JPH09309883A - 5−置換テトラゾール類の製造方法 - Google Patents

5−置換テトラゾール類の製造方法

Info

Publication number
JPH09309883A
JPH09309883A JP8240713A JP24071396A JPH09309883A JP H09309883 A JPH09309883 A JP H09309883A JP 8240713 A JP8240713 A JP 8240713A JP 24071396 A JP24071396 A JP 24071396A JP H09309883 A JPH09309883 A JP H09309883A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
salt
general formula
mol
reaction
imidazole derivative
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8240713A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3671266B2 (ja
Inventor
Kiyoto Oguro
清人 小黒
Shunichi Oga
俊一 大賀
Takahito Tokunaga
敬人 徳永
Jun Mitsui
順 光井
Ryozo Oda
亮三 織田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Kasei Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Toyo Kasei Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Kasei Kogyo Co Ltd filed Critical Toyo Kasei Kogyo Co Ltd
Priority to JP24071396A priority Critical patent/JP3671266B2/ja
Priority to US08/805,917 priority patent/US5744612A/en
Priority to EP97301876A priority patent/EP0796852B1/en
Priority to DE69707537T priority patent/DE69707537T2/de
Publication of JPH09309883A publication Critical patent/JPH09309883A/ja
Priority to US09/004,916 priority patent/US6040454A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3671266B2 publication Critical patent/JP3671266B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D403/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
    • C07D403/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
    • C07D403/10Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings linked by a carbon chain containing aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D257/00Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D257/02Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
    • C07D257/04Five-membered rings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 反応の制御が容易で、副反応を抑え、安価な
原料で、5−置換テトラゾール類を収率よく、容易、且
つ安全に製造することのできる方法を提供する。 【解決手段】 ニトリル類と無機アジ化塩とを、アミン
塩の存在下で芳香族炭化水素溶媒中において反応させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬、農薬、発泡
剤、自動車用インフレーター等の分野で有用な各種5−
置換テトラゾール類を、容易、安全、安価に、ニトリル
類から製造する方法に関する。
【0002】また、本発明は、優れたアンジオテンシン
II拮抗作用を有する公知のビフェニルテトラゾール誘導
体の製造に有用な中間体であるテトラゾール誘導体を製
造する方法に関する。
【0003】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】ニトリル
とアジ化物からテトラゾールを製造する方法は、過去に
種々検討されており、既知の方法が多数ある。
【0004】例えば、5−フェニル−1H−テトラゾー
ルを合成する場合には、ジメチルホルムアミド(DM
F)溶媒でNH4Clを触媒として使用している (J.
Am.Chem.Soc.,1958,80,390
8)。この方法においてNH4Clを触媒として使用す
ると、NaN3との反応により、爆発性の NH43が昇
華物として冷却管等に付着するため、工業的に製造する
のは危険である。しかしながら、NH4Clを使用しな
いと、収率は極端に低くなる。すなわち、NH4Cl以
外の、例えばLiClを使用すると、収率は低くなる。
また、全体的に反応温度が高く、反応時間も長い。
【0005】近年、DMF溶媒でアミン塩を触媒に使用
する方法が知られている。しかしながら、DMFを反応
溶媒として使用した場合には、アミン等のアルカリ成分
によりDMF自体が分解する。また、反応後に、テトラ
ゾールのDMFに対する溶解性を下げるために、水を添
加する工程が必要であるが、DMFは水溶性溶媒である
ために、未反応原料が水層に残り、テトラゾールとの分
離除去のために工程の追加が必要である。また、反応後
の母液にDMFが混入するため、有機溶媒の回収や廃液
処理等の工業的製法上の問題があり、工業的に非常に不
利である。
【0006】DMF以外の非プロトン極性溶媒や、例え
ばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル等のエーテル、セロソルブ類を用
いても反応は進行するが、反応速度、反応率、処理方法
において工業的に有利ではない。
【0007】また、触媒として酸(例えば酢酸等)を使
用し、HN3を溶媒存在下で発生させてニトリル類と反
応させる方法がある(J.Org.Chem.,195
7,22,1142)。しかしながら、この方法は比較
的反応速度が遅く、高温が必要で、反応時間が長く、生
成率も低い。また、有毒なHN3が系外に逃げやすい等
の工業的製法上の問題がある。
【0008】次に、複雑な構造を有するニトリル類から
テトラゾール類を製造する場合に、DMF溶媒では、原
料ニトリルとDMFとの反応およびDMFの分解のため
に、テトラゾール類の生成率が極めて低くなることがあ
る。このような場合に、芳香族溶媒または極性溶媒を用
い、有機錫化合物および有機ケイ素化合物等を触媒とし
て使用して、アジ化物の有機性を高めることによって、
テトラゾール生成を容易にさせる方法がある(J.Or
g.Chem.,1991,56,2395)。しか
し、ここで使用される有機錫化合物は、一般的に毒性が
非常に高い。また、有機金属化合物は高価であるにもか
かわらず、テトラゾールの生成量に対して多くの使用量
が必要である。また、テトラゾールの生成後、有機金属
化合物をテトラゾールと分離する際にオイル状となる場
合が多く、この場合には、テトラゾールをフリー体とし
た後に有機金属化合物を除去するためにヘキサン等の有
機溶媒で洗浄、抽出を行うか、または、有機金属化合物
を処理して抽出溶媒に対して溶解性を高めて抽出する必
要がある。しかしながら、このような処理を施しても、
有機金属化合物をテトラゾールと完全に分離できない場
合が多い。つまり、有機金属化合物を使用すると、テト
ラゾールを工業的に単離することが困難である。また、
工業的には、有機金属化合物使用後の機器の洗浄に時間
を要し、洗浄用の有機溶媒等を必要とし、さらには有機
金属を含む廃液処理問題がある。
【0009】以上のように、既知のテトラゾール類製造
法においては、NH4Cl使用の場合には昇華物が危険
であり、溶媒にDMFを使用した場合には、DMF自体
の分解性およびDMFが水溶性であるために、未反応ニ
トリルとテトラゾールの分離の問題や廃水処理問題があ
る。また、触媒に酸を使用すると、反応速度が遅く収率
も低い。また、有機金属化合物を使用してテトラゾール
の生成率を高める場合には、生成したテトラゾールと有
機金属化合物との分離に工業的な問題が多い。
【0010】本発明の目的は、上記のような従来技術の
問題を解決し得て、反応の制御が容易で、副反応を抑
え、安価な原料で、5−置換テトラゾール類を収率よ
く、容易、且つ安全に製造することのできる方法を提供
することにある。
【0011】ところで、一般式(4)で表される1−
(シアノビフェニルメチル)イミダゾール誘導体から一
