JPH09289100A - 安定性向上のための技術と結合したrfプラズマ電源 - Google Patents

安定性向上のための技術と結合したrfプラズマ電源

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JPH09289100A
JPH09289100A JP8049360A JP4936096A JPH09289100A JP H09289100 A JPH09289100 A JP H09289100A JP 8049360 A JP8049360 A JP 8049360A JP 4936096 A JP4936096 A JP 4936096A JP H09289100 A JPH09289100 A JP H09289100A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 発振の問題を解決する。 【解決手段】 スプリッタ、2つの分枝回路及び結合器
を有するRF電力増幅器。スプリッタは、RF信号を受
容する入力線と、RF信号から誘導される第1の出力信
号を伝送する第1の出力線と、RF信号から誘導される
第2の出力信号を伝送する第2の出力線とを有してい
る。第1の分枝回路は、第1の出力信号を受容して、そ
こから第1の誘導信号を発生させる。第2の分枝回路
は、第2の出力信号を受容して、そこから第1の誘導信
号を発生させる。第1の分枝回路は、第1の電力増幅器
と、位相移動要素とを有している。第2の分枝回路は、
第2の電力増幅器を有している。第1の誘導信号を受容
する第1の入力と第2の誘導信号を受容する第2の入力
とを有する結合器は、この第1の誘導信号と第2の誘導
信号とを結合させて出力信号を発生させる。位相移動要
素は、第1の電力増幅器の出力線と結合器の第1の出力
との間に接続されて、第1の電力増幅器から結合器へと
通過する信号における位相移動を第2の電力増幅器から
結合器へと通過する信号と相対的に行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ処理チャ
ンバに用いられる等のRF電源に関する。
【0002】
【従来の技術】RF励起プラズマチャンバでは、RF電
源とプラズマとの間に発振現象(oscillation phenomeno
n)を示すことがある。RF励起プラズマシステムでは、
プラズマのインピーダンスは迅速に変化することがあ
る。プラズマへ供給された電力が変化すれば、インピー
ダンスも変化する。同様に、負荷インピーダンスの変化
が生じれば、RF電源の出力電力が変化するだろう。こ
れらの変化が協同して、急速な「脱走」のシナリオある
いは発振を生じることとなる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】発振は、RF信号の振
幅変調として認識することができ、これは、RF電源が
急速インピーダンス(そして即ち急速出力電力)のエク
スカーションに応答するような様式による動作周波数よ
りも低い周波数であれば、ほぼ、どの周波数においても
生じ得る。進行電力又は反射保護制御ループ(reflected
protection control loop)によって、「脱走」の環境
が制限され妨げられれば、そのループ対応周波数で発振
が生じるだろう。「脱走」の環境が、RF電源の電力増
幅器の蓄積エネルギーの一時的な空乏を生じさせるだけ
であるならば、もっと高い周波数で発振を生じさせるこ
とができる。
【0004】
【課題を解決するための手段】RF電源の新しい構成
は、急速に変化する非線形インピーダンスに対しての電
源の対応の方法を変えている。この新たな構成の電源
は、50オーム実部(50 ohms real)の抵抗の完全整合点
に近い単位から、最大進行電力を使用可能にする。この
ことが、プラズマインピーダンスが変化した際に、電源
からの供給電力が高くなることを防止するため、相互作
用による発振が開始することはない。
【0005】概説的に、1つの特徴としては、本発明
は、スプリッタ(splitter)と、2つの分枝回路と、結合
器(combiner)とを備えるRF電源である。スプリッタ
は、RF信号を受容する入力線と、RF信号から誘導さ
れる第1の出力信号を伝送する第1の出力線と、RF信
号から誘導される第2の出力信号を伝送する第2の出力
線とを有している。第1の分枝回路は、第1の出力信号
を受容して、そこから第1の誘導信号を発生させる。第
2の分枝回路は、第2の出力信号を受容して、そこから
第1の誘導信号を発生させる。第1の分枝回路は、第1
の電力増幅器と、位相移動要素とを有している。第2の
分枝回路は、第2の電力増幅器を有している。第1の誘
導信号を受容する第1の入力と第2の誘導信号を受容す
る第2の入力とを有する結合器は、この第1の誘導信号
と第2の誘導信号とを結合させて出力信号を発生させ
る。位相移動要素は、第1の電力増幅器の出力線と結合
器の第1の出力との間に接続されて、第1の電力増幅器
から結合器へと通過する信号における位相移動を第2の
電力増幅器から結合器へと通過する信号と相対的に行
う。
【0006】概説的に、1つの特徴としては、本発明
は、上述の電源を用いて、電力をプラズマ処理チャンバ
へと供給している。
【0007】好ましい具体例では、以下の特徴を有して
いる。電力がプラズマへと供給された際のRF電源の発
振による不安定性を防止するためには、第1の増幅器の
出力において位相移動があれば充分である。更に具体的
には、位相移動はおよそ90゜+n(180゜)であ
り、nは整数で、0゜結合器が用いられると仮定する。
第1の分枝回路は更に、スプリッタの第1の出力と第1
の電力増幅器との間に接続された第2の位相移動要素を
有している。この第2の位相移動要素は、第2の位相移
動を生じさせるが、これが、第1番目に述べた位相移動
要素の位相移動へ加えられた時に、第2の誘導信号に対
して所定の位相関係を有するような第1の誘導信号を生
じさせる。この所定の位相関係は、結合器の要求項目に
よって決定される。0゜電力結合器及びスプリッタを用
いた場合は、第1番目に述べた位相移動及び第2番目の
位相移動によって、第1の誘導信号が第2の誘導信号と
同調するようになる。例えば、第1番目に述べた位相移
動はおよそ90゜+n(180゜)+m(360゜)で
あり、n及びmは整数、また、第2の位相移動はおよそ
270゜+n(180゜)+k(360゜)であり、k
は整数である。180゜結合器と0゜スプリッタを用い
た場合は、第1番目に述べた位相移動及び第2の位相移
動により、第1の誘導信号は第2の誘導信号に対して1
80゜位相がずれるようになる。例えば、第1番目に述
べた位相移動はおよそ90゜+n(180゜)+m(3
60゜)であり、n及びmは整数、また、第2の位相移
動はおよそ270゜+n(180゜)+k(360゜)
であり、kは整数である。
【0008】また、好ましい具体例では、位相移動要素
は、所定の長さを有するケーブルのセグメントである。
【0009】概説的に、また1つの特徴においては、本
発明は、RF信号を増幅する方法である。この方法は、
以下のステップを有している:RF信号を第1の出力信
号と第2の出力信号とに分割するステップと;第1の出
力信号の電力を増幅して、第1の増幅電力を生じさせる
ステップと;第1の出力信号の電力を増幅して、第1の
増幅電力を生じさせるステップと;第2の増幅信号を第
1の増幅信号に対して位相移動させて、位相移動信号を
生じさせるステップと;第1の増幅信号と位相移動信号
とを結合させて電力出力信号を生じさせるステップと。
【0010】本発明は、実施が容易であり、また、特
に、プラズマチャンバ内のプラズマへ電力を供給するR
F電力供給器においてしばしば生じる発振の問題を解決
する。
【0011】その他の利点及び特徴は、下記の好ましい
具体例によって更に明らかになるであろう。
【0012】
【発明の実施の形態】図1に示されるように、半導体デ
バイスの製造に用いることもできる典型的なRF処理シ
ステムの基本要素は、RF電源2と、プラズマチャンバ
4と、RF整合回路6とを有している。RF電源は、同
軸ケーブル8を介してプラズマチャンバへとRF電力信
号を供給して、プラズマを発生させる。このケーブル
