JPH09275U - 走査線スキップ型非同期式描画装置 - Google Patents

走査線スキップ型非同期式描画装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザ・ラスタ走査装置に使用され、画素信
号の発生速度と基材上の描画速度の差を補償する制御装
置を提供すること。 【解決手段】 回転多面鏡を含む露光ビーム発生装置
（１２）により、可動式の描画プラテン（１８）上に取
り付けた基材（１６）を横断する露光ビーム（１４）
で、入力データ信号に応答して、順次に走査するレーザ
・ラスタ走査装置（１０）に使用される制御装置（２
０）。コンピュータ手段が、露光信号列を示す信号を発
生するセンサからの信号及び鏡面の回転位置を示す検知
手段からの信号より、現在の鏡面が第１回転位置にある
時を帰納的に判定し、次走査線に対応する露光信号列の
全部がバッファに受け取られたかどうかを決定し、そし
て次走査線に対応する露光信号列の全部がバッファに受
け取られていないと決定した場合、露光ビーム発生装置
へ制御信号を提供して次走査線に対応する露光信号列を
提供することを中止し、描画プラテン（１８）の動作を
変更させる制御信号を提供する。

Description

【考案の詳細な説明】
【０００１】
【考案の属する技術分野】
本考案は、レーザ・ラスタ走査装置に関し、更に詳しくは、走査線スキップ（ ｓｋｉｐ）型非同期式描画を行うレーザ・ラスタ走査装置に使用される装置に関 する。
【０００２】
【従来の技術】
精密プロッタやプリンタなどの高速光学的走査装置はこの分野において周知で ある。これらの装置は、直接描画装置であり、フィルムの感光剤を通過する露光 ビームをラスタ走査することにより、プリント回路基板又は印刷版を作成するの に使用され、該フィルムは後にプリント回路基板の原版又は印刷版の図版にそれ ぞれ加工される。ガーバー・サイエンティフィック・インスツルメント・カンパ ニーにより市販されている代表的なシステムは、磁気テープ駆動装置、ハード・ ディスク、対話型コンピュータ・グラフィック端末、画像処理装置及び走査装置 を有する光学テーブルから成る。このシステムは、コンピュータ援用設計（ＣＡ Ｄ）データを直接プリント回路基板の原版に転写するのに必要な、又は文字種、 画像及びハーフトーン像を印刷版の図番に転写するのに必要な光学系、メディア ・キャリッジ及び電子装置を含むこともある。
【０００３】 直接描画装置は、表面に感光性材料を塗布した平坦なフィルム基材を描画プラ テン上に受け入れるように構成される。コンピュータは、基材の特定部分を感光 させるために、通常レーザ・ビームから成る走査光学露光ビームを強度変調する 露光ビーム発生装置に信号を提供する。一般的には、基材上の感光位置、即ち露 光ビームの位置を正確に示すために、露光ビームと同時に基準ビームが基準マス ク及び受光素子を横断して走査される。時には、ビームの焦点を合わせ、又は基 準マスク及び基材を横断するビームの同時走査を行うために、平面場走査装置が 用いられる。基材に描画する時に描画プラテンを案内するために、精密空気軸受 けがよく用いられる。
【０００４】 光学的偏向装置が多面鏡である従来のレーザ・ラスタ走査装置では、露光ビー ムが一定速度で送られるように、鏡は特定の一定速度で回転される。しかしなが ら、従来の装置ではコンピュータから送られて来る画素、又は画素信号（即ち露 光信号）の数値計算速度が露光ビームの描画速度より遅くなることがあるため、 そのような場合には、走査線の一部分だけが感光される。
【０００５】
【考案が解決しようとする課題】
従って、コンピュータが露光ビームを変調させるための信号を発生する速度と 、装置が走査する速度（即ち描画速度）との許容できない差を自動的に補償する ようなレーザ・ラスタ走査装置を提供することが好ましい。本考案はそのような レーザ・ラスタ走査装置に関してなされたものである。
【０００６】 本考案の目的は、レーザ・ラスタ走査装置に使用され、画素信号の発生速度と 基材上の描画速度の差を補償する装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本考案によれば、レーザ・ラスタ走査装置は、変調装置及び特定の速度で回転 する複数の反射面を有する多面鏡から成る、アドレス信号にて制御可能な露光ビ ーム発生装置を含む。該走査装置は基材上の走査線を横断する変調された露光ビ ームを一方向に繰り返し走査できる。描画プラテンは基材を受け入れて、走査方 向に直角の方向に特定の速度で送る。制御装置は入力データ信号を受け取り、露 光信号を発生させるコンピュータを含む。
