JPH09269560A - ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法Info
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- JPH09269560A JPH09269560A JP7655596A JP7655596A JPH09269560A JP H09269560 A JPH09269560 A JP H09269560A JP 7655596 A JP7655596 A JP 7655596A JP 7655596 A JP7655596 A JP 7655596A JP H09269560 A JPH09269560 A JP H09269560A
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- silver halide
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 超迅速、低補充処理においても耐圧力性に優
れ、かつ、経時保存における膜のヒビワレが全く生じ
ず、アンチスタチック性に優れた感光材料およびその処
理方法の提供。 【構成】 ハロゲン化銀乳剤層中にコロイド状シリカお
よび分子構造中にスルホン酸基とカルボキシル基を有す
る水溶性高分子体によって保護コロイド化された疎水性
ポリマー粒子を含有することを特徴とする感光材料及び
該感光材料を、感光材料1m2当たり35〜130ml
の現像補充液で、全処理時間が10〜30秒である自動
現像機で処理することを特徴とする感光材料の処理方法
により達成。
れ、かつ、経時保存における膜のヒビワレが全く生じ
ず、アンチスタチック性に優れた感光材料およびその処
理方法の提供。 【構成】 ハロゲン化銀乳剤層中にコロイド状シリカお
よび分子構造中にスルホン酸基とカルボキシル基を有す
る水溶性高分子体によって保護コロイド化された疎水性
ポリマー粒子を含有することを特徴とする感光材料及び
該感光材料を、感光材料1m2当たり35〜130ml
の現像補充液で、全処理時間が10〜30秒である自動
現像機で処理することを特徴とする感光材料の処理方法
により達成。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料(以下、単に感光材料という)及びその処理方法に
関し、詳しくは、耐圧力性およびアンチスタチック性に
優れ、経時保存における膜のヒビワレが全く生じず、か
つ、超迅速、低補充処理においても感度、乾燥性に優れ
た感光材料及びその処理方法に関する。
材料(以下、単に感光材料という)及びその処理方法に
関し、詳しくは、耐圧力性およびアンチスタチック性に
優れ、経時保存における膜のヒビワレが全く生じず、か
つ、超迅速、低補充処理においても感度、乾燥性に優れ
た感光材料及びその処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、地球環境汚染が世界的問題として
取り上げられ、国内外において廃棄物に対する関心が高
まってきており、企業としての責務が問われ出してい
る。このような状況において、写真処理廃液についても
その低減が緊急な課題となってきている。
取り上げられ、国内外において廃棄物に対する関心が高
まってきており、企業としての責務が問われ出してい
る。このような状況において、写真処理廃液についても
その低減が緊急な課題となってきている。
【0003】写真処理廃液を低減するためには、単位面
積当たりの処理液量(補充液量)を低減すれば良く、こ
のための従来技術としては、例えば親水性コロイド層の
膨潤率を200%以下として現像補充液を減らした特開
平6−130579号、あるいは親水性コロイド層の膨
潤率を180〜230%にして現像液硬膜をフリーにし
た特開平6−102631号などが開示されている。
積当たりの処理液量(補充液量)を低減すれば良く、こ
のための従来技術としては、例えば親水性コロイド層の
膨潤率を200%以下として現像補充液を減らした特開
平6−130579号、あるいは親水性コロイド層の膨
潤率を180〜230%にして現像液硬膜をフリーにし
た特開平6−102631号などが開示されている。
【0004】しかしながら、感光材料の膨潤率を小さく
すると現像性が劣化し、特に迅速処理において、感度、
コントラストの変動が大きくなり好ましくない。更に親
水性コロイド量を減量したり、膜膨潤度を低減すると、
感光材料の圧力耐性が劣化し、特に迅速処理にてローラ
ーマークと言われる自動現像機のローラー圧による擦れ
状のカブリを発生する致命的な障害を招くことがある。
すると現像性が劣化し、特に迅速処理において、感度、
コントラストの変動が大きくなり好ましくない。更に親
水性コロイド量を減量したり、膜膨潤度を低減すると、
感光材料の圧力耐性が劣化し、特に迅速処理にてローラ
ーマークと言われる自動現像機のローラー圧による擦れ
状のカブリを発生する致命的な障害を招くことがある。
【0005】また、近年、エレクトロニクスの進歩によ
り映像へのアクセスタイムの短縮化が飛躍的に進み、感
光材料も益々迅速処理が要求されている。このためハロ
ゲン化銀粒子も高感度であることが要求され、平板状ハ
ロゲン化銀粒子がしばしば用いられる。これは、平板化
により投影面積が増大し単位粒子当たりの受光量を増大
させ、また増感色素等を多く吸着させることができ、更
に高い分光増感が期待されるためである。上記平板状ハ
ロゲン化銀粒子の使用については、米国特許第4,38
6,156号、第4,399,215号、第4,41
4,304号、第4,425,425号等にその記載が
見られる。
り映像へのアクセスタイムの短縮化が飛躍的に進み、感
光材料も益々迅速処理が要求されている。このためハロ
ゲン化銀粒子も高感度であることが要求され、平板状ハ
ロゲン化銀粒子がしばしば用いられる。これは、平板化
により投影面積が増大し単位粒子当たりの受光量を増大
させ、また増感色素等を多く吸着させることができ、更
に高い分光増感が期待されるためである。上記平板状ハ
ロゲン化銀粒子の使用については、米国特許第4,38
6,156号、第4,399,215号、第4,41
4,304号、第4,425,425号等にその記載が
見られる。
【0006】迅速処理を進めるために、上記ハロゲン化
銀粒子を保護してきたバインダーであるゼラチンの使用
量を少なくし、写真処理の現像速度、定着速度、水洗速
度、乾燥速度を高める技術が求められている。ゼラチン
の使用量が少なくなると、高感度のハロゲン化銀粒子
は、外的圧力に対して益々弱くなり、これを克服するた
めに粒子の調製方法の改良が試みられているが、高感度
で低カブリであると同時に高い耐圧性を両立したハロゲ
ン化銀粒子は未だ見つかっていない。
銀粒子を保護してきたバインダーであるゼラチンの使用
量を少なくし、写真処理の現像速度、定着速度、水洗速
度、乾燥速度を高める技術が求められている。ゼラチン