は、整合回路を介して、プラズマチャンバ内部のプラズ
マ発生要素(例えばコイル又は電極)に接続されるが、
この整合回路は、プラズマ発生要素の近くのチャンバに
適正に載置されていることが好ましい。整合回路はプラ
ズマチャンバのインピーダンスを、RF電源の出力イン
ピーダンスと典型的には50オームである同軸ケーブル
のインピーダンスとに整合させる。電源の出力に認めら
れるインピーダンスが50オーム(50 ohms real)と全く
等しい(即ち、完全に抵抗的である)場合にチャンバ内
のプラズマへ移動される電力が最大になる。同軸ケーブ
ルを通じた電源に認められるインピーダンスがこのシス
テムの特性インピーダンス、例えば50オーム、でない
場合は、不整合が生じて、チャンバへと送られる電力の
一部が電源へと反射し返される。
【0013】従来からのデザインの整合回路は、所望の
整合の条件を実現するよう調整可能な、可変リアクティ
ヴ要素(variable reactive element)を有している。整
合回路を包含するユニットの内部に配置される検出回路
10が、整合回路における電圧及び電流をモニタし、整
合回路が最適な整合条件を実現したかどうかを決定す
る。この事は、典型的には、整合回路の入力電流及び入
力電圧をサンプリングしてこれらから入力インピーダン
スを決定することによってなされる。検出回路は、整合
が最適ではないことを検知したときには、整合回路内部
のリアクティブ要素を変化させて回路を最適な整合状態
に移すための信号を発生させる。
【0014】RF励起チャンバにおいて、RF電源とプ
ラズマとの間に生じる発振現象については、まだ完全に
解明されてはいないが、その一部はRF電源の進行電力
を変調する非線形プラズマインピーダンスによって生じ
ることを、我々は示してきた。上記に指摘したように、
RF励起プラズマシステムにおいては、プラズマのイン
ピーダンスが急速に変化し、また、プラズマへ供給され
る電力が変化した載にもこれがプラズマのインピーダン
スを変化させる。そして、電源の負荷インピーダンスに
おけるこれら上記の変化によって、RF電源の出力電力
を変化させることになる。電力の関数としてのプラズマ
インピーダンス非線形性の傾斜が、RF電源に固有な形
にある場合は、プラズマインピーダンスが変化すること
により、これに対応して電源の出力電力も上昇し、急速
な「脱走」のシナリオを生じさせるだろう。この環境に
対しての制御は、典型的なRF電源の進行電力ループ又
は不整合保護回路だけであり、これは最終的には、その
ループ時間定数に従って応答し、電源出力に引き入れ返
す。そして、プラズマインピーダンスは始点に戻り、プ
ロセスが再度開始して、電力/インピーダンス発振を持
続させる。また、この発振は、「脱走」状態を支持する
ために供給可能な瞬時エネルギーの量を制限する電源の
要素に蓄積された、エネルギーの量によって決まる周波
数で、生じ得ることとなる。
【0015】電源において認められるプラズマ非線形性
の位相及び傾斜が重要な因子であるため、発振の存在
は、プラズマ−電源間の同軸ケーブルの長さ(即ち、電
気的長さ)の関数である。このことは、実験において、
チャンバのためのRFシステムが特定のケーブル長さで
だけ安定であるということで、繰り返し示されてきた。
望ましくないことに、安定したRF動作に必要なケーブ
ル長さはRF整合回路網の関数であり、プラズマインピ
ーダンスの性質の関数であり、また、電源の性質の関数
である。従って、最適な長さはシステム間で一定ではな
い。この事により、製造の環境において問題を引き起こ
す。
【0016】上述の発振の問題を解決する電源のデザイ
ンの内部構造を説明する前に、まず、本発明が排除する
不安定性を、何が生じさせるのかを、更に詳しく理解す
ることが有用である。この最後に、RF電源20の基本
構造を示す図2を参照することとする。電源20は、R
F信号を発生させるRF信号ソース22と、チャンバ内
にプラズマを発生させるために要するレベルまでRF信
号を増幅する電力増幅器24とを有している。この図及
び残りの図においては、プラズマチャンバ内のプラズマ
は、負荷、ZL 、としてモデル化されている。この最も
シンプルな形態では、電力増幅器24は、シングルステ
ージのRFトランジスタ電力増幅器である。進行電力、
FWD 、は、負荷ZL に入射する電力として定義され
る。このようなシステムに対しては、ZL に対する進行
電力の典型的な性質は、図3(a)のスミス図表に与え
られる。
【0017】背景としては、スミス図表は、RF伝送線
回路を解析するために、いわゆる当業者間で広く用いら
れている便利な道具である。簡単に言えば、これは、反
射係数面(即ちΓ−面)における規格化抵抗及びリアク
タンスのグラフプロットである。反射係数、Γ、は、特
性インピーダンスZ0 を有するロスの小さな伝送線が終
了するところにある負荷ZL での反射電圧の複素振幅と
入射電圧の複素振幅との比で定義される。
【0018】これは数学的に、以下のように表現され
る:
【数1】 ここで、j=(−1)1/2 である。その例が図3(b)
に示されているスミス図表は、Γ−空間のプロットであ
り、水平軸がΓr を与え、垂直軸がΓj を与える。規格
化負荷ZL /Z0 と称されるもう一つの有用な量は、以
下に等しく:
【数2】 スミス図表にプロットされた場合のrの異なる値は、Γ
r 軸に沿って配置される中心をそれぞれ有し、且つ全て
がΓ=1.0∠0゜を通過する、半径の異なる円の一群
として示されている。スミス図表にプロットされた場合
のxの異なる値は、Γr =1の線に沿って配置される中
心をそれぞれ有し、且つ全てがΓ=1.0を通過する、
半径の異なる円の別の一群として示されている。従っ
て、スミス図表によれば、反射係数に対する負荷インピ
ーダンスを図から非常に簡単に読み取ることができ、そ
の逆も同様である。じきに明らかになることであろう
が、電力増幅器に認められるインピーダンスに対して遅
れ線や位相移動器が持つ効果を迅速に決定することも容
易になる。
【0019】この背景をもって、図3(a)に示されて
いる電力カーブに戻ることにする。スミス図表の中心
は、伝送線特性インピーダンスと電力供給出力インピー
ダンスZ0 に等しく、このケースでは50オーム実部(5
0 ohms real)である。縦軸は、Γ−面(Z−面とも称す
る)に垂直であるが、これはPFWD 軸である。負荷イン
ピーダンスZL の関数としての進行電力PFWD のプロッ
トは、図示されるように、略傾斜した、比較的平坦な面
50である。ZL=Z0である整合点では、電力増幅器に
より与えられる進行電力は、52で標識されるように示
され、即ち、PFW D 軸は電力カーブ50と交差する。実
際、ZL が50オーム実部(50 ohm real)のインピーダ
ンスの値から一定の方向に遠ざかる場合に、進行電力は
著しく増加する。この特性は、前述したような不安定な
状態を導き得る。
【0020】プラズマ処理チャンバに典型的に用いられ
るような高い電力レベルを実現させるためには、マルチ
ステージのRF増幅器を並列に結合させることがしばし
ば必要になる。図4には、2ステージに係る従来からの
並列の構成の例を例示する。図示のように、2つの別々
の増幅器60a及び60bが、電力スプリッタ62及び
電力結合器64を用いて接続されている(電力スプリッ
タ及び電力結合器の設計及び動作の説明は、標準的なハ
ンドブック、例えば、Single-Sideband Systems and ci
rcuit, Ed. Williams E. Sabin and Edger O. Scoenke,
McGraw-Hill Book Company, 425〜447頁、等を
参照)。
【0021】電力スプリッタ62は、RFソースからR
F信号PIN を受容して、そこから、電力の等しい2つ
の同一の信号を発生する。増幅器60a及び60bのそ
れぞれは、電力スプリッタ62からの信号の対応する一
方を増幅する。そして、これらの増幅器の出力は、電力
結合器64に接続されて、電力増幅器60aの出力電力
及び60bの出力電力の合計と等しい電力を有する出力
信号を発生させる。
【0022】ここに説明される具体例では、電力結合器
64は、逆に動作される点を除いて、電力スプリッタ6