【０００８】 露光信号は順序付けられた記憶素子列の中で区分され、各信号列は、１個の反 射鏡面が走査線の始点に対応する第１回転位置から終点に対応する第２回転位置 まで回転する時に、該鏡面に照射される変調露光ビームに対応する。露光ビーム 発生装置に結合したバッファは、次に描画される走査線に対応する１個の露光信 号列を有する。センサは次走査線に関する全露光信号がバッファに準備されてい るか判定する。コンピュータは帰納的に現在の鏡面が前記第１回転位置にある時 を判定する。
【０００９】 前記鏡面が第１回転位置にあり、前記センサが、バッファの信号読み込みが未 完了であることを示す場合、コンピュータは前記バッファに蓄積された露光信号 を露光ビーム発生装置に提供することを中止する制御信号、及びこれに応じて描 画ブラナンの動作を変更させるための制御信号を提供する。
【００１０】 本考案の別の特徴では、レーザ・ラスタ走査装置は、変調装置及び特定の速度 で回転する複数の反射面を有する多面鏡から成る、アドレス信号にて制御可能な 露光ビーム発生装置を含む。該走査装置は基材上の走査線を横断して変調された 露光ビームを変位させる。描画プラテンは基材を受け入れて、走査方向に直角な 方向に特定の速度で送る。制御装置は入力データ信号を受け取り、対応する露光 信号を発生するコンピュータを含む。露光信号は、順序付けられた信号列に区分 され、各信号列は特定の走査線に対応する。コンピュータは更に信号を発生させ 、現在の走査線に対応する位置から後続の各走査線に対応する位置まで、描画プ ラテンを送る。
【００１１】 各露光信号列は、１個の反射鏡面が走査線の始点に対応する第１回転位置から 終点に対応する第２回転位置まで回転する時に、該鏡面に照射される変調露光ビ ームに対応する。露光ビーム発生装置に結合した第２バッファは、次に描画され る走査線に対応する１個の露光信号列を有する。第２センサは次走査線の全露光 信号が第２バッファに存在するか判定する。コンピュータに結合した第２バッフ ァは、露光ビーム発生装置に提供する前の複数の露光信号列を蓄積する。第２セ ンサは、第１バッファに存在する第２バッファに提供可能な露光信号列の数を判 定する。
【００１２】 第１バッファに蓄積された露光信号列の数が予め設定された数に一致する場合 、コンピュータは、第２バッファに提供される露光信号列の通信速度を変更する 制御信号、及び対応して描画プラテンの動作を変更させる制御信号を提供する。 前記コンピュータは帰納的に現在の鏡面が前記第１回転位置にある時を判定する 。第２センサが、第２バッファは次走査線に対応する全露光信号を有していない ことを示す場合、コンピュータは、第２バッファに蓄積された露光信号を露光ビ ーム発生装置に提供することを中止する制御信号、及び描画プラテンを調整する 制御信号を提供する。
【００１３】
【考案の実施の形態】
図１は、本考案によるレーザ・ラスタ走査装置１０を図解的に示す。走査装置 １０は、図２にて詳しく述べられる露光ビーム発生装置１２を含む。露光ビーム 発生装置１２は、描画プラテン１８等の送り機構上に位置させられた基材１６等 のキャリア上の感光性表面に露光ビームを選択的に照射する。
【００１４】 描画プラテン及び露光ビーム発生装置１２は制御装置２０から信号を受け取る 。図３にて詳しく述べるように、制御装置２０は、データ入力装置２２から信号 を受け取り、対応する画素信号（ｐｉｘｅｌ ｓｉｇｎａｌｓ）を発生させ、露 光ビームを変調する。該制御装置が、画素信号、即ち走査される露光ビームの個 々の画素に対応する露光信号を発生する速度は、描画速度、即ち１個の走査線を 横断して露光ビームが移動させられる走査速度より遅くなることがあり得る。ま た、制御装置２０の画素信号を発生するデータ速度（ｄａｔａ ｒａｔｅ）が遅 くなり、描画プラテンが送られる速度、即ち各走査線に応じて位置決めされる速 度が相対的に大きくなることがあり得る。本考案は、前記のデータ速度差を補償 する制御装置及び走査装置を特徴とする。
【００１５】 図２は、図１の露光ビーム発生装置１２の概略図を示す。好ましくはサイオニ クス（Ｃｙｏｎｉｃｓ）３ｍＷのアルゴン・レーザであるレーザ光源２６はケー ス２４に収納されビーム２８を発生する。ビーム２８は第１回転鏡３０に受け取 られ、ビーム形成光学系３２へ照射される。ビーム形成光学系３２は通常のもの が使用でき、特定の用途に応じて帯域レンズ、発散レンズ、ピン・ホール及びト ランスフォーム・レンズ組立体にて構成可能である。
