JPH09278760A - 光学活性な4,5−ジフェニル−1,3−ジアルキル−2−ハロゲノイミダゾリニウム・ハロゲニド - Google Patents

光学活性な4,5−ジフェニル−1,3−ジアルキル−2−ハロゲノイミダゾリニウム・ハロゲニド

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JPH09278760A JP9532896A JP9532896A JPH09278760A JP H09278760 A JPH09278760 A JP H09278760A JP 9532896 A JP9532896 A JP 9532896A JP 9532896 A JP9532896 A JP 9532896A JP H09278760 A JPH09278760 A JP H09278760A
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Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 次の一般式(1) 【化1】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なってアルキル基を
示し、Xはハロゲン原子を示し、*は不斉炭素の位置を
示す〕で表わされる光学活性な4,5−ジフェニル−
1,3−ジアルキル−2−ハロゲノイミダゾリニウム・
ハロゲニド。 【効果】 この化合物を不斉合成試薬として用いれば、
光学活性化合物を選択的かつ高収率で製造することがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性化合物を
選択的に製造するために用いる不斉合成試薬として有用
な4,5−ジフェニル−1,3−ジアルキル−2−ハロ
ゲノイミダゾリニウム・ハロゲニドに関する。
【0002】
【従来の技術】不斉炭素を有する有機化合物には、エナ
ンチオマー(鏡像異性体)が存在する。このような有機
化合物を香料や食品添加物として用いる場合、各々のエ
ナンチオマーにより、臭いや味が異なることが知られて
いる。また、医薬品では、サリドマイドの例に如実に示
されたように両異性体によって薬効や毒性が大きく異な
ることが知られている。更に強誘電性液晶では純粋なキ
ラル分子構造を持つ化合物が求められており、光学純度
の低下は顕著な機能の低下をもたらすとされている。
【0003】このように、医薬、農薬、香料、食品添加
物、エレクトロニクス等の産業分野では、いずれかのエ
ナンチオマーが求められており、更に光学純度の高いも
のが求められている。
【0004】一方、医薬品等として有用な有機化合物中
には、エステル結合やアミド結合を有する化合物が多い
ことが知られている。
【0005】そして、エステル結合やアミド結合を有す
る光学活性な有機化合物の製造法としては、光学分割に
よって得られる光学的に純粋なカルボン酸類と光学的に
純粋なアミン類あるいはアルコール類とをジシクロヘキ
シルカルボジイミド等の縮合剤を用いて縮合させる方法
や、ラセミ体あるいはジアステレオマーの混合物を得た
後に酵素又は生物学的手法を用いて片方の異性体のみを
目的物に変換する方法等が知られている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光学的
に純粋な化合物同士を縮合させる方法は、縮合前に両方
の原料を光学活性な分割剤を用いて分離する操作を必要
とするため、経済的に問題があった。また、酵素又は生
物学的手法を用いる方法は、適用範囲が限定されること
や、反応濃度が低いため反応基質を大量に処理できない
欠点があった。このため原料を光学分割せずに異性体の
混合物のまま用いても必要な光学異性体のみを製造する
ことができる方法が望まれていた。
【0007】従って、本発明の目的は、所望の光学活性
化合物を選択的に収率よく製造することができる不斉合
成試薬を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】斯かる実情に鑑み本発明
者らは、鋭意研究を行った結果、下記一般式(1)で表
わされる新規化合物を不斉縮合反応試薬として用いれ
ば、高ジアステレオ選択的に反応が進行し、光学活性化
合物を選択的かつ高収率で製造することができることを
見出し本発明を完成した。
【0009】すなわち本発明は、次の一般式(1)
【0010】
【化2】
【0011】〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なって
アルキル基を示し、Xはハロゲン原子を示し、*は不斉
炭素の位置を示す〕で表わされる光学活性な4,5−ジ
フェニル−1,3−ジアルキル−2−ハロゲノイミダゾ
リニウム・ハロゲニドを提供するものである。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の4,5−ジフェニル−
1,3−ジアルキル−2−ハロゲノイミダゾリニウム・
ハロゲニドは前記一般式(1)で表わされるものであ
り、式中のR1 及びR2 で示されるアルキル基としては
炭素数1〜24の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が挙げら
れる。具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t