般式(5)で表される1−(テトラゾリルビフェニルメ
チル)イミダゾール誘導体を製造する方法としては、有
機錫アジドを用いて芳香族炭化水素溶媒中または極性溶
媒中で反応させる方法が知られている(特開平7−53
489号公報)。
【0012】
【化4】
【0013】
【化5】
【0014】特開平7−53489号公報には、例え
ば、予めトリブチル錫クロリドとナトリウムアジドとか
らトリブチル錫アジドを合成した後にこのトリブチル錫
アジドと一般式(4)で表される1−(シアノビフェニ
ルメチル)イミダゾール誘導体とをトルエン溶媒中で反
応させるか、またはトルエン溶媒中でトリブチル錫クロ
リドとナトリウムアジドと一般式(4)で表される1−
(シアノビフェニルメチル)イミダゾール誘導体とを反
応させた後、希水酸化ナトリウム水溶液で加水分解した
後に水層を酸で中和し、一般式(5)で表される1−
(テトラゾリルビフェニルメチル)イミダゾール誘導体
を収率54%で得る方法が示されている。
【0015】しかしながら、この方法には以下のような
問題がある。
【0016】(1) トリブチル錫化合物と1−(テトラゾ
リルビフェニルメチル)イミダゾール誘導体とを完全に
分離することが困難であるために、純粋な1−(テトラ
ゾリルビフェニルメチル)イミダゾール誘導体を得るこ
とが難しい。
【0017】(2) 1−(テトラゾリルビフェニルメチ
ル)イミダゾール誘導体に微量の錫が混入しても医薬用
途としては使用できない可能性があるので、トリブチル
錫化合物を除去するために精製を充分に行う必要があ
る。
【0018】(3) 有機錫化合物は一般に毒性が高く、取
扱いに注意を要する。
【0019】(4) 有機錫化合物は高価であるにもかかわ
らず、1−(テトラゾリルビフェニルメチル)イミダゾ
ール誘導体の生成量に対して多くの使用量が必要であ
る。
【0020】(5) 工業的には、有機錫化合物を使用した
後の洗浄のために多くの時間と有機溶剤等を要し、しか
も有機錫化合物を含む廃液処理の問題がある。
【0021】以上のように、有機錫アジドを使用する従
来の方法は種々の問題を有している。
【0022】本発明の他の目的は、上記のような従来技
術の問題を解決し得て、有機錫化合物を使用することな
く、反応の制御が容易で、副反応を抑え、安価な原料
で、一般式(5)で表される1−(テトラゾリルビフェ
ニルメチル)イミダゾール誘導体を収率よく、容易、且
つ安全に製造することのできる方法を提供することにあ
る。
【0023】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために、工業的に有利な方法を鋭意研究した
ところ、溶媒として芳香族炭化水素を使用し、無機アジ
化塩とアミン塩類とを反応させることにより、アミンの
アジ化水素塩が生成し、これが芳香族炭化水素に溶解す
ることを見い出した。さらに、このアミンのアジ化水素
塩をニトリル類と反応させることにより、テトラゾール
類が、高純度、高収率で、しかも簡単な処理方法で得ら
れ、且つ溶媒の再利用が可能であると同時に廃水処理も
容易であることを見い出し、本発明を完成するに至っ
た。
【0024】なお、従来、無機アジ化塩とニトリル類か
らテトラゾールを合成する際に、芳香族炭化水素には無
機アジ化塩がほとんど溶解しないので、芳香族炭化水素
溶媒では反応しないと考えられていた。従って、従来は
極性溶媒の反応例しか知られていなかった。
【0025】本発明は、一般式(1)で表されるニトリ
ル類(ただし、一般式(4)で表される1−(シアノビ
フェニルメチル)イミダゾール誘導体を除く)と一般式
(2)で表される無機アジ化塩とを、アミン塩の存在下
で芳香族炭化水素溶媒中において反応させることを特徴
とする一般式(3)で表される5−置換テトラゾール類
(ただし、一般式(5)で表される1−(テトラゾリル
ビフェニルメチル)イミダゾール誘導体を除く)の製造
方法である。
【0026】RCN (1) (式中、Rは脂肪族基、脂環式基、芳香族基、芳香族脂
肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、複素環式脂肪族
基であり、それぞれ置換基を有していてもよい。) M(N3n (2) (式中、Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であ
り、nは1または2である。)
【0027】
【化6】
【0028】(式中、Rは前記と同様であり、R1は水
素原子または炭素数1〜4のアルキル基であり、R2
水素原子または炭素数1〜4のアルキル基である。) また、本発明者らは、前記他の目的を達成するために、
工業的に有利な方法を鋭意研究したところ、溶媒として
芳香族炭化水素を使用し、無機アジ化塩とアミン塩類と
を反応させることにより、アミンのアジ化水素塩が生成
し、これが芳香族炭化水素溶媒に溶解することを見い出
した。さらに、このアミンのアジ化水素塩を一般式
(4)で表される1−(シアノビフェニルメチル)イミ
ダゾール誘導体と反応させ、必要に応じて得られた化合
物を加水分解させることにより、一般式(5)で表され
る1−(テトラゾリルビフェニルメチル)イミダゾール
誘導体が、高純度、高収率で、しかも簡単な処理方法で
得られ、且つ溶媒と未反応原料の再利用が可能であると
同時に廃水処理も容易であることを見い出し、本発明を
完成するに至った。
【0029】本発明は、一般式(4)で表される1−
(シアノビフェニルメチル)イミダゾール誘導体と一般
式(2)で表される無機アジ化塩とを、アミン塩の存在
下で芳香族炭化水素溶媒中において反応させ、必要に応
じて得られた化合物を加水分解させることを特徴とする
一般式(5)で表される1−(テトラゾリルビフェニル
メチル)イミダゾール誘導体の製造方法である。
【0030】
【化7】
【0031】(式中、R1は水素原子または炭素数1〜
4のアルキル基である。) M(N3n (2) (式中、Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であ
り、nは1または2である。)
【0032】
【化8】
【0033】(式中、R2は水素原子または炭素数1〜
4のアルキル基である。)
【0034】
【発明の実施の形態】本発明において、原料となるニト
リル類は、簡単な構造から複雑な構造のものまで広範囲
に及ぶ。一般式(1)において、Rは、炭素数1〜30
の脂肪族基、脂環式基、芳香族基、芳香族脂肪族基、芳
香族脂環式基、複素環式基、複素環式脂肪族基であり、
それぞれ置換基を有していてもよい。置換基は、シアノ
基であってもよく、その場合、一般式(1)で表される
ニトリル類は、ポリシアノ化合物類となる。ニトリル類
としては、具体的には、例えば、アセトニトリル、プロ
ピオニトリル、ブチロニトリル、バレロニトリル、ヘキ
サンニトリル、ヘプチルシアニド、オクチルシアニド、
ウンデカンニトリル、ドデカンニトリル、トリデカンニ
トリル、ペンタデカンニトリル、ステアロニトリル、ク
ロロアセトニトリル、ブロモアセトニトリル、クロロプ
ロピオニトリル、ブロモプロピオニトリル、ヒドロキシ
プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル、ジメチル
アミノプロピオニトリル、ジメチルシアナミド、ジエチ
ルシアナミド、ジメチルアミノアセトニトリル、シアノ
アセトアミド、シアノ酢酸、シアノ蟻酸エチル等の脂肪
族ニトリル;シクロプロパンカルボニトリル、シクロヘ
キサンカルボニトリル、シクロヘプタンカルボニトリル
等の脂環式ニトリル;ベンゾニトリル、トルニトリル、
シアノフェノール、アミノベンゾニトリル、クロロベン
ゾニトリル、ブロモベンゾニトリル、シアノ安息香酸、
ニトロベンゾニトリル、アニソニトリル、ブロモトルニ
トリル、メチルシアノベンゾエート、m−メトキシベン
ゾニトリル、アミノトルニトリル、アセチルベンゾニト
リル、ナフトニトリル、ビフェニルカルボニトリル等の
芳香族ニトリル;フェニルアセトニトリル、フェニルプ
ロピオニトリル、フェニルブチロニトリル、α−メチル
フェニルアセトニトリル、メチルフェニルアセトニトリ
ル、ジフェニルアセトニトリル、ナフチルアセトニトリ
ル、ビフェニルアセトニトリル、アミノフェニルアセト
ニトリル、ニトロフェニルアセトニトリル、クロロベン
ジルシアニド等の芳香族脂肪族ニトリル;フェニルシク
ロヘキサンカルボニトリル、トリルシクロヘキサンカル
ボニトリル等の芳香族脂環式ニトリル;シアノフラン、
チオフェンカルボニトリル、ピペリジンカルボニトリ
ル、1,5−ジメチル−2−ピロールカルボニトリル、
ピラゾールカルボニトリル、シアンインドール、シアノ
ピリジン等の複素環式ニトリル;チオフェンアセトニト
リル、ピリジンアセトニトリル、N−(2−シアノエチ
ル)ピロール、N−メチル−2−ピロールアセトニトリ
ル、インドリルアセトニトリル等の複素環式脂肪族ニト
リル;シアノビフェニル誘導体(ただし、1−(シアノ
ビフェニルメチル)イミダゾール誘導体を除く);アル
コキシカルボニルアルキルシアニド誘導体;マロノニト
リル、スクシノニトリル、グルタロニトリル、フタロニ
トリル等のポリシアノ化合物等が挙げられるが、これら
に限定されるわけではない。また、それぞれ置換基を有
していてもよい。好ましいニトリル類としては、アセト
ニトリル、ベンゾニトリル、トルニトリル、シアノフェ
ノール、アミノベンゾニトリル、クロロベンゾニトリ
ル、フェニルアセトニトリル、フェニルプロピオニトリ
ル、フェニルブチロニトリル、ジフェニルアセトニトリ
ル、シアノピリジン、シアノビフェニル誘導体(ただ
