JP2569125Y2 - 走査線スキップ型非同期式描画装置 - Google Patents

走査線スキップ型非同期式描画装置

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JP2569125Y2 JP1996009541U JP954196U JP2569125Y2 JP 2569125 Y2 JP2569125 Y2 JP 2569125Y2 JP 1996009541 U JP1996009541 U JP 1996009541U JP 954196 U JP954196 U JP 954196U JP 2569125 Y2 JP2569125 Y2 JP 2569125Y2
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    • Y10S347/90Data processing for electrostatic recording

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【考案の属する技術分野】本考案は、レーザ・ラスタ走
査装置に関し、更に詳しくは、走査線スキップ(ski
p)型非同期式描画を行うレーザ・ラスタ走査装置に使
用される装置に関する。
【0002】
【従来の技術】精密プロッタやプリンタなどの高速光学
的走査装置はこの分野において周知である。これらの装
置は、直接描画装置であり、フィルムの感光剤を通過す
る露光ビームをラスタ走査することにより、プリント回
路基板又は印刷版を作成するのに使用され、該フィルム
は後にプリント回路基板の原版又は印刷版の図版にそれ
ぞれ加工される。ガーバー・サイエンティフィック・イ
ンスツルメント・カンパニーにより市販されている代表
的なシステムは、磁気テープ駆動装置、ハード・ディス
ク、対話型コンピュータ・グラフィック端末、画像処理
装置及び走査装置を有する光学テーブルから成る。この
システムは、コンピュータ援用設計(CAD)データを
直接プリント回路基板の原版に転写するのに必要な、又
は文字種、画像及びハーフトーン像を印刷版の図番に転
写するのに必要な光学系、メディア・キャリッジ及び電
子装置を含むこともある。
【0003】直接描画装置は、表面に感光性材料を塗布
した平坦なフィルム基材を描画プラテン上に受け入れる
ように構成される。コンピュータは、基材の特定部分を
感光させるために、通常レーザ・ビームから成る走査光
学露光ビームを強度変調する露光ビーム発生装置に信号
を提供する。一般的には、基材上の感光位置、即ち露光
ビームの位置を正確に示すために、露光ビームと同時に
基準ビームが基準マスク及び受光素子を横断して走査さ
れる。時には、ビームの焦点を合わせ、又は基準マスク
及び基材を横断するビームの同時走査を行うために、平
面場走査装置が用いられる。基材に描画する時に描画プ
ラテンを案内するために、精密空気軸受けがよく用いら
れる。
【0004】光学的偏向装置が多面鏡である従来のレー
ザ・ラスタ走査装置では、露光ビームが一定速度で送ら
れるように、鏡は特定の一定速度で回転される。しかし
ながら、従来の装置ではコンピュータから送られて来る
画素、又は画素信号(即ち露光信号)の数値計算速度が
露光ビームの描画速度より遅くなることがあるため、そ
のような場合には、走査線の一部分だけが感光される。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】従って、コンピュータ
が露光ビームを変調させるための信号を発生する速度
と、装置が走査する速度(即ち描画速度)との許容でき
ない差を自動的に補償するようなレーザ・ラスタ走査装
置を提供することが好ましい。本考案はそのようなレー
ザ・ラスタ走査装置に関してなされたものである。
【0006】本考案の目的は、レーザ・ラスタ走査装置
に使用され、画素信号の発生速度と基材上の描画速度の
差を補償する装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本考案によれば、レーザ
・ラスタ走査装置は、変調装置及び特定の速度で回転す
る複数の反射面を有する多面鏡から成る、アドレス信号
にて制御可能な露光ビーム発生装置を含む。該走査装置