2と同じタイプのデバイスである。即ち、電力結合器の
入力線は電力スプリッタの出力線となり、また、電力結
合器の出力線は電力スプリッタの入力線となる。また、
これらのデバイスは、第3のポートに接続された電力抵
抗器R1 を有している。電力結合器は、電力抵抗器R1
に吸収されるあらゆる増幅度又は位相不均衡で、2つの
入力信号を等しく結合する。図4では、電力スプリッタ
62及び電力結合器64は、0゜(degree)デバイスであ
る。即ち、これら2つの線に現れている信号は、相互に
同調している。また、180゜デバイスも商業的に入手
可能である。しかし、用いるタイプに関係なく、電力増
幅器60aの出力に認められるインピーダンスは、電力
増幅器60bに認められるインピーダンスと同一であ
る。従って、0゜デバイス又は180゜デバイスを用い
た場合は、増幅器60aと60bの進行電力対ZL 特性
は、図3に示されるシングルステージと同じである。従
って、プラズマインピーダンスの変化によって一方の増
幅器の電力出力が増加するならば、他方の増幅器の電力
も増加する。
【0023】RF増幅器をこの方法で結合すれば上述し
たRF電源−プラズマの相互作用による発振を生じさせ
ることが、知られていた。プラズマインピーダンスがあ
る方向に変化したときに双方の分枝において進行電力が
増加し得るため、発振が開始してしまう。
【0024】図5の回路で示される変形を行うことによ
り、不安定となる可能性が完全に排除される。この変形
回路は、位相移動要素72及び74が、増幅器60aの
前後に付加されている点を除けば、図4の回路と同じで
ある。更に具体的には、ここに説明される具体例では、
270゜+n(180゜)+m(360゜)の位相移動
要素72が電力増幅器60aの前に付加され、90゜+
n(180゜)+k(360゜)位相移動要素74が電
力増幅器60aに付加されている。ここで、n、m及び
kは整数であり、いかなる正の値又はゼロをとることが
できる。位相移動要素74は、電力増幅器60aに認め
られるインピーダンスを、電力増幅器60bに認められ
るインピーダンスに関して回転させる。位相移動要素7
2は、下側の分枝からの入力信号と同調する信号を電力
結合器64の入力において発生させる(即ち、これら2
つの入力の間の位相差が360゜の整数倍となる)に充
分な位相移動を、上側の分枝に加える。
【0025】位相移動要素を、代りに、電力増幅器60
bの前に挿入することも可能であることに注意するべき
である。そのケースでは、90゜+n(180゜)+m
(360゜)の位相移動を導入することが、電力結合器
64の入力における位相に求められることを満たす上で
必要である。
【0026】位相移動要素60a及び60bは、適当な
長さを有するケーブル(例えば、約30”の長さを有す
るケーブルは13.56MHzの信号に対して90゜の
位相移動を生じさせる)の部分を用いることにより、簡
単に実施可能である。
【0027】図5の構成では、ZL が厳密に50オーム
実部(50 ohms real)である場合は、電力増幅器60a及
び60bの双方は、50オーム実部(50 ohms real)の負
荷インピーダンスを与えるだろう。しかし、ZL が50
オーム実部(50 ohms real)ではない場合は(即ち、シス
テムが完全な整合状態から離れてしまったならば)、電
力増幅器60aは、電力増幅器60bに認められるイン
ピーダンスと1/4波長(即ち90゜)だけ位相がずれ
たインピーダンスを現すであろう。更に重要なことに、
電力増幅器60aの電力カーブも、電力増幅器60bの
電力カーブに比べて1/4波長だけ位相がずれているだ
ろう。換言すれば、図3に示されているような電力増幅
器60bの電力カーブを仮定すれば、電力増幅器60a
の電力カーブは、電力軸の回りに180゜(即ち90゜
を2回)回転されたものであろう。ここで、インピーダ
ンスが整合状態から遠ざかる変化があっても、これが2
つの電力増幅器の電力出力を増加させないだろう。プラ
ズマインピーダンスの変化によって電力増幅器60bの
出力電力が増加した場合は、電力増幅器60aの出力が
減少するだろう。このことは、出力増幅器の出力が増幅
器の電源の電流又は電圧の能力に制限されない限り、通
常のクラスA、B及びCの電力増幅器全ての特徴であ
る。換言すれば、一方の電力増幅器が、他方の電力増幅
器の不安定になる可能性のある応答を、補償する傾向を
有するだろう。
【0028】電力結合器64は、以下の方法で、電源の
安定化を更に促進する。2つの電力増幅器60a及び6
0bが、等しい振幅を有する信号を発生させて、同調
し、即ち等しい進行電力を有するときは、電力結合器6
4はこれら2つの信号を結合して、2つの電力増幅器の
進行電力の合計である全進行電力を有する出力信号を作
り出す。電力結合器64へ至る2つの入力信号が同調し
且つ等しい振幅を有するので、電力抵抗器R1 は電力を
損失させない。しかし、2つの電力増幅器がバランスし
ていない信号を発生している場合は、電力抵抗器R1
この振幅の不均衡を吸収するだろう。
【0029】位相移動要素74及び電力結合器64の正
味の効果は、図6に示されているように、そこに現れて
いる進行電力対ZL 特性を作り出す。その結果得られた
電源の電力カーブは、最適整合点のところ又はその近く
で最大値80を示している。しかし、用いられる電力増
幅器の特性によっては、最大値は実際に整合点に配置さ
れないこともある。それでも、得られる電力カーブは最
適整合点の近傍に形状を有しているだろうことから、最
適整合点から遠ざかるいかなる動きも電源の電力出力を
著しく増加させることがない(即ち、前に見られたタイ
プの不安定さを生じさせるほど大きくは増加しない)。
実に、この技術は、上述の電源−プラズマ相互作用発振
の問題を完全に解決することが立証されている。
【0030】図5の構成は、この目的を達成する構成だ
けではない。重要なことは、一方の電力増幅器の出力の
ところで、充分な位相移動を加えていることである。2
つの電力増幅器のステージの出力で認められるインピー
ダンスに限っては、この技術は、前述のタイプの不安定
さを排除するように機能する。換言すれば、電力増幅器
60bの出力における位相移動は、90゜である必要は
ない。この電力増幅器が、他方の電力増幅器に応じて生
じ得る不安定さを補償するのであれば、どの量でもよ
い。この量は、用いられている特定の電力増幅器及び特
定の構成に対して、実験的に決定できる。位相移動要素
72によって与えられる第2の位相移動は、0゜結合器
の入力のところで存在する要求、即ち、相互に同調しな
ければならないことを、容易に満たしている。
【0031】更に、この技術は、2つ以上のステージを
有する電源に用いられてもよい。2以上の電源が用いら
れた場合は、これらを2つのグループに分け、各グルー
プを、上述のような2ステージの構成の単一の電力増幅
器として取り扱うことが可能である。あるいは、電力増
幅器は、別々に取り扱われてもよい。例えば、図7に示
されるように4つの電力増幅器がある場合は、これらの
電力増幅器のうちの3つの出力のところにはそれぞれ、
45゜、90゜及び135゜の位相移動要素を用いるこ
とが可能である。これらの位相移動要素は、その隣に対
して一方の電力増幅器から90゜だけ、電力カーブを回
転させるように動作する。
【0032】一般的には、xステージ(xは典型的には
偶数の整数である)が用いられている場合は、r(18
0゜/x)の位相移動要素を用いる1つのアプローチが
ある。ここで、rはステージを特定し、r=1,2,・
・・,xである。
【0033】図8に示される別の具体例では、180゜
電力結合器65が用いられている。このケースでは、前
述の270゜+n(180゜)+k(360゜)の位相
移動要素の代りに、90゜+n(180゜)+k(36
0゜)の位相移動要素が電力増幅器60aの前に用いら
れている。180゜電力結合器の入力に到達する信号
が、位相が180゜ずれていなければならないため、こ
れが必要である。
【0034】また、異なるデザインの、それぞれが他方
の増幅器の電力カーブを補償する電力カーブを有してい
る、2つの電力増幅器を用いることも可能である。
【0035】ここ説明されている具体例で用いられる典