し、1−(シアノビフェニルメチル)イミダゾール誘導
体を除く)、アルコキシカルボニルアルキルシアニド誘
導体が挙げられ、より好ましいニトリル類としては、ア
セトニトリル、ベンゾニトリル、シアノビフェニル誘導
体(ただし、1−(シアノビフェニルメチル)イミダゾ
ール誘導体を除く)、アルコキシカルボニルアルキルシ
アニド誘導体が挙げられる。
【0035】また、一般式(4)で表される1−(シア
ノビフェニルメチル)イミダゾール誘導体としては、式
中のR1が炭素数1〜4のアルキル基であるものが好ま
しく、R1がメチル基またはエチル基であるものがより
好ましい。
【0036】本発明において、一般式(4)で表される
1−(シアノビフェニルメチル)イミダゾール誘導体
は、どのような方法で製造されたものであってもよい。
製造法の一例が、特開平7−53489号公報に示され
ている。
【0037】無機アジ化塩としては、ナトリウム、カリ
ウム、リチウム、カルシウム、マグネシウム等のアルカ
リ金属またはアルカリ土類金属のアジ化物が挙げられる
が、好適にはアルカリ金属のアジ化物であり、アジ化ナ
トリウムが工業的に特に好適である。
【0038】無機アジ化塩の使用量は、一般式(1)で
表されるニトリル類1モルに対し、アジ化水素換算で通
常1〜5モルの範囲、好ましくは1〜3モルの範囲であ
る。特に、アミン塩と等モル量を使用するのが好まし
い。
【0039】また、一般式(4)で表される1−(シア
ノビフェニルメチル)イミダゾール誘導体1モルに対し
ては、アジ化水素換算で通常1〜5モルの範囲、好まし
くは2〜4モルの範囲で、無機アジ化塩を使用する。特
に、アミン塩と等モル量を使用するのが好ましい。
【0040】本発明で使用するアミン塩は、アミンと酸
とから形成される。アミンとしては、第1級、第2級、
第3級アミンのいずれでもよいが、特に脂肪族アミンが
好ましい。アミン塩としては、例えば、メチルアミン
塩、エチルアミン塩、プロピルアミン塩、ブチルアミン
塩、アミルアミン塩、ヘキシルアミン塩、シクロヘキシ
ルアミン塩、ヘプチルアミン塩、オクチルアミン塩、ア
リルアミン塩、ベンジルアミン塩、α−フェニルエチル
アミン塩、β−フェニルエチルアミン塩などの第1級ア
ミン塩;ジメチルアミン塩、ジエチルアミン塩、ジプロ
ピルアミン塩、ジブチルアミン塩、ジアミルアミン塩、
ジヘキシルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、ジア
リルアミン塩、モルホリン塩、ピペリジン塩、ヘキサメ
チレンイミン塩などの第2級アミン塩;トリメチルアミ
ン塩、トリエチルアミン塩、トリプロピルアミン塩、ト
リブチルアミン塩、トリアミルアミン塩、トリヘキシル
アミン塩、トリアリルアミン塩、ピリジン塩、トリエタ
ノールアミン塩、N−メチルモルホリン塩、N,N−ジ
メチルシクロヘキシルアミン塩、N,N−ジメチルアニ
リン塩、 N,N,N´,N´−テトラメチルエチレン
ジアミン塩、4−ジメチルアミノピリジン塩などの第3
級アミン塩等が挙げられるが、これらに限定されるわけ
ではない。また、これらのアミン塩の2種以上を併用し
てもよい。
【0041】塩を形成する酸としては、基本的にアミン
と塩を生成する酸であればよい。酸としては、例えば、
塩酸、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸、アジ化
水素、塩素酸、炭酸、硫化水素等の無機酸;蟻酸、酢
酸、トリフロロ酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、メタン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸
等の有機酸等が挙げられるが、これらに限定されるわけ
ではない。好ましい酸は、塩酸、臭化水素、硫酸、アジ
化水素、酢酸、トリフロロ酢酸等である。
【0042】好ましいアミン塩は、トリエチルアミン塩
酸塩である。
【0043】アミン塩は、市販のものを使用してもよい
し、または反応系内でアミンと酸を反応させて塩を合成
して作用させてもよい。
【0044】アミン塩の使用量は、反応が進行するのに
必要な最低限度量でよいが、一般式(1)で表されるニ
トリル類1モルに対し、アミン換算で通常1〜5モルの
範囲、好ましくは1〜3モルの範囲である。アミン塩の
モル比は、反応速度、反応生成率に影響する。特に、無
機アジ化塩と等モル量を使用するのが好ましい。
【0045】また、一般式(4)で表される1−(シア
ノビフェニルメチル)イミダゾール誘導体1モルに対し
ては、アミン換算で通常1〜5モルの範囲、好ましくは
2〜4モルの範囲で、アミン塩を使用する。アミン塩の
モル比は、反応速度、反応生成率に影響する。特に、無
機アジ化塩と等モル量を使用するのが好ましい。
【0046】反応溶媒としては、反応に不活性な芳香族
炭化水素が好ましい。特に、工業的に好適、且つ反応に
好適な芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン、クロ
ロベンゼン、ニトロベンゼン、クメン、クロロトルエン
等が挙げられ、特にトルエン、キシレンが好ましい。ま
た、これらの芳香族炭化水素を2種以上混合して反応溶
媒として用いることも可能である。芳香族炭化水素の使
用量は、反応が進行するのに必要な最低限度量でよい
が、一般式(1)で表されるニトリル類または一般式
(4)で表される1−(シアノビフェニルメチル)イミ
ダゾール誘導体の1gに対し、通常1〜100mlの範
囲、好ましくは2〜50mlの範囲である。なお、反応
溶媒に水が5%程度まで含まれていてもよい。
【0047】反応温度は特に限定されず、原料ニトリル
類、アミン塩、溶媒の組み合わせにより、20〜150
℃の広範囲で反応を行うことができる。好ましくは、7
0〜140℃である。
【0048】反応時間は、特に限定されないが、通常1
〜120時間であり、好ましくは3〜50時間である。
【0049】本発明においては反応速度が速く、副生物
の生成が少ない。従って、反応効率がよく、従来の方法
に比べて収率が高い。
【0050】反応後に水を添加することにより、5−置
換テトラゾールは、アミン塩となった状態で水層に含ま
れる。芳香族炭化水素溶媒層は分液により除去すること
が可能である。また、反応後に未反応原料のニトリル類
が残存し、これが芳香族炭化水素に溶解する場合は、分
液の際に芳香族炭化水素溶媒と共に除去、回収すること
が可能である。芳香族炭化水素は、蒸留により回収が容
易で、再使用が可能である。また、分液回収しただけで
少量の水と未反応ニトリル類を含む芳香族炭化水素溶媒
層を、そのまま反応に再使用することも可能である。
【0051】分液した後に、5−置換テトラゾールのア
ミン塩を含む水層に酸を加えて、5−置換テトラゾール
をフリー体として得る。この際に、アミンは加えた酸と
塩を形成し、水に溶解する。得られた5−置換テトラゾ
ールのフリー体が水溶性の場合には、アミン塩との分離
処理工程(例えば、適当な溶媒で5−置換テトラゾール
のフリー体を抽出した後に溶媒を留去する。)の追加が
必要である。しかし、5−置換テトラゾールのフリー体
が水に対して不溶性であれば、そのまま濾別、分離する
ことにより、5−置換テトラゾールをほぼ純品として得
ることができる。このように、処理方法が極めて容易で
あり、安全に5−置換テトラゾールを単離することが可
能であるのが、本発明の特徴の一つである。
【0052】なお、前記一般式(3)中のRで表される
基が加水分解性基を有する場合には、反応後の後処理に
おいて、この加水分解性基が加水分解されて他の置換基
に変わることもある。
【0053】また、複雑なニトリル類を原料とする場合
でも、本発明では有機金属化合物を使用しなくとも反応
が容易に進行する。有機金属化合物を使用しないため、
反応後の処理が容易で安価である。
【0054】従って、本発明は、有機金属化合物を使用
する場合に比べて、安全性、毒性、取扱い性、コスト、
処理方法の簡便性、反応時間、収率等において優れてい
る。
【0055】特に、一般式(4)において、R1がアル
キル基である1−(シアノビフェニルメチル)イミダゾ
ール誘導体を原料とする場合には、反応終了後に、アル
カリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物と水とを用い
て、エステル部分を加水分解してもよい。アルカリ金属
の水酸化物としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ムや水酸化カリウムが使用され、水酸化ナトリウムが好
ましい。また、アルカリ土類金属の水酸化物としては、
水酸化バリウムや水酸化カルシウムが使用され、水酸化
カルシウムが好ましい。加水分解における反応温度は特
に限定されないが、好ましくは10〜40℃である。加
水分解における反応時間も特に限定されないが、好まし
くは1〜5時間である。
【0056】加水分解終了後に、水層を芳香族炭化水素
等の有機溶媒で洗浄した後にpHを酸性側に調整するこ
とにより、一般式(5)において、R2が水素原子であ
る1−(テトラゾリルビフェニルメチル)イミダゾール
誘導体を析出させて得ることができる。得られた1−
(テトラゾリルビフェニルメチル)イミダゾール誘導体
は、必要に応じてアルコール等で洗浄することができ
る。
【0057】反応後に、未反応の一般式(4)で表され
る1−(シアノビフェニルメチル)イミダゾール誘導体
が芳香族炭化水素溶媒に溶解して残存するので、分液す
ることにより、芳香族炭化水素溶媒と共に除去、回収す