は基材上の走査線を横断する変調された露光ビームを一
方向に繰り返し走査できる。描画プラテンは基材を受け
入れて、走査方向に直角の方向に特定の速度で送る。制
御装置は入力データ信号を受け取り、露光信号を発生さ
せるコンピュータを含む。
【0008】露光信号は順序付けられた記憶素子列の中
で区分され、各信号列は、1個の反射鏡面が走査線の始
点に対応する第1回転位置から終点に対応する第2回転
位置まで回転する時に、該鏡面に照射される変調露光ビ
ームに対応する。露光ビーム発生装置に結合したバッフ
ァは、次に描画される走査線に対応する1個の露光信号
列を有する。センサは次走査線に関する全露光信号がバ
ッファに準備されているか判定する。コンピュータは帰
納的に現在の鏡面が前記第1回転位置にある時を判定す
る。
【0009】前記鏡面が第1回転位置にあり、前記セン
サが、バッファの信号読み込みが未完了であることを示
す場合、コンピュータは前記バッファに蓄積された露光
信号を露光ビーム発生装置に提供することを中止する制
御信号、及びこれに応じて描画プラテンの動作を変更さ
せるための制御信号を提供する。
【0010】本考案の別の特徴では、レーザ・ラスタ走
査装置は、変調装置及び特定の速度で回転する複数の反
射面を有する多面鏡から成る、アドレス信号にて制御可
能な露光ビーム発生装置を含む。該走査装置は基材上の
走査線を横断して変調された露光ビームを変位させる。
描画プラテンは基材を受け入れて、走査方向に直角な方
向に特定の速度で送る。制御装置は入力データ信号を受
け取り、対応する露光信号を発生するコンピュータを含
む。露光信号は、順序付けられた信号列に区分され、各
信号列は特定の走査線に対応する。コンピュータは更に
信号を発生させ、現在の走査線に対応する位置から後続
の各走査線に対応する位置まで、描画プラテンを送る。
【0011】各露光信号列は、1個の反射鏡面が走査線
の始点に対応する第1回転位置から終点に対応する第2
回転位置まで回転する時に、該鏡面に照射される変調露
光ビームに対応する。露光ビーム発生装置に結合した第
2バッファは、次に描画される走査線に対応する1個の
露光信号列を有する。第1センサが次走査線の全露光信
号が第2バッファに存在するか判定する。コンピュータ
に結合した第2バッファは、露光ビーム発生装置に提供
する前の複数の露光信号列を蓄積する。第2センサが
1バッファに存在する第2バッファに提供可能な露光信
号列の数を判定する。
【0012】第1バッファに蓄積された露光信号列の数
が予め設定された数に一致する場合、コンピュータは、
第2バッファに提供される露光信号列の通信速度を変更
する制御信号、及び対応して描画プラテンの動作を変更
させる制御信号を提供する。前記コンピュータは帰納的
に現在の鏡面が前記第1回転位置にある時を判定する。
第2センサが、第2バッファは次走査線に対応する全露
光信号を有していないことを示す場合、コンピュータ
は、第2バッファに蓄積された露光信号を露光ビーム発
生装置に提供することを中止する制御信号、及び描画プ
ラテンを調整する制御信号を提供する。
【0013】
【考案の実施の形態】図1は、本考案によるレーザ・ラ
スタ走査装置10を図解的に示す。走査装置10は、図
2にて詳しく述べられる露光ビーム発生装置12を含
む。露光ビーム発生装置12は、描画プラテン18等の
送り機構上に位置させられた基材16等のキャリア上の
感光性表面に露光ビームを選択的に照射する。
【0014】描画プラテン及び露光ビーム発生装置12
は制御装置20から信号を受け取る。図3にて詳しく述
べるように、制御装置20は、データ入力装置22から
信号を受け取り、対応する画素信号(pixel si
gnals)を発生させ、露光ビームを変調する。該制
御装置が、画素信号、即ち走査される露光ビームの個々
の画素に対応する露光信号を発生する速度は、描画速
度、即ち1個の走査線を横断して露光ビームが移動させ
られる走査速度より遅くなることがあり得る。また、制
御装置20の画素信号を発生するデータ速度(data
rate)が遅くなり、描画プラテンが送られる速
度、即ち各走査線に応じて位置決めされる速度が相対的
に大きくなることがあり得る。本考案は、前記のデータ
速度差を補償する制御装置及び走査装置を特徴とする。
【0015】図2は、図1の露光ビーム発生装置12の
