヒドロキシウンデシル、12−ヒド
ロキシドデシル基等の水酸基を1〜3個有する炭素数1
〜12の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基を挙げる
ことができる。
【0024】上記一般式(1)で表される本発明の化合
物の中でも、R2及びR4が共に炭素数1〜12の直鎖状
もしくは分岐鎖状のヒドロキシアルキル基である化合物
が好ましく、その中でもAがメチレン基である化合物が
特に好ましい。
【0025】本発明のビスベンゾトリアゾリルフェノー
ル化合物の具体例を以下に示す。
【0026】2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル)−2,4−ジヒドロキシ
ベンゼン] 2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4−(ヒドロキシメチル)フェノー
ル] 2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェ
ノール] 2,2’−メチレンビス[6−(5−クロロ−2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシ
エチル)フェノール] 2,2’−メチレンビス[6−(5−ブロモ−2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシ
エチル)フェノール] 2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4−(3−ヒドロキシプロピル)フ
ェノール] 2,2’−メチレンビス[6−(5−クロロ−2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル)−4−(3−ヒドロキシ
プロピル)フェノール] 2,2’−メチレンビス[6−(5−ブロモ−2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル)−4−(3−ヒドロキシ
プロピル)フェノール] 2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシプロピル)フ
ェノール] 2,2’−メチレンビス[6−(5−クロロ−2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシ
プロピル)フェノール] 2,2’−メチレンビス[6−(5−ブロモ−2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシ
プロピル)フェノール] 2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4−(4−ヒドロキシブチル)フェ
ノール] 2,2’−メチレンビス[6−(5−クロロ−2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル)−4−(4−ヒドロキシ
ブチル)フェノール] 2,2’−メチレンビス[6−(5−ブロモ−2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル)−4−(4−ヒドロキシ
ブチル)フェノール] 3,3−{2,2’−ビス[6−(2H−ベンゾトリア
ゾール−2−イル)−1−ヒドロキシ−4−(2−ヒド
ロキシエチル)フェニル]}プロパン 2,2−{2,2’−ビス[6−(2H−ベンゾトリア
ゾール−2−イル)−1−ヒドロキシ−4−(2−ヒド
ロキシエチル)フェニル]}ブタン 2,2’−ビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2
−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]
エーテル 2,2’−ビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2
−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]
アミン 2,2’−ビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2
−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]
スルフィド 2,2’−ビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2
−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]
スルホキシド 2,2’−ビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2
−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]
スルホン。
【0027】上記一般式(1)で表される本発明のビス
ベンゾトリアゾリルフェノール化合物は、種々の方法に
より製造され得るが、好ましい一例を示すと、例えば、
一般式
【0028】
【化3】
【0029】[式中R1及びR2は上記に同じ。]で表さ
れるベンゾトリアゾリルフェノール化合物を、溶媒中で
アミン化合物及びホルムアルデヒド類と反応させて、一
般式
【0030】
【化4】
【0031】[式中R1及びR2は上記に同じ。R5及び
6は同一又は異なって、水素原子又は炭素数が1〜8
のアルキル基を示す。或いは、R5及びR6は互いに結合
していてもよい。]で表されるマンニッヒベース化合物
とし、更にこのマンニッヒベース化合物と上記一般式
(2)のベンゾトリアゾリルフェノール化合物とを反応
させることにより製造できる。
【0032】出発原料として用いられる一般式(2)で
表されるベンゾトリアゾリルフェノール化合物は、公知
の化合物であり、例えば、特公平6ー53733号公報
記載の方法に従い製造できる。即ち、o−ニトロアニリ
ン化合物と亜硝酸ナトリウムを反応させて調製した一般
【0033】
【化5】
【0034】[式中R1は上記に同じ。]で表されるジ
アゾニウム塩と一般式
【0035】
【化6】
【0036】[式中R2は上記に同じ。]で表されるフ
ェノールとを塩基性条件下でアゾカップリングさせて、
一般式
【0037】
【化7】
【0038】[式中R1及びR2は上記に同じ。]で表さ
れる2−[(2−ニトロフェニル)アゾ]フェノール化
合物を得、引き続きこの化合物を塩基性条件下で還元す
ることにより、一般式(2)で表されるベンゾトリアゾ
リルフェノール化合物が容易に製造できる。
【0039】一般式(2)のベンゾトリアゾリルフェノ
ール化合物を、溶媒中でアミン化合物及びホルムアルデ
ヒド類と反応させて、一般式(3)のマンニッヒベース
化合物を得る反応につき、以下に説明する。
【0040】一般式(3)のマンニッヒベース化合物
は、一般式(2)のベンゾトリアゾリルフェノール化合
物を溶媒中でそれぞれ1.0〜3.0当量のアミン化合
物及びホルムアルデヒド類の存在下で1〜30時間反応
させることにより製造される。
【0041】ここでアミン化合物としては、特に限定が
なく、従来公知のものを広く使用できる。具体的には、
モノメチルアミン、モノエチルアミン、モノプロピルア
ミン、モノブチルアミン、モノアミルアミン、モノヘキ
シルアミン等の第一級アミン、及びジメチルアミン、ジ
エチルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ジイソプロピ
ルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジ−t−ブチルアミ
ン、ジイソブチルアミン、ジアミルアミン、ジヘキシル
アミン、エチルメチルアミン、メチルイソプロピルアミ
ン、エチルイソプロピルアミン等の第二級アミン、更に
はモルホリン、ピペリジン、ピロリジン誘導体等の環状
アミンが好ましく用いられる。
【0042】また、ホルムアルデヒド類としては、特に
限定がなく、従来公知のものを広く使用できる。具体的
には、ホルムアルデヒド及びその水溶液、パラホルムア
ルデヒド等の直鎖状オリゴマーあるいはトリオキサン、
テトラオキシメチレン等の環状オリゴマー等が好ましく
使用できる。
【0043】溶媒としては、反応に影響を与えない公知
のものをいずれも使用でき、例えば、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、n−プロパノール、n−ブ
タノール、イソブタノール、tert−ブタノール等の
低級アルコール類、石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン
等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジブチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル
類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステ
ル類が挙げられる。これらは単独で使用するか、もしく
は目的に応じて2種類以上混合して使用することができ
る。溶媒の使用量は特に制限されるものではなく、撹拌