ることが可能である。芳香族炭化水素は、蒸留により回
収が容易で、再使用が可能である。
【0058】また、有機錫化合物を使用しないので、一
般式(5)で表される1−(テトラゾリルビフェニルメ
チル)イミダゾール誘導体に錫が混入することがない。
従って、後処理および精製工程が簡便であり、高品質の
1−(テトラゾリルビフェニルメチル)イミダゾール誘
導体が容易に得られる。このように、処理方法が容易で
あり、安全且つ安価に、一般式(5)で表される1−
(テトラゾリルビフェニルメチル)イミダゾール誘導体
を単離することが可能であるのが、本発明の特徴の一つ
である。
【0059】従って、本発明は、有機錫化合物を使用す
る場合に比べて、安全性、毒性、取扱い性、価格、処理
方法の簡便性、収率等において優れている。
【0060】以上のように、本発明は、工業的に5−置
換テトラゾールを製造するのに非常に有利な方法であ
る。
【0061】また、本発明は、工業的に一般式(5)で
表される1−(テトラゾリルビフェニルメチル)イミダ
ゾール誘導体を製造するのに非常に有利な方法である。
【0062】
【実施例】以下、本発明を、実施例によりさらに具体的
に説明する。また、条件別に表1〜6にまとめた。本発
明はこれらに限定されるものではない。
【0063】実施例1 還流冷却器、温度計および撹拌機を設けた200mlの
フラスコに、ベンゾニトリル5.16g(0.050モ
ル)、アジ化ナトリウム4.23g(0.065モ
ル)、トリエチルアミン塩酸塩8.95g(0.065
モル)およびトルエン52mlを入れ、撹拌しながら9
5〜100℃に加熱して7時間反応させた。反応終了
後、室温まで冷却し、水104mlを添加して分液し
た。36重量%塩酸6.57g(0.065モル)を水
層に添加し、5−フェニル−1H−テトラゾールを析出
させ、濾取して乾燥させた。その結果、5−フェニル−
1H−テトラゾール7.02g(0.048モル)を得
た。これは収率96.0%(ベンゾニトリル基準)に相
当した。
【0064】実施例2 ベンゾニトリルの代わりにメタトルニトリル5.86g
(0.050モル)を用いた以外は、実施例1と同様の
操作で7時間反応を行った。その結果、5−(3−メチ
ルフェニル)−1H−テトラゾールを7.46g(0.
047モル)得た。これは収率93.2%(メタトルニ
トリル基準)に相当した。
【0065】実施例3 ベンゾニトリルの代わりにオルトトルニトリル5.86
g(0.050モル)を用いた以外は、実施例1と同様
の操作で24時間反応を行った。その結果、5−(2−
メチルフェニル)−1H−テトラゾールを5.05g
(0.032モル)得た。これは収率63.1%(オル
トトルニトリル基準)に相当した。
【0066】実施例4 ベンゾニトリルの代わりにパラトルニトリル5.86g
(0.050モル)を用いた以外は、実施例1と同様の
操作で7時間反応を行った。その結果、5−(4−メチ
ルフェニル)−1H−テトラゾールを7.73g(0.
048モル)得た。これは収率96.5%(パラトルニ
トリル基準)に相当した。
【0067】実施例5 実施例1と同様な装置に、オルトシアノフェノール5.
96g(0.050モル)、アジ化ナトリウム9.76
g(0.150モル)、トリエチルアミン塩酸塩20.
65g(0.150モル)およびトルエン60mlを入
れ、実施例1と同様の操作で5時間反応を行った。その
結果、5−(2−ヒドロキシフェニル)−1H−テトラ
ゾール7.95g(0.049モル)を得た。これは収
率98.0%(オルトシアノフェノール基準)に相当し
た。
【0068】実施例6 実施例1と同様な装置に、パラシアノフェノール1.1
9g(0.010モル)、アジ化ナトリウム1.95g
(0.030モル)、トリエチルアミン塩酸塩4.13
g(0.030モル)およびトルエン12mlを入れ、
実施例1と同様の操作で8時間反応を行った。その結
果、5−(4−ヒドロキシフェニル)−1H−テトラゾ
ール1.34g(0.0083モル)を得た。これは収
率82.7%(パラシアノフェノール基準)に相当し
た。
【0069】実施例7 ベンゾニトリルの代わりにフェニルアセトニトリル5.
86g(0.050モル)を用いてトルエンを59ml
とした以外は、実施例1と同様の操作で1時間反応を行
った。その結果、5−ベンジル−1H−テトラゾール
5.66g(0.035モル)を得た。これは収率7
0.7%(フェニルアセトニトリル基準)に相当した。
【0070】実施例8 ベンゾニトリルの代わりに3−フェニルプロピオニトリ
ル6.56g(0.050モル)を用いてトルエンを6
6mlとした以外は、実施例1と同様の操作で5時間反
応を行った。その結果、5−フェネチル−1H−テトラ
ゾール8.16g(0.047モル)を得た。これは収
率93.7%(3−フェニルプロピオニトリル基準)に
相当した。
【0071】実施例9 ベンゾニトリルの代わりに4−フェニルブチロニトリル
7.26g(0.050モル)を用いてトルエンを73
mlとした以外は、実施例1と同様の操作で7時間反応
を行った。反応終了後、室温まで冷却し、水74mlを
添加して分液した。36重量%塩酸15.22g(0.
030モル)を水層に添加した後、酢酸エチルで5−フ
ェニルプロピル−1H−テトラゾールを抽出した。この
酢酸エチル層を10重量%塩化ナトリウム水溶液で洗浄
した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過した後に、酢
酸エチルを留去した。その結果、5−フェニルプロピル
−1H−テトラゾール8.03g(0.043モル)を
得た。これは収率85.3%(4−フェニルブチロニト
リル基準)に相当した。
【0072】実施例10 ベンゾニトリルの代わりに2−アミノベンゾニトリル
5.91g(0.050モル)を用いた以外は、実施例
1と同様の操作で23時間反応を行った。その結果、5
−(2−アミノフェニル)−1H−テトラゾール7.3
2g(0.045モル)を得た。これは収率90.8%
(2−アミノベンゾニトリル基準)に相当した。
【0073】実施例11 ベンゾニトリルの代わりに3−アミノベンゾニトリル
5.91g(0.050モル)を用いた以外は、実施例
1と同様の操作で28時間反応を行った。その結果、5
−(3−アミノフェニル)−1H−テトラゾール7.6
3g(0.047モル)を得た。これは収率94.7%
(3−アミノベンゾニトリル基準)に相当した。
【0074】実施例12 実施例1と同様な装置に、トリエチルアミン6.58g
(0.065モル)とトルエン52mlを入れ、撹拌し
ながら濃硫酸3.19g(0.033モル)を加え、さ
らにベンゾニトリル5.16g(0.050モル)とア
ジ化ナトリウム4.23g(0.065モル)を入れ、
95〜100℃に加熱して7時間反応させた。以下、実
施例1と同様の操作を行った。その結果、5−フェニル
−1H−テトラゾール7.11g(0.049モル)を
得た。これは収率97.3%(ベンゾニトリル基準)に
相当した。
【0075】実施例13 濃硫酸の代わりに氷酢酸3.91g(0.065モル)
を用いた以外は、実施例12と同様の操作で8時間反応
を行った。その結果、5−フェニル−1H−テトラゾー
ル6.17g(0.042モル)を得た。これは収率8
4.4%(ベンゾニトリル基準)に相当した。
【0076】実施例14 実施例1と同様な装置に、ベンゾニトリル5.16g
(0.050モル)、アジ化ナトリウム4.23g
(0.065モル)、ジエチルアミン塩酸塩7.13g
(0.065モル)およびトルエン52mlを入れ、実
施例1と同様にして8時間反応させた。その結果、5−
フェニル−1H−テトラゾール7.02g(0.048
モル)を得た。これは収率96.0%(ベンゾニトリル
基準)に相当した。
【0077】実施例15 ジエチルアミン塩酸塩の代わりにエチルアミン塩酸塩
5.30g(0.065モル)を用いた以外は、実施例
14と同様にして8時間反応させた。その結果、5−フ
ェニル−1H−テトラゾール4.10g(0.028モ
ル)を得た。これは収率56.1%(ベンゾニトリル基
準)に相当した。
【0078】実施例16 実施例1と同様な装置に、ベンゾニトリル5.16g
(0.050モル)、アジ化ナトリウム4.23g
(0.065モル)、トリエチルアミン塩酸塩8.95
g(0.065モル)、トルエン52mlおよび水2.
6gを入れ、85〜95℃で8時間反応させた。その結
果、5−フェニル−1H−テトラゾール6.12g
(0.042モル)を得た。これは収率83.7%(ベ
ンゾニトリル基準)に相当した。
【0079】実施例17 トルエンの代わりにベンゼン52mlを用いた以外は、
実施例1と同様にして76〜79℃で8時間反応させ
た。その結果、5−フェニル−1H−テトラゾール6.
67g(0.046モル)を得た。これは収率91.2
%(ベンゾニトリル基準)に相当した。
【0080】実施例18 トルエンの代わりにキシレン52mlを用いた以外は、
実施例1と同様にして100〜107℃で5時間反応さ
せた。その結果、5−フェニル−1H−テトラゾール
7.22g(0.049モル)を得た。これは収率9
8.8%(ベンゾニトリル基準)に相当した。
【0081】実施例19 トルエンの代わりにニトロベンゼン52mlを用いた以
外は、実施例1と同様にして100〜102℃で8時間
反応させた。その結果、5−フェニル−1H−テトラゾ
ール7.19g(0.049モル)を得た。これは収率
98.4%(ベンゾニトリル基準)に相当した。
【0082】表1〜6は、反応溶媒の種類と使用量、無
機アジ化塩とアミン塩の種類と使用量等を変更した場合
