JP2011037774A - メチレンビスベンゾトリアゾリル(ヒドロキシアルキル)フェノール化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ベンゾトリアゾリル(ヒドロキシアルキル)フェノール化合物と、マンニッヒ塩基と塩基性触媒とを含む混合物を加熱して、メチレンビスベンゾトリアゾリル(ヒドロキシアルキル)フェノール化合物を製造するに際して、混合物の加熱を混合物の反応の進行により生成する第二級アミンのガスを、第二級アミン溶解性溶媒に吸収させるなどの方法により混合物から除去しながら行う。
【選択図】図1
Description
従って、本発明の目的は、ベンゾトリアゾリル(ヒドロキシアルキル)フェノール化合物とそのマンニッヒ塩基とを用いて、メチレンビスベンゾトリアゾリル(ヒドロキシアルキル)フェノール化合物を効率良く製造することができる方法を提供することにある。
上記混合物の加熱を、該混合物の反応の進行により生成する下記式(IV):
(1)式(II)のR3及びR4が炭素原子数1〜3のアルキル基である。
(2)第二級アミンガスの除去を、第二級アミン溶解性溶媒を該混合物から空間的に接続した位置に配置して、第二級アミンガスを該溶媒に吸収させることにより行う。
(3)第二級アミンガスの除去を、該混合物に不活性ガスを接触させながら、該不活性ガスと第二級アミンガスを一緒に除去することにより行う。
(4)第二級アミンガスの除去を、該混合物の表面に接触している気体を減圧下で除去することにより行う。
図1に示す反応装置の内側容器3(容量:5mL)に2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)−6−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェノール312mg(1.0ミリモル)と、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール255mg(1.0ミリモル)と、水酸化カリウム粉末10mgと、キシレン1mLとを入れ、外側容器5(容量:10mL)にジエチレングリコールモノエチルエーテル1mLを入れた。
内側容器3にキシレンの代わりに2−エチルヘキシルアルコール1mLを入れたこと以外は、実施例1と同様にして粉末を得た。得られた粉末は白色粉末であった。この白色粉末を1H−NMRで分析したところ、白色粉末は2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]であることが確認された(収率:56%)。
内側容器3にキシレンの代わりにエチレングリコールモノメチルエーテル1mLを入れたこと以外は、実施例1と同様にして粉末を得た。得られた粉末は白色粉末であった。この白色粉末を1H−NMRで分析したところ、白色粉末は2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]であることが確認された(収率:74%)。
内側容器3にキシレンの代わりにジエチレングリコールモノエチルエーテル1mLを入れたこと以外は、実施例1と同様にして粉末を得た。得られた粉末は白色粉末であった。この白色粉末を1H−NMRで分析したところ、白色粉末は2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]であることが確認された(収率:64%)。
内側容器3にキシレンの代わりにジエチレングリコールジメチルエーテル1mLを入れ、外側容器にジエチレングリコールモノエチルエーテルの代わりにジエチレングリコールジメチルエーテル1mLを入れたこと以外は、実施例1と同様にして粉末を得た。得られた粉末は白色粉末であった。この白色粉末を1H−NMRで分析したところ、白色粉末は2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]であることが確認された(収率:64%)。
図2に示す反応装置の内側容器13(容量:5mL)に2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)−6−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェノール312mg(1.0ミリモル)と、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール255mg(1.0ミリモル)と、水酸化カリウム粉末10mgと、エチレングリコール1mLとを入れ、外側容器15(容量10mL)にエチレングリコール1mLを入れた。
内側容器13にエチレングリコールの代わりにジエチレングリコールモノエチルエーテル1mLを入れ、外側容器15にエチレングリコールの代わりにジエチレングリコールモノエチルエーテル1mLを入れたこと以外は、実施例6と同様にして粉末を得た。得られた粉末は白色粉末であった。この白色粉末を1H−NMRで分析したところ、白色粉末は2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]であることが確認された(収率:92%)。