【００１６】 生成されたビームは第１ビーム分岐器３４により受け取られ、基準ビーム３６ を分離する。ビーム２８は、通常の音響光学変調装置３８に照射され、そこで制 御装置２０からライン４０を経て受け取られる画素信号に応じてビーム強度が変 調される。変調装置３８に結合したバッファ３９は、変調装置３８に提供する前 の画素信号を蓄積する。
【００１７】 バッファ３９は図２に図式的に示されており、次の走査線に対応する画素信号 を受け取るために、１個以上の通常のライン・バッファから成る。同様に、基準 ビーム３６は第２回転鏡４４により曲げられ、一般的には前述のビーム形成部品 に類似のレンズ等の光学部品を含む、基準ビーム形成光学系４６に照射される。 基準ビーム３６は隔壁４８の開口を通過し、ビーム２８は閉口５０を通過する。 基準ビーム３６は回転鏡５２に受け取られ、ビーム混合器５４に照射される。ビ ーム混合器５４は、ビーム２８も受け取り、混合ビームをプリズム組立体５８の 光線平行化レンズ５６に照射する。
【００１８】 混合ビーム５９は、光学組立体６０に受け取られ、光学組立体６０は、ライン ６８を経て制御装置２０から受け取る信号に応じて軸６６の回りを回転する、複 数の鏡面６４を有する多面鏡６２から成る。基準ビーム３６及び露光ビーム６９ は通常のＦシータ走査レンズ７０により受け取られる。
【００１９】 露光ビームは最終的には折り返し鏡７２に受け取られ、走査装置の位置する平 面外に位置する描画プラテンに照射される。同時に、基準ビーム３６は基準マス ク７４に照射され、最終的には光検出器列７６に受け取られる。光検出器列は、 タイミング及び露光ビームの変調を制御するために、受け取った基準ビームを示 す信号をライン７８を経て制御装置に提供する。制御装置２０はここで詳述する 機能を実現するのに必要なプロセッサ及び記憶手段を含む。
【００２０】 図３は、図１のレーザ・ラスタ制御装置の制御装置２０のブロック図を示す。 制御装置２０は、データ入力装置２２より信号を受け取り、コンピュータ８０に より画素信号を数値計算し、該画素信号をライン８２を経て、露光ビーム発生装 置の一部を成す音響光学変調装置のバッファ３９に提供する。画素信号は複数の 信号列に区分され、各信号列は１個の走査線に対応する。
【００２１】 制御装置２０のデータ速度は、部分的には入力データ信号の情報内容に依存し 、可変である。制御装置２０に関しては、複雑性の低いデータで最高データ速度 が得られ、露光ビーム発生装置の最大データ速度と一致する。また、走査線の画 素信号列が交互に論理「１」と「０」の値を取る時、最低データ速度と成る。
【００２２】 図３に示す実施例では、露光ビーム発生装置のデータ速度は多面鏡の特定の回 転速度の関数である上に、画素信号がバッファ３９に受け取られる速度の関数で もある。画素信号がバッファ３９を出るデータ速度は、露光ビームが走査線を横 断する速度（即ち、走査速度又は描画速度）と一致しなければならないことは、 当業著には自明である。従って、露光ビーム発生装置の最大データ速度は、制御 装置のデータ速度より大きくなるように選定される。即ち、提供される画素信号 のデータ速度は消費される最大データ速度以下であり、信号は失われない。一般 的には、露光ビーム発生装置の最大データ速度（即ち消費される画素信号）は３ ３百方画素／秒（３３Ｍｐ／ｓ又はｍｉｌｌｉｏｎ ｐｉｘｅｌｓ ｐｅｒ ｓ ｅｃｏｎｄ）である。
【００２３】 本考案は、制御装置のデータ速度が露光ビーム発生装置のデータ速度より遅い 場合の補償に関するものであり、変調装置に結合されたセンサ８４は、バッファ ３９が次走査線に関する全画素信号を受け取っているかどうかを公知の方法で判 定することを特徴とする。コンピュータ８０は、センサ８６からライン８７を経 て、鏡面の回転位置を判定する信号を受け取る。鏡が走査線の始点に対応する位 置にあり、次走査で基材の感光が開始可能な時、対応する画素信号列の全画素信 号がバッファに受け取られていない場合、コンピュータは、変調装置への画素信 号の提供を中止し、露光ビームの鏡面への照射を中止することで、該鏡面を抜か す（ｓｋｉｐｐｉｎｇ）。バッファ３９の不完全な信号列で明らかなように前記 速度間の不一致が認められる場合、この判定は連続する各鏡面について帰納的に 行われる。