概略図を示す。好ましくはサイオニクス(Cyonic
s)3mWのアルゴン・レーザであるレーザ光源26は
ケース24に収納されビーム28を発生する。ビーム2
8は第1回転鏡30に受け取られ、ビーム形成光学系3
2へ照射される。ビーム形成光学系32は通常のものが
使用でき、特定の用途に応じて帯域レンズ、発散レン
ズ、ピン・ホール及びトランスフォーム・レンズ組立体
にて構成可能である。
【0016】生成されたビームは第1ビーム分岐器34
により受け取られ、基準ビーム36を分離する。ビーム
28は、通常の音響光学変調装置38に照射され、そこ
で制御装置20からライン40を経て受け取られる画素
信号に応じてビーム強度が変調される。変調装置38に
結合したバッファ39は、変調装置38に提供する前の
画素信号を蓄積する。
【0017】バッファ39は図2に図式的に示されてお
り、次の走査線に対応する画素信号を受け取るために、
1個以上の通常のライン・バッファから成る。同様に、
基準ビーム36は第2回転鏡44により曲げられ、一般
的には前述のビーム形成部品に類似のレンズ等の光学部
品を含む、基準ビーム形成光学系46に照射される。基
準ビーム36は隔壁48の開口を通過し、ビーム28は
閉口50を通過する。基準ビーム36は回転鏡52に受
け取られ、ビーム混合器54に照射される。ビーム混合
器54は、ビーム28も受け取り、混合ビームをプリズ
ム組立体58の光線平行化レンズ56に照射する。
【0018】混合ビーム59は、光学組立体60に受け
取られ、光学組立体60は、ライン68を経て制御装置
20から受け取る信号に応じて軸66の回りを回転す
る、複数の鏡面64を有する多面鏡62から成る。基準
ビーム36及び露光ビーム69は通常のFシータ走査レ
ンズ70により受け取られる。
【0019】露光ビームは最終的には折り返し鏡72に
受け取られ、走査装置の位置する平面外に位置する描画
プラテンに照射される。同時に、基準ビーム36は基準
マスク74に照射され、最終的には光検出器列76に受
け取られる。光検出器列は、タイミング及び露光ビーム
の変調を制御するために、受け取った基準ビームを示す
信号をライン78を経て制御装置に提供する。制御装置
20はここで詳述する機能を実現するのに必要なプロセ
ッサ及び記憶手段を含む。
【0020】図3は、図1のレーザ・ラスタ制御装置の
制御装置20のブロック図を示す。制御装置20は、デ
ータ入力装置22より信号を受け取り、コンピュータ8
0により画素信号を数値計算し、該画素信号をライン8
2を経て、露光ビーム発生装置の一部を成す音響光学変
調装置のバッファ39に提供する。画素信号は複数の信
号列に区分され、各信号列は1個の走査線に対応する。
【0021】制御装置20のデータ速度は、部分的には
入力データ信号の情報内容に依存し、可変である。制御
装置20に関しては、複雑性の低いデータで最高データ
速度が得られ、露光ビーム発生装置の最大データ速度と
一致する。また、走査線の画素信号列が交互に論理
「1」と「0」の値を取る時、最低データ速度と成る。
【0022】図3に示す実施例では、露光ビーム発生装
置のデータ速度は多面鏡の特定の回転速度の関数である
上に、画素信号がバッファ39に受け取られる速度の関
数でもある。画素信号がバッファ39を出るデータ速度
は、露光ビームが走査線を横断する速度(即ち、走査速
度又は描画速度)と一致しなければならないことは、当
業著には自明である。従って、露光ビーム発生装置の最
大データ速度は、制御装置のデータ速度より大きくなる
ように選定される。即ち、提供される画素信号のデータ
速度は消費される最大データ速度以下であり、信号は失
われない。一般的には、露光ビーム発生装置の最大デー
タ速度(即ち消費される画素信号)は33百方画素/秒
(33Mp/s又はmillion pixels p
er second)である。
【0023】本考案は、制御装置のデータ速度が露光ビ
ーム発生装置のデータ速度より遅い場合の補償に関する
ものであり、変調装置に結合されたセンサ84は、バッ
ファ39が次走査線に関する全画素信号を受け取ってい
るかどうかを公知の方法で判定することを特徴とする。
コンピュータ80は、センサ86からライン87を経
て、鏡面の回転位置を判定する信号を受け取る。鏡が走