の実施例をまとめて示す。
【0083】表1は、ニトリル体1gに対して約10m
lのトルエン溶媒を用い、アジ化ナトリウムとトリエチ
ルアミン塩酸塩をそれぞれニトリル体の1.3倍モル用
いる条件で、ニトリル体の種類と反応条件(反応温度、
反応時間)を変えた場合の実施例を示す。(実施例20
は、ニトリル体の種類と反応条件を表1のようにした以
外は、実施例1〜4、10、11と同様にして反応させ
た。)
【0084】
【表1】
【0085】表2は、ニトリル体1gに対して約10m
lのトルエン溶媒を用い、アジ化ナトリウムとトリエチ
ルアミン塩酸塩をそれぞれニトリル体の3.0倍モル用
いる条件で、ニトリル体の種類と反応条件を変えた場合
の実施例を示す。(実施例21〜25は、ニトリル体の
種類と反応条件を表2のようにした以外は、実施例5、
6と同様にして反応させた。)
【0086】
【表2】
【0087】表3は、ニトリル体1gに対して約10〜
40mlのトルエン溶媒を用い、アジ化ナトリウムとト
リエチルアミン塩酸塩をそれぞれニトリル体の3.0倍
モル用いる条件で、ニトリル体の種類と反応条件を変え
た場合の実施例を示す。(実施例26〜30は、ニトリ
ル体の種類と反応条件を表3のようにし、トルエン溶媒
の使用量を変えた以外は、実施例7〜9と同様にして反
応させた。)
【0088】
【表3】
【0089】表4は、ベンゾニトリル1gに対して約1
0mlの溶媒を用い、アジ化ナトリウムとトリエチルア
ミン塩酸塩をそれぞれベンゾニトリルの1.3倍モル用
いる条件で、溶媒の種類と反応条件を変えた場合の実施
例を示す。なお、P5Tは5−フェニル−1H−テトラ
ゾールを意味する(以下同様)。
【0090】
【表4】
【0091】表5は、ベンゾニトリル1gに対して約1
0mlのトルエン溶媒を用い、アジ化ナトリウムとアミ
ン塩(触媒)をそれぞれベンゾニトリルの1.3倍モル
用いる条件で、触媒の種類と反応条件を変えた場合の実
施例を示す。
【0092】
【表5】
【0093】表6は、ベンゾニトリル1gに対して約1
0mlのトルエン溶媒を用い、アジ化ナトリウムとトリ
エチルアミンをそれぞれベンゾニトリルの1.3倍モル
用いる条件で、アミン塩を形成する酸の種類と反応条件
を変えた場合の実施例を示す。なお、酸のモル比は、ベ
ンゾニトリルに対するモル比である。また、実施例1に
おいてはトリエチルアミン塩酸塩を用いたが、表におい
てはその酸成分を示した。
【0094】
【表6】
【0095】実施例31 実施例1と同様な装置に、4′−メチルビフェニル−2
−カルボニトリル9.66g(0.050モル)、アジ
化ナトリウム6.50g(0.100モル)、トリエチ
ルアミン塩酸塩13.77g(0.100モル)および
トルエン96.6mlを入れ、実施例1と同様の操作で
48時間反応を行った。その結果、5−(4′−メチル
ビフェニル−2−イル)−1H−テトラゾール10.8
5g(0.046モル)を得た。これは収率91.9%
(4′−メチルビフェニル−2−カルボニトリル基準)
に相当した。以下に、反応を化学式で示す。
【0096】
【化9】
【0097】実施例32 実施例1と同様な装置に、メチル(2S)−2−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−4−シアノブチレート7
7.3g(0.28モル)、アジ化ナトリウム27.3
g(0.42モル)、トリエチルアミン塩酸塩57.7
g(0.42モル)およびトルエン280mlを入れ、
82〜83℃に加熱して24時間反応させた。その後
に、実施例1と同様な操作を行い、結晶を濾取した。さ
らに、メタノール、水で再結晶させた後、結晶を濾取し
て乾燥させた。その結果、メチル(2S)−2−ベンジ
ルオキシカルボニルアミノ−4−(テトラゾール−5−
イル)ブチレート67.7g(0.21モル)を得た。
これは収率75.8%[メチル(2S)−2−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−4−シアノブチレート基準]
に相当した。以下に、反応を化学式で示す。
【0098】
【化10】
【0099】実施例33 還流冷却器、温度計および撹拌機を設けた500mlの
フラスコに、1−(2′−シアノビフェニル−4−イ
ル)メチル−4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチ
ル)−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸エチ
ルエステル43.5g(0.10モル)、アジ化ナトリ
ウム19.5g(0.30モル)、トリエチルアミン塩
酸塩41.3g(0.30モル)およびトルエン206
mlを入れ、撹拌しながら95〜100℃に加熱して2
4時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、その
反応液を高速液体クロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−
プロピル−1−{4−[2−(テトラゾール−5−イ
ル)フェニル]フェニル}メチルイミダゾール−5−カ
ルボン酸エチルエステルが生成していることを確認した
(反応率87%)。以下に、反応を化学式で示す。
【0100】
【化11】
【0101】実施例34 還流冷却器、温度計および撹拌機を設けた500mlの
フラスコに、1−(2′−シアノビフェニル−4−イ
ル)メチル−4−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチ
ル)−2−プロピルイミダゾール−5−カルボン酸エチ
ルエステル43.5g(0.10モル)、アジ化ナトリ
ウム19.5g(0.30モル)、トリエチルアミン塩
酸塩41.3g(0.30モル)およびトルエン206
mlを入れ、撹拌しながら95〜100℃に加熱して2
4時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、48
重量%NaOH水溶液35.0g(0.42モル)およ
び水335mlを添加し、室温で2時間撹拌した後に分
液した。水層にトルエン103mlを加え、洗浄、分液
した。36重量%塩酸で水層のpHを2〜3.5に調整
し、結晶を析出させ、濾取して乾燥させた。次に、結晶
をメタノールで加熱撹拌洗浄し、冷却して濾取し、乾燥
させた。その結果、4−(1−ヒドロキシ−1−メチル
エチル)−2−プロピル−1−{4−[2−(テトラゾ
ール−5−イル)フェニル]フェニル}メチルイミダゾ
ール−5−カルボン酸32.6g(0.07モル)を得
た。これは収率72.4%[1−(2′−シアノビフェ
ニル−4−イル)メチル−4−(1−ヒドロキシ−1−
メチルエチル)−2−プロピルイミダゾール−5−カル
ボン酸エチルエステル基準]に相当した。以下に、反応
を化学式で示す。
【0102】
【化12】
【0103】実施例35 実施例34と同様な装置に、1−(2′−シアノビフェ
ニル−4−イル)メチル−4−(1−ヒドロキシ−1−
メチルエチル)−2−プロピルイミダゾール−5−カル
ボン酸エチルエステル43.5g(0.10モル)、ア
ジ化ナトリウム13.1g(0.20モル)、トリエチ
ルアミン塩酸塩31.9g(0.23モル)およびトル
エン206mlを入れ、実施例34と同様の操作で反
応、処理を行った。その結果、4−(1−ヒドロキシ−
1−メチルエチル)−2−プロピル−1−{4−[2−
(テトラゾール−5−イル)フェニル]フェニル}メチ
ルイミダゾール−5−カルボン酸27.0g(0.06
モル)を得た。これは収率60.0%[1−(2′−シ
アノビフェニル−4−イル)メチル−4−(1−ヒドロ
キシ−1−メチルエチル)−2−プロピルイミダゾール
−5−カルボン酸エチルエステル基準]に相当した。
【0104】実施例36 実施例34と同様な装置に、1−(2′−シアノビフェ
ニル−4−イル)メチル−4−(1−ヒドロキシ−1−
メチルエチル)−2−プロピルイミダゾール−5−カル
ボン酸エチルエステル43.5g(0.10モル)、ア
ジ化ナトリウム8.5g(0.13モル)、トリエチル
アミン塩酸塩20.8g(0.15モル)およびトルエ
ン206mlを入れ、実施例34と同様の操作で反応、
処理を行った。その結果、4−(1−ヒドロキシ−1−
メチルエチル)−2−プロピル−1−{4−[2−(テ
トラゾール−5−イル)フェニル]フェニル}メチルイ
ミダゾール−5−カルボン酸20.3g(0.045モ
ル)を得た。これは収率45.0%[1−(2′−シア
ノビフェニル−4−イル)メチル−4−(1−ヒドロキ
シ−1−メチルエチル)−2−プロピルイミダゾール−
5−カルボン酸エチルエステル基準]に相当した。
【0105】
【発明の効果】本発明によって、反応の制御が容易で、
副反応を抑え、安価な原料で、一般式(3)で表される
5−置換テトラゾール類(ただし、1−(テトラゾリル
ビフェニルメチル)イミダゾール誘導体を除く)を収率
よく、容易、且つ安全に製造することができる。
【0106】また、本発明によって、有機錫化合物を使
用することなく、反応の制御が容易で、副反応を抑え、
安価な原料で、一般式(5)で表される1−(テトラゾ
リルビフェニルメチル)イミダゾール誘導体を収率よ
く、容易、且つ安全に製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 光井 順 兵庫県高砂市曽根町2900番地 東洋化成工 業株式会社化成品研究所内 (72)発明者 織田 亮三 兵庫県高砂市曽根町2900番地 東洋化成工 業株式会社化成品研究所内