の容易さ、反応温度、基質の溶解度に応じて広い範囲内
から適宜選定できるが、通常一般式(2)のベンゾトリ
アゾリルフェノール化合物に対して50〜500重量%
が好ましい。
【0044】反応温度は20〜200℃、好ましくは3
0〜150℃の範囲で溶媒の種類に応じて適宜選択され
る。
【0045】本発明の一般式(1)で表されるビスベン
ゾトリアゾリルフェノール化合物は、上記で得られる一
般式(3)のマンニッヒベース化合物と、これとほぼ当
モル量の上記一般式(2)のベンゾトリアゾリルフェノ
ール化合物とを、アルカリ触媒の存在下、溶媒中で1〜
100時間反応させることにより製造できる。
【0046】ここで使用されるアルカリ触媒としては、
ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリ
ウム−n−プロポキシド、ナトリウムイソプロポキシド
等のアルカリ金属アルコキシド、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機
塩基等が好ましく、これらは1種もしくは2種以上混合
して使用してもよい。斯かるアルカリ触媒の使用量は特
に限定されるものではないが、一般式(3)のマンニッ
ヒベース化合物に対して0.01〜10重量%用いるの
が好ましい。
【0047】溶媒としては特に制限されず、反応に影響
を与えない公知のものを使用でき、例えば、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、n−プロパノー
ル、n−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタ
ノール等の低級アルコール類、石油エーテル、ヘキサ
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル等のエステル類を挙げることができる。これらは単
独で使用するか又は目的に応じて2種類以上混合して使
用してもよい。溶媒の使用量は特に制限されるものでは
なく、撹拌の容易さ、反応温度、基質の溶解度に応じて
選定できるが、通常一般式(3)のマンニッヒベース化
合物に対して50〜500重量%が好ましい。
【0048】反応温度は20〜200℃、好ましくは3
0〜150℃の範囲で溶媒の種類に応じて適時選択され
る。
【0049】上記一般式(1)で表される本発明のビス
ベンゾトリアゾリルフェノール化合物は、紫外線吸収性
能が良好であり、蒸気圧が極めて低く、且つ熱安定性が
高いことから、とりわけ高温で成形することが求められ
るエンジニアリングプラスチックスを含めて様々な樹脂
に対して紫外線吸収剤として極めて有効である。エンジ
ニアリングプラスチックとしては特に制限されず、公知
のものを使用できるが、例えば、ポリプロピレン、環状
ポリオレフィン、ポリスチレン、ABS樹脂、スチレン
マレイミド樹脂、ポリフェニレンエーテル、変性ポリフ
ェニレンエーテル、ポリカーボネート、ポリアセター
ル、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエ
ステル、液晶ポリマー、非晶性エンジニアリングプラス
チック、ポリイミド、ポリケトン、ポリウレタン等を挙
げることができる。これらの中でも特に重縮合性ポリマ
ー、例えばポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレ
タン等に対して好ましく使用できる。
【0050】本発明のビスベンゾトリアゾリルフェノー
ル化合物を上記樹脂に配合する場合、該化合物と樹脂と
の合計量に対して通常0.01〜30重量%、好ましく
は0.1〜20重量%の範囲となるように該化合物を樹
脂に含有させるのがよい。含有量が0.01重量%未満
の場合は樹脂の耐候性が不十分となる恐れがあり、また
30重量%を越える場合は樹脂の機械的物性を損なう恐
れがある。
【0051】また、本発明のビスベンゾトリアゾリルフ
ェノール化合物が上記樹脂に配合されてなる紫外線吸収
剤には、必要に応じて他の添加剤、例えば光安定剤、酸
化防止剤、可塑剤、難燃剤、帯電防止剤、フィラー、顔
料、着色剤等を更に配合することができる。
【0052】本発明のビスベンゾトリアゾリルフェノー
ル化合物は、樹脂(ポリマー)の製造工程の任意の段階
でポリマーに含有させることができ、また常法に従いポ
リマーの成形前または成形中に含有させることもでき
る。
【0053】本発明のビスベンゾトリアゾリルフェノー
ル化合物は、それを必要とするポリマー中に単に溶解し
て含有させることができるが、該化合物をこれと共重合
可能なコモノマーと共重合させて炭酸エステル結合、エ
ステル結合、エーテル結合、ウレタン結合等々の化学結
合を形成することにより、ポリマーの主鎖中又は側鎖中
に導入することが好ましい。但しポリマーの主鎖に入る
のは、上記一般式(1)においてR2及びR4が共に炭素
数1〜12の直鎖状もしくは分岐鎖状のヒドロキシアル
キル基である場合に限られる。斯くして、本発明のビス
ベンゾトリアゾリルフェノール化合物が共重合成分とし
て構成されてなる、溶出や蒸散によって紫外線吸収能を
失うことがない高度な耐光性を有するコポリマーを任意
の分子量で得ることができる。
【0054】本発明のビスベンゾトリアゾリルフェノー
ル化合物が共重合成分として含まれるコポリマーとして
はこれが共重合成分として含まれるコポリマーであれば
特に限定されないが、中でもコーポリカーボネート、コ
ーポリエステル、コーポリウレタン又はコーポリウレタ
ンウレアが重要である。
【0055】本発明におけるコーポリカーボネート、コ
ーポリエスエル、コーポリウレタン及びコーポリウレタ
ンウレアは、一般式(1)のビスベンゾトリアゾリルフ
ェノール化合物が共重合成分としてポリマー主鎖中に導
入されている以外は従来のポリカーボネート、ポリエス
テル、ポリウレタン又はポリウレタンウレアと同様であ
り、またそれらのポリマーの製造方法も従来のポリカー
ボネート、ポリエステル、ポリウレタン又はポリウレタ
ンウレアの製法に準じるものである。
【0056】例えば、本発明のコーポリカーボネート
は、以下に示す方法、例えば界面重合法、ピリジンを用
いる方法等で製造される。
【0057】即ち、界面重合法では、反応に不活性な有
機溶媒及びアルカリ水溶液の二相系において、適宣分子
量調節剤乃至末端停止剤の存在下、一般式(1)で表さ
れるビスベンゾトリアゾリルフェノール化合物及び二価
フェノール系化合物をホスゲンと反応させた後、第三級
アミンもしくは第四級アミン等の重合触媒を添加して共
重合を行い、目的とするコーポリカーボネートを製造す
ることができる。この方法においては一般式(1)のビ
スベンゾトリアゾリルフェノール化合物をホスゲンと反
応させてジクロロホルメートとした後、二価フェノール
系化合物を添加して重合反応を行う方法、また逆に、先
に二価フェノール系化合物のジクロロホルメートを調製
した後に一般式(1)のビスベンゾトリアゾリルフェノ
ール化合物を添加して共重合を行う方法等も適宣使用で
きる。
【0058】また、ピリジン法では、一般式(1)のビ
スベンゾトリアゾリルフェノール化合物、二価フェノー
ル系化合物及び適宣分子量調節剤乃至末端停止剤をピリ
ジンもしくはピリジンと反応に不活性な有機溶媒との混
合溶媒に溶解し、ホスゲンを吹き込んで直接コーポリカ
ーボネートを得ることができる。
【0059】コーポリカーボネートの製造の際に用いら
れる二価フェノール系化合物としては、従来公知のもの
を広く使用でき、例えばビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテ
ル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス
(4−ヒドロキシフェニル)スルホキシド、ビス(4−
ヒドロキシフェニル)スルヒド、ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)ケトン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
シクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,
5−ジブロモフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)プロパン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−ブロモフェニル)
プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−クロロ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)プロパン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン等が
挙げられる。これらは一種類あるいは二種以上の混合物
を共重合成分として使用してもよい。
【0060】重合触媒としては、従来公知のものを広く
使用でき、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、トリプロピルアミン、トリヘキ
シルアミン、トリデシルアミン、N,N−ジメチルシク
ロヘキシルアミン、ピリジン、キノリン、ジメチルアニ