−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘ
プチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル
基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基等が挙げられ
る。このうち、炭素数1〜6のものが好ましく、炭素数
1〜4のものが特に好ましい。また、Xで示されるハロ
ゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子が挙げられる。
【0013】本発明化合物(1)は、例えば次の反応式
に従って、光学活性な1,2−ジフェニル−1,2−エ
タンジアミン(2)を出発原料として2工程を経て得ら
れる4,5−ジフェニル−1,3−ジアルキル−2−イ
ミダゾリジノン(6)にハロゲン化剤を反応せしめるこ
とにより製造することができる。
【0014】
【化3】
【0015】〔式中、R1 、R2 、X及び*は前記と同
じものを示し、Yはハロゲン原子を示す〕
【0016】以下、上記反応を工程毎に説明する。
【0017】(1)工程1 光学活性な1,2−ジフェニル−1,2−エタンジアミ
ン(2)を、尿素(3)及び水を用いて閉環させること
により、4,5−ジフェニル−2−イミダゾリジノン
(4)が得られる。原料として用いられる光学活性な
1,2−ジフェニル−1,2−エタンジアミン(2)と
しては、(1R,2R)−1,2−ジフェニル−1,2
−エタンジアミン、(1S,2S)−1,2−ジフェニ
ル−1,2−エタンジアミンが挙げられる。この反応は
水を留去しながら加熱することにより行われる。
【0018】(2)工程2 4,5−ジフェニル−2−イミダゾリジノン(4)にそ
れぞれ1当量のハロゲン化アルキル(5)及び(5′)
〔(5)と(5′)が同一の場合は2当量〕を反応させ
ることにより、4,5−ジフェニル−1,3−ジアルキ
ル−2−イミダゾリジノン(6)が得られる。ハロゲン
化アルキル(5)及び(5′)の具体例としては、ヨウ
化メチル、ヨウ化エチル、臭化エチル、ヨウ化n−プロ
ピル、臭化n−プロピル、塩化n−プロピル、ヨウ化i
−プロピル、臭化i−プロピル、ヨウ化n−ブチル、臭
化n−ブチル、ヨウ化i−ブチル、臭化i−ブチル、塩
化t−ブチル等が挙げられる。この反応は、水素化ナト
リウム等の塩基2当量以上の存在下に行われる。
【0019】(3)工程3 4,5−ジフェニル−1,3−ジアルキル−2−イミダ
ゾリジノン(6)にハロゲン化剤を反応せしめることに
より4,5−ジフェニル−1,3−ジアルキル−2−ハ
ロゲノイミダゾリニウム・ハロゲニド(1)が得られ
る。ここで使用されるハロゲン化剤としては、オキザリ
ルハロゲニド、三ハロゲン化リン、五ハロゲン化リン、
オキシハロゲン化リン、ホスゲン、トリクロロメチルク
ロロホルメート、トリホスゲン等が挙げられる。反応は
4,5−ジフェニル−1,3−ジアルキル−2−イミダ
ゾリジノン(6)とハロゲン化剤をベンゼン等の適当な
溶媒に溶解しておき、室温ないし加熱下に数時間〜数十
時間反応させることによって行われる。
【0020】斯くして得られる4,5−ジフェニル−
1,3−ジアルキル−2−ハロゲノイミダゾリニウム・
ハロゲニド(1)は単離することもできるが、単離する
ことなく、その反応液を縮合反応に使用することもでき
る。
【0021】本発明化合物(1)は、種々の不斉縮合反
応に不斉合成試薬として用いることができる。例えば、
光学活性なカルボン酸とラセミ体アミン又はアルコール
との縮合反応は次の反応式に従って実施することができ
る。
【0022】
【化4】
【0023】〔式中、R1 、R2 、X及び*は前記と同
じものを示し、R3 は光学活性なカルボン酸残基を示
し、R4 及びR5 は少なくともどちらか一方が不斉炭素
を有する有機基又は水素原子を示し、Aは窒素原子ある
いは酸素原子を示し、Bは塩基を示す〕
【0024】すなわち、光学活性なカルボン酸(7)、
本発明化合物(1)を各1当量とラセミ体アミン又はア
ルコール(8)2当量をジクロロメタン、トルエン、テ
トラヒドロフラン等の不活性溶媒中に加え、この中にピ
リジン、トリエチルアミン、トリブチルアミン等の塩基
(9)を2当量を混和して室温付近で反応させれば縮合
反応がジアステレオ選択的に進行し、目的とする光学活
性なカルボン酸アミド又はエステル(10)を容易に得
ることができる。このとき、目的としない光学異性体ア
ミン又はアルコール(8)、化合物(11)は縮合反応
に関与せず反応系にそのまま残存する。
【0025】また、ラセミ体カルボン酸と光学活性なア
ミン又はアルコールとの縮合反応においては、ラセミ体
カルボン酸(7)を2当量、光学活性なアミン又はアル
コール(8)を1当量使用する他は上記反応と同様の操
作を行い、光学活性な目的物を得ることができる。なお
上記反応において再生した化合物(6)は特に精製の操
作を必要とせず本発明化合物(1)の原料として使用す
ることができる。
【0026】
【発明の効果】本発明化合物を不斉合成試薬として用い
れば、光学活性化合物を選択的かつ高収率で製造するこ
とができる。
【0027】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0028】製造例1 (4S,5S)−4,5−ジフ
ェニル−2−イミダゾリジノンの製造:(1S,2S)
−1,2−ジフェニル−1,2−エタンジアミン20.
