JPH09278688A - スチルベン化合物、その製造法、それを有効成分とする液晶組成物およびそれを用いてなる液晶素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、屈折率異方性に優れた低粘性な液
晶化合物およびその工業的有利な製造法を提供するこ
と。 【解決手段】一般式（１）（式中、Ｘ¹ 、Ｘ² 、Ｘ³ 、
Ｘ⁴ 、Ｙ¹ 、Ｙ² 、Ｙ³およびＹ⁴ は同一または相異な
り、ＣＨ、ＣＦまたはＮを示し、ＲはＣ₁ 〜Ｃ₁₂のアル
キル基等、Ａは、水素、フッ素、トリフロロメチル基等
Ｒ¹ は、水素原子、フッ素等を示し、ｍは、０または１
である。Ｅは−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を示
す。）で示されるスチルベン化合物、その製造法および
液晶組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶組成物の配合
成分として有用なスチルベン化合物、その製造法、それ
を有効成分とする液晶組成物およびそれを用いてなる液
晶素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示素子の高性能化は、情報
化社会の到来に伴い不可欠となっている。液晶組成物の
諸物性のなかで、より高速化のため、さらには高性能化
のためには、低粘性で屈折率異方性に優れた材料が必要
とされている。 しかしながら、現在のところ必ずしも
充分な屈折率異方性をもつ液晶材料は、見いだされてい
ない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、屈折率異方
性に優れた低粘性な液晶化合物およびその工業的有利な
製造法を提供することを目的とするものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】このようなことから、本
発明者らは、かかる屈折率異方性に優れた液晶化合物の
開発について鋭意検討を加えた結果、優れた屈折率異方
性を有し、低粘性でかつ液晶性に優れた化合物を見いだ
し本発明を完成するに至った。

【０００５】すなわち、本発明は、一般式（１） （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² 、Ｘ³ 、Ｘ⁴ 、Ｙ¹ 、Ｙ² 、Ｙ³ お
よびＹ⁴ は同一または相異なり、ＣＨ、ＣＦまたはＮを
示し、ＲはＣ₁ 〜Ｃ₁₂のアルキル基、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₂のアル
ケニル基またはＣ₂ 〜Ｃ₁₆のアルコキシアルキル基を示
し、Ａは、水素原子、フッ素原子、トリフロロメチル
基、１から３個のフッ素原子で置換されていてもよいメ
トキシ基、１から５個のフッ素原子で置換されていても
よいエトキシ基、シアノ基、Ｒ¹ −（シクロアルキル）
基、Ｒ¹ −（シクロアルケニル）基またはＲ¹ −（Ｏ）
m 基を示し、Ｒ¹ は、水素原子、フッ素原子、Ｃ₁ 〜Ｃ
₁₂のアルキル基、Ｃ₂ 〜Ｃ₁₂のアルケニル基またはＣ₂
〜Ｃ₁₂のアルキニル基を示し、ｍは、０または１であ
る。Ｅは−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を示す。）で
示されるスチルベン化合物、その製造法、それを有効成
分とする液晶組成物およびそれを用いてなる液晶素子を
提供するものである。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のスチルベン化合物（１）は、下記の製造法、
製造法または製造法により得ることができる。 製造法 一般式（２） （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² 、Ｘ³ 、Ｘ⁴ 、Ｙ¹ 、Ｙ² 、Ｙ³ お
よびＹ⁴ は、前記と同じ意味を表わす。Ｄは、ハロゲン
原子または−ＯＳＯ₂ Ｒ’を示す。ただし、Ｒ’はフッ
素原子で置換されていてもよい低級アルキル基、または
置換基を有していてもよいフェニル基を示す。）で示さ
れるスチルベン誘導体と一般式（３） （Ｒ³ ）₂ Ｂ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ （３） （トランス体） で示されるホウ素類、または一般式（４） ＣＨ≡Ｃ−Ｒ （４） （式中、Ｒは前記と同じ意味を表わし、Ｒ³ は水酸基、
直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基または直鎖、分岐
もしくは環状のアルコキシ基を示す。このとき、Ｒ³ 同
士は、相互に結合して環を形成していてもよい。或いは
（Ｒ³ ) ₂ で置換されていてもよいベンゾジオキシ基を
示す。）で示されるアセチレン類とパラジウム触媒とを
塩基性物質の存在下に反応させることによりスチルベン
化合物（１）を得る方法。

【０００７】製造法 一般式（５） （式中、Ａ、Ｘ¹ 、Ｘ² 、Ｘ³ およびＸ⁴ は、前記と同
じ意味を表わす。）で示されるスチレン誘導体と一般式
（６） （式中、Ｒ、Ｄ、Ｅ、Ｙ¹ 、Ｙ² 、Ｙ³ およびＹ⁴ は、
前記と同じ意味を表わす。）示される芳香族ハロゲン化
合物を塩基性物質の存在下に反応させることによりスチ
ルベン化合物（１）を得る方法。

【０００８】製造法 一般式（７） （式中、Ａ、Ｄ、Ｘ¹ 、Ｘ² 、Ｘ³ およびＸ⁴ は前記と
同じ意味を表わす。）で示される芳香族ハロゲン化合物
と一般式（８） （式中、Ｒ、Ｅ、Ｙ¹ 、Ｙ² 、Ｙ³ およびＹ⁴ は、前記
と同じ意味を表わす。）で示されるスチレン誘導体を塩
基性物質の存在下に反応させることによりスチルベン化
合物（１）を得る方法。

【０００９】上記製造法において、原料のスチルベン
誘導体（２）は、以下に示すような方法により合成する
ことができる。Ｄがハロゲン原子の場合

【００１０】ＤがＯＳＯ₂ Ｒ’の場合 （式中、Ｚは水素原子もしくは水酸基の保護基を示
す。）

【００１１】一般式（７）で示される芳香族ハロゲン化
合物とトリフルオロヨードエチレンを亜鉛の存在下に縮
合させ、スチルベン誘導体（５）としたのち、塩基性物
質として金属リチウム、あるいはメチルリチウム、ｎ−
ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチ
ウム等のアルキルリチウムさらにはこれらのリチウム化
合物とアミン類から誘導されるリチウムジイソプロピル
アミド等のアミド類を用いて、ヨードベンゼン誘導体
（９）と縮合させることによって製造される。上記反応
は、通常、例えばトルエン、ピリジン、ピコリン、テト
ラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチル
ホスホリルアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサンな
どの溶媒中で実施される。

【００１２】もう一方の原料であるホウ素化合物（３）
は、例えば以下に示すような方法により合成することが
できる。 ＨＣ≡Ｃ−Ｒ （４） ＋ （Ｒ³ ）₂ ＢＨ （１４） → （Ｒ³ ）₂ Ｂ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ （３） （トランス体） （式中、Ｒ³ は水酸基、直鎖、分岐もしくは環状のアル
キル基または直鎖、分岐もしくは環状のアルコキシ基を
示す。このとき、Ｒ³ 同士は、相互に結合して環を形成
していてもよい。或いは（Ｒ³ ）₂ 全体で置換されてい
てもよいベンゾジオキシ基を示す。） 上記アセチレン化合物（４）とホウ素類（１４）との反
応において、ホウ素類（１４）としては、ジシクロヘキ
シルボラン、ジシアミルボラン、ジイソピノカンフェニ
ルボラン、９−ボラビシクロ［３. ３. １］ノナン等の
ジアルキルボラン、もしくはカテコールボラン、ジイソ
プロピルオキシボラン、ジメトキシボラン等のジアルコ
キシボランを挙げることができる。

【００１３】上記のアセチレン化合物（４）とホウ素類
（１４）とを反応させホウ素化合物（３）を得る反応に
おいて、ホウ素類（１４）の使用量は、アセチレン化合
物（４）に対して、0.5 〜10倍当量であるが、好ましく
は0.5 〜２倍当量である。また反応溶媒を使用する場合
には、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド等を用いることができる。これら反応溶媒の使用量
は、特に制限されない。本反応の反応温度は、通常、−
20〜150 ℃であり、好ましくは、０〜100 ℃である。上
記反応は、通常、溶媒の存在または非存在下に行われ
る。一般式（３）で示される化合物のＲ³ が水酸基であ
る化合物は、一般式（３）のＲ³ がＲ³ が水酸基以外で
ある化合物を加水分解することによって得ることができ
る。