査線の始点に対応する位置にあり、次走査で基材の感光
が開始可能な時、対応する画素信号列の全画素信号がバ
ッファに受け取られていない場合、コンピュータは、変
調装置への画素信号の提供を中止し、露光ビームの鏡面
への照射を中止することで、該鏡面を抜かす(skip
ping)。バッファ39の不完全な信号列で明らかな
ように前記速度間の不一致が認められる場合、この判定
は連続する各鏡面について帰納的に行われる。
【0024】制御装置20は、更に画素信号の提供に関
する前記の判定に応じて、描画プラテンの動作を変更さ
せなければならない。図3の実施例において、1個以上
の鏡面が抜かされた場合、図版の完全性を維持するため
に、制御装置20は、ライン88を経て提供する制御信
号により描画プラテンの動きを停止し、その後描画プラ
テンを送る。また、描画プラテンが連続的に送られる場
合、制御装置20は、その所望のデータ速度に応じて描
画プラテンの速度を調整する。その場合、レーザ・ラス
タ走査装置は、詳しく述べられる露光ビーム発生装置も
含み、該露光ビーム発生装置は描画プラテンの速度を補
償する量だけ露光ビームを変位させる。
【0025】制御装置の動作は、図4に示されるフロー
・チャートで説明される。初期状態「A」では、制御装
置20は、回転鏡の回転位置を判定する(ブロック8
9)。制御装置20は、鏡が回転して現在の鏡面が次走
査線の始点に対応する第1回転位置にある時、次走査線
に対応する全画素信号が受け取られているかをバッファ
39に照会する(ブロック90)。全信号がバッファ3
9に存在する場合、制御装置20は、変調装置を起動さ
せ(ブロック91)、走査線を描画させ、描画プラテン
を位置決めさせる(ブロック92)。バッファ39が全
画素信号を有していない場合、現在の鏡面は抜かされる
(ブロック93)。
【0026】図5は、好ましい制御装置94のブロック
図であり、制御装置94は、実質的には制御装置20と
同じであるが、変調装置のバッファ39に提供する前の
500から1000の画素信号列を蓄積するバッファ9
6を含むことを特徴とする。制御装置94は更に、ライ
ン98を経てセンサ99から鏡の回転位置を示す信号
を、又ライン100を経てセンサ84から変調装置のバ
ッファの信号内容を示す信号を受け取る。初期状態では
コンピュータ102は入力データ信号に応じて、前述の
方法で走査線の画素信号列を発生させる。
【0027】バッファ39は、好ましくは、読み出し及
び書き込み可能な、順序付けられたアドレス番号を与え
られた画素信号列循環式の3個のバッファ要素を含む。
常時第1バッファ要素は1個の画素信号列を受け取り、
第2バッファ要素は画素信号列を保存し、第3バッファ
要素は描画速度に応じて変調装置に1個の画素信号列を
提供する。バッファ39は、バッファ/バッファ間の通
信速度と呼ばれる特定の速度で、バッファ96から画素
信号列を受け取る。
【0028】好ましいバッファ96は、循環式に順序付
けられた16のバンド(Band)に区分され、各バン
ドはそれぞれ32の信号列を有する。制御装置94は書
き込み中のバンド及び読み出し中のバンドのアドレス番
号の差をもって、蓄積された画素信号列の数を判定し、
バッファ/バッファ間の通信速度を制御する。
【0029】好ましい制御装置の動作は、図4及び図6
を参照して理解されるであろう。好ましい実施例におい
ては、次走査線を描画する、即ち走査する、又は現在の
顔面を抜かすという判定は、図3に示された実施例の場
合と同様の基準に基づく。即ち、現在の鏡面が走査線の
始点に対応する回転位置にある時、次走査線の全画素信
号が変調装置のバッファ39に存在するかどうかであ
る。
【0030】しかし、好ましい制御装置94はバッファ
96に蓄積された画素信号列数を判定するセンサ104
を含み、それによりバッファ/バッファ間の通信速度を
調整する。バッファ/バッファ間の通信速度は、制御装
置の変化する画素信号の発生速度を補償するように変化
させられる。最終的には、可変的な通信速度は、露光ビ
ーム発生装置が画素信号を消費して基材に描画する包括
的な速度である描画速度に可変性を与える。
【0031】前述のように、露光ビーム発生装置が基材
に描画する速度(即ち描画信号消費速度、又は描画速
度)は、鏡の回転速度により決定され、結果的に各走査