型的な電力レベルは、13.56MHzで1kWであ
る。しかし、この技術は、プラズマチャンバ内で用いら
れるだろうあらゆる周波数(例えばRF)及び電力レベ
ルで機能する。
【0036】上述の具体例に対して、電力スプリッタの
出力と電力増幅器の入力の間、又は、電力増幅器の出力
と結合器の入力との間に、何か接続があれば、それは典
型的には信号に位相移動を導入するだろう。この導入さ
れた位相移動の量は、回路の長さによって小さくもなれ
ば大きくもなるだろう。従って、図には、全ての分枝の
全ての増幅器の入力及び出力の両方に位相移動要素があ
ることが暗黙である。しかし、説明を簡単にし、且つ、
重要な位相移動の相対差を強調するため、これらは示さ
れない。
【0037】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の電源
では、プラズマインピーダンスが変化した際に、電源か
らの供給電力の増加が防止されるため、相互作用による
発振が開始することはない。
【0038】従って、RF電力供給器においてしばしば
生じる発振の問題を解決することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】RFプラズマシステムのブロック線図である。
【図2】典型的なシングルステージRFトランジスタ電
力増幅器及び負荷のブロック線図である。
【図3】(a)は典型的なRFトランジスタ増幅器の進
行電力出力対負荷のインピーダンスのグラフであり、
(b)はスミス図表である。
【図4】従来から用いられる典型的な高出力RF電源の
ブロック線図である。
【図5】本発明に従って構成されるRF電源のブロック
線図である。
【図6】図4の電源に関する進行電力の出力の等高線図
である
【図7】4つの電力増幅器を用いた、本発明の具体例の
ブロック線図である。
【図8】180゜電力結合器を用いた別の具体例のブロ
ック線図である。
【符号の説明】
2…RF電源、4…プラズマチャンバ、6…RF整合回
路、8…同軸ケーブル、10…検出回路、20…RF電
源、22…RF信号ソース、24…電力増幅器、50…
電力カーブ、60a,60b…増幅器、62…電力スプ
リッタ、64,65…電力結合器、72,74…位相移
動要素、80…最大値。
フロントページの続き (71)出願人 596031653 コムデル アールエフ パワー システム ズ Comdel RF Power Sys tems アメリカ合衆国, マサチューセッツ州 01915, ビバリー, ソヒアー ロード 126 126 Sohier Road Beve rly, MA 01915 (72)発明者 ブラッドリー オー. スティムソン アメリカ合衆国, カリフォルニア州 94040, マウンテン ヴュー, ドュー イ プレイス 1105 (72)発明者 ポール ダブリュー. ランメル アメリカ合衆国, マサチューセッツ州 01902, リン, ビーコン ヒルズ コ ート 58

Claims (40)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 RF電力増幅器であって、 RF信号を受容する入力線と、前記RF信号から誘導さ
    れる第1の出力信号を伝送する第1の出力線と、前記R
    F信号から誘導される第2の出力信号を伝送する第2の
    出力線と有するスプリッタと、 前記第1の出力信号を受容して、そこから第1の誘導信
    号を発生させる第1の分枝回路であって、前記第1の分
    枝回路は、第1の電力増幅器と位相移動要素とを備え、
    前記第1の電力増幅器は出力線を有する、前記第1の分
    枝回路と、 前記第2の出力信号を受容して、そこから第2の誘導信
    号を発生させる第2の分枝回路であって、前記第2の分
    枝回路は、出力線を有する第2の電力増幅器を備える、
    前記第2の分枝回路と、 第1の入力と第2の入力とを備える結合器であって、前
    記第1の入力は前記第1の誘導信号を受容し、前記第2
    の入力は前記第2の誘導信号を受容し、前記結合器は前
    記第1の誘導信号と前記第2の誘導信号とを結合してそ
    こから電力出力信号を作り出す、前記結合器と、を備
    え、前記位相移動要素は、該第1の電力増幅器の該出力
    線と該結合器の該第1の入力との間に接続され、該第1
    の電力増幅器から該結合器へと通過する信号を、該第2
    の電力増幅器から該結合器へ通過する信号に関連して位
    相移動させる、RF電力増幅器。
  2. 【請求項2】 該位相移動が、プラズマへ電力を供給し
    たときに、該RF電力増幅器における発振による不安定
    性を防止するに充分である請求項1に記載のRF電力増
    幅器。
  3. 【請求項3】 該位相移動が、約45゜+n(180
    ゜)であり、nは整数である請求項1に記載のRF電力
    増幅器。
  4. 【請求項4】 該位相移動が、約90゜+n(180
    ゜)であり、nは整数である請求項1に記載のRF電力
    増幅器。
  5. 【請求項5】 前記第1の分枝回路が更に、該スプリッ
    タの該第1の出力と該第1の電力増幅器との間に接続さ
    れた第2の位相移動要素を備え、前記第2の位相移動要
    素は、第1番目に述べられた位相移動要素の位相移動に
    加えられたときに、該第1の誘導信号は該第2の誘導信
    号に対して所定の位相関係を有するようになり、前記所
    定の位相関係は、該結合器の要求によって決定される、
    請求項1に記載のRF電力増幅器。
  6. 【請求項6】 該第1番目に述べられた位相移動と第2
    の位相移動とにより、該第1の誘導信号が該第2の誘導
    信号と同調する請求項5に記載のRF電力増幅器。
  7. 【請求項7】 該第1番目に述べられた位相移動が約9
    0゜+n(180゜)+m(360゜)であり、n及び
    mは整数、また、第2の位相移動は約270゜+n(1
    80゜)+k(360゜)であり、kは整数である、請
    求項6に記載のRF電力増幅器。
  8. 【請求項8】 該第1番目に述べられた位相移動と該第
    2の位相移動とにより、該第1の誘導信号が、該第2の
    誘導信号と180゜位相がずれる請求項5に記載のRF
    電力増幅器。
  9. 【請求項9】 該第1番目に述べられた位相移動が、約
    90゜+n(180゜)+m(360゜)であり、n及
    びmは整数、また、第2の位相移動は約90゜+n(1
    80゜)+k(360゜)であり、kは整数である、請
    求項8に記載のRF電力増幅器。
  10. 【請求項10】 該位相移動要素が、所定の長さのケー
    ブルのセグメントである請求項5に記載のRF電力増幅
    器。
  11. 【請求項11】 該第2の位相移動要素が、所定の長さ
    のケーブルのセグメントである請求項10に記載のRF
    電力増幅器。
  12. 【請求項12】 該結合器が0゜結合器である請求項5
    に記載のRF電力増幅器。
  13. 【請求項13】 該結合器が180゜結合器である請求
    項5に記載のRF電力増幅器。
  14. 【請求項14】 前記第2の分枝回路が更に、該スプリ
    ッタの該第2の出力と該第2の電力増幅器との間に接続
    された第2の位相移動要素を備え、前記第2の位相移動
    要素によって該第2の誘導信号は該第1の誘導信号に対
    して所定の位相関係を有するようになり、前記所定の位
    相関係は、該結合器の要求によって決定される、請求項
    1に記載のRF電力増幅器。
  15. 【請求項15】 RF電力増幅器であって、 RF信号を受容する入力線と、前記RF信号から与えら
    れる第1の出力信号を伝送する第1の出力線と、前記R
    F信号から与えられる第2の出力信号を伝送する第2の
    出力線と有するスプリッタと、 前記第1の出力信号を受容して、そこから第1の誘導信
    号を発生させる第1の分枝回路であって、前記第1の分
    枝回路は、第1の電力増幅器を備える、前記第1の分枝
    回路と、 前記第2の出力信号を受容して、そこから第2の誘導信