【００１４】スチルベン誘導体（２）とホウ素化合物
（３）とからスチルベン化合物（１）を得る反応に於い
て、ホウ素化合物（３）の使用量は、スチルベン誘導体
（２）に対して通常、０. ９ 〜１０倍当量であるが、
好ましくは、１〜２倍当量である。勿論化合物（２）を
過剰に用いることもできるが、化合物（２）がより高価
であることから、化合物（３）を過剰量用いるほうが好
ましい。上記反応に用いられる金属触媒としては、パラ
ジウム系では塩化パラジウム、酢酸パラジウム、パラジ
ウム／炭素、トリフェニルホスフィンパラジウム錯体
（例えば、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウ
ム、ジクロロジトリフェニルホスフィンパラジウム）な
どが用いられ、ニッケル系およびロジウム系についても
前記と同様な触媒が用いられる。これらの金属触媒の使
用量は、原料化合物（３）に対して 0.001〜0.1 倍当量
の範囲である。また、この反応では上記金属触媒の他
に、助触媒として、３価のリン化合物または３価のひ素
化合物を用いると好ましい場合があり、それらとして
は、一般式（１５） （式中、Ｍはリン原子またはヒ素原子を示し、Ｒ⁴ 、Ｒ
⁵ およびＲ⁶ は同一または相異なりアルキル基、アリー
ル基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはハロゲン
原子を示す。）で示される化合物であって、具体的には
トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフィ
ン、トリ−ｏ−トリルホスフィン、トリ−ｏ−トリルホ
スファイト、三塩化リン、トリフェニルヒ素などが例示
される。これらのリン化合物またはヒ素化合物の使用量
は、上記の金属触媒に対して０. ５〜５０倍当量、好ま
しくは２〜３０倍当量である。

【００１５】さらにこれらの触媒に加え、銅触媒が用い
られ、かかる銅触媒としては、ヨウ化銅、臭化銅、塩化
銅、酸化銅、シアン化銅などが挙げられ、これらの使用
量は、原料のスチルベン誘導体（２）に対して、 0.001
〜0.１倍当量の範囲である。勿論これ以上使用すること
も可能であるが、特に大量使用するメリットもない。

【００１６】前記塩基性物質としては、アルカリ金属の
炭酸塩、カルボン酸塩、アルコキシド、水酸化物やある
いはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
トリーｎーブチルアミンアミン、テトラメチルエチレン
ジアミン、ジメチルアニリン、Ｎーメチルモルホリン、
Ｎーメチルピペリジン等の有機塩基が挙げられるが、好
ましくは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水
酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウムなどの炭酸塩、ナトリウムエ
チラート、ナトリウムメチラートなどのアルコキシドが
挙げられる。塩基性物質の使用量は、化合物（２）に対
して１〜５倍当量である。 必要により、例えば、水、
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ア
セトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムア
ミド、ヘキサメチルホスホリルアミド、Ｎ−メチルピロ
リドン、ベンゼン、トルエン等を反応溶媒として使用す
ることもできる。

【００１７】これら反応溶媒の使用量は特に制限されな
い。本反応の反応温度は、通常−２０〜１９０℃であ
り、好ましくは、４０〜１５０℃である。反応終了後、
抽出、蒸留、再結晶等の通常の手段により、スチルベン
化合物（１）を得ることができる。また、必要によりカ
ラムクロマトグラフィーあるいは再結晶等により精製す
ることもできる。

【００１８】製造法に於いて、原料化合物であるスチ
レン誘導体（５）は先に示した方法により製造される。
もう一方の原料である芳香族ハロゲン化合物（６）は、
例えば以下に示すような方法により合成することができ
る。 Ｄが−ＯＳＯ₂ Ｒ’の場合

【００１９】Ｄがハロゲン原子の場合

【００２０】製造法のスチレン誘導体（５）と芳香族
ハロゲン化合物（６）とからスチルベン化合物（１）を
得る反応に於いて、芳香族ハロゲン化物（６）の使用量
は、スチレン誘導体（５）に対して通常、0.9 〜３倍当
量であるが、好ましくは、１〜２倍当量である。勿論化
合物（５）を過剰に用いることもできるが、通常、化合
物（５）がより高価であることから、化合物（６）を過
剰量用いるほうが好ましい。

【００２１】塩基性物質としては、金属リチウム、ある
いはメチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチル
リチウム、ｔ−ブチルリチウム等のアルキルリチウムさ
らにはこれらのリチウム化合物とアミン類から誘導され
るリチウムジイソプロピルアミド、リチウムジプロピル
アミド、リチウムジブチルアミド、リチウムジエチルア
ミド等のアミド類が挙げられる。このなかでもアルキル
リチウムが好ましく用いられる。これらは、ハロゲン化
アルキルと金属リチウムからも調製することができる。
塩基の使用量は、通常、スチルベン誘導体（５）に対し
て１〜３倍当量である。反応に用いることができる適当
な溶媒としては、例えばトルエン、ピリジン、ピコリ
ン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ヘキ
サメチルホスホリルアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘ
キサンなどを反応溶媒として使用することもできる。こ
れらの反応溶媒の使用量は特に制限されない。尚、上記
反応は通常窒素、アルゴン等の不活性ガス中で行われ
る。反応温度は通常ー７８〜５０℃であり、好ましくは
−７８〜３０℃である。反応終了後、抽出、蒸留、再結
晶等の通常の手段により、スチルベン化合物（１）を得
ることができる。また、必要によりカラムクロマトグラ
フィーあるいは再結晶等により精製することもできる。

【００２２】製造法に於いて、原料化合物である芳香
族ハロゲン化合物（７）は、市販品を用いるかあるいは
公知の方法に準じて製造される。もう一方の原料化合物
であるスチレン誘導体（８）は、例えば以下に示すよう
な方法により合成することができる。

【００２３】

【００２４】あるいは

【００２５】上記製造法において、一般式（９）で示さ
れる芳香族ハロゲン化合物とトリフルオロヨードエチレ
ンを亜鉛の存在下に縮合させ、スチレン誘導体（２０）
としたのち、化合物（３）或いは（４）と縮合させる
か、あるいは一般式（１９）で示される芳香族ハロゲン
化合物と化合物（３）或いは（４）と縮合させ、一般式
（６）で示される芳香族ハロゲン化合物としたのち、ト
リフルオロヨードエチレンを亜鉛の存在下に縮合させる
ことによって製造される。上記反応は、通常、例えばト
ルエン、ピリジン、ピコリン、テトラヒドロフラン、ジ
メチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホリルアミド、
Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサンなどの溶媒中で実施さ
れる。

【００２６】スチレン誘導体（８）と芳香族ハロゲン化
合物（７）とからスチルベン化合物（１）を得る反応
は、先に挙げたスチレン誘導体（５）と芳香族ハロゲン
化合物（６）とからスチルベン化合物（１）を得る反応
と同様に実施することができる。芳香族ハロゲン化物
（７）の使用量は、スチレン誘導体（８）に対して通
常、0.9 〜３倍当量であるが、好ましくは、１〜２倍当
量である。勿論化合物（８）を過剰に用いることもでき
るが、通常、化合物（８）がより高価であることから、
化合物（７）を過剰量用いるほうが好ましい。

【００２７】上記反応に用いられる塩基性物質として
は、先に挙げたスチレン誘導体（５）と芳香族ハロゲン
化合物（６）とからスチルベン化合物（１）を得る反応
と同様のもの、即ち、金属リチウム、あるいはメチルリ
チウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ
−ブチルリチウム等のアルキルリチウムさらにはこれら
のリチウム化合物とアミン類から誘導されるリチウムジ
イソプロピルアミド、リチウムジプロピルアミド、リチ
ウムジブチルアミド、リチウムジエチルアミド等のアミ
ド類が挙げられる。このなかでもアルキルリチウムが好
ましく用いられる。これらは、ハロゲン化アルキルと金
属リチウムからも調製することができる。