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1)で表されるニトリル類(た
    だし、一般式(4)で表される1−(シアノビフェニル
    メチル)イミダゾール誘導体を除く)と一般式(2)で
    表される無機アジ化塩とを、アミン塩の存在下で芳香族
    炭化水素溶媒中において反応させることを特徴とする一
    般式(3)で表される5−置換テトラゾール類(ただ
    し、一般式(5)で表される1−(テトラゾリルビフェ
    ニルメチル)イミダゾール誘導体を除く)の製造方法。 RCN (1) (式中、Rは脂肪族基、脂環式基、芳香族基、芳香族脂
    肪族基、芳香族脂環式基、複素環式基、複素環式脂肪族
    基であり、それぞれ置換基を有していてもよい。) M(N3n (2) (式中、Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であ
    り、nは1または2である。) 【化1】 (式中、Rは前記と同様であり、R1は水素原子または
    炭素数1〜4のアルキル基であり、R2は水素原子また
    は炭素数1〜4のアルキル基である。)
  2. 【請求項2】 無機アジ化塩がアジ化ナトリウムである
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 アミン塩がトリエチルアミン塩酸塩であ
    ることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 芳香族炭化水素溶媒がトルエンまたはキ
    シレンであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
    1項に記載の方法。
  5. 【請求項5】 一般式(4)で表される1−(シアノビ
    フェニルメチル)イミダゾール誘導体と一般式(2)で
    表される無機アジ化塩とを、アミン塩の存在下で芳香族
    炭化水素溶媒中において反応させ、必要に応じて得られ
    た化合物を加水分解させることを特徴とする一般式
    (5)で表される1−(テトラゾリルビフェニルメチ
    ル)イミダゾール誘導体の製造方法。 【化2】 (式中、R1は水素原子または炭素数1〜4のアルキル
    基である。) M(N3n (2) (式中、Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であ
    り、nは1または2である。) 【化3】 (式中、R2は水素原子または炭素数1〜4のアルキル
    基である。)
  6. 【請求項6】 一般式(4)中のR1がメチル基または
    エチル基であり、一般式(5)中のR2が水素原子であ
    ることを特徴とする請求項5に記載の方法。
  7. 【請求項7】 無機アジ化塩がアジ化ナトリウムである
    ことを特徴とする請求項5または6に記載の方法。
  8. 【請求項8】 アミン塩がトリエチルアミン塩酸塩であ
    ることを特徴とする請求項5〜7のいずれか1項に記載
    の方法。
  9. 【請求項9】 芳香族炭化水素溶媒がトルエンまたはキ
    シレンであることを特徴とする請求項5〜8のいずれか
    1項に記載の方法。
JP24071396A 1996-03-21 1996-09-11 5−置換テトラゾール類の製造方法 Expired - Lifetime JP3671266B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24071396A JP3671266B2 (ja) 1996-03-21 1996-09-11 5−置換テトラゾール類の製造方法
US08/805,917 US5744612A (en) 1996-03-21 1997-03-04 Process for preparation of 5- substituted tetrazoles
EP97301876A EP0796852B1 (en) 1996-03-21 1997-03-20 Process for preparation of 5-substituted tetrazoles
DE69707537T DE69707537T2 (de) 1996-03-21 1997-03-20 Verfahren zur Herstellung von 5-substituierten Tetrazolen
US09/004,916 US6040454A (en) 1996-03-21 1998-01-09 Process for preparation of a 1-(tetrazolylbiphenylmethyl)-imidazole derivative