    号を発生させる第2の分枝回路であって、前記第2の分
    枝回路は、出力線を有する第2の電力増幅器を備える、
    前記第2の分枝回路と、 第1の入力と第2の入力と出力とを備える結合器であっ
    て、前記第1の入力は前記第1の誘導信号を受容し、前
    記第2の入力は前記第2の誘導信号を受容し、前記結合
    器は前記第1の誘導信号と前記第2の誘導信号とを結合
    してそこから電力出力信号を作り出す、前記結合器と、
    を備え、該結合器の出力に接続される負荷において、該
    第1の電力増幅器は第1の進行電力カーブ面に特性を有
    し、該第2の電力増幅器は第2の進行電力カーブ面に特
    性を有し、該第1の電力増幅器の進行電力のレベルを増
    加させる負荷の変化が該第2の電力増幅器の進行電力の
    レベルを減少させるように、該第1の電力カーブ面と該
    第2の電力カーブ面とが相互に向きが与えられ、その逆
    も成り立つ、RF電力増幅器。
  16. 【請求項16】 プラズマ処理装置であって、 プラズマ処理チャンバと、 該プラズマ処理チャンバへ電力を供給するRF電力増幅
    器と、 前記RF電力増幅器に接続されてRF信号を供給するR
    F発信器と、を備え、 前記RF電力増幅器が、 RF信号を受容する入力線と、前記RF信号から与えら
    れる第1の出力信号を伝送する第1の出力線と、前記R
    F信号から与えられる第2の出力信号を伝送する第2の
    出力線と有するスプリッタと、 前記第1の出力信号を受容して、そこから第1の誘導信
    号を発生させる第1の分枝回路であって、前記第1の分
    枝回路は、第1の電力増幅器と位相移動要素とを備え、
    前記第1の電力増幅器は出力線を有する、前記第1の分
    枝回路と、 前記第2の出力信号を受容して、そこから第2の誘導信
    号を発生させる第2の分枝回路であって、前記第2の分
    枝回路は、出力線を有する第2の電力増幅器を備える、
    前記第2の分枝回路と、 第1の入力と第2の入力とを備える結合器であって、前
    記第1の入力は前記第1の誘導信号を受容し、前記第2
    の入力は前記第2の誘導信号を受容し、前記結合器は前
    記第1の誘導信号と前記第2の誘導信号とを結合してそ
    こから電力出力信号を作り出す、前記結合器と、 を備え、 前記位相移動要素は、該第1の電力増幅器の該出力線と
    該結合器の該第1の入力との間に接続され、該第1の電
    力増幅器から該結合器へと通過する信号を、該第2の電
    力増幅器から該結合器へ通過する信号に関連して位相移
    動させる、 RF電力増幅器である、プラズマ処理装置。
  17. 【請求項17】 該位相移動が、約45゜+n(180
    ゜)であり、nは整数である請求項16に記載のプラズ
    マ処理装置。
  18. 【請求項18】 該位相移動が、約90゜+n(180
    ゜)であり、nは整数である請求項16に記載のプラズ
    マ処理装置。
  19. 【請求項19】 前記第1の分枝回路が更に、該スプリ
    ッタの該第1の出力と該第1の電力増幅器との間に接続
    された第2の位相移動要素を備え、前記第2の位相移動
    要素は、第1番目に述べられた位相移動要素の位相移動
    に加えられたときに、該第1の誘導信号は該第2の誘導
    信号に対して所定の位相関係を有するようになり、前記
    所定の位相関係は、該結合器の要求によって決定され
    る、請求項16に記載のプラズマ処理装置。
  20. 【請求項20】 該第1番目に述べられた位相移動と第
    2の位相移動とにより、該第1の誘導信号が該第2の誘
    導信号と同調する請求項19に記載のプラズマ処理装
    置。
  21. 【請求項21】 該第1番目に述べられた位相移動が約
    90゜+n(180゜)+m(360゜)であり、n及
    びmは整数、また、第2の位相移動は約270゜+n
    (180゜)+k(360゜)であり、kは整数であ
    る、請求項16に記載のプラズマ処理装置。
  22. 【請求項22】 該第1番目に述べられた位相移動と該
    第2の位相移動とにより、該第1の誘導信号が、該第2
    の誘導信号と180゜位相がずれる請求項19に記載の
    プラズマ処理装置。
  23. 【請求項23】 該第1番目に述べられた位相移動が、
    約90゜+n(180゜)+m(360゜)であり、n
    及びmは整数、また、第2の位相移動は約90゜+n
    (180゜)+k(360゜)であり、kは整数であ
    る、請求項22に記載のプラズマ処理装置。
  24. 【請求項24】 該位相移動要素が、所定の長さのケー
    ブルのセグメントである請求項19に記載のプラズマ処
    理装置。
  25. 【請求項25】 該第2の位相移動要素が、所定の長さ
    のケーブルのセグメントである請求項24に記載のプラ
    ズマ処理装置。
  26. 【請求項26】 該結合器が0゜結合器である請求項1
    9に記載のプラズマ処理装置。
  27. 【請求項27】 該結合器が180゜結合器である請求
    項19に記載のプラズマ処理装置。
  28. 【請求項28】 RF信号を増幅する方法であって、
    前記方法は、 該RF信号を第1の出力信号と第2の出力信号とにスプ
    リットさせるステップと、 該第1の出力信号を電力増幅して第1の増幅信号を発生
    させるステップと、 該第2の出力信号を電力増幅して第2の増幅信号を発生
    させるステップと、 該第2の増幅信号を該第1の増幅信号に対して位相移動
    させて、位相移動信号を発生させるステップと、 該第1の増幅信号と該位相移動信号とを結合して、そこ
    から電力出力信号を発生させるステップと、を有する方
    法。
  29. 【請求項29】 該第2の増幅信号を該第1の増幅信号
    に対して位相移動させて位相移動信号を発生させる該ス
    テップが、約45゜よりも大きな位相移動を生じさせる
    請求項28に記載の方法。
  30. 【請求項30】 該第2の増幅信号を該第1の増幅信号
    に対して位相移動させて位相移動信号を発生させる該ス
    テップが、約90゜よりも大きな位相移動を生じさせる
    請求項28に記載の方法。
  31. 【請求項31】 該第2の増幅信号を該第1の増幅信号
    に対して位相移動させて位相移動信号を発生させる該ス
    テップが、約90゜+n(360゜)の位相移動を生じ
    させ、nは整数である、請求項30に記載の方法。
  32. 【請求項32】 前記第2の出力信号を増幅する前に、
    該第2の出力信号を該第1の出力信号に対して位相移動
    させるステップを、更に有する請求項28に記載の方
    法。
  33. 【請求項33】 該第2の出力信号を該第1の出力信号
    に対して位相移動させるステップと、該第2の増幅信号
    を該第1の増幅信号に対して位相移動させて、位相移動
    信号を発生させるステップとにより、該位相移動信号が
    該第1の増幅信号と所定の位相関係を有するようにな
    り、該所定の位相関係は、該結合器の応急によって決定
    される、請求項32に記載の方法。
  34. 【請求項34】 該第2の出力信号を該第1の出力信号
    に対して位相移動させるステップと、該第2の増幅信号
    を該第1の増幅信号に対して位相移動させて、位相移動
    信号を発生させるステップとにより、該位相移動信号が
    該第1の増幅信号と同調するようになる請求項33に記
    載の方法。
  35. 【請求項35】 該第2の増幅信号を該第1の増幅信号
    に対して位相移動させて、位相移動信号を発生させるス
    テップが、約90゜+n(180゜)+m(360゜)
    の位相移動を導き、n及びmは整数であり、また、該第
    2の出力信号を該第1の出力信号に対して位相移動させ
    るステップが、約270゜+n(180゜)+k(36
    0゜)の位相移動を導き、kは整数である、請求項34
    に記載の方法。