【００２４】 制御装置２０は、更に画素信号の提供に関する前記の判定に応じて、描画プラ テンの動作を変更させなければならない。図３の実施例において、１個以上の鏡 面が抜かされた場合、図版の完全性を維持するために、制御装置２０は、ライン ８８を経て提供する制御信号により描画プラテンの動きを停止し、その後描画プ ラテンを送る。また、描画プラテンが連続的に送られる場合、制御装置２０は、 その所望のデータ速度に応じて描画プラテンの速度を調整する。その場合、レー ザ・ラスタ走査装置は、詳しく述べられる露光ビーム発生装置も含み、該露光ビ ーム発生装置は描画プラテンの速度を補償する量だけ露光ビームを変位させる。
【００２５】 制御装置の動作は、図４に示されるフロー・チャートで説明される。初期状態 「Ａ」では、制御装置２０は、回転鏡の回転位置を判定する（ブロック８９）。 制御装置２０は、鏡が回転して現在の鏡面が次走査線の始点に対応する第１回転 位置にある時、次走査線に対応する全画素信号が受け取られているかをバッファ ３９に照会する（ブロック９０）。全信号がバッファ３９に存在する場合、制御 装置２０は、変調装置を起動させ（ブロック９１）、走査線を描画させ、描画プ ラテンを位置決めさせる（ブロック９２）。バッファ３９が全画素信号を有して いない場合、現在の鏡面は抜かされる（ブロック９３）。
【００２６】 図５は、好ましい制御装置９４のブロック図であり、制御装置９４は、実質的 には制御装置２０と同じであるが、変調装置のバッファ３９に提供する前の５０ ０から１０００の画素信号列を蓄積するバッファ９６を含むことを特徴とする。 制御装置９４は更に、ライン９８を経てセンサ９９から鏡の回転位置を示す信号 を、又ライン１００を経てセンサ８４から変調装置のバッファの信号内容を示す 信号を受け取る。初期状態ではコンピュータ１０２は入力データ信号に応じて、 前述の方法で走査線の画素信号列を発生させる。
【００２７】 バッファ３９は、好ましくは、読み出し及び書き込み可能な、順序付けられた アドレス番号を与えられた画素信号列循環式の３個のバッファ要素を含む。常時 第１バッファ要素は１個の画素信号列を受け取り、第２バッファ要素は画素信号 列を保存し、第３バッファ要素は描画速度に応じて変調装置に１個の画素信号列 を提供する。バッファ３９は、バッファ／バッファ間の通信速度と呼ばれる特定 の速度で、バッファ９６から画素信号列を受け取る。
【００２８】 好ましいバッファ９６は、循環式に順序付けられた１６のバンド（Ｂａｎｄ） に区分され、各バンドはそれぞれ３２の信号列を有する。制御装置９４は書き込 み中のバンド及び読み出し中のバンドのアドレス番号の差をもって、蓄積された 画素信号列の数を判定し、バッファ／バッファ間の通信速度を制御する。
【００２９】 好ましい制御装置の動作は、図４及び図６を参照して理解されるであろう。好 ましい実施例においては、次走査線を描画する、即ち走査する、又は現在の顔面 を抜かすという判定は、図３に示された実施例の場合と同様の基準に基づく。即 ち、現在の鏡面が走査線の始点に対応する回転位置にある時、次走査線の全画素 信号が変調装置のバッファ３９に存在するかどうかである。
【００３０】 しかし、好ましい制御装置９４はバッファ９６に蓄積された画素信号列数を判 定するセンサ１０４を含み、それによりバッファ／バッファ間の通信速度を調整 する。バッファ／バッファ間の通信速度は、制御装置の変化する画素信号の発生 速度を補償するように変化させられる。最終的には、可変的な通信速度は、露光 ビーム発生装置が画素信号を消費して基材に描画する包括的な速度である描画速 度に可変性を与える。
【００３１】 前述のように、露光ビーム発生装置が基材に描画する速度（即ち描画信号消費 速度、又は描画速度）は、鏡の回転速度により決定され、結果的に各走査線とも 最大速度に固定される。好ましくは、描画速度の可変性は抜かされる鏡面、及び バッファノバッファ間の通信速度の変化により生じる潜在的走査線の結果として 達成される。抜かされる鏡面数は自動的に通信速度に依存する。
【００３２】 例えば、制御装置９４のデータ速度が初期値より遅くなった場合（図６、ブロ ック１０６）、蓄積された画素信号列数は減少し始める。センサ１０４はバッフ ァに蓄積された画素信号列数を判定し、それに応じてバッファ／バッファ間の通 信速度を遅くして調整する（ブロック１０８）。通信速度の減速は、次鏡面が描 画位置にある時に変調装置のバッファ３９が次走査線に対応する全画素信号を有 していない場合を生じさせ、従って、いくつかの鏡面が抜かされる。制御装置９ ４は更に、描画プラテンの速度を調整する（ブロック１１０）。