の使用量が少なくなると、高感度のハロゲン化銀粒子
は、外的圧力に対して益々弱くなり、これを克服するた
めに粒子の調製方法の改良が試みられているが、高感度
で低カブリであると同時に高い耐圧性を両立したハロゲ
ン化銀粒子は未だ見つかっていない。
【0007】これに対して圧力特性を向上させる目的
で、柔らかく緩衝剤として機能するラテックスを添加す
ることが知られており、特公昭53−28086号やリ
サーチ・ディスクロージャー(Research Di
sclosure)、第195巻、1980年7月発
行、アイテム19551等に記載が見られる。さらに、
平板状ハロゲン化銀粒子とともにラテックスを使用する
技術も特開平2−135335号に記載されている。し
かし、前記技術では迅速処理を達成するためゼラチンの
使用量を減らすとともにラテックスを大量に使用した場
合、耐圧性の向上は見られるものの、クッツキなどの膜
物性の劣化、更には界面活性剤を帯電防止剤として使用
している感光材料に関しては、アンチスタチック性の劣
化をも引き起こす。
で、柔らかく緩衝剤として機能するラテックスを添加す
ることが知られており、特公昭53−28086号やリ
サーチ・ディスクロージャー(Research Di
sclosure)、第195巻、1980年7月発
行、アイテム19551等に記載が見られる。さらに、
平板状ハロゲン化銀粒子とともにラテックスを使用する
技術も特開平2−135335号に記載されている。し
かし、前記技術では迅速処理を達成するためゼラチンの
使用量を減らすとともにラテックスを大量に使用した場
合、耐圧性の向上は見られるものの、クッツキなどの膜
物性の劣化、更には界面活性剤を帯電防止剤として使用
している感光材料に関しては、アンチスタチック性の劣
化をも引き起こす。
【0008】このような弊害に対し、乳剤層にコロイド
状シリカを添加して圧力特性を良化させる技術が特開平
4−214551号、同4−340951号、同5−5
3230号、同5−53237号等に記載されている。
これによれば、確かに膜物性の劣化は小さいが効果がで
る量まで添加すると、保存中、特に低湿下においてヒビ
ワレが生じ、実用上大きな問題となることがわかった。
状シリカを添加して圧力特性を良化させる技術が特開平
4−214551号、同4−340951号、同5−5
3230号、同5−53237号等に記載されている。
これによれば、確かに膜物性の劣化は小さいが効果がで
る量まで添加すると、保存中、特に低湿下においてヒビ
ワレが生じ、実用上大きな問題となることがわかった。
【0009】この改良手段としては、ラテックスとの併
用が効果があることがわかったが、ヒビワレが生じない
量を添加すると、やはり上記のような膜物性の劣化やア
ンチスタチック性の劣化が生じる。
用が効果があることがわかったが、ヒビワレが生じない
量を添加すると、やはり上記のような膜物性の劣化やア
ンチスタチック性の劣化が生じる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記のような問題に対
して、本発明の課題は、超迅速、低補充処理においても
耐圧力性に優れ、かつ、経時保存における膜のヒビワレ
が全く生じず、アンチスタチック性に優れた感光材料お
よびその処理方法を提供することにある。
して、本発明の課題は、超迅速、低補充処理においても
耐圧力性に優れ、かつ、経時保存における膜のヒビワレ
が全く生じず、アンチスタチック性に優れた感光材料お
よびその処理方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、下
記手段により達成される。
記手段により達成される。
【0012】(1) ハロゲン化銀乳剤層中にコロイド
状シリカおよび分子構造中にスルホン酸基とカルボキシ
ル基を有する水溶性高分子体によって保護コロイド化さ
れた疎水性ポリマー粒子による導電性粒子体を含有する
ことを特徴とする感光材料。
状シリカおよび分子構造中にスルホン酸基とカルボキシ
ル基を有する水溶性高分子体によって保護コロイド化さ
れた疎水性ポリマー粒子による導電性粒子体を含有する
ことを特徴とする感光材料。
【0013】(2) ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも
1層に数平均分子量2万以下の水溶性ポリマーを含有す
ることを特徴とする上記(1)項に記載の感光材料。
1層に数平均分子量2万以下の水溶性ポリマーを含有す
ることを特徴とする上記(1)項に記載の感光材料。
【0014】(3) 上記水溶性ポリマーがデキストリ
ン、分岐シクロデキストリン及び/又はシクロデキスト
リンポリマーであることを特徴とする上記(1)〜
(2)項に記載の感光材料。
ン、分岐シクロデキストリン及び/又はシクロデキスト
リンポリマーであることを特徴とする上記(1)〜
(2)項に記載の感光材料。
【0015】(4) 上記水溶性ポリマーがデキストリ
ンであることを特徴とする上記(1),(2)又は
(3)項に記載の感光材料。
ンであることを特徴とする上記(1),(2)又は
(3)項に記載の感光材料。
【0016】(5) 前記(1)〜(4)項のいずれか
1項に記載の感光材料を、該感光材料1m2当たり35
〜130mlの処理補充液で、全処理時間が10〜30
秒である自動現像機で処理することを特徴とする感光材
料の処理方法。
1項に記載の感光材料を、該感光材料1m2当たり35
〜130mlの処理補充液で、全処理時間が10〜30
秒である自動現像機で処理することを特徴とする感光材
料の処理方法。
【0017】以下、本発明について詳細に説明する。
【0018】本発明において用いられるコロイド状シリ
カは、平均粒径が1〜1000nm好ましくは5〜50
0nmで、その主成分は二酸化ケイ素から成り、少量成
分としてアルミナ或いはアルギン酸ナトリウムなどを含
んでいてもよい。また、これらのコロイド状シリカ安定
剤として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
リチウム、水酸化アンモニウム等の無機塩類や、テトラ
メチルアンモニウムイオンのごとき有機塩が含まれてい
てもよい。特に、コロイド状シリカの安定剤として、水
酸化ナトリウム、或いは水酸化アンモニウムが好まし
い。
カは、平均粒径が1〜1000nm好ましくは5〜50
0nmで、その主成分は二酸化ケイ素から成り、少量成
分としてアルミナ或いはアルギン酸ナトリウムなどを含
んでいてもよい。また、これらのコロイド状シリカ安定
剤として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
リチウム、水酸化アンモニウム等の無機塩類や、テトラ
メチルアンモニウムイオンのごとき有機塩が含まれてい
てもよい。特に、コロイド状シリカの安定剤として、水
酸化ナトリウム、或いは水酸化アンモニウムが好まし
い。
【0019】コロイド状シリカの具体例としては、E.