  36. 【請求項36】 該第2の出力信号を該第1の出力信号
    に対して位相移動させるステップと、該第2の増幅信号
    を該第1の増幅信号に対して位相移動させて、位相移動
    信号を発生させるステップとにより、該位相移動信号が
    該第1の増幅信号に対して180゜位相がずれることに
    なる請求項33に記載の方法。
  37. 【請求項37】 該第2の増幅信号を該第1の増幅信号
    に対して位相移動させて、位相移動信号を発生させるス
    テップが、約90゜+n(180゜)+m(360゜)
    の位相移動を導き、n及びmは整数であり、また、該第
    2の出力信号を該第1の出力信号に対して位相移動させ
    るステップが、約90゜+n(180゜)+k(360
    ゜)の位相移動を導き、kは整数である、請求項36に
    記載の方法。
  38. 【請求項38】 該第2の増幅信号を該第1の増幅信号
    に対して位相移動させて、位相移動信号を発生させるス
    テップが、所定の長さを有するケーブルのセグメントを
    用いて前記位相移動を行う工程を有する請求項32に記
    載の方法。
  39. 【請求項39】 該第2の出力信号を該第1の出力信号
    に対して位相移動させるステップが、第2の所定の長さ
    を有するケーブルの第2のセグメントを用いて前記位相
    移動を行う工程を有する請求項38に記載の方法。
  40. 【請求項40】 RF電源であって、 RF信号を発生するRF発信器と、 前記RF信号を受容する入力と、前記RF信号から誘導
    される第1の出力信号を伝送する第1の出力線と、前記
    RF信号から誘導される第2の出力信号を伝送する第2
    の出力線と有するスプリッタと、 前記第1の出力信号を受容して、そこから第1の誘導信
    号を発生させる第1の分枝回路であって、前記第1の分
    枝回路は、第1の電力増幅器と位相移動要素とを備え、
    前記第1の電力増幅器は出力線を有する、前記第1の分
    枝回路と、 前記第2の出力信号を受容して、そこから第2の誘導信
    号を発生させる第2の分枝回路であって、前記第2の分
    枝回路は、出力線を有する第2の電力増幅器を備える、
    前記第2の分枝回路と、 第1の入力と第2の入力とを備える結合器であって、前
    記第1の入力は前記第1の誘導信号を受容し、前記第2
    の入力は前記第2の誘導信号を受容し、前記結合器は前
    記第1の誘導信号と前記第2の誘導信号とを結合してそ
    こから電力出力信号を作り出す、前記結合器と、を備
    え、前記位相移動要素は、該第1の電力増幅器の該出力
    線と該結合器の該第1の入力との間に接続され、該第1
    の電力増幅器から該結合器へと通過する信号を、該第2
    の電力増幅器から該結合器へ通過する信号に関連して位
    相移動させる、RF電源。
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AT (1) ATE208544T1 (ja)
DE (1) DE69616620T2 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003055286A1 (fr) * 2001-12-10 2003-07-03 Tokyo Electron Limited Source de puissance haute frequence et son procede de commande, et processeur a plasma
JP2008517429A (ja) * 2004-10-15 2008-05-22 ラム リサーチ コーポレーション プラズマ負荷へのrf電力送出安定性を改善する装置および方法
JP2014222717A (ja) * 2013-05-14 2014-11-27 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
JP2017516258A (ja) * 2014-03-24 2017-06-15 アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッドAdvanced Energy Industries, Inc. 高周波発生器ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法
WO2018021464A1 (ja) * 2016-07-27 2018-02-01 イマジニアリング株式会社 昇圧回路を含む電磁波発振装置
US10224184B2 (en) 2014-03-24 2019-03-05 Aes Global Holdings, Pte. Ltd System and method for control of high efficiency generator source impedance
JP2021522644A (ja) * 2018-04-20 2021-08-30 エーイーエス グローバル ホールディングス, プライベート リミテッド 高効率発電機ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法

Families Citing this family (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5770922A (en) * 1996-07-22 1998-06-23 Eni Technologies, Inc. Baseband V-I probe
US7166816B1 (en) * 1997-06-26 2007-01-23 Mks Instruments, Inc. Inductively-coupled torodial plasma source
US7569790B2 (en) * 1997-06-26 2009-08-04 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus for processing metal bearing gases
US8779322B2 (en) 1997-06-26 2014-07-15 Mks Instruments Inc. Method and apparatus for processing metal bearing gases
US6924455B1 (en) 1997-06-26 2005-08-02 Applied Science & Technology, Inc. Integrated plasma chamber and inductively-coupled toroidal plasma source
US6815633B1 (en) 1997-06-26 2004-11-09 Applied Science & Technology, Inc. Inductively-coupled toroidal plasma source
US6043607A (en) * 1997-12-16 2000-03-28 Applied Materials, Inc. Apparatus for exciting a plasma in a semiconductor wafer processing system using a complex RF waveform
US6091441A (en) * 1998-02-10 2000-07-18 Scientific-Atlanta, Inc. Radio frequency detector for cable television distribution systems
US6449568B1 (en) 1998-02-27 2002-09-10 Eni Technology, Inc. Voltage-current sensor with high matching directivity
JP4166318B2 (ja) * 1998-03-25 2008-10-15 松下電器産業株式会社 電力増幅器