リン等の第三級アミン類、トリメチルベンジルアンモニ
ウムクロリド、テトラメチルアンモニウムクロリド、ト
リエチルベンジルアンモニウムクロリド等の第四級アン
モニウム塩等が挙げられる。
【0061】また、反応溶媒としては反応に不活性なも
のが好ましく、例えばジクロロメタン、クロロホルム、
1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロ
ロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、四塩化炭
素、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲ
ン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチ
ルベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、
ジブチルエーテル等のエーテル類等が挙げられ、これら
の有機溶媒は単独でもしくは二種類以上を混合して使用
することができる。また、所望により前記以外のケトン
類、エステル類又はニトリル類等の水と親和性のある溶
媒を他の溶媒と混合して、混合溶媒が水と完全に相溶し
ない限度内で使用してもよい。
【0062】分子量調節剤乃至末端停止剤としては、通
常は一価のフェノール性水酸基を有する化合物、例えば
フェノール、p−第三ブチルフェノール、トリブロモフ
ェノール、長鎖アルキルフェノール等であり、その使用
量は全ての縮重合モノマー(ビスベンゾトリアゾリルフ
ェノール化合物、二価フェノール系化合物及びホスゲ
ン)に対して0.5〜50モル%、好ましくは1〜30
モル%である。また、これらは単独で使用しても二種類
以上併用してもよい。
【0063】コーポリカーボネートの製造に使用する一
般式(1)のビスベンゾトリアゾリルフェノール化合物
の使用量は、コモノマー(二価フェノール系化合物)に
対して0.01〜99.9重量%、好ましくは0.1〜
70重量%であり、一種類もしくは二種以上のコモノマ
ーの混合物を使用してもよい。
【0064】本発明のコーポリカーボネート樹脂は上記
の各成分を必須として製造するものであるが、分岐化剤
を縮重合モノマーに対して0.01〜3モル%、好まし
くは0.1〜1.0モル%の範囲で併用して分岐化コー
ポリカーボネートとすることもできる。
【0065】分岐化剤としては、フロログリシン、2,
6−ジメチル−2,4,6−トリ(4−ヒドロキシフェ
ニル)−2−ヘプテン、2,6−ジメチル−2,4,6
−トリ(4−ヒドロキシフェニル)−3−ヘプテン、
1,3,5−トリ(2−ヒドロキシフェニル)エタン、
2,6−ビス(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾール、
1,1,1−トリ(4−ヒドロキシフェニル)エタン、
2,6−ビス(2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)
−4−メチルフェノール等のポリヒドロキシ化合物及び
3,3−ビス(4−ヒドロキシアリール)オキシインド
ール、5−クロロイサチン、5,7−ジクロロイサチ
ン、5−ブロモイサチン等のイサチン類等を例示でき
る。
【0066】本発明のコーポリエステルは、例えば以下
に示す方法で製造される。
【0067】即ち、ジオール及び一般式(1)のビスベ
ンゾトリアゾリルフェノール化合物の混合物をジカルボ
ン酸の低級アルキルエステルとのエステル交換反応を行
い、更にこれに続いて重縮合反応を行い、目的とするコ
ーポリエステルを得る方法、あるいは一般式(1)のビ
スベンゾトリアゾリルフェノール化合物及びジオールと
ジカルボン酸との脱水縮合による重縮合反応を行い、コ
ーポリエステルを得る方法等により、コーポリエステル
が製造される。
【0068】コーポリエステルの製造に使用される一般
式(1)のビスベンゾトリアゾリルフェノール化合物の
使用量は、コモノマー(ジオール及びジカルボン酸)に
対して0.01〜50モル%、好ましくは0.1〜30
モル%である。配合量が0.01モル%以下の場合は得
られるコーポリエステルに充分な耐候性を与えることが
困難になり、70モル%を越えた場合は得られるコーポ
リエステルの物性を低下させる恐れがある。また、コモ
ノマーとして一種類もしくは二種以上の混合物を使用し
てもよい。
【0069】ジオールとしては、従来公知のものを広く
使用でき、例えばエチレングリコール、プロピレングリ
コール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレング
リコール、ノナメチレングリコール、シクロヘキサンジ
メタノール、ジエチレングリコール等が挙げられる。こ
れらは一種類もしくは二種以上の混合物で使用してもよ
い。更には、三価以上の多官能化合物、例えばグリセリ
ン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスルトール、
トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸等が溶
融成形が可能な範囲でコモノマーとして含まれていても
よい。
【0070】また、ジカルボン酸としては、従来公知の
ものを広く使用でき、例えばテレフタル酸、イソフタル
酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカル
ボン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂
肪族ジカルボン酸が挙げられる。ジカルボン酸の使用量
は特に限定されるものではないが、モノマー全量に対し
て50モル%以上であることが好ましく、これらは一種
類もしくは二種以上の混合物で使用してもよい。
【0071】本発明におけるコーポリウレタンは、例え
ば以下に示す方法で製造される。
【0072】即ち、ジイソシアネートとグリコール及び
一般式(1)のビスベンゾトリアゾリルフェノール化合
物との重付加反応により目的とするコーポリウレタンを
製造する方法、脱塩化水素剤存在下で一般式(1)のビ
スベンゾトリアゾリルフェノール化合物のビスクロロギ
酸エステル及びグリコールのビスクロロギ酸エステルと
ジアミンとの反応によるコーポリウレタンを製造する方
法、あるいはビスカルバミン酸エステルとグリコール及
び一般式(1)のビスベンゾトリアゾリルフェノール化
合物とのエステル交換反応により製造する方法等が挙げ
られるが、特に工業的にはジイソシアネートを用いる方
法が好ましい。
【0073】コーポリウレタンの製造に使用される一般
式(1)のビスベンゾトリアゾリルフェノール化合物の
使用量は、コポリマー(ビスベンゾトリアゾリルフェノ
ール化合物、ジイソシアネート及びグリコールからなる
コーポリウレタン)に対して0.1〜50モル%、好ま
しくは1〜30モル%である。配合量が0.1モル%以
下の場合は得られるコーポリウレタンに充分な耐候性を
与えることが困難になり、50モル%を越えた場合は得
られるコーポリウレタンの物性を低下させる恐れがあ
る。また、これらは一種類もしくは二種以上の混合物で
使用してもよい。
【0074】ジイソシアネートは、従来公知のものを広
く使用でき、例えばプロピレンジイソシアネート、テト
ラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、ナノメチレンジイソシアネート、シクロヘキ
サンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、
1,4−フェニレンジイソシアネート、1,3−フェニ
レンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネ
ート、2,4−トリレンジイソシアネート等の芳香族ジ
イソシアネート等が挙げられる。ジイソシアネートの使
用量は特に限定されるものではないが、モノマー全量に
対して50モル%以上であることが好ましく、これらは
一種類もしくは二種以上の混合物で使用してもよい。
【0075】グリコールとしては、従来公知のものを広
く使用でき、例えばエチレングリコール、プロピレング
リコール、テトラメチレングリコール、ヘプタメチレン
グリコール、ヘキサメチレングリコール、オクタメチレ
ンジオール、ノナメチレングリコール、シクロヘキサン
ジメタノール、ジエチレングリコール等が挙げられ、こ
れらは一種類もしくは二種以上の混合物で使用してもよ
い。
【0076】また、グリコールとのエステル交換反応に
用いるビスカルバミン酸エステルとしてはプロピレンビ
スカルバミン酸エチル、テトラメチレンビスカルバミン
酸エチル、ヘキサメチレンビスカルバミン酸エチル、ナ
ノメチレンジビスカルバミン酸エチル、シクロヘキサン
ジビスカルバミン酸エチル、プロピレンビスカルバミン
酸n−プロピル、テトラメチレンビスカルバミン酸n−
プロピル、ヘキサメチレンビスカルバミン酸n−プロピ
ル、プロピレンビスカルバミン酸n−ブチル、テトラメ
チレンビスカルバミン酸n−ブチル、ヘキサメチレンビ
スカルバミン酸n−ブチル等の脂肪族ビスカルバミン酸
エステル、1,4−フェニレンビスカルバミン酸エチ
ル、1,3−フェニレンビスカルバミン酸エチル、2,
6−トリレンビスカルバミン酸エチル、2,4−トリレ