I.du Pont de Nemours & C
o.(USA)からLudox AM、Ludox A
S、Ludox LS、Ludox TM Ludox
HS等の商品名で、日産化学(株)(日本)からは、
スノーテックス20、スノーテックスC、スノーテック
スN、スノーテックスO等の商品名で、Monsant
o Co.(USA)からは、Synton C−3
0、Synson 200等の商品名で、又Nalco
Chem.Co.(USA)からは、Nalcoag
1030、Nalcoag 1060、Nalcoa
g ID宛21−64等の商品名で市販されているもの
が挙げられる。
I.du Pont de Nemours & C
o.(USA)からLudox AM、Ludox A
S、Ludox LS、Ludox TM Ludox
HS等の商品名で、日産化学(株)(日本)からは、
スノーテックス20、スノーテックスC、スノーテック
スN、スノーテックスO等の商品名で、Monsant
o Co.(USA)からは、Synton C−3
0、Synson 200等の商品名で、又Nalco
Chem.Co.(USA)からは、Nalcoag
1030、Nalcoag 1060、Nalcoa
g ID宛21−64等の商品名で市販されているもの
が挙げられる。
【0020】尚、コロイド状シリカに関しての詳細は、
Egon Matijevic編、Surfase a
nd Colloid Scienceの第6巻、3〜
100頁(1973年、John Wiley & S
ons)を参照することができる。
Egon Matijevic編、Surfase a
nd Colloid Scienceの第6巻、3〜
100頁(1973年、John Wiley & S
ons)を参照することができる。
【0021】本発明に用いられるコロイド状シリカの好
ましい添加量は、ハロゲン化銀乳剤の使用量、バインダ
ーの使用量および塗布方法により左右されるため一概に
は言えず、適時、適当量を使用するのが好ましいが、一
般的には0.01〜2.0g/m2が好ましく、0.0
5〜1.0g/m2の範囲が特に好ましい。また、添加
する層としては、耐圧力性向上の目的で乳剤層である
が、必要に応じてその他の感材構成層(表面保護層、中
間層、アンチハレーション層、下引層、フィルター層、
バッキング層など)に用いても良い。
ましい添加量は、ハロゲン化銀乳剤の使用量、バインダ
ーの使用量および塗布方法により左右されるため一概に
は言えず、適時、適当量を使用するのが好ましいが、一
般的には0.01〜2.0g/m2が好ましく、0.0
5〜1.0g/m2の範囲が特に好ましい。また、添加
する層としては、耐圧力性向上の目的で乳剤層である
が、必要に応じてその他の感材構成層(表面保護層、中
間層、アンチハレーション層、下引層、フィルター層、
バッキング層など)に用いても良い。
【0022】次に、本発明の構成要素であるスルホン酸
基とカルボキシ基とを有する水溶性高分子体について説
明する。
基とカルボキシ基とを有する水溶性高分子体について説
明する。
【0023】上記水溶性高分子体は、例えば、スルホン
酸基を有する重合性単量体とカルボキシル基を有する重
合性単量体とを共重合させて作製することができる。
酸基を有する重合性単量体とカルボキシル基を有する重
合性単量体とを共重合させて作製することができる。
【0024】上記スルホン酸基を有する重合性単量体と
しては、例えば、ビニルスルホン酸、2−アクリルアミ
ド−2−メチルプロパンスルホン酸、2−アクリルアミ
ドエチルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタアリルス
ルホン酸、スチレンスルホン酸等およびこれらの塩が挙
げられる。これらのなかで、導電性が優れるという理由
から、スチレンスルホン酸およびこの塩を用いることが
好ましい。
しては、例えば、ビニルスルホン酸、2−アクリルアミ
ド−2−メチルプロパンスルホン酸、2−アクリルアミ
ドエチルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタアリルス
ルホン酸、スチレンスルホン酸等およびこれらの塩が挙
げられる。これらのなかで、導電性が優れるという理由
から、スチレンスルホン酸およびこの塩を用いることが
好ましい。
【0025】上記カルボキシル基を有する重合性単量体
としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸のモノカルボ
ン酸もしくはジカルボン酸又はジカルボン酸無水物が挙
げられる。このなかで、形成される塗膜の耐水性がより
一層高くなるという理由から、ジカルボン酸を使用する
ことが好ましく、特に好ましくは、マレイン酸である。
としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸のモノカルボ
ン酸もしくはジカルボン酸又はジカルボン酸無水物が挙
げられる。このなかで、形成される塗膜の耐水性がより
一層高くなるという理由から、ジカルボン酸を使用する
ことが好ましく、特に好ましくは、マレイン酸である。
【0026】また、本発明の水溶性高分子体において、
スルホン酸基およびカルボキシル基に、その他の官能基
を導入してもよい。したがって、上記重合性単量体の他
に、例えば、共重合可能なビニル基を有する単量体を用
いてもよい。
スルホン酸基およびカルボキシル基に、その他の官能基
を導入してもよい。したがって、上記重合性単量体の他
に、例えば、共重合可能なビニル基を有する単量体を用
いてもよい。
【0027】上記重合性単量体の重合方法は、特に制限
するものではなく、従来公知の方法が適用できる。具体
的には、例えば、水に対し、上記のスルホン酸基を有す
る重合性単量体とカルボキシル基を有する重合性単量
体、さらに必要に応じその他の重合性単量体を溶解し、
重合開始剤(例えば、過硫酸カリウム)等を添加して加
熱することにより、重合を行うことができる。
するものではなく、従来公知の方法が適用できる。具体
的には、例えば、水に対し、上記のスルホン酸基を有す
る重合性単量体とカルボキシル基を有する重合性単量
体、さらに必要に応じその他の重合性単量体を溶解し、
重合開始剤(例えば、過硫酸カリウム)等を添加して加
熱することにより、重合を行うことができる。
【0028】また、本発明の水溶性高分子体は、上記と
は別の方法でも作製することができる。すなわち、スル
ホン酸基を有しない重合性単量体とカルボキシル基を有
する重合性単量体とを重合して共重合物を作製し、この
共重合物をスルホン化処理することによっても、上記水
溶性高分子体を得ることができる。
は別の方法でも作製することができる。すなわち、スル
ホン酸基を有しない重合性単量体とカルボキシル基を有