内側容器13にエチレングリコールの代わりにエチレングリコールモノフェニルエーテル1mLを入れ、外側容器15にエチレングリコールの代わりにエチレングリコールモノフェニルエーテル1mLを入れたこと以外は実施例6と同様にして粉末を得た。得られた粉末は白色粉末であった。この白色粉末を1H−NMRで分析したところ、白色粉末は2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]であることが確認された(収率:85%)。
内側容器13にエチレングリコールを入れないで、外側容器15にエチレングリコールの代わりにジエチレングリコールモノエチルエーテル1mLを入れたこと以外は、実施例6と同様にして粉末を得た。得られた粉末は白色粉末であった。この白色粉末を1H−NMRで分析したところ、白色粉末は2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール]であることが確認された(収率:80%)。
図2に示す反応装置の内側容器13に2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール255mg(1.0ミリモル)と、純度95質量%のパラホルムアルデヒド38.0mg(ホルムアルデヒドとして1.1ミリモル)と、濃度50質量%のジメチルアミン水溶液0.11mL(ジメチルアミンとして1.1ミリモル)と、ジエチレングリコールモノエチルエーテル1mLを入れ、外側容器15にジエチレングリコールモノエチルエーテル1mLを入れた。
図2に示す反応装置の内側容器13に2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール510mg(2.0ミリモル)と、純度95質量%のパラホルムアルデヒド38.0mg(ホルムアルデヒドとして1.1ミリモル)と、濃度50質量%のジメチルアミン水溶液0.11mL(ジメチルアミンとして1.1ミリモル)と、ジエチレングリコールモノエチルエーテル1mLを入れ、外側容器15にジエチレングリコールモノエチルエーテル1mLを入れた。
図2に示す反応装置の内側容器13に2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール510mg(2.0ミリモル)と、純度95質量%のパラホルムアルデヒド38.0mg(ホルムアルデヒドとして1.1ミリモル)と、濃度50質量%のジメチルアミン水溶液0.11mL(ジメチルアミンとして1.1ミリモル)と、水酸化カリウム粉末10mgと、ジエチレングリコールモノエチルエーテル1mLとを入れ、外側容器15にジエチレングリコールモノエチルエーテル1mLを入れた。
図3に示す反応装置の反応容器36(容量:10mL)に2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)−6−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェノール312mg(1.0ミリモル)と、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール255mg(1.0ミリモル)と、水酸化カリウム粉末10mgと、ジエチレングリコールモノエチルエーテル1mLとを入れ、第二級アミン回収容器41(容量:5mL)にエチレングリコール2mLを入れた。
2 回転子
3 内側容器
4 第二級アミン溶解性溶媒
5 外側容器
6 ねじ蓋
11 原料混合物
12 回転子
13 内側容器
14 第二級アミン溶解性溶媒
15 外側容器
16 冷却器
17 連結管
18 不活性ガス供給管
19 第二級アミン回収容器
20 第二級アミン溶解性溶媒
21 容器
22 蓋
23 排ガス管
31 原料混合物
32 回転子
33 容器
34 蓋
35 不活性ガス導入管
36 反応容器
37 第二級アミン溶解性溶媒
38 容器
39 蓋
40 排ガス管
41 第二級アミン回収容器
42 連結管
51 原料混合物
52 回転子
53 容器
54 蓋
55 排ガス管
56 反応容器
57 第二級アミン回収器
58 真空ポンプ
Claims (5)
- 下記式(I):
上記混合物の加熱を、該混合物の反応の進行により生成する下記式(IV):
- 式(II)のR3及びR4が炭素原子数1〜3のアルキル基である請求項1に記載の製造方法。
- 第二級アミンガスの除去を、第二級アミン溶解性溶媒を該混合物から空間的に接続した位置に配置して、第二級アミンガスを該溶媒に吸収させることにより行う請求項1に記載の製造方法。
- 第二級アミンガスの除去を、該混合物に不活性ガスを接触させながら、該不活性ガスと第二級アミンガスを一緒に除去することにより行う請求項1に記載の製造方法。
- 第二級アミンガスの除去を、該混合物の表面に接触している気体を減圧下で除去することにより行う請求項1に記載の製造方法。
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