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6490096 1996-03-21
JP8-64900 1996-03-21
JP24071396A JP3671266B2 (ja) 1996-03-21 1996-09-11 5−置換テトラゾール類の製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30314597A Division JP3521304B2 (ja) 1996-03-21 1997-11-05 1−(テトラゾリルビフェニルメチル)イミダゾール誘導体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09309883A true JPH09309883A (ja) 1997-12-02
JP3671266B2 JP3671266B2 (ja) 2005-07-13

Family

ID=26406031

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24071396A Expired - Lifetime JP3671266B2 (ja) 1996-03-21 1996-09-11 5−置換テトラゾール類の製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (2) US5744612A (ja)
EP (1) EP0796852B1 (ja)
JP (1) JP3671266B2 (ja)
DE (1) DE69707537T2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005023785A1 (ja) * 2003-09-04 2005-03-17 Sumitomo Chemical Company, Limited 2’-(1h-テトラゾール-5-イル)ビフェニル-4-カルボアルデヒドの製造方法
WO2005035484A1 (ja) * 2003-10-10 2005-04-21 Toyo Kasei Kogyo Company Limited 1-アリール-5-(トリフルオロメチル)-1h-テトラゾールの製造方法
WO2007013323A1 (ja) * 2005-07-28 2007-02-01 Toyo Kasei Kogyo Company Limited 4,5-ジ(5-テトラゾリル)-[1,2,3]トリアゾール化合物およびその製造方法