する重合性単量体とを重合して共重合物を作製し、この
共重合物をスルホン化処理することによっても、上記水
溶性高分子体を得ることができる。
【0029】上記スルホン酸基を有さない重合性単量体
としては、特に制限するものではなく、例えば、スチレ
ン、α−メチルスチレン等が挙げられる。
としては、特に制限するものではなく、例えば、スチレ
ン、α−メチルスチレン等が挙げられる。
【0030】そして、前述の方法により単量体を重合し
て共重合物を作製し、これに対してスルホン化処理を行
う。このスルホン化処理の方法としては、特に制限する
ものではなく、従来公知の方法を適用することができ
る。具体的には、溶媒中に、上記共重合物を投入し、ス
ルホン化剤を用いてスルホン化処理を行うものである。
て共重合物を作製し、これに対してスルホン化処理を行
う。このスルホン化処理の方法としては、特に制限する
ものではなく、従来公知の方法を適用することができ
る。具体的には、溶媒中に、上記共重合物を投入し、ス
ルホン化剤を用いてスルホン化処理を行うものである。
【0031】上記溶媒としては、ジクロルメタン、1,
2−ジクロルエタン等のクロル炭化水素、n−ヘキサ
ン、シクロヘキサン等の炭化水素、ジオキサン等が、良
好な溶媒として挙げられ、これらのなかで、スルホン化
剤と反応しにくく、中和時に塩を形成しないジクロルエ
タン等を好適溶媒として挙げることができる。
2−ジクロルエタン等のクロル炭化水素、n−ヘキサ
ン、シクロヘキサン等の炭化水素、ジオキサン等が、良
好な溶媒として挙げられ、これらのなかで、スルホン化
剤と反応しにくく、中和時に塩を形成しないジクロルエ
タン等を好適溶媒として挙げることができる。
【0032】また、上記スルホン化剤としては、S
O3、ルイス酸とSO3との錯体、クロルスルホン酸等が
挙げられる。なお、上記溶媒中でのスルホン化剤の反応
は、30℃以下の低温条件が好ましい。
O3、ルイス酸とSO3との錯体、クロルスルホン酸等が
挙げられる。なお、上記溶媒中でのスルホン化剤の反応
は、30℃以下の低温条件が好ましい。
【0033】このような、水溶性高分子体において、そ
のスルホン酸基とカルボン酸基との比率は、官能基のモ
ル比で、スルホン酸基/カルボン酸基=10/90〜9
5/5、好ましくは、スルホン酸基/カルボン酸基=2
0/80〜80/20、特に好ましくは、スルホン酸基
/カルボン酸基=30/70〜60/40の範囲であ
る。
のスルホン酸基とカルボン酸基との比率は、官能基のモ
ル比で、スルホン酸基/カルボン酸基=10/90〜9
5/5、好ましくは、スルホン酸基/カルボン酸基=2
0/80〜80/20、特に好ましくは、スルホン酸基
/カルボン酸基=30/70〜60/40の範囲であ
る。
【0034】また、上記水溶性高分子体は、その重量平
均分子量が1000〜50万の範囲が好ましく、特に好
ましくは、2000〜10万の範囲である。すなわち、
水溶性高分子体の重量平均分子量が、1000未満であ
ると、上記粒子本体への吸着が不十分となって、本発明
の導電性粒子体をエマルジョン等の形態で使用する場
合、分散安定性が悪くなるおそれがあるからである。こ
れとは逆に、重量平均分子量が、50万を越えると、本
発明の導電性粒子体を乳化重合法等により作製する場
合、水系溶媒の粘度が上昇して製造に支障を来すおそれ
があるからである。
均分子量が1000〜50万の範囲が好ましく、特に好
ましくは、2000〜10万の範囲である。すなわち、
水溶性高分子体の重量平均分子量が、1000未満であ
ると、上記粒子本体への吸着が不十分となって、本発明
の導電性粒子体をエマルジョン等の形態で使用する場
合、分散安定性が悪くなるおそれがあるからである。こ
れとは逆に、重量平均分子量が、50万を越えると、本
発明の導電性粒子体を乳化重合法等により作製する場
合、水系溶媒の粘度が上昇して製造に支障を来すおそれ
があるからである。
【0035】そして、水溶性高分子体を水系溶媒に投入
すると、そのスルホン酸およびカルボン酸により、酸性
となるが、中和しても中和しなくてもよい。中和する場
合は、中和剤として、例えば、中和剤が有する対イオン
として、Na+、K+、Li+、Ca2+、NH4 +等のカチ
オン性イオンが挙げられ、具体的には、NaOH、KO
H、LiOH、NH4OH、トリエタノールアミン、2
−アミノ−2−メチルプロパノール等の無機あるいは有
機アルカリ性物質を用いることができる。
すると、そのスルホン酸およびカルボン酸により、酸性
となるが、中和しても中和しなくてもよい。中和する場
合は、中和剤として、例えば、中和剤が有する対イオン
として、Na+、K+、Li+、Ca2+、NH4 +等のカチ
オン性イオンが挙げられ、具体的には、NaOH、KO
H、LiOH、NH4OH、トリエタノールアミン、2
−アミノ−2−メチルプロパノール等の無機あるいは有
機アルカリ性物質を用いることができる。
【0036】次に、上記導電性粒子本体である疎水性ポ
リマー粒子は、重合性官能基を有する単量体を重合させ
て作製されるものであり、このような単量体としては、
例えば、ビニル単量体、多官能のビニル単量体、エポキ
シ基含有単量体が挙げられ、これらは、単独であるいは
2種類以上併用される。
リマー粒子は、重合性官能基を有する単量体を重合させ
て作製されるものであり、このような単量体としては、
例えば、ビニル単量体、多官能のビニル単量体、エポキ
シ基含有単量体が挙げられ、これらは、単独であるいは
2種類以上併用される。
【0037】上記ビニル単量体としては、例えば、スチ
レン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル単量体、ア
クリル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エ
チルヘキシル、メタクリル酸メチル等のアクリル酸ある
いはメタクリル酸のエステル類、アクリル酸、メタクリ
ル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸
等のモノカルボン酸もしくはジカルボン酸またはジカル
ボン酸無水物、塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲ
ン化ビニル単量体、酢酸ビニル等のビニルエステル類、
ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン類が挙げられ
る。
レン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル単量体、ア
クリル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エ
チルヘキシル、メタクリル酸メチル等のアクリル酸ある