ンビスカルバミン酸エチル、1,4−フェニレンビスカ
ルバミン酸n−プロピル、1,3−フェニレンビスカル
バミン酸n−プロピル、2,6−トリレンビスカルバミ
ン酸n−プロピル、2,4−トリレンビスカルバミン酸
n−プロピル、1,4−フェニレンビスカルバミン酸n
−ブチル、1,3−フェニレンビスカルバミン酸n−ブ
チル、2,6−トリレンビスカルバミン酸n−ブチル、
2,4−トリレンビスカルバミン酸 n−ブチル等の芳
香族ビスカルバミン酸エステル等が挙げられる。ビスカ
ルバミン酸エステルの使用量は特に限定されるものでは
ないが、モノマー全量に対して50モル%以上であるこ
とが好ましく、これらは一種類もしくは二種以上の混合
物で使用してもよい。
【0077】尚、一般式(1)のビスベンゾトリアゾリ
ルフェノール化合物が主鎖又は側鎖中に化学結合で導入
されてなる紫外線吸収性コポリマーは、これを単独で使
用してもよいし、これを不揮発性の紫外線吸収剤として
樹脂組成物の製造の際に配合して使用してもよい。一般
式(1)のビスベンゾトリアゾリルフェノール化合物ユ
ニットが主鎖又は側鎖中に化学結合で導入されている紫
外線吸収性コポリマーをこれと相溶性のあるポリマーで
希釈して使用する場合、一般式(1)のビスベンゾトリ
アゾリルフェノール化合物ユニットは、通常希釈後のポ
リマー組成中における該ユニットの含有量が0.01〜
30重量%の範囲で使用するのが好ましい。
【0078】また本発明のコポリマー及びコポリマーが
配合された組成物には、更に必要に応じて他の添加剤、
例えば光安定剤、酸化防止剤、難燃剤、帯電防止剤、可
塑剤、フィラー、顔料及び着色剤等を配合することがで
きる。
【0079】本発明のコポリマー及びコポリマーが配合
された組成物は、優れた紫外線吸収能を有するので高度
の耐候性が求められる用途において特に性能を発揮す
る。
【0080】本発明のコポリマー及びコポリマーが配合
された組成物は通常のポリマーと同様に成形が可能であ
り、公知の成形方法、例えば射出成形、押し出し成形、
ブロー成形、二軸遠心ブロー成形、プレス成形、溶融紡
糸等で成形できるし、適当な溶媒や水系に溶解もしくは
分散させて塗料として使用することもできる。
【0081】本発明のコポリマー及びコポリマーが配合
された組成物から得られる成形体は、高度の耐候性を有
するので紫外線や太陽光に直接晒される使用場面、例え
ば建材、カーポート、防音壁、農工業用フィルムやシー
ト、耐候性塗料、耐候性繊維等において特に性能を発揮
する。
【0082】本発明のコポリマー及びコポリマーが配合
された組成物から得られる包装材、容器コーティング材
等の成形物は紫外線吸収能に優れており、紫外線を遮断
することにより内容物を保護することが求められる用途
に、好適に使用することができる。
【0083】
【実施例】以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明
する。以下の実施例において、単に「部」とあるのは
「重量部」を意味する。
【0084】実施例1 o−ニトロアニリン15.4g(110ミリモル)を濃
塩酸42ml中に加え、70℃で約30分撹拌した後氷
浴を用いて0℃まで冷却した。次に予め亜硝酸ナトリウ
ム7.9g(110ミリモル)を水28mlに溶解して
調製しておいた水溶液を約1時間で滴下した。この時混
合物の温度は5℃以下に保った。更に5℃以下で1時間
撹拌しo−ニトロアニリンのジアゾニウム塩を調製し
た。
【0085】実施例2 4−クロロ−2−ニトロアニリン19.2g(110ミ
リモル)を濃塩酸42ml中に加え、70℃で約30分
撹拌した後氷浴を用いて0℃まで冷却した。次に予め亜
硝酸ナトリウム7.9g(110ミリモル)を水28m
lに溶解して調製しておいた水溶液を約1時間で滴下し
た。この時混合物の温度は5℃以下に保った。更に5℃
以下で1時間撹拌し4−クロロ−2−ニトロアニリンの
ジアゾニウム塩を調製した。
【0086】実施例3 p−ヒドロキシフェネチルアルコール13.8g(10
0ミリモル)、水酸化ナトリウム4.0g(100ミリ
モル)及び炭酸ナトリウム30g(0.36ミリモル)
を150ml水に溶解し、実施例1で調製したo−ニト
ロアニリンのジアゾニウム塩塩酸溶液を約1時間で滴下
した。この時、混合物の温度は約15℃に保った。滴下
後、室温で12時間撹拌した後析出した結晶を濾別し減
圧乾燥すると4−(2−ヒドロキシエチル)−2−
[(2−ニトロフェニル)アゾ]フェノールが赤色結晶
として27.6g得られた(収率94%、純度97
%)。
【0087】1H−NMR(CDCl3):δ=2.92
(t,2H,CH2)、3.92(t,2H,CH2
H)、7.03(d,1H,Ar−H)、7.30(d
d,1H,Ar−H)、7.60(t,1H,Ar−
H)、7.74(t,1H,Ar−H)、7.84
(s,1H,Ar−H)、7.96(d,1H,Ar−
H)、8.10(d,1H,Ar−H)、12.22
(s,1H,Ar−OH)。
【0088】実施例4 p−ヒドロキシフェネチルアルコール 13.8g(1
00ミリモル)、水酸化ナトリウム4.0g(100ミ
リモル)及び炭酸ナトリウム 30g(0.36ミリモ
ル)を150ml水に溶解し、実施例2で調製した4−
クロロ−2−ニトロアニリンのジアゾニウム塩塩酸溶液
を約1時間で滴下した。以下実施例3と同様の操作を行
うと4−(2−ヒドロキシエチル)−2−[(4−クロ
ロ−2−ニトロフェニル)アゾ]フェノールが赤色結晶
として23.7g得られた(収率72% 、純度 98
%)。
【0089】1H−NMR(CDCl3):δ=2.92
(t,2H,CH2)、3.92(t,2H,CH2
H)、7.03(d,1H,Ar−H)、7.30(d
d,1H,Ar−H)、7.70(d,1H,Ar−
H)、7.82(s,1H,Ar−H)、7.96
(d,1H,Ar−H)、8.08(s,1H,Ar−
H)、12.14(s,1H,Ar−OH)。
【0090】実施例5 4−(3−ヒドロキシプロピル)フェノール 15.2
g(100ミリモル)、水酸化ナトリウム4.0 g
(100ミリモル)及び炭酸ナトリウム30g(0.3
6ミリモル)を150ml水に溶解し、実施例1で調製
したo−ニトロアニリンのジアゾニウム塩塩酸溶液を約
1時間で滴下した。以下実施例3と同様の操作を行うと
4−(3−ヒドロキシプロピル)−2−[(2−ニトロ
フェニル)アゾ]フェノールが赤色結晶として29.1
g得られた(収率 91%、純度94%)。
【0091】1H−NMR(CDCl3):δ=1.89
(q,2H,Ar−CH2−)、2.65(t,2H,
CH2)、3.70(t,2H,CH2OH)、7.03
(d,1H,Ar−H)、7.30(dd,1H,Ar
−H)、7.60(t,1H,Ar−H)、7.74
(t,1H,Ar−H)、7.84(s,1H,Ar−
H)、7.96(d,1H,Ar−H)、8.10
(d,1H,Ar−H)、12.22(s,1H,Ar
−OH)。
【0092】実施例6 実施例3で合成した粗4−(2−ヒドロキシエチル)−
2−[(2−ニトロフェニル)アゾ]フェノール5.3
9g(18ミリモル)を2N−水酸化ナトリウム水溶液
18mlに溶解した。次に予め調製しておいた25%−
水酸化ナトリウム水溶液9mlと亜鉛粉末5.4g(8
3ミリモル)を同時に約3時間で加えた。反応混合物を
70℃に昇温した後、約2時間撹拌した。次に反応混合
物を室温まで冷却した後、無機物を濾別した。ここで得
られた母液を濃塩酸を用いて酸性化した。この時析出し
た結晶を濾別した後トルエン中で再結晶すると2−(2
H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒド
ロキシエチル)フェノールが3.70g淡黄色結晶とし
て得られた(収率70% 、純度87%)。
【0093】1H−NMR(CDCl3):δ=2.92
(t,2H,CH2)、3.93(t,2H,CH2
H)、7.15(d,1H,Ar−H)、7.23(d
d,1H,Ar−H)、7.49(m,2H,Ar−
H)、7.94(m,2H,Ar−H)、 8.28
(s,1H,Ar−H)、11.22(s,1H,Ar
−OH)。
【0094】実施例7 実施例4で合成した粗4−(2−ヒドロキシエチル)−
2−[(4−クロロ−2−ニトロフェニル)アゾ]フェ
ノール5.91g(18ミリモル)を2N−水酸化ナト
リウム水溶液18mlに溶解した。次に予め調製してお
いた25%−水酸化ナトリウム水溶液9mlと亜鉛粉末
5.4g(83ミリモル)を同時に約3時間で加えた。
以下実施例6と同様の操作を行うと2−(5−クロロ−
2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒ
ドロキシエチル)フェノールが4.02g淡黄色結晶と
して得られた(収率68%、純度88%)。
【0095】1H−NMR(CDCl3):δ=2.85
(t,2H,CH2)、3.85(t,2H,CH2
H)、7.05(d,1H,Ar−H)、7.10(d
d,1H,Ar−H)、7.37(d,1H,Ar−
H)、7.82(d,1H,Ar−H)、7.84
(s,1H,Ar−H)、8.16(s,1H,Ar−
H)、10.82(s,1H,Ar−OH)。
【0096】実施例8 実施例5で合成した粗4−(3−ヒドロキシプロピル)
−2−[(2−ニトロフェニル)アゾ]フェノール5.