US6118343A (en) * 1999-05-10 2000-09-12 Tyco Electronics Logistics Ag Power Amplifier incorporating single drain switch and single negative voltage generator
US6587013B1 (en) 2000-02-16 2003-07-01 Signal Technology Corporation RF power combiner circuit with spaced capacitive stub
US6242979B1 (en) * 2000-02-23 2001-06-05 Motorola, Inc. Linearization using parallel cancellation in linear power amplifier
WO2002054835A2 (en) * 2001-01-08 2002-07-11 Tokyo Electron Limited Addition of power at selected harmonics of plasma processor drive frequency
US7132996B2 (en) * 2001-10-09 2006-11-07 Plasma Control Systems Llc Plasma production device and method and RF driver circuit
US7100532B2 (en) * 2001-10-09 2006-09-05 Plasma Control Systems, Llc Plasma production device and method and RF driver circuit with adjustable duty cycle
US7084832B2 (en) * 2001-10-09 2006-08-01 Plasma Control Systems, Llc Plasma production device and method and RF driver circuit with adjustable duty cycle
US7184146B2 (en) * 2003-06-24 2007-02-27 Cardinal Ig Company Methods and apparatus for evaluating insulating glass units
US7728250B2 (en) * 2004-02-02 2010-06-01 Inficon, Inc. RF sensor clamp assembly
US7148746B2 (en) * 2004-10-26 2006-12-12 Andrew Corporation High efficiency amplifier
EP1701376B1 (de) 2005-03-10 2006-11-08 HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG Vakuumplasmagenerator
EP1783904B1 (de) 2005-10-17 2008-04-16 HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG HF-Plasmaversorgungseinrichtung
US7353771B2 (en) * 2005-11-07 2008-04-08 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus of providing power to ignite and sustain a plasma in a reactive gas generator
US7755452B2 (en) * 2007-02-27 2010-07-13 Coherent, Inc. Power combiner
JP2008236105A (ja) * 2007-03-19 2008-10-02 Nec Corp 電力分配合成システム
US8692466B2 (en) * 2009-02-27 2014-04-08 Mks Instruments Inc. Method and apparatus of providing power to ignite and sustain a plasma in a reactive gas generator
US8674606B2 (en) * 2009-04-27 2014-03-18 Advanced Energy Industries, Inc. Detecting and preventing instabilities in plasma processes
US7970037B2 (en) * 2009-06-10 2011-06-28 Coherent, Inc. Arrangement for RF power delivery to a gas discharge laser with cascaded transmission line sections
US8330432B2 (en) * 2009-12-22 2012-12-11 Advanced Energy Industries, Inc Efficient active source impedance modification of a power amplifier
US20110285473A1 (en) 2010-05-24 2011-11-24 Coherent, Inc. Impedance-matching transformers for rf driven co2 gas discharge lasers
US8648665B2 (en) 2010-10-06 2014-02-11 Coherent, Inc. Impedance-matching circuits for multi-output power supplies driving CO2 gas-discharge lasers
KR102023624B1 (ko) 2013-01-25 2019-09-20 삼성전자 주식회사 Rf 전송 회로와 이를 포함하는 장치들
JP6078419B2 (ja) 2013-02-12 2017-02-08 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理装置の制御方法、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
US9093984B1 (en) * 2013-09-18 2015-07-28 Rockwell Collins, Inc. Phase shifter with true time delay
DE102013226511B4 (de) 2013-12-18 2016-12-15 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Leistungsversorgungssystem und Verfahren zur Erzeugung einer Leistung
DE102013226537B4 (de) 2013-12-18 2022-12-29 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Leistungsversorgungssystem mit mehreren Verstärkerpfaden sowie Verfahren zur Anregung eines Plasmas
CN105900333B (zh) * 2014-06-17 2018-10-30 华为技术有限公司 射频功率放大系统、射频功率放大方法、发射机及基站
US9954508B2 (en) * 2015-10-26 2018-04-24 Lam Research Corporation Multiple-output radiofrequency matching module and associated methods
US9831833B1 (en) 2016-01-28 2017-11-28 Rockwell Collins, Inc. Power amplifier