いはメタクリル酸のエステル類、アクリル酸、メタクリ
ル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸
等のモノカルボン酸もしくはジカルボン酸またはジカル
ボン酸無水物、塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲ
ン化ビニル単量体、酢酸ビニル等のビニルエステル類、
ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン類が挙げられ
る。
【0038】多官能のビニル単量体としては、ジビニル
ベンゼン、トリビニルベンゼン、フタル酸ジアリル、ア
クリル酸アリル、メタクリル酸アリル、ジメタクリル酸
エチレングリコール、トリメチロールプロパントリアク
リレート等を挙げることができる。
ベンゼン、トリビニルベンゼン、フタル酸ジアリル、ア
クリル酸アリル、メタクリル酸アリル、ジメタクリル酸
エチレングリコール、トリメチロールプロパントリアク
リレート等を挙げることができる。
【0039】上記エポキシ基含有単量体としては、アク
リル酸グルシジル、メタクリル酸グリシジル等が挙げら
れる。
リル酸グルシジル、メタクリル酸グリシジル等が挙げら
れる。
【0040】これら重合性官能基を有する単量体のなか
で、形成される塗膜の耐水性がより一層優れたものにな
るという理由から、多官能のビニル単量体を用いること
が好ましい。
で、形成される塗膜の耐水性がより一層優れたものにな
るという理由から、多官能のビニル単量体を用いること
が好ましい。
【0041】そして、上記単量体の他に、ビニル基と他
の反応可能な官能基とを有する単量体を挙げることがで
き、上記同様の理由から、これを使用することが好まし
い。上記のビニル基とは別の反応性官能基としては、エ
ポキシ基、メチロール基、オキサゾリン基、イソシアネ
ート基等の官能基が挙げられる。また、これら官能基と
ビニル基とを有する単量体の具体例としては、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、アクリル酸グリシジ
ル、メタクリル酸グリシジル、N−メチロールアクリル
アミド、N−メチロールメタクリルアミド、ビニルオキ
サゾリン、2−プロペニル、2−オキサゾリン、m−イ
ソプロピル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート
等が挙げられる。
の反応可能な官能基とを有する単量体を挙げることがで
き、上記同様の理由から、これを使用することが好まし
い。上記のビニル基とは別の反応性官能基としては、エ
ポキシ基、メチロール基、オキサゾリン基、イソシアネ
ート基等の官能基が挙げられる。また、これら官能基と
ビニル基とを有する単量体の具体例としては、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、アクリル酸グリシジ
ル、メタクリル酸グリシジル、N−メチロールアクリル
アミド、N−メチロールメタクリルアミド、ビニルオキ
サゾリン、2−プロペニル、2−オキサゾリン、m−イ
ソプロピル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート
等が挙げられる。
【0042】次に、本発明の導電性粒子体の製法につい
て説明する。
て説明する。
【0043】本発明の導電性粒子体の製法は、上記水溶
性高分子体が存在する水系溶媒中において、上記重合性
官能基を有する単量体を重合するという製法である。具
体的には、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法等の重
合法により行われる。
性高分子体が存在する水系溶媒中において、上記重合性
官能基を有する単量体を重合するという製法である。具
体的には、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法等の重
合法により行われる。
【0044】上記水系溶媒は、通常、水が使用される
が、この他に、エタノール、プロパノール等のアルコー
ル類、その他、必要に応じて有機溶媒を用いることも可
能である。
が、この他に、エタノール、プロパノール等のアルコー
ル類、その他、必要に応じて有機溶媒を用いることも可
能である。
【0045】上記水系溶媒中に、水溶性高分子体を溶解
させる。この水溶性高分子体は、例えば、水酸化ナトリ
ウムで中和したものを使用することができる。また、こ
の水溶性高分子体の配合割合は、重合性官能基を有する
単量体100重量部(以下「部」と略す)に対し、10
〜500部、好ましくは、100〜400部、特に好ま
しくは、200〜300部である。すなわち、10部未
満の割合では、生成する粒子体の安定性が不充分とな
り、エマルジョン形態で得られる導電性粒子体の分散安
定性が悪くなる傾向がある。また、500部を越える割
合では、造膜性および得られる塗膜の耐水性が低下する
傾向がある。そして、この水系溶媒中に、重合性官能基
を有する単量体を投入して、例えば、乳化重合を行うこ
とにより、エマルジョン形態で導電性粒子体を得ること
ができる。なお、上記のように、重合性官能基を有する
単量体の重合は、乳化重合に限定されず、この他に、懸
濁重合、分散重合等が挙げられる。また、重合反応は、
窒素ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
させる。この水溶性高分子体は、例えば、水酸化ナトリ
ウムで中和したものを使用することができる。また、こ
の水溶性高分子体の配合割合は、重合性官能基を有する
単量体100重量部(以下「部」と略す)に対し、10
〜500部、好ましくは、100〜400部、特に好ま
しくは、200〜300部である。すなわち、10部未
満の割合では、生成する粒子体の安定性が不充分とな
り、エマルジョン形態で得られる導電性粒子体の分散安
定性が悪くなる傾向がある。また、500部を越える割
合では、造膜性および得られる塗膜の耐水性が低下する
傾向がある。そして、この水系溶媒中に、重合性官能基
を有する単量体を投入して、例えば、乳化重合を行うこ
とにより、エマルジョン形態で導電性粒子体を得ること
ができる。なお、上記のように、重合性官能基を有する
単量体の重合は、乳化重合に限定されず、この他に、懸
濁重合、分散重合等が挙げられる。また、重合反応は、
窒素ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
【0046】また、上記水系溶媒に対し、必要に応じ、
生成物である導電性粒子体の性能に影響を与えない範囲
で、乳化重合用界面活性剤、シードエマルジョン、その
他の水溶性高分子体を配合してもよい。
生成物である導電性粒子体の性能に影響を与えない範囲