60g(18ミリモル)を2N−水酸化ナトリウム水溶
液18mlに溶解した。次に予め調製しておいた25%
−水酸化ナトリウム水溶液9mlと亜鉛粉末5.4g
(83ミリモル)を同時に約3時間で加えた。以下実施
例6と同様の操作を行うと2−(2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4−(3−ヒドロキシプロピル)フ
ェノールが3.92g淡黄色結晶として得られた(収率
72% 、純度89%)。
【0097】1H−NMR(CDCl3):δ=1.89
(q,2H,Ar−CH2−)、2.67(t,2H,
CH2)、3.78(t,2H,CH2OH)、7.15
(d,1H,Ar−H)、7.23(dd,1H,Ar
−H)、7.49(m,2H,Ar−H)、7.94
(m,2H,Ar−H)、8.28(s,1H,Ar−
H)、11.22(s,1H,Ar−OH)。
【0098】実施例9 実施例6で合成した2−(2H−ベンゾトリアゾール−
2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール
の精製品25.5g(0.1モル)、80%−パラフォ
ルムアルデヒド5.2g及びジエチルアミン11.0g
(0.15モル)をn−ブタノール25mlに溶解し、
105℃で24時間加熱環流した。反応終了後、減圧下
で溶媒及び残存原料を回収すると目的物である2−(2
H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒド
ロキシエチル)−6−(N,N−ジエチルアミノメチ
ル)フェノールが34.7g褐色オイルとして得られた
(収率 98.9%、純度 96.9%)。
【0099】1H−NMR(CDCl3):δ=1.10
(t,6H,CH3)、2.66(q,4H,N−C
2)、2.85(t,2H,CH2)、3.87(t,
2H,CH2OH)、7.04(s,1H,Ar−
H)、7.42(dd,2H,Ar−H)、7.62
(s,1H,Ar−H)、7.97(dd,2H,Ar
−H)。
【0100】実施例10 実施例7で合成した2−(5−クロロ−2H−ベンゾト
リアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチ
ル)フェノールの精製品29.0g(0.1モル)、8
0%パラフォルムアルデヒド5.2g及びジエチルアミ
ン11.0g(0.15モル)をn−ブタノール25m
lに溶解し、105℃で24時間加熱環流した。反応終
了後、減圧下で溶媒及び残存原料を回収すると目的物で
ある2−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2
−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)−6−(N,
N−ジエチルアミノメチル)フェノールが37.0 g
褐色オイルとして得られた(収率 93.9%、純度 9
5.0%)。
【0101】1H−NMR(CDCl3):δ=1.10
(t,6H,CH3)、2.66(q,4H,N−C
2)、2.85(t,2H,CH2)、3.87(t,
2H,CH2OH)、7.O4(s,1H,Ar−H)、
7.37(d,1H,Ar−H)、7.62(s,1
H,Ar−H)、7.82(d,1H,Ar−H)、
7.84(s,1H,Ar−H)。
【0102】実施例11 実施例8で合成した2−(2H−ベンゾトリアゾール−
2−イル)−4−(3−ヒドロキシプロピル)フェノー
ルの精製品26.9g(0.1モル)、80%パラフォ
ルムアルデヒド5.2g及びジエチルアミン11.0g
(0.15モル)をn−ブタノール25mlに溶解し、
105℃で24時間加熱環流した。反応終了後、減圧下
で溶媒及び残存原料を回収すると目的物である2−(2
H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(3−ヒド
ロキシプロピル)−6−(N,N−ジエチルアミノメチ
ル)フェノールが35.9 g褐色オイルとして得られ
た(収率 97.0%、純度 95.6%)。
【0103】1H−NMR(CDCl3):δ=1.10
(t,6H,CH3)、1.89(q,2H,Ar−C
2−)、2.66(q,4H,N−CH2)、2.70
(t,2H,CH2)、3.81(t,2H,CH2
H)、7.04(s,1H, Ar−H)、7.42
(dd,2H,Ar−H)、7.62(s,1H,Ar
H)、7.97(dd,2H,Ar−H)。
【0104】実施例12 実施例9で合成した粗2−(2H−ベンゾトリアゾール
−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)−6−
(N,N−ジエチルアミノメチル)フェノール34.7
g及び実施例6で合成した2−(2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェ
ノールの精製品25.5 g(0.1 モル)をキシレン
100mlに溶解し、28%ナトリウムメチラート・メ
タノール溶液5mlを加えた後、窒素気流下、10時間
環流した。反応終了後、反応混合物を室温まで冷却し
た。この時析出した黄色結晶を濾別した後、クロロホル
ム中で再結晶すると2,2’−メチレンビス[6−(2
H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒド
ロキシエチル)フェノール]が白色結晶として28.5
g得られた(収率 54%、純度 98.9%)。
【0105】1H−NMR(CDCl3):δ=2.89
(t,4H,CH2,)、3.89(t,4H,CH2
H)、4.28(s,2H,CH2)、7.26(s,
2H,Ar−H)、7.47(dd,4H,Ar−
H)、7.92(dd,4H,Ar−H)、8.18
(s,2H,Ar−H)、11.59(s,2H,Ar
−OH)。
【0106】実施例13 実施例10で合成した粗2−(5−クロロ−2H−ベン
ゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエ
チル)−6−(N,N−ジエチルアミノメチル)フェノ
ール37.0g(93.9 ミリモル)及び実施例7で
合成した2−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール
−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノー
ルの精製品27.2g(93.9ミリモル)をキシレン
100mlに溶解し、28%ナトリウムメチラート・メ
タノール溶液5mlを加えた後、窒素気流下、10時間
環流した。以下、実施例12と同様の操作を行うと2,
2’−メチレンビス[6−(5−クロロ−2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチ
ル)フェノール]が淡黄色結晶として30.8g得られ
た(収率 55.0%、純度99.0%)。
【0107】1H−NMR(CDCl3):δ=2.89
(t,4H,CH2)、3.89(t,4H,CH2
H)、4.28(s,2H,CH2)、7.26(s,
2H,Ar−H)、7.37(d,2H,Ar−H)、
7.82(d,2H,Ar−H)、7.84(s,2
H,Ar−H)、8.18(s,2H,Ar−H)、1
1.59(s,2H,Ar−OH)。
【0108】実施例14 実施例11で合成した粗2−(2H−ベンゾトリアゾー
ル−2−イル)−4−(3−ヒドロキシプロピル)−6
−(N,N−ジエチルアミノメチル)フェノール35.