【００３３】 図６のブロック１１２から１１４には、バッファに蓄積された画素信号列数が 特定の数以上である時の制御装置９４の動作を示す。あるいは、抜かされる鏡面 数を選定することによりバッファに蓄積された画素信号列数は調整され、コンピ ュータの画素信号発生速度に合わせて、制御装置９４のバッファには、特定の画 素信号列数が維持される。
【００３４】 好ましい制御装置９４では、最大描画速度は３３百万画素／秒、（３３Ｍｐ／ ｓ又はｍｉｌｌｉｏｎ ｐｉｘｅｌｓ ｐｅｒ ｓｅｃｏｎｄ）に設定される。 コンピュータの画素信号発生速度（即ち、制御装置のデータ速度）が１／２に減 速した場合（即ち、１６．５Ｍｐ／ｓ）、制御装置は、通信速度及び描画プラテ ンの速度を１／２に減速する信号を提供する。同様に、バッファに蓄積された画 素信号列数に応じて、コンピュータは、描画プラテンの速度をその最大速度の１ ／８毎に調整し、描画は８／８速、７／８速、６／８速、５／８速、４／８速、 ３／８速、２／８速又は１／８速のいずれかで行われる。勿論、遅い速度で描画 することは、描画可能な画素信号列数の水準を上げようと努めるコンピュータに 画素信号を発生する時間を与える。
【００３５】 描画プラテンの動作は、好ましくは前述のように連続的に可変である。しかし 、鏡面の動作は連続的で滑らかであるため、走査線に沿った最大走査速度方向で の速度調整は容易ではない。前述のように、描画プラテンの速度はバッファ中の 画素信号列数に依存する。露光ビーム発生装置への画素信号の提供速度は、バッ ファ９６の信号列数に依存させられ、又描画プラテンの速度に合わされる。
【００３６】 コンピュータのデータ速度は、画素信号消費の最大速度以下であるため、鏡面 が現在の走査線の始点に対応する第１回転位置に来る迄に、バッファに蓄積され た画素信号列数が許容できない種に少ない場合があることは自明である。この場 合には、鏡面は前述のように抜かされる。鉄面を抜かす判定は、各鏡面の第１回 転位置にて帰納的に成され、好ましくは、変調装置のバッファに完全な１個の画 素信号列が存在するかどうかに依存し、又は、例えば制御装置のバッファに存在 する画素信号列数に依存する。
【００３７】 前述のように、好ましい実施例では、描画ブラブンの速度は連続的に可変であ り、コンピュータの平均データ速度に合わせるように制御される。その結果的と して、鏡面が抜かされて走査線の実際位置が所定の位置からずれるような時、描 画プラテンの位置に走査線の誤差が生じる。本考案による制御装置は、光学的偏 向装置１１８からライン１１６を経て受け取られる信号により、走査線の位置を 公知の方法で判定し、前記誤差を除くために描画プラテンの送り方向に露光ビー ムを適切に変位させる信号を提供する（第６図、ブロック１２０）。
【００３８】 光学的偏向装置はこの分野では公知のものが使用できる。更に、走査線が抜か される時は、メディアの極性に応じて、走査線のために全信号が論理「１」又は 「０」である信号を変調装置に送ることで通常は十分である。
【００３９】 本考案の説明を、好ましい実施例に基づいて行ったが、本考案の精神と範囲か ら外れることなく、多様な変更、省略及び付加が行い得ることは当業者に自明で あろう。
【図面の簡単な説明】
【図１】本考案による走査線スキップ型非同期式描画装
置を有するレーザ・ラスタ走査装置の概略図である。
【図２】図１に示したレーザ・ラスタ走査装置に使用さ
れる露光ビーム発生装置の上面図である。
【図３】図１に示した制御装置のブロック図である。
【図４】図３に示した制御装置に使用されるアルゴリズ
ムを示すフロー・チャートである。
【図５】図３に示した制御装置を代替する制御装置のブ
ロック図である。
【図６】図５に示した制御装置に使用されるアルゴリズ
ムを示すフロー・チャートである。 １２：露光ビーム発生装置、１４：露光ビーム、１６：
基材、１８：描画プラテン（保持機構）、２０：制御装
置、３９：バッファ（第２バッファ）、６０：光学組立
体（走査機構）、７４：基準マスク、７６：光検出器
列、８０：コンピュータ（数値計算手段、画素信号発生
手段）、８４：センサ（第２センサ）、８６：センサ
（検知手段）、９４：制御装置（制御手段）、９６：バ
ッファ（第１バッファ）、９９：センサ（検知手段）、
１０２：コンピュータ（数値計算手段）、１０４：セン
サ（第１センサ）

Claims (9)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項１】 回転多面鏡（６２）を含む露光ビーム発
    生装置（１２）により、可動式の描画プラテン（１８）
    上に取り付けた基材（１６）を横断する露光ビーム（１