で、乳化重合用界面活性剤、シードエマルジョン、その
他の水溶性高分子体を配合してもよい。
【0047】上記乳化重合用界面活性剤としては、脂肪
酸、アルキルベンゼンスルホン酸塩、高級アルコール硫
酸エーテル塩等のアニオン性界面活性剤、あるいはポリ
エチレングリコール等のノニオン性界面活性剤等が挙げ
られる。
酸、アルキルベンゼンスルホン酸塩、高級アルコール硫
酸エーテル塩等のアニオン性界面活性剤、あるいはポリ
エチレングリコール等のノニオン性界面活性剤等が挙げ
られる。
【0048】上記シードエマルジョンとしては、アクリ
ルエマルジョン、アクリル/スチレンエマルジョン等が
挙げられ、具体的には、スチレン/メタクリル酸ブチル
/メタクリル酸等が挙げられる。
ルエマルジョン、アクリル/スチレンエマルジョン等が
挙げられ、具体的には、スチレン/メタクリル酸ブチル
/メタクリル酸等が挙げられる。
【0049】本発明の導電性粒子体は、図1の模式図に
示すように、粒子本体2の外周に、スルホン酸基とカル
ボキシル基とを有する水溶性高分子体3が位置するとい
う構成をとる。図において、1は、導電性粒子体を示
す。このような構成をとることにより、得られる塗膜が
高い導電性を備えるとともに、優れた耐水性をも兼ね備
えるようになる。この耐水性の発現の理由について、明
確な説明はできないが、本発明者らは、本発明に関する
一連の研究により得られた知見から、次のように推察し
ている。すなわち、この導電性粒子体を塗工して塗膜を
形成する際に、上記水溶性高分子体のカルボキシル基に
より、導電性粒子体間あるいは導電性粒子体内で相互作
用が生起することに起因するものと考えられる。この相
互作用としては、水素結合や架橋反応が挙げられる。な
お、これは推察であり、本発明の導電性粒子体の作用や
効果を限定するものではない。すなわち、本発明の導電
性粒子体は、上記所定の構成をとる限り、実際の耐水性
発現機構等が上記推察と異なっていても、所期の作用効
果を奏するものである。
示すように、粒子本体2の外周に、スルホン酸基とカル
ボキシル基とを有する水溶性高分子体3が位置するとい
う構成をとる。図において、1は、導電性粒子体を示
す。このような構成をとることにより、得られる塗膜が
高い導電性を備えるとともに、優れた耐水性をも兼ね備
えるようになる。この耐水性の発現の理由について、明
確な説明はできないが、本発明者らは、本発明に関する
一連の研究により得られた知見から、次のように推察し
ている。すなわち、この導電性粒子体を塗工して塗膜を
形成する際に、上記水溶性高分子体のカルボキシル基に
より、導電性粒子体間あるいは導電性粒子体内で相互作
用が生起することに起因するものと考えられる。この相
互作用としては、水素結合や架橋反応が挙げられる。な
お、これは推察であり、本発明の導電性粒子体の作用や
効果を限定するものではない。すなわち、本発明の導電
性粒子体は、上記所定の構成をとる限り、実際の耐水性
発現機構等が上記推察と異なっていても、所期の作用効
果を奏するものである。
【0050】本発明の導電性粒子体において、水溶性高
分子体のカルボキシル基は、主として、塗膜形成時に相
互作用を発現するが、その製造時において、粒子本体の
重合性官能基等と相互作用を発現する場合もある。この
ような場合でも、本発明の導電性粒子体の性能に影響は
ない。
分子体のカルボキシル基は、主として、塗膜形成時に相
互作用を発現するが、その製造時において、粒子本体の
重合性官能基等と相互作用を発現する場合もある。この
ような場合でも、本発明の導電性粒子体の性能に影響は
ない。
【0051】また、本発明の導電性粒子体において、粒
子本体の外周に水溶性高分子体が位置するとは、水溶性
高分子体の一部が、粒子本体内に埋入されている態様も
含む趣旨である。すなわち、水溶性高分子体の一部が、
粒子本体に埋入した状態であっても、他の部分が粒子本
体の外周に位置すれば、所定の性能を発揮するからであ
る。
子本体の外周に水溶性高分子体が位置するとは、水溶性
高分子体の一部が、粒子本体内に埋入されている態様も
含む趣旨である。すなわち、水溶性高分子体の一部が、
粒子本体に埋入した状態であっても、他の部分が粒子本
体の外周に位置すれば、所定の性能を発揮するからであ
る。
【0052】そして、本発明の導電性粒子体は、水溶性
高分子体の配合割合を多くすると、図2および図3に示
すような形態となる。それぞれの図において、1は、本
発明の導電性粒子体を示し、その他部分は、図1と同一
部分について同一符号を付している。本発明では、この
ような形態も、導電性粒子体に含める趣旨である。ま
た、本発明の導電性粒子体の粒径は、通常、0.01〜
2.0μm、好ましくは0.04〜0.1μmである。
高分子体の配合割合を多くすると、図2および図3に示
すような形態となる。それぞれの図において、1は、本
発明の導電性粒子体を示し、その他部分は、図1と同一
部分について同一符号を付している。本発明では、この
ような形態も、導電性粒子体に含める趣旨である。ま
た、本発明の導電性粒子体の粒径は、通常、0.01〜
2.0μm、好ましくは0.04〜0.1μmである。
【0053】次に、本発明の導電性粒子体の形態として
は、前述のエマルジョンやディスパージョンの他に、水
系溶媒を一部除去または完全除去したゾル状や粉末状の
形態が挙げられる。ゾル状や粉末状にした場合は、使用
時において、再度、水系溶媒に分散させて塗工型の帯電
防止剤として使用することができる他、樹脂製品等の製
造時に、原料として練り込み使用することも可能であ
る。
は、前述のエマルジョンやディスパージョンの他に、水
系溶媒を一部除去または完全除去したゾル状や粉末状の
形態が挙げられる。ゾル状や粉末状にした場合は、使用
時において、再度、水系溶媒に分散させて塗工型の帯電
防止剤として使用することができる他、樹脂製品等の製
造時に、原料として練り込み使用することも可能であ
る。
【0054】本発明の導電性粒子体の含有量は、0.0
05〜5g/m2であり、好ましくは0.01〜3g/
m2より好ましくは、0.02〜1g/m2である。ま
た、バインダーを用いた場合のバインダー量は、0.0
05〜5g/m2であり好ましくは0.01〜3g/m2
より好ましくは0.01〜2g/m2である。
05〜5g/m2であり、好ましくは0.01〜3g/
m2より好ましくは、0.02〜1g/m2である。ま
た、バインダーを用いた場合のバインダー量は、0.0
05〜5g/m2であり好ましくは0.01〜3g/m2
より好ましくは0.01〜2g/m2である。
【0055】また、導電性粒子体とバインダーの比は、
重量比で99:1〜10:90であり、好ましくは9
5:5〜15:85特に好ましくは90:10〜20:
80である。
重量比で99:1〜10:90であり、好ましくは9