【００２８】塩基の使用量は、通常、スチレン誘導体
（８）に対して１〜３倍当量である。適当な溶媒として
は、例えばトルエン、ピリジン、ピコリン、テトラヒド
ロフラン、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホ
リルアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサンなどを反
応溶媒として使用することもできる。これらの反応溶媒
の使用量は特に制限されない。尚、上記反応は通常窒
素、アルゴン等の不活性ガス中で行われる。反応温度は
通常−７８〜５０℃であり、好ましくはー７８〜３０℃
である。反応終了後、抽出、蒸留、再結晶等の通常の手
段により、スチルベン化合物（１９を得ることができ
る。また、必要によりカラムクロマトグラフィーあるい
は再結晶等により精製することもできる。

【００２９】

【発明の効果】本発明の化合物は、光スイッチング素子
または液晶表示素子材料の開発に有用な化合物であり、
また本発明の方法によれば、本発明化合物が工業的に有
利に製造できる。

【００３０】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。 （参考例１）撹拌装置、還流冷却器、温度計を装着し、
系内を窒素置換した四つ口フラスコに、トリフルオロヨ
ードエチレン１４．２ｇ（６８ｍｍｏｌ）、亜鉛３．６
ｇ（５６ｍｍｏｌ）、ジメチルホルムアミド８０ｍＬを
加え、室温下に１時間撹拌する。つぎに、４−プロピル
−１−ブロモベンゼン（７−１）３．６ｇ（３８ｍｍｏ
ｌ）、トリフェニルホスフィン０．８ｇを加え、７０℃
に加熱しながら５時間撹拌する。反応終了後、不溶物を
濾別して除き、反応混合物を水１００ｍＬにあけ、希塩
酸にてｐＨ４とした後、酢酸エチル１５０ｍＬにて抽出
する。酢酸エチル層を、３％塩酸水、食塩水で洗浄のの
ち、減圧濃縮すれば残渣を与える。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製することにより、
（４−プロピルフェニル）−１，１，２−トリフルオロ
エチレン（５−１）の無色オイル６．３１ｇ（収率８３
％）を得る。 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ） δｐｐｍ：０．７〜１．２（ｔ，３Ｈ）、１．２〜２．
０（ｍ，２Ｈ）、２．３〜２．８（ｍ，２Ｈ）、６．８
〜７．５（ｍ，４Ｈ） ＩＲ： Ｃ＝Ｃ （１７６０），ＣＦ＝ＣＦ2 （１２
９０）

【００３１】次に、４−ブロモ−１−ヨードベンゼン
（９−１）４．５ｇ（１６ｍｍｏｌ）、エーテル４０ｍ
Ｌを加え、−７８℃でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶
液（１．６９Ｍ）１１ｍｌ（１８ｍｍｏｌ）を滴下した
後、同温度で１時間撹拌する。次に、−７０℃で（４−
プロピルフェニル）−１，１，２−トリフルオロエチレ
ン（５−１）２．８ｇ（１４ｍｍｏｌ）を加え、同温度
で１時間撹拌下のち、室温まで昇温、さらに１時間撹拌
する。反応終了後、反応混合物を水１００ｍＬにあけ、
希塩酸にてｐＨ４とした後、酢酸エチル１００ｍＬにて
抽出する。酢酸エチル層を食塩水で洗浄ののち、減圧濃
縮すれば残渣を与える。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製する。更にエタノールで再結晶
すれば白色の結晶を与える。（Ｚ）−１−（４−プロピ
ルフェニル）−２−（４−ブロモフェニル）−１，２−
ジフルオロエチレン（２−１）２．０３ｇ（収率４３
％）を得る。 融点：１３３〜１３４℃ ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ） δｐｐｍ：０．７〜１．２（ｔ，３Ｈ）、１．３〜２．
０（ｍ，２Ｈ）、２．４〜２．８（ｔ，２Ｈ）、６．９
〜７．７（ｍ，８Ｈ）

【００３２】（参考例２）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、ト
リフルオロヨードエチレン１４．２ｇ（６８ｍｍｏ
ｌ）、亜鉛３、６ｇ（５６ｍｍｏｌ）、ジメチルホルム
アミド６０ｍＬを加え、室温下に１時間撹拌する。つぎ
に、４−（４−プロピルシクロヘキシル）−１−ブロモ
ベンゼン（７−２）３．６ｇ（３８ｍｍｏｌ）、トリフ
ェニルホスフィン０．６ｇを加え、６０〜７０℃に加熱
しながら６時間撹拌する。反応終了後、不溶物を濾別し
て除き、反応混合物を水１００ｍＬにあけ、希塩酸にて
ｐＨ４とした後、酢酸エチル１５０ｍＬにて抽出する。
酢酸エチル層を、３％塩酸水、水で洗浄ののち、減圧濃
縮すれば残渣を与える。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製することにより、４−（（４−
プロピルシクロヘキシル）フェニル）−１，１，２−ト
リフルオロエチレン（５−２）の淡黄色オイル６．８６
ｇ（収率６４％）を得る。冷蔵庫に放置すれば結晶化す
る。 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ） δｐｐｍ：０．７〜２．５（ｍ，１７Ｈ）、６．８〜
７．５（ｍ，４Ｈ） ＩＲ： Ｃ＝Ｃ （１７６０），ＣＦ＝ＣＦ2 （１２
８０）

【００３３】この方法に従って合成すれば、以下の化合
物が得られる。４−（（４−ペンチルシクロヘキシル）
フェニル）−１，１，２−トリフルオロエチレン、４−
（（４−プロピルシクロヘキセニル）フェニル）−１，
１，２−トリフルオロエチレン、４−メチルフェニル−
１，１，２−トリフルオロエチレン、４−ペンチルフェ
ニル−１，１，２−トリフルオロエチレン、４−オクチ
ルフェニル−１，１，２−トリフルオロエチレン、４−
メトキシフェニル−１，１，２−トリフルオロエチレ
ン、４−ブトキシフェニル−１，１，２−トリフルオロ
エチレン、４−トリフルオロメチルフェニル−１，１，
２−トリフルオロエチレン、４−トリフルオロメトキシ
フェニル−１，１，２−トリフルオロエチレン、（４−
（１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ）フェニ
ル）−１，１，２−トリフルオロエチレン、４−フルオ
ロフェニル−１，１，２−トリフルオロエチレン、フェ
ニル−１，１，２−トリフルオロエチレン、４−シアノ
フェニル−１，１，２−トリフルオロエチレン、４−
（２−ブテニルオキシ）フェニル−１，１，２−トリフ
ルオロエチレン、４−（２−ブチニルオキシ）フェニル
−１，１，２−トリフルオロエチレン、（５−メトキシ
ピリミジン−２−イル）−１，１，２−トリフルオロエ
チレン、（５−プロポキシピリミジン−２−イル）−
１，１，２−トリフルオロエチレン、（２−プロピルピ
リミジン−５−イル）−１，１，２−トリフルオロエチ
レン、（２−（２−ブテニル）ピリミジン−５−イル）
−１，１，２−トリフルオロエチレン、４−メトキシ−
３−フルオロフェニル−１，１，２−トリフルオロエチ
レン、４−メトキシ−２−フルオロフェニル−１，１，
２−トリフルオロエチレン、４−トリフルオロメトキシ
−３−フルオロフェニル−１，１，２−トリフルオロエ
チレン、４−シアノ−３−フルオロフェニル−１，１，
２−トリフルオロエチレン、