線とも最大速度に固定される。好ましくは、描画速度の
可変性は抜かされる鏡面、及びバッファノバッファ間の
通信速度の変化により生じる潜在的走査線の結果として
達成される。抜かされる鏡面数は自動的に通信速度に依
存する。
【0032】例えば、制御装置94のデータ速度が初期
値より遅くなった場合(図6、ブロック106)、蓄積
された画素信号列数は減少し始める。センサ104はバ
ッファに蓄積された画素信号列数を判定し、それに応じ
てバッファ/バッファ間の通信速度を遅くして調整する
(ブロック108)。通信速度の減速は、次鏡面が描画
位置にある時に変調装置のバッファ39が次走査線に対
応する全画素信号を有していない場合を生じさせ、従っ
て、いくつかの鏡面が抜かされる。制御装置94は更
に、描画プラテンの速度を調整する(ブロック11
0)。
【0033】図6のブロック112から114には、バ
ッファに蓄積された画素信号列数が特定の数以上である
時の制御装置94の動作を示す。あるいは、抜かされる
鏡面数を選定することによりバッファに蓄積された画素
信号列数は調整され、コンピュータの画素信号発生速度
に合わせて、制御装置94のバッファには、特定の画素
信号列数が維持される。
【0034】好ましい制御装置94では、最大描画速度
は33百万画素/秒、(33Mp/s又はmillio
n pixels per second)に設定され
る。コンピュータの画素信号発生速度(即ち、制御装置
のデータ速度)が1/2に減速した場合(即ち、16.
5Mp/s)、制御装置は、通信速度及び描画プラテン
の速度を1/2に減速する信号を提供する。同様に、バ
ッファに蓄積された画素信号列数に応じて、コンピュー
タは、描画プラテンの速度をその最大速度の1/8毎に
調整し、描画は8/8速、7/8速、6/8速、5/8
速、4/8速、3/8速、2/8速又は1/8速のいず
れかで行われる。勿論、遅い速度で描画することは、描
画可能な画素信号列数の水準を上げようと努めるコンピ
ュータに画素信号を発生する時間を与える。
【0035】描画プラテンの動作は、好ましくは前述の
ように連続的に可変である。しかし、鏡面の動作は連続
的で滑らかであるため、走査線に沿った最大走査速度方
向での速度調整は容易ではない。前述のように、描画プ
ラテンの速度はバッファ中の画素信号列数に依存する。
露光ビーム発生装置への画素信号の提供速度は、バッフ
ァ96の信号列数に依存させられ、又描画プラテンの速
度に合わされる。
【0036】コンピュータのデータ速度は、画素信号消
費の最大速度以下であるため、鏡面が現在の走査線の始
点に対応する第1回転位置に来る迄に、バッファに蓄積
された画素信号列数が許容できない程に少ない場合があ
ることは自明である。この場合には、鏡面は前述のよう
に抜かされる。鏡面を抜かす判定は、各鏡面の第1回転
位置にて帰納的に成され、好ましくは、変調装置のバッ
ファに完全な1個の画素信号列が存在するかどうかに依
存し、又は、例えば制御装置のバッファに存在する画素
信号列数に依存する。
【0037】前述のように、好ましい実施例では、描画
ブラブンの速度は連続的に可変であり、コンピュータの
平均データ速度に合わせるように制御される。その結果
的として、鏡面が抜かされて走査線の実際位置が所定の
位置からずれるような時、描画プラテンの位置に走査線
の誤差が生じる。本考案による制御装置は、光学的偏向
装置118からライン116を経て受け取られる信号に
より、走査線の位置を公知の方法で判定し、前記誤差を
除くために描画プラテンの送り方向に露光ビームを適切
に変位させる信号を提供する(第6図、ブロック12
0)。
【0038】光学的偏向装置はこの分野では公知のもの
が使用できる。更に、走査線が抜かされる時は、メディ
アの極性に応じて、走査線のために全信号が論理「1」
又は「0」である信号を変調装置に送ることで通常は十
分である。
【0039】本考案の説明を、好ましい実施例に基づい
て行ったが、本考案の精神と範囲から外れることなく、
多様な変更、省略及び付加が行い得ることは当業者に自
明であろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案による走査線スキップ型非同期式描画装
置を有するレーザ・ラスタ走査装置の概略図である。