US10637460B2 (en) 2016-06-14 2020-04-28 Macom Technology Solutions Holdings, Inc. Circuits and operating methods thereof for monitoring and protecting a device
US20180109228A1 (en) 2016-10-14 2018-04-19 MACOM Technology Solution Holdings, Inc. Phase shifters for gallium nitride amplifiers and related methods
US20190028066A1 (en) 2017-07-24 2019-01-24 Macom Technology Solutions Holdings, Inc. Fet operational temperature determination by field plate resistance thermometry
US20190028065A1 (en) 2017-07-24 2019-01-24 Macom Technology Solutions Holdings, Inc. Fet operational temperature determination by gate structure resistance thermometry
JP6772117B2 (ja) 2017-08-23 2020-10-21 株式会社日立ハイテク エッチング方法およびエッチング装置
US10777386B2 (en) * 2017-10-17 2020-09-15 Lam Research Corporation Methods for controlling plasma glow discharge in a plasma chamber
US10972055B2 (en) 2018-06-15 2021-04-06 Skyworks Solutions, Inc. Integrated doherty power amplifier
CN112119485B (zh) 2019-04-22 2024-01-02 株式会社日立高新技术 等离子处理方法
CN113394067A (zh) * 2020-03-13 2021-09-14 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
JP7110492B2 (ja) 2020-06-16 2022-08-01 株式会社日立ハイテク プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1160904B (de) * 1962-02-19 1964-01-09 Deutsche Post Rundfunk Verfahren zur Unterdrueckung des Rueckflusses in einer Wellenleitung
DE2519845C3 (de) * 1975-05-03 1978-06-08 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Schaltungsanordnung zur Zusammenführung von Hochfrequenzleistungsanteilen
JPS57194611A (en) * 1981-05-26 1982-11-30 Nippon Dengiyou Kosaku Kk Branching and coupling circuit
US4629940A (en) * 1984-03-02 1986-12-16 The Perkin-Elmer Corporation Plasma emission source
US4701716A (en) * 1986-05-07 1987-10-20 Rca Corporation Parallel distributed signal amplifiers
SU1497718A1 (ru) * 1987-10-12 1989-07-30 Предприятие П/Я А-7866 Усилитель
US4965527A (en) * 1989-09-20 1990-10-23 Hughes Aircraft Company Gain equalizer for microwave balanced amplifier configuration
JPH0457406A (ja) * 1990-06-27 1992-02-25 Shindengen Electric Mfg Co Ltd Rf発生装置のフェーズシフト回路
JPH04104603A (ja) * 1990-08-24 1992-04-07 Fujitsu Ltd 平衡形増幅器
US5101171A (en) * 1990-11-23 1992-03-31 Advanced Systems Research, Inc. Extended bandwidth RF amplifier
JPH0732078B2 (ja) * 1993-01-14 1995-04-10 株式会社アドテック 高周波プラズマ用電源及びインピーダンス整合装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003055286A1 (fr) * 2001-12-10 2003-07-03 Tokyo Electron Limited Source de puissance haute frequence et son procede de commande, et processeur a plasma
CN1305353C (zh) * 2001-12-10 2007-03-14 东京毅力科创株式会社 高频电源及其控制方法、和等离子体处理装置
JP2008517429A (ja) * 2004-10-15 2008-05-22 ラム リサーチ コーポレーション プラズマ負荷へのrf電力送出安定性を改善する装置および方法
JP2014222717A (ja) * 2013-05-14 2014-11-27 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
JP2017516258A (ja) * 2014-03-24 2017-06-15 アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッドAdvanced Energy Industries, Inc. 高周波発生器ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法
US10224184B2 (en) 2014-03-24 2019-03-05 Aes Global Holdings, Pte. Ltd System and method for control of high efficiency generator source impedance
WO2018021464A1 (ja) * 2016-07-27 2018-02-01 イマジニアリング株式会社 昇圧回路を含む電磁波発振装置
JP2021522644A (ja) * 2018-04-20 2021-08-30 エーイーエス グローバル ホールディングス, プライベート リミテッド 高効率発電機ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE69616620D1 (de) 2001-12-13
EP0731559A1 (en) 1996-09-11
EP0731559B1 (en) 2001-11-07
KR100318788B1 (ko) 2002-04-22
US5712592A (en) 1998-01-27
DE69616620T2 (de) 2002-08-14
KR19990027399A (ko) 1999-04-15
ATE208544T1 (de) 2001-11-15
JP4124836B2 (ja) 2008-07-23

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