【００３４】次に、４−ブロモ−１−ヨードベンゼン
（９−１）３．４ｇ（１２ｍｍｏｌ）、エーテル６０ｍ
Ｌを加え、−７０℃でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶
液（１．６９Ｍ）７．６ｍｌ（１２ｍｍｏｌ）を滴下し
た後、同温度で１時間撹拌する。次に、−７０℃で４−
（（４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−１，
１，２−トリフルオロエチレン（５−２）４．２ｇ（１
２ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１時間撹拌下のち、室温
まで昇温、さらに１時間撹拌する。反応終了後、反応混
合物を水１００ｍＬにあけ、希塩酸にてｐＨ４とした
後、酢酸エチル１００ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層
を水で洗浄ののち、減圧濃縮すれば残渣を与える。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する
ことにより、（Ｚ）−１−（４−（４−プロピルシクロ
ヘキシル）フェニル）−２−（４−ブロモフェニル）−
１，２−ジフルオロエチレン（２−２）の白色結晶２．
６１ｇ（収率５２％）を得る。 融点：１３３〜１３４℃ ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ） δｐｐｍ：０．７〜２．５（ｍ，１７Ｈ）、７．０〜
７．７（ｍ，４Ｈ）、７．５（ｓ，４Ｈ）

【００３５】この方法に従って合成すれば、以下の化合
物が得られる。（Ｚ）−１−（４−（４−ペンチルシク
ロヘキシル）フェニル）−２−（４−ブロモフェニル）
−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−１−（４−
（４−プロピルシクロヘキセニル）フェニル）−２−
（４−ブロモフェニル）−１，２−ジフルオロエチレ
ン、（Ｚ）−４−メチルフェニル−２−（４−ブロモフ
ェニル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−
ペンチルフェニル−２−（４−ブロモフェニル）−１，
２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−オクチルフェニ
ル−２−（４−ブロモフェニル）−１，２−ジフルオロ
エチレン、（Ｚ）−４−メトキシフェニル−２−（５−
ブロモピリミジン−２−イル）−１，２ージフルオロエ
チレン （Ｚ）−４−ブトキシフェニル−２−（４−ブロモフェ
ニル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−ト
リフルオロメチルフェニル−２−（４−ブロモフェニ
ル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−トリ
フルオロメトキシフェニル−２−（４−ブロモフェニ
ル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−（４−
（１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ）フェニ
ル）−２−（４−ブロモフェニル）−１，２−ジフルオ
ロエチレン、（Ｚ）−４−フルオロフェニル−２−（５
−ブロモピリミジン−２−イル）−１，２ージフルオロ
エチレン、（Ｚ）−フェニル−２−（４−ブロモフェニ
ル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−シア
ノフェニル−２−（４−ブロモフェニル）−１，２−ジ
フルオロエチレン、（Ｚ）−４−（２−ブテニルオキ
シ）フェニル−２−（４−ブロモフェニル）−１，２−
ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−（２−ブチニルオキ
シ）フェニル−２−（５−ブロモピリミジン−２−イ
ル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−（５−メ
トキシピリミジン−２−イル）−２−（４−ブロモフェ
ニル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−（５−
プロポキシピリミジン−２−イル）−２−（５−ブロモ
ピリミジン−２−イル）−１，２−ジフルオロエチレ
ン、（Ｚ）−（２−プロピルピリミジン−５−イル）−
２−（４−ブロモフェニル）−１，２−ジフルオロエチ
レン、（Ｚ）−（２−（２−ブテニル）ピリミジン−５
−イル）−２−（４−ブロモフェニル）−１，２−ジフ
ルオロエチレン、（Ｚ）−（４−メトキシ−３−フルオ
ロ）フェニル−２−（４−ブロモフェニル）−１，２−
ジフルオロエチレン、（Ｚ）−（４−メトキシ−２−フ
ルオロ）フェニル−２−（５−ブロモピリミジン−２−
イル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−（４−
トリフルオロメトキシ−３−フルオロ）フェニル−２−
（４−ブロモフェニル）−１，２−ジフルオロエチレ
ン、（Ｚ）−（４−シアノ−３−フルオロ）フェニル−
２−（４−ブロモフェニル）−１，２−ジフルオロエチ
レン。

【００３６】（参考例３）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、４
−テトラヒドロピラニルオキシ−１−ヨードベンゼン
（１１−１）３．６ｇ（１２ｍｍｏｌ）、エーテル６０
ｍＬを加え、−７０℃でｎ−ブチルリチウムのヘキサン
溶液（１．６９Ｍ）７．６ｍｌ（１２ｍｍｏｌ）を滴下
した後、同温度で１時間撹拌する。次に、−７０℃で４
−（（４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−１，
１，２−トリフルオロエチレン（５−１）４．２ｇ（１
２ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１時間撹拌下のち、室温
まで昇温、さらに１時間撹拌する。反応終了後、反応混
合物を水１００ｍＬにあけ、希塩酸にてｐＨ４とした
後、酢酸エチル１００ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層
を水で洗浄ののち、減圧濃縮し残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製することにより、（Ｚ）
−１−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）フェニ
ル）−２−（４−テトラヒドロピラニルオキシフェニ
ル）−１，２−ジフルオロエチレン（１２−１）３．２
ｇ（収率６１％）を得る。 次にこの（１２−１）２．
６ｇ（６ｍｍｏｌ）、メタノール３０ｍｌ、水５ｍｌ及
びトルエンスルホン酸０．５ｇを環流下に１時間撹拌す
る。反応終了後、反応混合物を減圧下に濃縮し、水５０
ｍｌを加え、酢酸エチル６０ｍＬにて抽出する。酢酸エ
チル層を水で洗浄ののち、減圧濃縮し残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製することにより、
（Ｚ）−１−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）フ
ェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１，２−
ジフルオロエチレン（１３−１）２．１ｇ（収率９６
％）を得る。 次にこの（１３−１）１．８ｇ（５ｍｍ
ｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸無水物２．８
ｇ、ピリジン０．５ｇおよびジクロロメタン２０ｍｌを
環流下に１時間撹拌する。反応終了後、反応混合物を氷
水５０ｍｌに加え、酢酸エチル６０ｍＬにて抽出する。
酢酸エチル層を水で洗浄ののち、減圧濃縮すれば、
（Ｚ）−１−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）フ
ェニル）−２−（４−トリフルオロメタンスルホニルオ
キシフェニル）−１，２−ジフルオロエチレン（２−
２）２．４ｇ（収率９７％）を得る。

【００３７】（参考例４）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、４
−ブロモ−１−ヨードベンゼン３．４ｇ（１２ｍｍｏ
ｌ）、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
０．１ｇ、２Ｍ−炭酸ナトリウム水溶液 １６ｍｌ（３
２ｍｍｏｌ）、トルエン４０ｍｌを入れた後、ここにＥ
−１−ペンテニルボラン酸２．４ｇ（２２ｍｍｏｌ）の
エタノール溶液１０ｍｌを室温で加える。その後、撹拌
しながら７０℃で６時間加熱する。反応終了後、反応混
合物を氷水５０ｍｌに加え、酢酸エチル６０ｍＬにて抽
出する。酢酸エチル層を水で洗浄ののち、溶媒を留去、
残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
することにより、４−ブロモ−１−（１−ｔｒａｎｓ−
ペンテニル）ベンゼン２．３ｇ（６−１）（収率８６
％）を得る。

【００３８】この方法に従って合成すれば、以下の化合
物が得られる。４−ブロモ−１−（１−ｔｒａｎｓ−プ
ロペニル）ベンゼン、５−ブロモ−２−（１−ｔｒａｎ
ｓ−ペンテニル）ピリミジン、４−ブロモ−２−フルオ
ロ−１−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）ベンゼン、４
−ブロモ−１−（１−ｔｒａｎｓ−（３−エトキシ）プ
ロペニル）ベンゼン、４−ブロモ−１−（１−ｔｒａｎ
ｓ−３−ヘキサジエニル）ベンゼン、４−ブロモ−１−
（１−ｔｒａｎｓ−オクテニル）ベンゼン。