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1271068C (zh) * 2003-03-25 2006-08-23 上海医药工业研究院 一种奥美沙坦酯的制备方法
GB0316546D0 (en) 2003-07-15 2003-08-20 Novartis Ag Process for the manufacture of organic compounds
CN101270097B (zh) * 2003-10-10 2011-04-13 东洋纺织株式会社 1-芳基-5-(三氟甲基)-1h-四唑的制备方法
US7528258B2 (en) * 2004-09-02 2009-05-05 Teva Pharmaceutical Industries Ltd Preparation of olmesartan medoxomil
US20060074117A1 (en) * 2004-09-02 2006-04-06 Lilach Hedvati Purification of olmesartan medoxomil
US20070054948A1 (en) * 2004-09-02 2007-03-08 Lilach Hedvati Purification of olmesartan medoxomil
JP2007525504A (ja) * 2004-12-30 2007-09-06 テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド 2.5よりも高いpHでオルメサルタンメドキソミルを調製するための方法
WO2006073519A1 (en) * 2005-01-03 2006-07-13 Teva Pharmaceutical Industries Ltd. Olmesartan medoxomil with reduced levels of impurities
US20060258727A1 (en) * 2005-01-03 2006-11-16 Lilach Hedvati Olmesartan medoxomil with reduced levels of impurities
US7943779B2 (en) 2005-07-29 2011-05-17 Krka Process for the preparation of olmesartan medoxomil
AT502219B1 (de) * 2005-08-04 2007-04-15 Sanochemia Pharmazeutika Ag Verfahren zur reindarstellung von 5-substituierten tetrazolen
US20070105923A1 (en) * 2005-09-14 2007-05-10 Glenmark Pharmaceuticals Limited Substantially pure olmesartan medoxomil and processes for its preparation
EP1764365A1 (en) 2005-09-20 2007-03-21 KRKA, D.D., Novo Mesto A process for the preparation of sartan derivates and intermediates useful in such process
ES2540062T3 (es) 2008-06-09 2015-07-08 Daiichi Sankyo Company, Limited Procedimiento de producción de un compuesto de 1-bifenilmetilimidazol
TWI539948B (zh) 2009-04-28 2016-07-01 第一三共股份有限公司 奧美沙坦酯之製造方法
WO2010126014A1 (ja) 2009-04-28 2010-11-04 第一三共株式会社 新規溶媒和物結晶
CN101993433B (zh) * 2009-08-11 2013-04-24 江苏豪森医药集团有限公司 奥美沙坦有机胺盐及其制备方法和用途
WO2011057384A1 (en) 2009-11-12 2011-05-19 National Research Council Of Canada Polymers of intrinsic microporosity containing tetrazole groups
TWI692547B (zh) * 2015-11-27 2020-05-01 德國艾托特克公司 鈀之電鍍浴組合物及無電電鍍方法
US11655220B2 (en) 2020-10-22 2023-05-23 Hetero Labs Limited Process for the preparation of angiotensin II receptor blockers
US11597705B2 (en) 2021-01-12 2023-03-07 Daegu Catholic University Industry Cooperation Foundation Method for producing 5-methyl-1H-tetrazole

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2977372A (en) * 1958-04-09 1961-03-28 William G Finnegan Process for preparing substituted tetrazoles
DE3634717A1 (de) * 1986-10-11 1988-04-14 Dynamit Nobel Ag Verfahren zur herstellung von 5-methyltetrazol
US4820843A (en) * 1987-05-22 1989-04-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Tetrazole intermediates to antihypertensive compounds
DE3829431A1 (de) * 1988-08-31 1990-03-01 Boehringer Mannheim Gmbh Sulfonamide mit tetrazolylrest, verfahren zur ihrer herstellung sowie arzneimittel
US5284954A (en) * 1990-09-10 1994-02-08 Abbott Laboratories Process for the preparation of tetrazoles
US5484955A (en) * 1992-07-06 1996-01-16 Takeda Chemical Industries, Ltd. Tri-higher alkyl tin azide and its use
JP3419819B2 (ja) * 1993-03-19 2003-06-23 東洋化成工業株式会社 5−(1,1’−ビフエニル)−1h−テトラゾール化合物の製造方法
JPH0753489A (ja) * 1993-06-11 1995-02-28 Sankyo Co Ltd ビフェニルカルボキサミド誘導体の製造法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005023785A1 (ja) * 2003-09-04 2005-03-17 Sumitomo Chemical Company, Limited 2’-(1h-テトラゾール-5-イル)ビフェニル-4-カルボアルデヒドの製造方法
JP2005082496A (ja) * 2003-09-04 2005-03-31 Sumitomo Chemical Co Ltd 2’−(1h−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−カルボアルデヒド結晶およびその製造方法
JP4537678B2 (ja) * 2003-09-04 2010-09-01 住友化学株式会社 2’−(1h−テトラゾール−5−イル)ビフェニル−4−カルボアルデヒド結晶およびその製造方法
WO2005035484A1 (ja) * 2003-10-10 2005-04-21 Toyo Kasei Kogyo Company Limited 1-アリール-5-(トリフルオロメチル)-1h-テトラゾールの製造方法
US7282609B2 (en) 2003-10-10 2007-10-16 Toyo Kasei Kogyo Company Limited Process for production of 1-aryl-5-(trifluoromethyl)-1H-tetrazoles
WO2007013323A1 (ja) * 2005-07-28 2007-02-01 Toyo Kasei Kogyo Company Limited 4,5-ジ(5-テトラゾリル)-[1,2,3]トリアゾール化合物およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE69707537D1 (de) 2001-11-29
JP3671266B2 (ja) 2005-07-13
US5744612A (en) 1998-04-28
EP0796852A1 (en) 1997-09-24
EP0796852B1 (en) 2001-10-24
DE69707537T2 (de) 2002-07-18
US6040454A (en) 2000-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH09309883A (ja) 5−置換テトラゾール類の製造方法
Koguro et al. Novel synthesis of 5-substituted tetrazoles from nitriles
JP4889737B2 (ja) N置換イソチアゾリノン誘導体の製造
JPH08325248A (ja) テトラゾール類の新規な合成試薬及びそれを用いたテトラゾール類の製造方法
JP3521304B2 (ja) 1−(テトラゾリルビフェニルメチル)イミダゾール誘導体の製造方法
JP3419819B2 (ja) 5−(1,1’−ビフエニル)−1h−テトラゾール化合物の製造方法
JPS63112570A (ja) 5−メチルテトラゾールの製造法
KR20070036080A (ko) 히드라존 화합물의 제조 방법
JP2587336B2 (ja) 塩酸ベバントロールの製造方法
JP2005154420A (ja) アルコキシ−5−(5−トリフルオロメチル−テトラゾール−1−イル)ベンズアルデヒドの製造方法
CA2686156A1 (en) Process for preparing valsartan
JP2001515496A (ja) 5−アミノメチル−クロロピリジン類の製造方法
JP3032980B1 (ja) 2―ピリジルピリジン誘導体の製造方法
JP3796280B2 (ja) 1−(2−クロロフエニル)−5(4h)−テトラゾリノンの製造方法
JP2918899B2 (ja) 環状イミド誘導体の製造方法
US6211382B1 (en) Process for the preparation of 1,3-diaza-spiro (4.4) non-1-en-4-one derivatives and 1-cyano-1-acylaminocyclopentane intermediates
JP3486922B2 (ja) 酸アミドの製造法
JPH07267950A (ja) 5−クロロ−n−(4,5−ジヒドロ−1h−イミダゾール−2−イル)−2,1,3−ベンゾチアジアゾール−4−アミン又はその酸付加塩の製造方法
JPH06192170A (ja) 4−ブロモメチルビフェニル化合物の製造法
JP3058806B2 (ja) 1,3,6−トリアルキルヘキサヒドロ−1,3,6−トリアゾシン−2−オンおよびその製造方法
US6239286B1 (en) Process for the preparation of 1,3-diaza-spiro (4.4) non-1-en-4-one derivatives and 1-cyano-1-acylamino-cyclopentane intermediates
JPH09227490A (ja) 3−(または4−)シアノベンズアルデヒドの製造方法
WO2005035484A1 (ja) 1-アリール-5-(トリフルオロメチル)-1h-テトラゾールの製造方法
JP2004323392A (ja) ビテトラゾールアミン化合物の製造方法
JPH07330701A (ja) 芳香族アミド化合物の製造法

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041222

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050216

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050323

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050404

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428

Year of fee payment: 6

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428

Year of fee payment: 6

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130428

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130428

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140428

Year of fee payment: 9

EXPY Cancellation because of completion of term