0g(94mmol)、尿素6.0g(100mmol)及び水
1mlの混合物を水を留去しながら200℃で3時間加熱
した。放冷後、塩化メチレンで溶解し、溶解液を水洗
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で溶媒を
留去して白色結晶性残渣を得た。この残渣をアセトニト
リルで洗浄し、標記化合物を19.6g(収率87%)
得た。
【0029】IR(νmax KBr cm-1):3200, 3060, 170
0, 6951 H−NMR(CDCl3)δ:4.60(2H,s), 4.93(2H,
s), 7.19-7.38(10H,m)
【0030】製造例2 (4S,5S)−4,5−ジフ
ェニル−1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンの製
造:ジメチルホルムアミド50ml中に(4S,5S)−
4,5−ジフェニル−2−イミダゾリジノン5.0g
(21mmol)及び水素化ナトリウム2.0g(55%4
6mmol)を加え、室温で40分間攪拌した後、ヨウ化メ
チル6.6g(46mmol)をゆっくりと滴下した。終了
後室温で一晩攪拌し、反応液を希塩酸水溶液中に加え、
塩化メチレンで抽出した。抽出液は水洗後無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去して得た黄色
結晶性残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶媒 ク
ロロホルム)にて精製し、標記化合物を5.5g(収率
99%)得た。
【0031】IR(νmax KBr cm-1):17001 H−NMR(CDCl3)δ:2.67(6H,s), 4.O5(2H,
s), 7.19-7.38(10H,m)
【0032】実施例1 (4S,5S)−2−クロロ−
4,5−ジフェニル−1,3−ジメチルイミダゾリニウ
ム・クロライドの製造:ベンゼン100ml中に(4S,
5S)−4,5−ジフェニル−1,3−ジメチル−2−
イミダゾリジノン4.3g(16mmol)及び塩化オキザ
リル2.5g(19mmol)を加え、12.5時間加熱還
流した。放冷後析出晶を濾取し、ベンゼンで洗浄後減圧
下に乾燥して標記化合物を2.1g(収率41%)得
た。
【0033】mp 219.6-220.4℃(分解) 〔α〕D 26.6=−128.90°(c=1.00, CHCl3) UV(λmax MeOH nm):246.8(ε900), 206.8(15200) IR(νmax KBr cm-1):1600, 1275, 755, 7001 H−NMR(CDCl3)δ:3.17(6H,s), 5.28(2H,
s), 7.08-7.57(10H,m)
【0034】実施例2 (4S,5S)−2−クロロ−
4,5−ジフェニル−1,3−ジメチルイミダゾリニウ
ム・クロライドの製造:ベンゼン50ml中に(4S,5
S)−4,5−ジフェニル−1,3−ジメチル−2−イ
ミダゾリジノン3.8g(14mmol)及びトリホスゲン
1.8g(6mmol)を加え、8時間加熱還流した。以下
実施例1と同様の操作を行い、標記化合物を1.2g
(収率27%)得た。
【0035】参考例1 N−CBZ−L−フェニルアラ
ニンとDL−α−フェニルエチルアミンの反応:アセト
ニトリル10ml中にN−CBZ−L−フェニルアラニン
1.01g(3.3mmol)、DL−α−フェニルエチル
アミン0.82g(6.7mmol)及びトリエチルアミン
0.68g(6.7mmol)を加え、この中に(4S,5
S)−4,5−ジフェニル−2−クロロ−1,3−ジメ
チルイミダゾリニウム・クロライド1.08g(3.4
mmol)の塩化メチレン10ml溶液をゆっくりと滴下し、
終了後更に室温で8時間攪拌を続けた。反応液を希塩酸
水溶液中に加え塩化メチレンで抽出し、抽出液は水、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥させた。次いで減圧下に溶媒を留
去して得た残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶媒
n−ヘキサン/酢酸エチル)にて精製し、目的とする
カルボン酸アミドを0.57g(収率42%)得た。こ
のカルボン酸アミドの1H−NMR分析(300Mz,
CDCl3)を行いLD体とLL体のメチル基のピーク
(1.24及び1.36ppm)の積分値を比較したと
ころ92:8であった。
【0036】比較例1 N−CBZ−L−フェニルアラ
ニンとDL−α−フェニルエチルアミンの反応:塩化メ
チレン100ml中にN−CBZ−L−フェニルアラニン
2.5g(8mmol)、DL−α−フェニルエチルアミン
2.0g(17mmol)及びトリエチルアミン2.0g