    ４）で、入力データ信号に応答して、順次に走査するレ
    ーザ・ラスタ走査装置（１０）に使用される制御装置
    （２０）にして、 制御装置（２０）は、コンピュータ手段（８０）を含
    み、コンピュータ手段（８０）は、入力データ信号を受
    け取り、対応する露光信号を発生させ、更に、描画プラ
    テン（１８）を現在の走査線に対応する位置から、次走
    査線に対応する位置まで送る制御信号を提供し、露光信
    号は、順序付けられた露光信号列に区分され、露光信号
    列の各々は、鏡面（６４）が走査線の始点に対応する第
    １回転位置から終点に対応する第２回転位置まで回転す
    る時に、鏡面（６４）の１個に照射される変調露光ビー
    ム（１４）に対応して特定の１個の走査線に対応し、 前記制御装置（２０）は、鏡面（６４）の回転位置を示
    す信号を提供する検知手段（８６）、次走査線の露光信
    号列を受け取るバッファ（３９）、及びバッファ（３
    ９）により受けられた露光信号列を示す信号を発生する
    センサ（８４）と協働し、 コンピュータ手段（８０）は、センサ（８４）からの信
    号及び鏡面の回転位置を示す検知手段（８６）からの信
    号より、現在の鏡面（６４）が第１回転位置にある時を
    帰納的に判定し、次走査線に対応する露光信号列の全部
    がバッファ（３９）に受け取られたかどうかを決定し、
    そして次走査線に対応する露光信号列の全部がバッファ
    （３９）に受け取られていないと決定した場合、露光ビ
    ーム発生装置（１２）へ制御信号を提供して次走査線に
    対応する露光信号列を提供することを中止し、描画プラ
    テン（１８）の動作を変更させる制御信号を提供するこ
    とを特徴とする制御装置。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載の制御装置（２０）にし
    て、レーザ・ラスタ走査装置（１０）は、連続的に描画
    プラテンを送る手段を含み、制御装置（２０）は、測定
    手段（７４、７６）及び光学的偏向手段（１１８）を含
    み、測定手段（７４、７６）は、基材上の実際の露光ビ
    ームの位置と指示を受けた露光ビームの位置の変位差と
    して定義される露光ビームの変位誤差を測定し、光学的
    偏向手段（１１８）は、露光ビームを走査線から描画プ
    ラテンの送り方向に選択的に変位させ、前記コンピュー
    タ手段（８０）は、更に、前記バッファ（３９）に蓄積
    された露光信号列を露光ビーム発生手段（１２）に提供
    する時を判定する手段、及び前記光学的偏向手段（１１
    ８）に信号を提供し、露光ビームを特定の量だけ走査線
    から変位させ、露光ビームの変位誤差を修正する手段を
    含むことを特徴とする制御装置。
  3. 【請求項３】 請求項１に記載の制御装置（２０）にし
    て、レーザ・ラスタ走査装置（１０）は、連続する走査
    線に対応する描画プラテンの位置決め手段を含み、前記
    コンピュータ手段（８０）は、次走査線の露光信号列を
    提供しない場合、描画プラテンの次走査線位置への送り
    を停止する手段を含むことを特徴とする制御装置。
  4. 【請求項４】 レーザ・ラスタ走査装置（１０）にし
    て、 露光ビーム発生手段（１２）、基材（１６）を受け取る
    可動式の描画プラテン（１８）、及びコンピュータ手段
    （１０２）を含む制御装置（９４）を含み、 露光ビームは、アドレス信号にて制御され、露光ビーム
    発生手段（１２）は、回転多面鏡（６２）及び露光ビー
    ム変調装置（３８）を有し、基材（１６）を横断する走
    査線上を順次に露光ビーム（１４）で走査し、コンピュ
    ータ手段（１０２）は、入力データ信号を受け取り、入
    力データ信号から１つの信号発生速度で露光信号を発生
    させ、描画プラテン（１８）を現在の走査線に対応する
    位置から、次走査線に対応する位置まで送る制御信号を
    提供し、露光信号は、順序付けられた露光信号列に区分
    され、露光信号列の各々は、特定の１個の走査線に対応
    し、鏡面（６４）が走査線の始点に対応する第１回転位
    置から終点に対応する第２回転位置まで回転する時に、
    鏡面に照射される変調露光ビームを提供し、 前記レーザ・ラスタ走査装置（１０）は、更に、鏡面の