【００３９】（参考例５）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、４
−ブロモ−１−ヨードベンゼン３．４ｇ（１２ｍｍｏ
ｌ）、１−ペンチン１．６ｇ（２４ｍｍｏｌ）、ビス
（トリフェニルホスフィン）パラジウムクロリド０．１
ｇ、ヨウ化銅０．１ｇ、トリフェニルホスフィン０．５
ｇおよびびトリエチルアミン４０ｍｌを仕込み、窒素気
流下に、６時間還流させる。反応終了後、反応混合物を
氷水５０ｍｌに加え、酢酸エチル６０ｍＬにて抽出す
る。酢酸エチル層を３％塩酸水、水で洗浄ののち、減圧
濃縮すれば淡黄色の残渣を得る。これをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製（溶出液：トルエン−ヘ
キサン）することにより、４−ブロモ−１−（１−ペン
チニル）ベンゼン２．０ｇ（６−２）（収率７４％）を
得る。

【００４０】この方法に従って合成すれば、以下の化合
物が得られる。４−ブロモ−１−（１−プロピニル）ベ
ンゼン、５−ブロモ−２−（１−ペンチニル）ピリミジ
ン、４−ブロモ−２−フルオロ−１−（１−ペンチニ
ル）ベンゼン、４−ブロモ−１−（１−（３−エトキ
シ）プロピニル）ベンゼン、４−ブロモ−１−（３−ヘ
キセン−１−イル）ベンゼン、４−ブロモ−１−（１−
オクチニル）ベンゼン。

【００４１】（参考例６）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、４
−テトラヒドロピラニルオキシ−１−ヨードベンゼン
（１１−１）３．６ｇ（１２ｍｍｏｌ）、テトラキスト
リフェニルホスフィンパラジウム０．１ｇ、２Ｍ−炭酸
ナトリウム水溶液１６ｍｌ（３２ｍｍｏｌ）、トルエン
４０ｍｌを入れた後、ここにＥ−１−ペンテニルボラン
酸２．４ｇ（２２ｍｍｏｌ）のエタノール溶液１０ｍｌ
を室温で加える。その後、撹拌しながら７０℃で６時間
加熱する。反応終了後、反応混合物を氷水５０ｍｌに加
え、酢酸エチル６０ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層を
水で洗浄ののち、溶媒を留去、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製することにより、４−テ
トラヒドロピラニルオキシ−１−（１−ｔｒａｎｓ−ペ
ンテニル）ベンゼン２．５ｇ（１７−１）（収率８４
％）を得る。 次にこの（１７−１）２．５ｇ（１０ｍ
ｍｏｌ）、メタノール３０ｍｌ、水５ｍｌ及びトルエン
スルホン酸０．５ｇを環流下に１時間撹拌する。反応終
了後、反応混合物を減圧下に濃縮し、水５０ｍｌを加
え、酢酸エチル６０ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層を
水で洗浄ののち、減圧濃縮し残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製することにより、４−ヒド
ロキシ−１−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）ベンゼン
１．６ｇ（１８−１）（収率９６％）を得る。 次にこ
の（１８−１）１．０ｇ（６ｍｍｏｌ）、トリフルオロ
メタンスルホン酸無水物２．８ｇ、ピリジン０．６ｇお
よびジクロロメタン２５ｍｌを環流下に１時間撹拌す
る。反応終了後、反応混合物を氷水５０ｍｌに加え、酢
酸エチル６０ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層を水で洗
浄ののち、減圧濃縮すれば、４−トリフルオロメタンス
ルホニルオキシ−１−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）
ベンゼン１．７ｇ（６−２）（収率９７％）を得る。

【００４２】（参考例７）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、ト
リフルオロヨードエチレン１４．２ｇ（６８ｍｍｏ
ｌ）、亜鉛３．６ｇ（５６ｍｍｏｌ）、ジメチルホルム
アミド６０ｍＬを加え、室温下に１時間撹拌する。つぎ
に、４−ブロモ−１−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）
ベンゼン（６−１）８．６ｇ（３８ｍｍｏｌ）、トリフ
ェニルホスフィン０．６ｇを加え、６５〜７０℃に加熱
しながら６時間撹拌する。反応終了後、不溶物を濾別し
て除き、反応混合物を水１００ｍＬにあけ、希塩酸にて
ｐＨ４とした後、酢酸エチル１５０ｍＬにて抽出する。
酢酸エチル層を、３％塩酸水、水で洗浄ののち、減圧濃
縮すれば残さを与える。残さをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製することにより、（４−（１−
ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−１，１，２−ト
リフルオロエチレン（８−１）５．７６ｇ（収率６７
％）を得る。この方法に従って合成すれば、以下の化合
物が得られる。（４−（１−ｔｒａｎｓ−プロペニル）
フェニル）−１，１，２−トリフルオロエチレン、（２
−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）ピリミジン−５−イ
ル）−１，１，２−トリフルオロエチレン、（（２−フ
ルオロ−４−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニ
ル）−１，１，２−トリフルオロエチレン、（４−（１
−ｔｒａｎｓ−（３−エトキシ）プロペニル）フェニ
ル）−１，１，２−トリフルオロエチレン、（４−（１
−ｔｒａｎｓ−３−ヘキサジエニル）フェニル）−１，
１，２−トリフルオロエチレン、（４−（１−ｔｒａｎ
ｓ−オクテニル）フェニル）−１，１，２−トリフルオ
ロエチレン。

【００４３】（参考例８）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、ト
リフルオロヨードエチレン１４．２ｇ（６８ｍｍｏ
ｌ）、亜鉛３．６ｇ（５６ｍｍｏｌ）、ジメチルホルム
アミド５０ｍＬを加え、室温下に２時間撹拌する。つぎ
に、４−ブロモ−１−（１−ペンチニル）ベンゼン（６
−２）８．５ｇ（３８ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフ
ィン０．６ｇを加え、６５〜７０℃に加熱しながら６時
間撹拌する。反応終了後、不溶物を濾別して除き、反応
混合物を水１００ｍＬにあけ、希塩酸にてｐＨ４とした
後、酢酸エチル１５０ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層
を、３％塩酸水、水で洗浄ののち、減圧濃縮し残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製すること
により、（４−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニ
ル）−１，１，２−トリフルオロエチレン（８−２）
５．５４ｇ（収率６５％）を得る。この方法に従って合
成すれば、以下の化合物が得られる。（４−（１−プロ
ピニル）フェニル）−１，１，２−トリフルオロエチレ
ン、（２−（１−ペンチニル）ピリミジン−５−イル）
−１，１，２−トリフルオロエチレン、（（２−フルオ
ロ−４−（１−ペンチニル）フェニル）−１，１，２−
トリフルオロエチレン（４−（１−（３−エトキシ）プ
ロピニル）フェニル）−１，１，２−トリフルオロエチ
レン、（４−（１−（３−ヘキセン−１−イル）フェニ
ル）−１，１，２−トリフルオロエチレン、（４−（１
−オクチニル）フェニル）−１，１，２−トリフルオロ
エチレン。