9g(97.0ミリモル)及び実施例6で合成した2−
(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(3−
ヒドロキシプロピル)フェノールの精製品26.1g
(97.0ミリモル)をキシレン100mlに溶解し、
28%ナトリウムメチラート・メタノール溶液5mlを
加えた後、窒素気流下、10時間環流した。以下、実施
例12と同様の操作を行うと2,2’−メチレンビス
[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−
(3−ヒドロキシプロピル)フェノール]が白色結晶と
して33.0g得られた(収率61.2%、純度 9
9.0%)。
【0109】1H−NMR(CDCl3):δ=1.89
(q,2H,Ar−CH2−)、2.82(t,4H,
CH2)、3.81(t,4H,CH2OH)、4.28
(s,2H,CH2)、7.26(s,2H,Ar−
H)、7.47(dd,4H,Ar−H)、7.92
(dd,4H,Ar−H)、8.18(s,2H,Ar
−H)、11.59(s,2H,Ar−OH)。
【0110】実施例15 4−(4−ヒドロキシブチル)フェノール16.6 g
(100ミリモル)、水酸化ナトリウム4.0g(10
0ミリモル)及び炭酸ナトリウム30g(0.36ミリ
モル)を150ml水に溶解し、実施例1で調製したo
−ニトロアニリンのジアゾニウム塩の塩酸溶液を約1時
間で滴下した。以下実施例3と同様の操作を行うと4−
(4−ヒドロキシブチル)−2−[(2−ニトロフェニ
ル)アゾ]フェノールが赤色結晶として30.2g得ら
れた(収率90%、純度94%)。
【0111】1H−NMR(CDCl3):δ=1.55
(m,4H,CH2)、2.52(t,2H, Ar−C
2)、3.02(t,2H,CH2OH)、7.03
(d,1H,Ar−H)、 7.31(dd,1H,A
r−H)、7.63(t,1H,Ar−H)、7.75
(t,1H,Ar−H)、7.82(s,1H,Ar−
H)、7.96(d,1H,Ar−H)、8.10
(d,1H,Ar−H)、12.22(s,1H,Ar
−OH)。
【0112】実施例16 実施例15で合成した粗4−(4−ヒドロキシブチル)
−2−[(2−ニトロフェニル)アゾ]フェノール6.
03g(18ミリモル)を2N−水酸化ナトリウム水溶
液18mlに溶解した。次に予め調製しておいた25%
−水酸化ナトリウム水溶液9mlと亜鉛粉末5.4g
(83ミリモル)を同時に約3時間で加えた。以下実施
例6と同様の操作を行うと2−(2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4−(4−ヒドロキシブチル)フェ
ノールが淡黄色結晶として4.41g得られた(収率7
8%、純度90%)。
【0113】1H−NMR(CDCl3):δ=1.55
(m,4H,CH2),2.52(t,2H, Ar−C
2)、3.02(t,2H,CH2OH)、7.15
(d,1H,Ar−H)、 7.23(dd,1H,A
r−H)、7.49(m,2H,Ar−H)、7.94
(m,2H,Ar−H)、8.28(s,1H,Ar−
H)、11.22(s,1H,Ar−OH)。
【0114】実施例17 実施例16で合成した2−(2H−ベンゾトリアゾール
−2−イル)−4−(4−ヒドロキシブチル)フェノー
ルの精製品28.3g(0.1モル)、80%−パラフ
ォルムアルデヒド5.2g及びジエチルアミン11.0
g(0.15モル)をn−ブタノール25mlに溶解
し、105℃で24時間加熱環流した。反応終了後、減
圧下で溶媒及び残存原料を回収すると目的物である2−
(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(4−
ヒドロキシブチル)−6−(N,N−ジエチルアミノメ
チル)フェノールが褐色オイルとして37.4g得られ
た(収率97.0%、純度95.6%)。
【0115】1H−NMR(CDCl3):δ=1.10
(t,6H,CH3),1.55(m,4H,CH2)、
2.66(q,4H,N−CH2)、2.52(t,2
H,Ar−CH2)、3.02(t,2H,CH2
H)、7.04(s,1H,Ar−H)、7.42(d
d,2H, Ar−H)、7.62(s,1H,Ar−
H)、7.97(dd,2H,Ar−H)。
【0116】実施例18 実施例17で合成した粗2−(2H−ベンゾトリアゾー
ル−2−イル)−4−(4−ヒドロキシブチル)−6−
(N,N−ジエチルアミノメチル)フェノール37.3
g(97.0 ミリモル)及び実施例16で合成した2
−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(4
−ヒドロキシブチル)フェノールの精製品26.1g
(97.0ミリモル)をキシレン100mlに溶解し、
28%−ナトリウムメチラート・メタノール溶液5ml
を加えた後、窒素気流下、10時間環流した。以下、実
施例12と同様の操作を行うと2,2'−メチレンビス
[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−
(4−ヒドロキシブチル)フェノール]が白色結晶とし
て37.0g得られた(収率65.3%、純度99.0
%)。
【0117】1H−NMR(CDCl3):δ=1.55
(m,8H,CH2)、2.52(t,2H, Ar−C
2)、3.02(t,4H,CH2OH)、4.28
(s,2H,CH2)、7.26(s,2H,Ar−
H)、7.47(dd,4H,Ar−H)、7.92
(dd,4H,Ar−H)、8.18(s,2H,Ar
−H)、11.59(s,2H,Ar−OH)。
【0118】実施例19 実施例12で合成した2,2’−メチレンビス[6−
(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−
ヒドロキシエチル)フェノール]0.154g(0.2
95ミリモル)及びビスフェノール−A1.72g
(7.16ミリモル)をピリジン60mlに溶解した。
これを窒素気流下、撹拌しながらトリホスゲン2.08
g(6.87ミリモル)を徐々に添加した。更に1時間
室温で撹拌した後、メタノール250mlを加えてポリ
マーを析出させた。次にポリマーを濾別した後、減圧乾
燥すると2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチ
ル)フェノール]を5.1重量%含有したポリカーボネ
ート(コーポリカーボネート)が白色ポリマーとして
2.23g得られた(収率85.3%)。
【0119】尚、ベンゾトリアゾール含量は、2,2’
−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2
−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]
とポリマーのUVスペクトルを測定した後、両者の吸光