    回転位置を示す信号を提供する検知手段（９９）、コン
    ピュータ手段（１０２）から受け取る複数の露光信号列
    を蓄積する第１バッファ（９６）、露光ビーム発生手段
    と結合され、第１バッファからバッファ／バッファ間の
    通信速度で順次に送られて来る、露光ビーム変調装置
    （３８）に提供する前の露光信号列を受け取る第２バッ
    ファ（３９）、第１バッファに蓄積された露光信号列を
    示す信号を発生する第１センサ（１０４）、及び第２バ
    ッファ（３９）に存在する次走査線の露光信号列の信号
    数を示す信号を発生する第２センサ（８４）を含み、 前記コンピュータ手段（１０２）は、第１センサ（１０
    ４）からの信号、第２センサ（８４）からの信号、及び
    鏡面の位置を示す検知手段（９９）からの信号を受け取
    り、第１バッファ（９６）に蓄積された露光信号列数に
    応じてバッファ／バッファ間の通信速度を調整し、更に
    前記鏡面（６４）が第１回転位置にある時を帰納的に判
    定し、次走査線に対応する露光信号列の全部が第２バッ
    ファ（３９）に受け取られたかどうかを決定し、もし第
    ２バッファ（３９）が次走査線に対応する露光信号列の
    全部を受け取っていないと決定した場合、第２バッファ
    に蓄積された露光信号列を露光ビーム発生手段に提供す
    ることを中止させる制御信号、及び描画プラテン（１
    ８）の動作を変更する制御信号を提供することを特徴と
    するレーザ・ラスタ走査装置。
  5. 【請求項５】 請求項４に記載のレーザ・ラスタ走査装
    置にして、測定手段（７４、７６）及び光学的偏向手段
    （１１８）を含み、測定手段（７４、７６）は、基材上
    の実際の露光ビームの位置と指示を受けた露光ビームの
    位置の変位差として定義される露光ビームの変位誤差を
    測定し、前記光学的偏向手段（１１８）は、露光ビーム
    を走査線から描画プラテンの送り方向に選択的に変位さ
    せ、前記コンピュータ手段（８０）は、更に、前記第２
    バッファ（３９）に蓄積された露光信号列の提供を中止
    後に再実行する時を判定する手段、及び前記光学的偏向
    手段（１１８）に信号を提供し、露光ビームを特定の量
    だけ走査線から変位させ、露光ビームの変位誤差を修正
    する手段を含むことを特徴とするレーザ・ラスタ走査装
    置。
  6. 【請求項６】 請求項４に記載のレーザ・ラスタ走査装
    置にして、前記コンピュータ手段（１０２）は、前記第
    １バッファ（９６）に蓄積された露光信号列に応じて、
    抜かされる鏡面数を選定する手段を含むことを特徴とす
    るレーザ・ラスタ走査装置。
  7. 【請求項７】 請求項４に記載のレーザ・ラスタ走査装
    置にして、更に、連続する走査線に対応する描画プラテ
    ン（１８）の位置決め手段を含み、前記コンピュータ手
    段（１０２）は、更に、該コンピュータ手段が次走査線
    の露光信号列の提供を実行しない場合のみ、描画プラテ
    ン（１８）を次走査線に対応する位置まで送ることを中
    止する手段を含むことを特徴とするレーザ・ラスタ走査
    装置。
  8. 【請求項８】 レーザ・ラスタ走査装置（１０）にし
    て、 回転多面鏡及び露光ビーム変調装置（３８）を備え、ア
    ドレス信号により制御可能な露光ビーム発生手段（１
    ２）、可動式の描画プラテン（１８）、及び制御手段
    （２０）を含み、 露光ビーム発生手段（１２）は、基材（１６）を横断す
    る走査線に沿って露光ビーム（１４）を移動させ、描画
    プラテン（１８）は、基材（１６）を受け入れ、制御装
    置（２０）は、コンピュータ手段（１０２）を含み、 コンピュータ手段（１０２）は、入力データ信号を受け
    取り、対応する露光信号を発生させ、露光信号は、順序
    付けられた露光信号列に区分され、露光信号列の各々
    は、鏡面（６４）が走査線の始点に対応する第１回転位
    置から終点に対応する第２回転位置まで回転する時に、
    鏡面に照射される変調露光ビームに対応することにより
    特定の１個の走査線に対応し、 コンピュータ手段（１０２）は、描画プラテン（１８）
    を現在の走査線に対応する位置から連続する各走査線に
    対応する位置まで送る制御信号を提供し、 前記レーザ・ラスタ走査装置は、更に、検知手段（９