【００４４】（参考例９）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、ト
リフルオロヨードエチレン１４．２ｇ（６８ｍｍｏ
ｌ）、亜鉛３．６ｇ（５６ｍｍｏｌ）、ジメチルホルム
アミド６０ｍＬを加え、室温下に１時間撹拌する。つぎ
に、４−ブロモ−１−ヨードベンゼン（９−１）１０．
８ｇ（３８ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン０．６
ｇを加え、６０〜７０℃に加熱しながら４時間撹拌す
る。反応終了後、不溶物を濾別して除き、反応混合物を
水１００ｍＬにあけ、希塩酸にてｐＨ４とした後、酢酸
エチル１５０ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層を、３％
塩酸水、水で洗浄ののち、減圧濃縮し残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製することにより、
４−ブロモフェニル）−１，１，２−トリフルオロエチ
レン（２０−１）５．９４ｇ（収率６６％）を得る。こ
の方法に従って合成すれば、以下の化合物が得られる。
（５−ブロモピリミジン−２−イル）−１，１，２−ト
リフルオロエチレン、（２−ブロモピリミジン−５−イ
ル）−１，１，２−トリフルオロエチレン、４−ブロモ
−３−フルオロフェニル−１，１，２−トリフルオロエ
チレン、４−ブロモ−２−フルオロフェニル−１，１，
２−トリフルオロエチレン。次に、（２０−１）２．８
ｇ（１２ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニルホスフィ
ンパラジウム０．１ｇ、２Ｍ−炭酸ナトリウム水溶液
１６ｍｌ（３２ｍｍｏｌ）、トルエン４０ｍｌを入れた
後、ここにＥ−１−ペンテニルボラン酸２．４ｇ（２２
ｍｍｏｌ）のエタノール溶液１０ｍｌを室温で加える。
その後、撹拌しながら７０℃で６時間加熱する。反応終
了後、反応混合物を氷水５０ｍｌに加え、酢酸エチル６
０ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層を水で洗浄ののち、
溶媒を留去、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製することにより、４−（１−ｔｒａｎｓ−
ペンテニル）フェニル−１，１，２−トリフルオロエチ
レン２．３６（８−１）（収率８７％）を得る。 この
方法に従って合成すれば、以下の化合物が得られる。
（４−（１−ｔｒａｎｓ−プロペニル）フェニル）−
１，１，２−トリフルオロエチレン、（２−（１−ｔｒ
ａｎｓ−ペンテニル）ピリミジン−５−イル）−１，
１，２−トリフルオロエチレン、（（２−フルオロ−４
−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−１，
１，２−トリフルオロエチレン、（４−（１−ｔｒａｎ
ｓ−（３−エトキシ）プロペニル）フェニル）−１，
１，２−トリフルオロエチレン、（４−（１−ｔｒａｎ
ｓ−３−ヘキサジエニル）フェニル）−１，１，２−ト
リフルオロエチレン、（４−（１−ｔｒａｎｓ−オクテ
ニル）フェニル）−１，１，２−トリフルオロエチレ
ン。

【００４５】（参考例１０）（２０−１）２．８ｇ（１
２ｍｍｏｌ）、１−ペンチン１．６ｇ（２４ｍｍｏ
ｌ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムクロ
リド０．１ｇ、ヨウ化銅０．１ｇ、トリフェニルホスフ
ィン０．５ｇおよびびトリエチルアミン４０ｍｌを仕込
み、窒素気流下に、６時間還流させる。反応終了後、反
応混合物を氷水５０ｍｌに加え、酢酸エチル６０ｍＬに
て抽出する。酢酸エチル層を３％塩酸水、水で洗浄のの
ち、減圧濃縮すれば淡黄色の残渣を得る。これをシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製（溶出液：トル
エン−ヘキサン）することにより、４−ブロモ−１−
（１−ペンチニル）ベンゼン２．０２ｇ（８−２）（収
率７５％）を得る。この方法に従って合成すれば、以下
の化合物が得られる。（４−（１−プロピニル）フェニ
ル）−１，１，２−トリフルオロエチレン、（２−（１
−ペンチニル）ピリミジン−５−イル）−１，１，２−
トリフルオロエチレン、（（２−フルオロ−４−（１−
ペンチニル）フェニル）−１，１，２−トリフルオロエ
チレン、（４−（１−（３−エトキシ）プロピニル）フ
ェニル）−１，１，２−トリフルオロエチレン、（４−
（１−（３−ヘキセン−１−イル）フェニル）−１，
１，２−トリフルオロエチレン、（４−（１−オクチニ
ル）フェニル）−１，１，２−トリフルオロエチレン。

【００４６】（実施例１）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、
（Ｚ）−１−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）フ
ェニル）−２−（４−ブロモフェニル）−１，２−ジフ
ルオロエチレン（２−１）１．７ｇ（４ｍｍｏｌ）、テ
トラキストリフェニルホスフィンパラジウム０．１ｇ、
２Ｍ−炭酸ナトリウム水溶液 ６ｍｌ（１２ｍｍｏ
ｌ）、トルエン２０ｍｌを入れた後、ここにＥ−１−ペ
ンテニルボラン酸０．８ｇ（７ｍｍｏｌ）のエタノール
溶液４ｍｌを室温で加える。その後、撹拌しながら７０
℃で６時間加熱する。反応終了後、反応混合物を氷水２
５ｍｌに加え、酢酸エチル３０ｍＬにて抽出する。酢酸
エチル層を水で洗浄ののち、溶媒を留去、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する。更にエ
タノールにて再結晶すれば白色結晶が得られる。（Ｚ）
−１−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）フェニ
ル）−２−（４−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェ
ニル）−１，２−ジフルオロエチレン（１−１）１．３
４ｇ（収率８２％）を得る。 融点：１３〜１４℃ ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ） δｐｐｍ：０．７〜２．５（ｍ，２４Ｈ）、６．１〜
６．４（ｍ，２Ｈ）、７．０〜７．７（ｍ，８Ｈ）

【００４７】（実施例２）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、
（Ｚ）−１−（４−プロピルフェニル）−２−（４−ブ
ロモフェニル）−１，２−ジフルオロエチレン（２−
１）１．３５ｇ（４ｍｍｏｌ）、テトラキストリフェニ
ルホスフィンパラジウム０．２ｇ、２Ｍ−炭酸ナトリウ
ム水溶液 ６ｍｌ（１２ｍｍｏｌ）、トルエン２０ｍｌ
を入れた後、ここにＥ−１−ペンテニルボラン酸０．８
ｇ（７ｍｍｏｌ）のエタノール溶液４ｍｌを室温で加え
る。その後、撹拌しながら７０℃で６時間加熱する。反
応終了後、反応混合物を氷水２５ｍｌに加え、酢酸エチ
ル３０ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層を水で洗浄のの
ち、溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製する。更にエタノールにて再結晶すれ
ば白色結晶が得られる。（Ｚ）−１−（４−プロピルフ
ェニル）−２−（４−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）
フェニル）−１，２−ジフルオロエチレン（１−２）
１．１ｇ（収率８５％）を得る。 ¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ） δｐｐｍ：０．７〜１．２（ｔ，６Ｈ）、１．２〜１．
９（ｍ，４Ｈ）、１．９〜２．８（ｍ，４Ｈ）、６．２
〜６．４（ｍ，２Ｈ）、７．０〜７．７（ｍ，８Ｈ） この方法に従って合成すれば、以下の化合物が得られ
る。（Ｚ）−１−（４−（４−ペンチルシクロヘキシ
ル）フェニル）−２−（２−フルオロ−４−（１−ｔｒ
ａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−１，２−ジフルオロ
エチレン、（Ｚ）−１−（４−（４−プロピルシクロヘ
キセニル）フェニル）−２−（４−（１−ｔｒａｎｓ−
ペンテニル）フェニル）−１，２−ジフルオロエチレ
ン、（Ｚ）−４−メチルフェニル−２−（４−（１−ｔ
ｒａｎｓ−ブテニル）フェニル）−１，２−ジフルオロ
エチレン、（Ｚ）−４−プロピルフェニル−２−（４−
（１−（１−ｔｒａｎｓ−３−エトキシプロペニル）フ
ェニル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−
ペンチルフェニル−２−（３−フルオロ−４−（１−ｔ
ｒａｎｓ−オクテニル）フェニル）−１，２−ジフルオ
ロエチレン、（Ｚ）−４−オクチルフェニル−２−（４
−（１−ｔｒａｎｓ−プロペニル）フェニル）−１，２
−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−メトキシフェニル
−２−（５−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）ピリミジ
ン−２−イル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）
−４−ブトキシフェニル−２−（４−（１−ｔｒａｎｓ
−ペンテニル）フェニル）−１，２−ジフルオロエチレ
ン、（Ｚ）−４−トリフルオロメチルフェニル−２−
（４−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−
１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−トリフルオ
ロメトキシフェニル−２−（４−（１−ｔｒａｎｓ−ペ
ンテニル）フェニル）−１，２−ジフルオロエチレン、
（Ｚ）−（４−（１，１，２，２−テトラフルオロエト
キシ）フェニル）−２−（４−（４−（１−ｔｒａｎｓ
−ヘキセニル）フェニル）−１，２−ジフルオロエチレ
ン、（Ｚ）−４−フルオロフェニル−２−（５−（１−
ｔｒａｎｓ−ペンテニル）ピリミジン−２−イル）−
１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−フェニル−２−
（４−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−
１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−シアノフェ
ニル−２−（４−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェ
ニル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−
（２−ブテニルオキシ）フェニル−２−（４−（１−ｔ
ｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−１，２−ジフルオ
ロエチレン、（Ｚ）−４−（２−ブチニルオキシ）フェ
ニル−２−（５−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）ピリ
ミジン−２−イル）−１，２−ジフルオロエチレン、
（Ｚ）−（５−メトキシピリミジン−２−イル）−２−
（４−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−
１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−（５−プロポキ
シピリミジン−２−イル）−２−（５−（１−ｔｒａｎ
ｓ−ペンテニル）ピリミジン−２−イル）−１，２−ジ
フルオロエチレン、（Ｚ）−（２−プロポキシピリジン
−５−イル）−２−（４−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニ
ル）フェニル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）
−（２−（２−ブテニル）ピリミジン−５−イル）−２
−（４−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−
１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−（４−メトキシ
−３−フルオロ）フェニル−２−（４−（１−ｔｒａｎ
ｓ−ペンテニル）フェニル）−１，２−ジフルオロエチ
レン、（Ｚ）−（４−メトキシ−２−フルオロ）フェニ
ル−２−（５−（１−ｔｒａｎｓ−オクテニル）ピリミ
ジン−２−イル）−１，２−ジフルオロエチレン、
（Ｚ）−（４−トリフルオロメトキシ−３−フルオロ）
フェニル−２−（４−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）
フェニル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−
（４−シアノ−３−フルオロ）フェニル−２−（４−ブ
ロモフェニル）−１，２−ジフルオロエチレン、４−ブ
ロモ−１−（１−ｔｒａｎｓ−プロペニル）ベンゼン。