【図2】図1に示したレーザ・ラスタ走査装置に使用さ
れる露光ビーム発生装置の上面図である。
【図3】図1に示した制御装置のブロック図である。
【図4】図3に示した制御装置に使用されるアルゴリズ
ムを示すフロー・チャートである。
【図5】図3に示した制御装置を代替する制御装置のブ
ロック図である。
【図6】図5に示した制御装置に使用されるアルゴリズ
ムを示すフロー・チャートである。 12:露光ビーム発生装置、14:露光ビーム、16:
基材、18:描画プラテン(保持機構)、20:制御装
置、39:バッファ(第2バッファ)、60:光学組立
体(走査機構)、74:基準マスク、76:光検出器
列、80:コンピュータ(数値計算手段、画素信号発生
手段)、84:センサ(第2センサ)、86:センサ
(検知手段)、94:制御装置(制御手段)、96:バ
ッファ(第1バッファ)、99:センサ(検知手段)、
102:コンピュータ(数値計算手段)、104:セン
サ(第1センサ)

Claims (5)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ・ラスタ走査装置(10)にし
    て、 露光ビーム発生手段(12)、基材(16)を受け取る
    可動式の描画プラテン(18)、及びコンピュータ手段
    (102)を含む制御装置(94)を含み、 露光ビームは、アドレス信号にて制御され、露光ビーム
    発生手段(12)は、回転多面鏡(62)及び露光ビー
    ム変調装置(38)を有し、基材(16)を横断する走
    査線上を順次に露光ビーム(14)で走査し、コンピュ
    ータ手段(102)は、入力データ信号を受け取り、入
    力データ信号から1つの信号発生速度で露光信号を発生
    させ、描画プラテン(18)を現在の走査線に対応する
    位置から、次走査線に対応する位置まで送る制御信号を
    提供し、露光信号は、順序付けられた露光信号列に区分
    され、露光信号列の各々は、特定の1個の走査線に対応
    し、鏡面(64)が走査線の始点に対応する第1回転位
    置から終点に対応する第2回転位置まで回転する時に、
    鏡面に照射される変調露光ビームを提供し、 前記レーザ・ラスタ走査装置(10)は、更に、鏡面の
    回転位置を示す信号を提供する検知手段(99)、コン
    ピュータ手段(102)から受け取る複数の露光信号列
    を蓄積する第1バッファ(96)、露光ビーム発生手段
    と結合され、第1バッファからバッファ/バッファ間の
    通信速度で順次に送られて来る、露光ビーム変調装置
    (38)に提供する前の露光信号列を受け取る第2バッ
    ファ(39)、第1バッファに蓄積された露光信号列を
    示す信号を発生する第1センサ(104)、及び第2バ
    ッファ(39)に存在する次走査線の露光信号列の信号
    数を示す信号を発生する第2センサ(84)を含み、 前記コンピュータ手段(102)は、第1センサ(10
    4)からの信号、第2センサ(84)からの信号、及び
    鏡面の位置を示す検知手段(99)からの信号を受け取
    り、第1バッファ(96)に蓄積された露光信号列数に
    応じてバッファ/バッファ間の通信速度を調整し、更に
    前記鏡面(64)が第1回転位置にある時を帰納的に判
    定し、次走査線に対応する露光信号列の全部が第2バッ
    ファ(39)に受け取られたかどうかを決定し、もし第
    2バッファ(39)が次走査線に対応する露光信号列の
    全部を受け取っていないと決定した場合、第2バッファ
    に蓄積された露光信号列を露光ビーム発生手段に提供す
    ることを中止させる制御信号、及び描画プラテン(1
    8)の動作を変更する制御信号を提供することを特徴と
    するレーザ・ラスタ走査装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のレーザ・ラスタ走査装
    置にして、光学的偏向手段(118)を含み、前記光学
    的偏向手段(118)は、露光ビームを走査線から描画
    プラテンの送り方向に選択的に変位させ、前記コンピュ
    ータ手段(80)は、更に、前記第2バッファ(39)