    ９）、第１バッファ（９６）、第２バッファ（３９）、
    第１センサ（１０４）、及び第２センサ（８４）を含
    み、 検知手段（９９）は、鏡面（６４）の回転位置を示す信
    号を提供し、第１バッファ（９６）は、コンピュータ手
    段（１０２）から受け取る複数の露光信号列を蓄積し、
    第２バッファ（３９）は、露光ビーム発生手段（１２）
    に結合され、第１バッファ（９６）からバッファ／バッ
    ファ間の通信速度で順次に送られて来る、露光ビーム発
    生手段に提供される前の露光信号列を受け取り、前記第
    １センサ（１０４）は、第１バッファ（９６）に蓄積さ
    れた露光信号列を示す信号を発生し、第２センサ（８
    ４）は、第２バッファ（３９）に存在する次走査線の露
    光信号列の信号数を示す信号を発生し、 前記コンピュータ手段（１０２）は、第１センサからの
    信号、第２センサからの信号、及び鏡面の位置を示す検
    知手段からの信号を受け取り、第１バッファ（９６）に
    蓄積された露光信号列数に応じて前記通信速度を調整
    し、更に、鏡面（６４）が前記第１回転位置にある時を
    帰納的に判定し、蓄積された全信号列が第１バッファ
    （９６）に受け取られたかどうかを決定し、そして第１
    バッファ（９６）に蓄積された信号列数が特定の数より
    少ない場合、第２バッファ（３９）に蓄積された露光信
    号列を露光ビーム発生手段（１２）に提供することを中
    止する制御信号、及び、前記描画プラテン（１８）の動
    作を変更する制御信号を提供することを特徴とするレー
    ザ・ラスタ走査装置。
  9. 【請求項９】 キャリア上に感光描画するレーザ・ラス
    タ走査装置（１０）にして、 保持機構（１８）、走査機構（６０）、送り機構（２
    ０）、画素信号発生手段（８０）及び変調手段（３８）
    を含み、保持機構（１８）は、感光性表面を有するキャ
    リア（１６）を保持し、走査機構（６０）は、保持機構
    （１８）により保持されたキャリア（１６）の感光性表
    面を横断して伸びる、走査機構（６０）に相対的に固定
    された基準線に沿って順次に露光ビームを走査し、送り
    機構（２０）は、基準線にほぼ直角な線に沿って、走査
    機構（６０）及び保持機構（１８）を相対的且つ漸進的
    に変位させ、露光ビームにより感光性表面上の連続する
    各走査線を走査させ、画素信号発生手段（８０）は、画
    素信号を順序付けられた信号列に区分し、各信号列は、
    特定の１個の走査線に対応し、変調手段（３８）は、前
    記１個の露光信号列に対応する基準線に沿って露光ビー
    ムを走査する時に、露光ビームの強度変調を行い、 レーザ・ラスタ走査装置は、更に、バッファ（３９）、
    検知手段（９９）及びセンサ（８４）を含み、バッファ
    （３９）は、次に走査される露光ビームに対応した画素
    信号列を受け取り、検知手段（９９）は、前記基準線に
    沿った露光ビームによる次の走査の開始を示す信号を提
    供し、センサ（８４）は、バッファ（３９）に蓄積され
    る画素信号列の完全性を示す信号を提供し、 レーザ・ラスタ装置は、更に、検知手段（９９）及びセ
    ンサ（８４）に応答し、露光ビームによる次走査のため
    の完全な画素信号列がバッファ（３９）に受け取られた
    かどうかを決定し、そして基準線に沿う露光ビーム（１
    ４）の次走査の開始時に該バッファ（３９）に完全な画
    素信号列が受け取られていない場合、前記変調手段及び
    送り機構を停止させる手段を含み、保持機構（１８）に
    対する走査機構（６０）の動作が、露光ビーム（１４）
    による次走査の間、中断され、露光ビーム（１４）は、
    不感光強度に保たれ、前記露光ビームによる基準線の再
    走査を開始する時は、前記変調手段（３８）及び送り機
    構（２０）が再起動される前に、完全な画素信号列がバ
    ッファ（３９）に蓄積され得ることを特徴とするレーザ
    ・ラスタ走査装置。
JP1996009541U 1989-06-30 1996-09-20 走査線スキップ型非同期式描画装置 Expired - Lifetime JP2569125Y2 (ja)

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