【００４８】（実施例３）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、
（Ｚ）−１−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）フ
ェニル）−２−（４−ブロモフェニル）−１，２−ジフ
ルオロエチレン（２−１）１．７ｇ（４ｍｍｏｌ）、１
−ペンチン０．８ｇ（１２ｍｍｏｌ）、ビス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウムクロリド０．０５ｇ、ヨウ
化銅０．１ｇ、トリフェニルホスフィン０．２ｇおよび
びトリエチルアミン２０ｍｌを仕込み、窒素気流下に、
６時間還流させる。反応終了後、反応混合物を氷水２５
ｍｌに加え、酢酸エチル３０ｍＬにて抽出する。酢酸エ
チル層を３％塩酸水、水で洗浄ののち、減圧濃縮すれば
淡黄色の残渣を得る。これをシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにて精製（溶出液：トルエン−ヘキサン）す
ることにより、（Ｚ）−１−（４−（４−プロピルシク
ロヘキシル）フェニル）−２−（４−（１−ペンチニ
ル）フェニル）−１，２−ジフルオロエチレン（１−
３）１．１６ｇ（収率７１％）を得る。この方法に従っ
て合成すれば、以下の化合物が得られる。（Ｚ）−１−
（４−（４−ペンチルシクロヘキシル）フェニル）−２
−（２−フルオロ−４−（１−ペンチニル）フェニル）
−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−１−（４−
（４−プロピルシクロヘキセニル）フェニル）−２−
（４−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−
１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−メチルフェ
ニル−２−（４−（１−（３−エトキシ）プロピニル）
フェニル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４
−プロピルフェニル−２−（４−（３−ヘキセン−１−
イル）フェニル）−１，２−ジフルオロエチレン、
（Ｚ）−（４−プロピル−３−フルオロ）フェニル−２
−（５−（１−ｔｒａｎｓ−ペンチニル）ピリミジン−
２−イル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４
−メトキシフェニル−２−（４−（１−ペンチニル）フ
ェニル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−
トリフルオロメチルフェニル−２−（２−フルオロ−４
−（１−ペンチニル）フェニル）−１，２−ジフルオロ
エチレン、（Ｚ）−４−トリフルオロメトキシフェニル
−２−（４−（１−ペンチニル）フェニル）−１，２−
ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−フルオロフェニル−
２−（５−（１−ペンチニル）ピリジン−２−イル）−
１，２−ジフルオロエチレン。

【００４９】（実施例４）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、４
−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）−１−ブロモベンゼ
ン（６−４）２．７ｇ（１２ｍｍｏｌ）、エーテル７０
ｍＬを加え、−７０℃でｎ−ブチルリチウムのヘキサン
溶液（１．６９Ｍ）７．６ｍｌ（１２ｍｍｏｌ）を滴下
した後、同温度で１時間撹拌する。次に、−７０℃で４
−（（４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−１，
１，２−トリフルオロエチレン（５−４）４．２ｇ（１
２ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１時間撹拌下のち、室温
まで昇温、さらに１時間撹拌する。反応終了後、反応混
合物を水１００ｍＬにあけ、希塩酸にてｐＨ４とした
後、酢酸エチル１００ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層
を水で洗浄ののち、減圧濃縮し残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製することにより、（Ｚ）
−１−（４−（４−プロピルシクロヘキシル）フェニ
ル）−２−（４−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェ
ニル）−１，２−ジフルオロエチレン（１−４）を得
る。

【００５０】（実施例５）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、４
−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）−１−ヨードベンゼ
ン（６−５）３．２ｇ（１２ｍｍｏｌ）、エーテル７０
ｍＬを加え、−７０℃でｎ−ブチルリチウムのヘキサン
溶液（１．６９Ｍ）７．６ｍｌ（１２ｍｍｏｌ）を滴下
した後、同温度で１時間撹拌する。次に、−７０℃で４
−（トリフルオロメトキシ）フェニル）−１，１，２−
トリフルオロエチレン（５−５）２．９ｇ（１２ｍｍｏ
ｌ）を加え、同温度で１時間撹拌下のち、室温まで昇
温、さらに１時間撹拌する。反応終了後、反応混合物を
水１００ｍＬにあけ、希塩酸にてｐＨ４とした後、酢酸
エチル１００ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層を水で洗
浄ののち、減圧濃縮し残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製することにより、（Ｚ）−１−
（４−トリフルオロメトキシフェニル）−２−（４−
（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−１，２−
ジフルオロエチレン（１−５）１．９ｇ（収率４４％）
を得る。この方法に従って合成すれば、以下の化合物が
得られる。（Ｚ）−１−（４−（４−ペンチルシクロヘ
キシル）フェニル）−２−（２−フルオロ−４−（１−
ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−１，２−ジフル
オロエチレン、（Ｚ）−４−メチルフェニル−２−（４
−（１−（３−エトキシ）プロピニル）フェニル）−
１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−プロピルフ
ェニル−２−（４−（３−ヘキセン−１−イル）フェニ
ル）−１，２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−（４−プ
ロピル−３−フルオロ）フェニル−２−（２−（１−ｔ
ｒａｎｓ−ペンテニル）ピリミジン−５−イル）−１，
２−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−メトキシフェニ
ル−２−（４−（１−ペンチニル）フェニル）−１，２
−ジフルオロエチレン、（Ｚ）−４−トリフルオロメチ
ルフェニル−２−（２−フルオロ−４−（１−ｔｒａｎ
ｓ−ペンテニル）フェニル）−１，２−ジフルオロエチ
レン。