(20mmol)を加え、この中に2−クロロ−1,3−ジ
メチルイミダゾリニウム・クロライド1.7g(10mm
ol)の塩化メチレン10ml溶液をゆっくりと滴下し、終
了後更に室温で1.5時間攪拌を続けた。以下参考例1
と同様の操作を行って得たカルボン酸アミドを1H−N
MR分析したところLD体とLL体の比は50:50で
あった。
【0037】参考例2 N−CBZ−DL−アラニンと
L−乳酸エチルとの反応:塩化メチレン20ml中にN−
CBZ−DL−アラニン1.39g(6.2mmol)、L
−乳酸エチル0.37g(3.1mmol)及び(4S,5
S)−4,5−ジフェニル−2−クロロ−1,3−ジメ
チルイミダゾリニウム・クロライド1.00g(3.1
mmol)を加え、この中にピリジン0.49g(6.2mm
ol)をゆっくりと滴下し、終了後更に室温で4日間攪拌
を続けた。反応液を希塩酸水溶液に加え塩化メチレンで
抽出し、抽出液は水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。
次いで減圧下に溶媒を留去して得た残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー(溶媒 n−ヘキサン/酢酸エチル)
にて精製し、目的とするカルボン酸エステルを0.65
g(収率65%)得た。このカルボン酸エステルをHP
LC分析したところ保持時間18.6分と22.5分に
それぞれのジアステレオマーのピークを認め、その比は
83:17であった。
【0038】 分析条件 カラム:CHIRALCEL OJ(ダイセル化学社製) 移動相:n−ヘキサン:EtOH=90:10 流 速:1.0ml/min 検出器:UV254nm
【0039】比較例2 N−CBZ−DL−アラニンと
L−乳酸エチルとの反応:アセトニトリル50ml中にN
−CBZ−DL−アラニン4.00g(17.9mmo
l)、L−乳酸エチル1.06g(9.0mmol)及び2
−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウム・クロラ
イド1.82g(10.8mmol)を加え、この中にピリ
ジン1.07g(21.5mmol)をゆっくりと滴下し、
終了後更に室温で2日間攪拌を続けた。以下参考例2と
同様の操作を行って得たカルボン酸エステルをHPLC
分析したところ、ジアステレオマー比は50:50であ
った。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次の一般式(1) 【化1】 〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なってアルキル基を
    示し、Xはハロゲン原子を示し、*は不斉炭素の位置を
    示す〕で表わされる光学活性な4,5−ジフェニル−
    1,3−ジアルキル−2−ハロゲノイミダゾリニウム・
    ハロゲニド。
JP9532896A 1996-04-17 1996-04-17 光学活性な4,5−ジフェニル−1,3−ジアルキル−2−ハロゲノイミダゾリニウム・ハロゲニド Expired - Fee Related JP3808931B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7070903B2 (en) 2001-04-27 2006-07-04 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Coating formulation for printing plate precursor, printing plate precursor, printing press, fabrication process of printing plate, and regeneration process of printing plate

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7070903B2 (en) 2001-04-27 2006-07-04 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Coating formulation for printing plate precursor, printing plate precursor, printing press, fabrication process of printing plate, and regeneration process of printing plate

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