5:5〜15:85特に好ましくは90:10〜20:
80である。
【0056】本発明に用いられる数平均分子量2万以下
の水溶性ポリマーとしては、例えば合成水溶性ポリマー
と天然水溶性ポリマーが挙げられるが、本発明ではいず
れも好ましく用いることができる。このうち、合成水溶
性ポリマーとしては、分子構造中に例えばノニオン性基
を有するもの、アニオン性基を有するもの並びにノニオ
ン性基及びアニオン性基を有するものが挙げられる。ノ
ニオン性基としては、例えばエーテル基、エチレンオキ
サイド基、ヒドロキシ基等が挙げられ、アニオン性基と
しては、例えばスルホン酸基あるいはその塩、カルボン
酸基あるいはその塩、リン酸基あるいはその塩等が挙げ
られる。
の水溶性ポリマーとしては、例えば合成水溶性ポリマー
と天然水溶性ポリマーが挙げられるが、本発明ではいず
れも好ましく用いることができる。このうち、合成水溶
性ポリマーとしては、分子構造中に例えばノニオン性基
を有するもの、アニオン性基を有するもの並びにノニオ
ン性基及びアニオン性基を有するものが挙げられる。ノ
ニオン性基としては、例えばエーテル基、エチレンオキ
サイド基、ヒドロキシ基等が挙げられ、アニオン性基と
しては、例えばスルホン酸基あるいはその塩、カルボン
酸基あるいはその塩、リン酸基あるいはその塩等が挙げ
られる。
【0057】これらの合成水溶性ポリマーとしては、ホ
モポリマーのみならず1種又はそれ以上の単量体とのコ
ポリマーでもよい。さらにこのコポリマーは、そのもの
が水溶性を保持する限り、部分的に疎水性の単量体との
コポリマーの組成は、添加場所や添加量によって若干の
制約を受ける。すなわち、特に、乳剤層に多量添加する
場合には、添加の際に副作用を生じないような組成範囲
に限定する必要がある。
モポリマーのみならず1種又はそれ以上の単量体とのコ
ポリマーでもよい。さらにこのコポリマーは、そのもの
が水溶性を保持する限り、部分的に疎水性の単量体との
コポリマーの組成は、添加場所や添加量によって若干の
制約を受ける。すなわち、特に、乳剤層に多量添加する
場合には、添加の際に副作用を生じないような組成範囲
に限定する必要がある。
【0058】また、天然水溶性ポリマーとしても分子構
造中に、例えばノニオン性基を有する物、アニオン性基
を有するもの並びにノニオン性基及びアニオン性基を有
するものが挙げられる。
造中に、例えばノニオン性基を有する物、アニオン性基
を有するもの並びにノニオン性基及びアニオン性基を有
するものが挙げられる。
【0059】本発明では、水溶性ポリマーとは、20℃
における水100gに対し0.05g以上溶解れすれば
よく、好ましくは0.1g以上のものである。
における水100gに対し0.05g以上溶解れすれば
よく、好ましくは0.1g以上のものである。
【0060】更に又、本発明の水溶性ポリマーは現像液
や定着液への溶解度が高い程好ましく、その溶解度が現
像液100gに対して、0.05g以上溶解するもので
あり、好ましくは0.5g以上特に好ましいのは1g以
上である。
や定着液への溶解度が高い程好ましく、その溶解度が現
像液100gに対して、0.05g以上溶解するもので
あり、好ましくは0.5g以上特に好ましいのは1g以
上である。
【0061】合成水溶性ポリマーとしては、下記一般式
〔P〕の繰り返し単位をポリマー1分子中10〜100
モル%含むものが挙げられる。
〔P〕の繰り返し単位をポリマー1分子中10〜100
モル%含むものが挙げられる。
【0062】
【化1】
【0063】式中、R1及びR2は同じでも異なってもよ
くそれぞれは水素原子、アルキル基、好ましくは炭素原
子数1〜4のアルキル基(置換基を有するものも含まれ
る。例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、ハロゲン原子(例えば塩素原子)または−CH2
COOMを表し、Lは−CONH−、−NHCO−、−
COO−、−OCO−、−CO−、−SO2、−NHS
O2−、−SO2NH−または−O−を表し、Jはアルキ
レン基、好ましくは炭素原子数1〜10のアルキレン基
(置換基を有するものも含まれる。例えばメチレン基、
エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチレン
基、ヘキシレン基等)、アリーレン基(置換基を有する
ものも含まれる。例えばフェニレン基等)、アラルキレ
ン基(置換基を有するものも含まれる)。
くそれぞれは水素原子、アルキル基、好ましくは炭素原
子数1〜4のアルキル基(置換基を有するものも含まれ
る。例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、ハロゲン原子(例えば塩素原子)または−CH2
COOMを表し、Lは−CONH−、−NHCO−、−
COO−、−OCO−、−CO−、−SO2、−NHS
O2−、−SO2NH−または−O−を表し、Jはアルキ
レン基、好ましくは炭素原子数1〜10のアルキレン基
(置換基を有するものも含まれる。例えばメチレン基、
エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチレン
基、ヘキシレン基等)、アリーレン基(置換基を有する
ものも含まれる。例えばフェニレン基等)、アラルキレ
ン基(置換基を有するものも含まれる)。
【0064】
【化2】
【0065】Mは水素原子またはカチオン基を表し、R
9は炭素原子数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等)を表し、R3、
R4、R5、R6、R7およびR8は水素原子、炭素原子数
1〜20のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ヘキサデ
シル基等)アルケニル基(例えばビニル基、アリール基
等)、フェニル基(例えばフェニル基、メトキシフェニ
ル基、クロフェニル基等)、アラルキル基(例えばベン
ジル基等)を表し、Xはアニオンを表し、またpおよび
qはそれぞれ0または1を表す。特にアクリルアミド又
はメタクリルアミドを含有するポリマーが好ましい。
9は炭素原子数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等)を表し、R3、
R4、R5、R6、R7およびR8は水素原子、炭素原子数
1〜20のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ヘキサデ
シル基等)アルケニル基(例えばビニル基、アリール基
等)、フェニル基(例えばフェニル基、メトキシフェニ
ル基、クロフェニル基等)、アラルキル基(例えばベン
ジル基等)を表し、Xはアニオンを表し、またpおよび
qはそれぞれ0または1を表す。特にアクリルアミド又