係数の比により算出した。
【0120】試験例1 実施例19で合成したコーポリカーボネート105部を
1,1,2,2−テトラクロロエタン630部に溶解
し、この溶液をスピナーを用いて直径300mmの円形
石英板上にコートした。
【0121】得られた塗膜を1時間風乾後、60℃で1
2時間減圧乾燥して、円形石英板上に膜厚約1μmの均
一薄膜を調製した。次にこれをデューサイクルサンシャ
インウエザーメータWEL−SUN−DC(スガ試験機
(株)製、120分毎に18分間降雨)により1200
時間促進耐候性試験にかけた後、ポリカーボネート薄膜
の黄変度(△YI)を測定した(試験例1)。一方、紫
外線吸収剤を含まない市販ポリカーボネート樹脂(商品
名:E−2000、三菱瓦斯化学(株)製)100部を
1,1,2,2−テトラクロロエタン630部に溶解
し、下記に示す紫外線吸収剤Aを5部(比較A)、又は
紫外線吸収剤Bを5部(比較B)を配合して得た組成物
溶液を、試験例1と同様にして製膜と促進試験に供して
樹脂膜の黄変度(△YI)を測定した。配合処方(部=
重量部)及び樹脂膜の黄変度(△YI)の測定結果を表
1に併記した。紫外線吸収剤A又はBを配合した樹脂膜
は明らかに黄変したのに対し、実施例19で得たコーポ
リカーボネートは事実上黄変せず極めて高い耐候性示す
ことが判った。
【0122】
【化8】
【0123】
【表1】
【0124】実施例20 ジメチルテレフタレート100g(0.52モル)、エ
チレングリコール72g(1.16モル)及び酢酸マン
ガン・四水和物30mgを混合した後140℃まで昇温
し、更に撹拌しながら約3時間で240℃まで昇温して
約15gのメタノールを留去した。続いて亜リン酸10
mg、二酸化ゲルマニウム 50mg及び実施例12で
合成した2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチ
ル)フェノール]8.53g(1.6 ミリモル)を添
加し、280℃、0.5mmHgで約2時間重縮合して
目的とするコーポリエステルを148.3g淡褐色の固
体として得た。ポリエステルの極限粘度[η]は0.8
2であり、コーポリエステル中の紫外線吸収剤含量は
5.02重量%であった。尚、ベンゾトリアゾール含量
は、2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリ
アゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)
フェノール]とコーポリエステルのUVスペクトルを測
定した後、両者の吸光係数の比により算出した。
【0125】また、極限粘度はフェノールー1,1,
2,2−テトラクロロエタン混合溶媒(重量比1:1)
を用い、濃度10g/l、30℃で測定した。
【0126】試験例2 実施例20で合成したコーポリエステルを溶融して膜厚
約100μmのフィルムを成形し、これを試験例2のフ
ィルムとした。
【0127】一方紫外線吸収剤を含まない市販ポリエチ
レンテレフタレート樹脂(商品名:MA−2103、ユ
ニチカ(株)製)95部に下記に示す紫外線吸収剤C、
Dをそれぞれ5部ドライブレンドし、溶融して試験例2
と同様に膜厚約100μmのフィルムをそれぞれ得た
(比較C、D)。とりわけ紫外線吸収剤Cを含む組成物
は、溶融成形時に紫外線吸収剤Cが黄白色昇華物として
飛散した。次にこれらをデューサイクルサンシャインウ
エザーメータWEL−SUN−DC(スガ試験機(株)
製、120分毎に18分間降雨)により1200時間の
促進耐候性試験にかけた後、それぞれのポリエステル樹
脂の黄変度(△YI)を測定した。フィルム調製の仕込
み配合(部=重量部)及び促進試験後の黄変度を表2に
併記した。実施例20で得たコーポリエステルが極めて
優れた耐候性を有することが判った。
【0128】
【化9】
【0129】
【表2】
【0130】実施例21 4−メチルペンタン−2−オン40ml中にジフェニル
メタン−4,4’−ジイソシアネート25.02g
(0.1モル)を加え、窒素雰囲気下激しく撹拌した。
次にこの懸濁液にエチレングリコール6.02g(97
ミリモル)及び実施例14で合成した2,2’−メチレ
ンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)
−4−(3−ヒドロキシプロピル)フェノール]1.6
g(2.9ミリモル)をジメチルスルホキシド40ml
に溶解して調製した溶液を加えた。この反応混合物をゆ
っくり撹拌しながら115℃まで昇温し、約2時間反応
を行った。反応終了後、反応混合物を200mlの脱イ
オン水に投入してコーポリウレタンを析出させた。得た
白色のコーポリウレタンを水に分散させて3回洗浄した
後真空乾燥すると目的とするコーポリウレタンがほぼ定
量的に白色ポリマーとして得られた(固有粘度1.01
dl/g、mp255℃)。
【0131】コーポリウレタン中の紫外線吸収剤含量は
5重量%であった。尚、ベンゾトリアゾール含量は、
2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4−(3−ヒドロキシプロピル)フ
ェノール]とコーポリウレタンのUVスペクトルを測定
した後、両者の吸光係数の比により算出した。
【0132】試験例3 実施例21で合成したコーポリウレタン100部をジメ
チルホルムアミド630部に溶解し、この溶液をスピナ
ーを用いて直径300mmの円形石英板上にコートし
た。得られた塗膜1時間風乾後及び60℃で12時間減
圧乾燥して、円形石英板上に膜厚約1μmの均一薄膜を
調製した。
【0133】次にこの円形石英板を70℃の脱イオン水
中に40時間放置した後UVスペクトルを測定し、試験
前の膜の吸光度(波長345nm)と比較した(試験例
3)。そして次式に従い吸光度保持率を求めた。
【0134】
【数1】
【0135】一方、紫外線吸収剤を含まない市販ポリウ
レタン樹脂(商品名:エラストランC90A50、武田
バーディシェウレタン工業(株)製)95部をジメチル
ホルムアミド630部に溶解し、紫外線吸収剤Aを5部
(比較E)、又は紫外線吸収剤Bを5部(比較F)を配
合して得た組成物溶液を試験例3と同様にして製膜と耐
水性試験に供して樹脂膜の吸光度(波長345nm)の
経時変化を測定した。
【0136】配合処方(部=重量部)及び結果を表3に
併記する。
【0137】市販品A又はBを含んでいる樹脂膜からは
温水中で紫外線吸収剤が経時的に溶出し40時間後には
紫外線吸収能力が半減したのに対し、実施例21で合成
したコーポリウレタンの吸光度は殆ど変化がなく、極め
て高い耐水性を示すことが判った。
【0138】
【表3】
【0139】実施例22 実施例14で合成した2,2'−メチレンビス[6−
(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(3−
ヒドロキシプロピル)フェノール]0.162g(0.