【００５１】（実施例６）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、４
−（トリフルオロメトキシ）−１−ヨードベンゼン（７
−６）３．５ｇ（１２ｍｍｏｌ）、エーテル７０ｍＬを
加え、−７０℃でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液
（１．６９Ｍ）７．６ｍｌ（１２ｍｍｏｌ）を滴下した
後、同温度で１時間撹拌する。次に、−７０℃で４−
（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−１．１．
２−トリフルオロエチレン（８−６）２．７ｇ（１２ｍ
ｍｏｌ）を加え、同温度で１時間撹拌下のち、室温まで
昇温、さらに１時間撹拌する。反応終了後、反応混合物
を水１００ｍＬにあけ、希塩酸にてｐＨ４とした後、酢
酸エチル１００ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層を水で
洗浄ののち、減圧濃縮し残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製することにより、（Ｚ）−１−
（４−（トリフルオロメトキシ）フェニル）−２−（４
−（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−１，２
−ジフルオロエチレン（１−６）２．３ｇ（収率５１
％）を得る。

【００５２】（実施例７）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、４
−プロピル−１−ヨードベンゼン（７−７）３．０ｇ
（１２ｍｍｏｌ）、エーテル７０ｍＬを加え、−７０℃
でｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６９Ｍ）
７．６ｍｌ（１２ｍｍｏｌ）を滴下した後、同温度で１
時間撹拌する。次に、−７０℃で（２−フルオロ−４−
（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−１，１，
２−トリフルオロエチレン（８−７）２．９ｇ（１２ｍ
ｍｏｌ）を加え、同温度で１時間撹拌下のち、室温まで
昇温、さらに１時間撹拌する。反応終了後、反応混合物
を水１００ｍＬにあけ、希塩酸にてｐＨ４とした後、酢
酸エチル１００ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層を水で
洗浄ののち、減圧濃縮し残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製することにより、（Ｚ）−１−
（４−プロピルフェニル）−２−（２−フルオロ−４−
（１−ｔｒａｎｓ−ペンテニル）フェニル）−１，２−
ジフルオロエチレン（１−７）を得る。

【００５３】（実施例８）撹拌装置、還流冷却器、温度
計を装着し、系内を窒素置換した四つ口フラスコに、４
−（４−プロピルシクロヘキシル）−１−ブロモベンゼ
ン（７−８）３．４ｇ（１２ｍｍｏｌ）、エーテル７０
ｍＬを加え、−７０℃でｎ−ブチルリチウムのヘキサン
溶液（１．６９Ｍ）７．６ｍｌ（１２ｍｍｏｌ）を滴下
した後、同温度で１時間撹拌する。次に、−７０℃で
（４−（１−ペンチニル）フェニル）−１，１，２−ト
リフルオロエチレン（８−８）２．７ｇ（１２ｍｍｏ
ｌ）を加え、同温度で１時間撹拌下のち、室温まで昇
温、さらに１時間撹拌する。反応終了後、反応混合物を
水１００ｍＬにあけ、希塩酸にてｐＨ４とした後、酢酸
エチル１００ｍＬにて抽出する。酢酸エチル層を水で洗
浄ののち、減圧濃縮し残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製することにより、（Ｚ）−１−
（４−（４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−２
−（４−（１−ペンチニル）フェニル）−１，２−ジフ
ルオロエチレン（１−８）を得る。

【００５４】（実施例９）本発明のスチルベン化合物
（１）を以下の母体液晶に、１５％添加し、測定される
光学異方性値より外挿してスチルベン化合物（１）の△
ｎ値を求めた。 （光学異方性の測定）：測定条件（２５℃、５５０ｎ
ｍ）

【表１】 本発明化合物の△ｎ値の計算式：（２０ｂ−１７ａ）／３

【表２】

【００５５】本発明の化合物の相系列を以下に示す。 実施例１の化合物（Ｋ 70 Ｓx 80 Ｎ 293 Ｉ） 実施例２の化合物（Ｋ 63 Ｎ 153 Ｉ）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 239/26 Ｃ０７Ｄ 239/26 Ｃ０９Ｋ 19/16 Ｃ０９Ｋ 19/16 19/34 19/34 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（１） （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² 、Ｘ³ 、Ｘ⁴ 、Ｙ¹ 、Ｙ² 、Ｙ³ お
   よびＹ⁴ は同一または相異なり、ＣＨ、ＣＦまたはＮを
   示し、ＲはＣ₁ 〜Ｃ₁₂のアルキル基、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₂のアル
   ケニル基またはＣ₂ 〜Ｃ₁₆のアルコキシアルキル基を示
   し、Ａは、水素原子、フッ素原子、トリフロロメチル
   基、１から３個のフッ素原子で置換されていてもよいメ
   トキシ基、１から５個のフッ素原子で置換されていても
   よいエトキシ基、シアノ基、Ｒ¹ −（シクロアルキル）
   基、Ｒ¹ −（シクロアルケニル）基またはＲ¹ −（Ｏ）
   m 基を示し、Ｒ¹ は、水素原子、フッ素原子、Ｃ₁ 〜Ｃ
   ₁₂のアルキル基、Ｃ₂ 〜Ｃ₁₂のアルケニル基またはＣ₂
   〜Ｃ₁₂のアルキニル基を示し、ｍは、０または１であ
   る。Ｅは−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を示す。）で
   示されるスチルベン化合物。
2. 【請求項２】一般式（２） （式中、Ｘ¹ 、Ｘ² 、Ｘ³ 、Ｘ⁴ 、Ｙ¹ 、Ｙ² 、Ｙ³ お
   よびＹ⁴ は、前記と同じ意味を表わす。Ｄは、ハロゲン
   原子または−ＯＳＯ₂ Ｒ’を示す。ただし、Ｒ’はフッ
   素原子で置換されていてもよい低級アルキル基、または
   置換基を有していてもよいフェニル基を示す。）で示さ
   れるスチルベン誘導体と一般式（３） （Ｒ³ ）₂ Ｂ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ （３） （トランス体） で示されるホウ素類、または一般式（４） ＣＨ≡Ｃ−Ｒ （４） （式中、Ｒは前記と同じ意味を表わし、Ｒ³ は水酸基、
   直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基または直鎖、分岐
   もしくは環状のアルコキシ基を示す。このとき、Ｒ³ 同
   士は、相互に結合して環を形成していてもよい。或いは
   （Ｒ³ ) ₂ 全体で置換されていてもよいベンゾジオキシ
   基を示す。）で示されるアセチレン類とパラジウム触媒
   とを塩基性物質の存在下に反応させることを特徴とする
   前記一般式（１）で示されるスチルベン化合物の製造
   法。
3. 【請求項３】一般式〔５〕 （式中、Ａ、Ｘ¹ 、Ｘ² 、Ｘ³ およびＸ⁴ は、前記と同
   じ意味を表わす。）で示されるスチレン誘導体と一般式
   （６） （式中、Ｒ、Ｅ、Ｙ¹ 、Ｙ² 、Ｙ³ およびＹ⁴ は前記と
   同じ意味を有する。Ｄは、ハロゲン原子または−ＯＳＯ
   ₂ Ｒ’を示す。ただし、Ｒ’はフッ素原子で置換されて
   いてもよい低級アルキル基、または置換基を有していて
   もよいフェニル基を示す。）で示される芳香族ハロゲン
   化合物を塩基性物質の存在下に反応させることを特徴と
   する前記一般式（１）で示されるスチルベン化合物の製
   造法。
4. 【請求項４】一般式（７） （式中、Ａ、Ｘ¹ 、Ｘ² 、Ｘ³ 、Ｘ⁴ およびＤは、前記
   と同じ意味を表わす。）で示される芳香族ハロゲン化合
   物と一般式（８） （式中、Ｒ、Ｅ、Ｙ¹ 、Ｙ² 、Ｙ³ およびＹ⁴ は前記と
   同じ意味を有する。）で示されるスチレン誘導体を塩基
   性物質の存在下に反応させることを特徴とする前記一般
   式（１）で示されるスチルベン化合物の製造法。
5. 【請求項５】前記一般式（１）で示される化合物を少な
   くとも１種類配合成分として含有することを特徴とする
   液晶組成物。
6. 【請求項６】前記一般式（１）で示される化合物を少な
   くとも１種類配合成分として含有する液晶組成物を用い
   てなる液晶素子。