    に蓄積された露光信号列の提供を中止後に再実行する時
    を判定する手段、及び前記光学的偏向手段(118)に
    信号を提供し、露光ビームを特定の量だけ走査線から変
    位させ、露光ビームの変位誤差を修正する手段を含むこ
    とを特徴とするレーザ・ラスタ走査装置。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載のレーザ・ラスタ走査装
    置にして、前記コンピュータ手段(102)は、前記第
    1バッファ(96)に蓄積された露光信号列に応じて、
    抜かされる鏡面数を選定する手段を含むことを特徴とす
    るレーザ・ラスタ走査装置。
  4. 【請求項4】 請求項1に記載のレーザ・ラスタ走査装
    置にして、更に、連続する走査線に対応する描画プラテ
    ン(18)の位置決め手段を含み、前記コンピュータ手
    段(102)は、更に、該コンピュータ手段が次走査線
    の露光信号列の提供を実行しない場合のみ、描画プラテ
    ン(18)を次走査線に対応する位置まで送ることを中
    止する手段を含むことを特徴とするレーザ・ラスタ走査
    装置。
  5. 【請求項5】 レーザ・ラスタ走査装置(10)にし
    て、 回転多面鏡及び露光ビーム変調装置(38)を備え、ア
    ドレス信号により制御可能な露光ビーム発生手段(1
    2)、可動式の描画プラテン(18)、及び制御手段
    (20)を含み、 露光ビーム発生手段(12)は、基材(16)を横断す
    る走査線に沿って露光ビーム(14)を移動させ、描画
    プラテン(18)は、基材(16)を受け入れ、制御装
    置(20)は、コンピュータ手段(102)を含み、 コンピュータ手段(102)は、入力データ信号を受け
    取り、対応する露光信号を発生させ、露光信号は、順序
    付けられた露光信号列に区分され、露光信号列の各々
    は、鏡面(64)が走査線の始点に対応する第1回転位
    置から終点に対応する第2回転位置まで回転する時に、
    鏡面に照射される変調露光ビームに対応することにより
    特定の1個の走査線に対応し、 コンピュータ手段(102)は、描画プラテン(18)
    を現在の走査線に対応する位置から連続する各走査線に
    対応する位置まで送る制御信号を提供し、 前記レーザ・ラスタ走査装置は、更に、検知手段(9
    9)、第1バッファ(96)、第2バッファ(39)、
    第1センサ(104)、及び第2センサ(84)を含
    み、 検知手段(99)は、鏡面(64)の回転位置を示す信
    号を提供し、第1バッファ(96)は、コンピュータ手
    段(102)から受け取る複数の露光信号列を蓄積し、
    第2バッファ(39)は、露光ビーム発生手段(12)
    に結合され、第1バッファ(96)からバッファ/バッ
    ファ間の通信速度で順次に送られて来る、露光ビーム発
    生手段に提供される前の露光信号列を受け取り、前記第
    1センサ(104)は、第1バッファ(96)に蓄積さ
    れた露光信号列を示す信号を発生し、第2センサ(8
    4)は、第2バッファ(39)に存在する次走査線の露
    光信号列の信号数を示す信号を発生し、 前記コンピュータ手段(102)は、第1センサからの
    信号、第2センサからの信号、及び鏡面の位置を示す検
    知手段からの信号を受け取り、第1バッファ(96)に
    蓄積された露光信号列数に応じて前記通信速度を調整
    し、更に、鏡面(64)が前記第1回転位置にある時を
    帰納的に判定し、蓄積された全信号列が第1バッファ
    (96)に受け取られたかどうかを決定し、そして第1
    バッファ(96)に蓄積された信号列数が特定の数より
    少ない場合、第2バッファ(39)に蓄積された露光信
    号列を露光ビーム発生手段(12)に提供することを中
    止する制御信号、及び、前記描画プラテン(18)の動
    作を変更する制御信号を提供することを特徴とするレー
    ザ・ラスタ走査装置。
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