295ミリモル)、ビスフェノール−A 1.72g
(7.16ミリモル)をピリジン60mlに溶解した。
これを窒素気流下、撹拌しながらトリホスゲン2.08
g(6.87ミリモル)を徐々に添加した。更に1時間
室温で撹拌した後、メタノール250mlを加えてポリ
マーを析出させた。次にポリマーを濾別した後、減圧乾
燥すると2,2'−メチレンビス[6−(2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−4−(3−ヒドロキシプロ
ピル)フェノール]を4.9重量%含有したポリカーボ
ネート(コーポリカーボネート)が白色ポリマーとして
2.20g得られた。
【0140】尚、ベンゾトリアゾール含量は、2,2’
−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2
−イル)−4−(3−ヒドロキシプロピル)フェノー
ル]とコーポリカーボネートのUVスペクトルを測定し
た後、両者の吸光係数の比により算出した。
【0141】試験例4及び5 実施例19又は実施例22で合成したコーポリカーボネ
ート105部を1,1,2,2−テトラクロロエタン6
30部に溶解し、この溶液をスピナーを用いて直径30
0mmの円形石英板上にコートした。
【0142】得られた塗膜を1時間風乾後60℃で12
時間減圧乾燥して、円形石英板上に膜厚約1μmの均一
薄膜を調製した。次にこれらの円形石英版を70℃の脱
イオン水中で40時間放置した後、試験例3と同様の方
法で耐水性試験後の吸光度保持率(波長345nm)を
求めた。結果を表4に示す。
【0143】一方、紫外線吸収剤を含まない市販ポリカ
ーボネート樹脂(商品名:E−2000、三菱瓦斯化学
(株)製)100部を1,1,2,2−テトラクロロエ
タン630部に溶解し、紫外線吸収剤Aを5部(比較
G)、または紫外線吸収剤Bを5部(比較H)を配合し
て得た組成物溶液を試験例4、5と同様にして製膜し、
これらを耐水性試験を供して、吸光度保持率を測定し
た。配合処方(部=重量部)及び結果を表4に併記す
る。温水中において市販品A又はBを配合した樹脂膜か
らは、紫外線吸収剤が経時的に溶出し、40時間後には
紫外線吸収能力が殆どなくなったのに対して、実施例1
9及び実施例22で得たコーポリカーボネートの吸光度
は殆ど変化がなく、極めて高い耐候性を示すことが判っ
た。
【0144】
【表4】
【0145】実施例23 数平均分子量2000のテトラメチレングリコール90
g、実施例12で合成した2,2’−メチレンビス[6
−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2
−ヒドロキシエチル)フェノール]10g及び4,4’
−ジフェニルメタンジイソシアネート25gを混合し、
窒素雰囲気下、85℃で3時間撹拌して両末端にイソシ
アネート基を有するポリウレタンオリゴマーを定量的に
得た。次にこの反応混合物中へ乾燥ジメチルアセトアミ
ド120gを加えた後、室温で撹拌し、オリゴマーのジ
メチルアセトアミド溶液を調製した。次にこの溶液を激
しく撹拌し、予めエチレンジアミン2.4gとジエチル
アミン0.6gをジメチルアセトアミド120gに溶解
して調製したアミン溶液を滴下した後、3時間撹拌して
粘度930ポイズ(30℃)の変成ポリウレタンウレア
のジメチルアセトアミド溶液を得た。更に、この溶液を
ジャケット温度が220℃の乾式紡糸機に供給して繊度
40デニールの弾性繊維を得た。得た弾性繊維の物性
は、破断強度67.5g/d、破断伸度560%であっ
た。
【0146】破断強度及び破断伸度の測定は以下の方法
で行った。
【0147】測定温度20℃、掴み間隔50mmに調製
されたインストロン型引張試験機(商品名:オートグラ
フDCS−2000、(株)島津製作所製)に試験糸を
セットし、変形速度 1000%/分で破断するまで引
っ張り、破断時の応力(強度)及び伸度を測定した。
尚、破断強度は原糸のデニール当たりのグラム数、破断
伸度は原長に対する伸び率(%)で表した。
【0148】実施例24 数平均分子量2000のテトラメチレングリコール90
g、実施例13で合成した2,2’−メチレンビス[6
−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]10
g及び4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート2
5gを用いて実施例23と同様の方法で繊度40デニー
ル変成ポリウレタンウレア弾性繊維を得た。得られた弾
性繊維の物性を実施例23と同様にして測定したとこ
ろ、破断強度68.2g/d、破断伸度566%であっ
た。
【0149】実施例25 数平均分子量2000のテトラメチレングリコール90
g、実施例14で合成した2,2’−メチレンビス[6
−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(3
−ヒドロキシプロピル)フェノール]10g及び4,
4’−ジフェニルメタンジイソシアネート25gを用い
て実施例23と同様の方法で繊度40デニール変成ポリ
ウレタンウレア弾性繊維を得た。得られた弾性繊維の物
性を実施例23と同様にして測定したところ、破断強度
67.2g/d、破断伸度562%であった。
【0150】実施例26 数平均分子量2000のテトラメチレングリコール90
g、実施例18で合成した2,2’−メチレンビス[6
−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(4
−ヒドロキシブチル)フェノール]10g及び4,4’
−ジフェニルメタンジイソシアネート25 gを用いて
実施例23と同様の方法で繊度40デニール変成ポリウ
レタンウレア弾性繊維を得た。得られた弾性繊維の物性
を実施例23と同様にして測定したところ、破断強度6
5.9g/d、破断伸度562%であった。
【0151】比較例1 数平均分子量2000のテトラメチレングリコール10
0g及び4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート
25gを混合し、窒素雰囲気下、85℃で3時間撹拌し
て両末端にイソシアネート基を有するポリウレタンオリ
ゴマーを得た。次にこの反応混合物中へ乾燥ジメチルア
セトアミド120gを加えた後、室温で撹拌し、オリゴ
マーのジメチルアセトアミド溶液を調製した。次にこの
溶液を激しく撹拌し、予めエチレンジアミン1.9gと
ジエチルアミン0.5gをジメチルアセトアミド120
gに溶解して調製したアミン溶液を滴下した後、3時間
撹拌して粘度780ポイズ(30℃)のポリウレタンウ
レアのジメチルアセトアミド溶液を得た。この溶液に紫
外線吸収剤Bを10g溶解して紡糸用組成液とした。さ
らに、この溶液をジャケット温度が220℃の乾式紡糸
機に供給して繊度40デニールの弾性繊維を得た。得ら
れた弾性繊維の物性を実施例23と同様にして測定した
ところ、破断強度58.7g/d、破断伸度472%で
あった。
【0152】試験例6〜9 実施例23、実施例24、実施例25又は実施例26で
得たポリウレタンウレア弾性繊維をデューサイクルサン
シャインウェザーメーターWEL−SUN−DC(スガ
試験器(株)製、120分毎に18分間降雨)により5
00時間促進耐候性試験にかけた後、実施例23と同様
にして破断強度を測定し、耐候性試験前の破断強度と比
較した。そして次の式に従い破断強度の保持率を算出し
た(試験例6、試験例7、試験例8及び試験例9)。
【0153】
【数2】
【0154】一方比較例1で合成した市販紫外線吸収剤
Bを含有したポリウレタンウレア弾性繊維も試験例6と
同様に促進耐候性試験に供して破断強度を測定し、その
保持率を算出した(比較I)。結果を表5に示す。
【0155】
【表5】
【0156】その結果、比較例1で製造したポリウレタ
ンウレア弾性繊維が黄変すると共に保持率25%までそ
の破断強度が低下したのに対し、実施例23、24、2
5及び26で製造した変成ポリウレタンウレア弾性繊維
は促進耐候性試験後も外観及びその破断強度に殆ど変化
がないことが判明した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C09K 3/00 104 C09K 3/00 104C (72)発明者 中野 真司 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚化 学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 小川 貴志 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚化 学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 河野 和浩 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚化 学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 赤田 充生 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚化 学株式会社徳島研究所内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式 【化1】 [式中Aは直接結合するか或いは炭素数1〜6個のアル
    キレン基、−C(CH32−基、−C(C25)(CH
    3)−基、−O−基又は−NH−基を示す。R1及びR3
    は、同一又は異なって、水素原子、炭素数1〜4のアル
    キル基、アリール基、炭素数1〜4のアルコキシ基又は
    ハロゲン原子を示す。R2及びR4は、同一又は異なっ
    て、水酸基又は炭素数1〜12の直鎖状もしくは分岐鎖
    状のヒドロキシアルキル基を示す。]で表されるビスベ
    ンゾトリアゾリルフェノール化合物。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のビスベンゾトリアゾリ
    ルフェノール化合物を共重合成分として0.01〜70
    重量%含有してなるコポリマー。
  3. 【請求項3】 コポリマーがコーポリカーボネート、コ
    ーポリエステル、コーポリウレタン又はコーポリウレタ
    ンウレアである請求項2に記載のコポリマー。
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