はメタクリルアミドを含有するポリマーが好ましい。
【0066】Yは水素原子又は−(L)p−(J)q−Q
を表す。
を表す。
【0067】また、本発明の合成水溶性モノマーはエチ
レン性不飽和モノマーと共重合させることができる。共
重合可能なエチレン性不飽和モノマーの例は、スチレ
ン、アルキルスチレン、ヒドロキシアルキルスチレン
(アルキル基は炭素数1〜4までのものたとえばメチ
ル、エチル、ブチル等)、ビニルベンゼンスルホン酸お
よびその塩、α−メチルスチレン、4−ビニルピリジ
ン、N−ビニルピロリドン、脂肪酸のモノエチレン性不
飽和エステル(たとえば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル等)エチレン性不飽和のモノカルボン酸もしくはジカ
ルボン酸およびその塩(例えばアクリル酸、メタクリル
酸)無水マレイン酸、エチレン性不飽和のモノカルボン
酸もしくはジカルボン酸のエステル(例えばn−ブチル
アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリ
レート、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレー
ト)、エチレン性不飽和のモノカルボン酸もしくはジカ
ルボン酸のアミド(例えば、アクリルアミド、2−アク
リルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ、
N,N−ジメチル−N′−メタクリロイルプロパンジア
ミンアセテートベタイン)などである。
レン性不飽和モノマーと共重合させることができる。共
重合可能なエチレン性不飽和モノマーの例は、スチレ
ン、アルキルスチレン、ヒドロキシアルキルスチレン
(アルキル基は炭素数1〜4までのものたとえばメチ
ル、エチル、ブチル等)、ビニルベンゼンスルホン酸お
よびその塩、α−メチルスチレン、4−ビニルピリジ
ン、N−ビニルピロリドン、脂肪酸のモノエチレン性不
飽和エステル(たとえば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル等)エチレン性不飽和のモノカルボン酸もしくはジカ
ルボン酸およびその塩(例えばアクリル酸、メタクリル
酸)無水マレイン酸、エチレン性不飽和のモノカルボン
酸もしくはジカルボン酸のエステル(例えばn−ブチル
アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリ
レート、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレー
ト)、エチレン性不飽和のモノカルボン酸もしくはジカ
ルボン酸のアミド(例えば、アクリルアミド、2−アク
リルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ソーダ、
N,N−ジメチル−N′−メタクリロイルプロパンジア
ミンアセテートベタイン)などである。
【0068】次に一般式〔P〕の合成水溶性ポリマーの
具体例を挙げる。
具体例を挙げる。
【0069】
【化3】
【0070】
【化4】
【0071】
【化5】
【0072】
【化6】
【0073】
【化7】
【0074】
【化8】
【0075】
【化9】
【0076】本発明の合成水溶性ポリマーの数平均分子
量は2万以下である。好ましくは1万以下である。又、
更に好ましくは5000以下である。
量は2万以下である。好ましくは1万以下である。又、
更に好ましくは5000以下である。
【0077】天然水溶性ポリマーとしては、水溶性高分
子水分散型樹脂の総合技術資料集(経営開発センター出
版部)に詳しく記載されているが、リグニン、澱粉、プ
ルラン、セルロース、アルギン酸、デキストラン、デキ
ストリン、グアーガム、アラビアゴム、ペクチン、カゼ
イン、寒天、キサンタンガム、シクロデキストリン、ロ
ーカストビーンガム、トラガントガム、カラギーナン、
グリコーゲン、ラミナラン、リケニン、ニゲラン等、及
びその誘導体が好ましい。
子水分散型樹脂の総合技術資料集(経営開発センター出
版部)に詳しく記載されているが、リグニン、澱粉、プ
ルラン、セルロース、アルギン酸、デキストラン、デキ
ストリン、グアーガム、アラビアゴム、ペクチン、カゼ
イン、寒天、キサンタンガム、シクロデキストリン、ロ
ーカストビーンガム、トラガントガム、カラギーナン、
グリコーゲン、ラミナラン、リケニン、ニゲラン等、及
びその誘導体が好ましい。
【0078】また天然水溶性ポリマーの誘導体として
は、スルホン化、カルボキシル化、リン酸化、スルホア
ルキレン化、又はカルボキシアルキレン化、アルキルリ
ン酸化したもの、及びその塩、ポリオキシアルキレン化
(例えばエチレン、グリセリン、プロピレンなど)、ア
ルキル化(メチル、エチル、ベンジル化など)が好まし
い。
は、スルホン化、カルボキシル化、リン酸化、スルホア
ルキレン化、又はカルボキシアルキレン化、アルキルリ
ン酸化したもの、及びその塩、ポリオキシアルキレン化
(例えばエチレン、グリセリン、プロピレンなど)、ア
ルキル化(メチル、エチル、ベンジル化など)が好まし
い。
【0079】本発明において、天然水溶性ポリマーは2
種以上併用して用いてもよい。
種以上併用して用いてもよい。
【0080】また、天然水溶性ポリマーの中では、グル
コース重合体、及びその誘導体が好ましく、グルコース
重合体、及びその誘導体中でも、澱粉、グリコーゲン、
セルロース、リケニン、デキストラン、デキストリン、
シクロデキストリン、ニゲラン等が好ましく、特にデキ
ストリン、シクロデキストリン及びその誘導体が好まし
い。
コース重合体、及びその誘導体が好ましく、グルコース
重合体、及びその誘導体中でも、澱粉、グリコーゲン、
セルロース、リケニン、デキストラン、デキストリン、
シクロデキストリン、ニゲラン等が好ましく、特にデキ
ストリン、シクロデキストリン及びその誘導体が好まし
い。
【0081】これらの天然水溶性ポリマーの数平均分子
量は、2万以下が好ましいが、特に好ましいのは1万以
下である。また、更に好ましくは、5千以下である。本
発明に用いられる合成あるいは天然水溶性ポリマーの添
加量としては、0.01〜2g/m2が好ましいが、よ
り好ましくは0.05〜1g/m2である。更に好まし
くは、0.1〜0.5g/m2である。また、添加する
層は乳剤層が好ましいが、必要に応じてその他の親水性
コロイド層に必要量添加しても良い。
量は、2万以下が好ましいが、特に好ましいのは1万以
下である。また、更に好ましくは、5千以下である。本
発明に用いられる合成あるいは天然水溶性ポリマーの添
加量としては、0.01〜2g/m2が好ましいが、よ
り好ましくは0.05〜1g/m2である。更に好まし
くは、0.1〜0.5g/m2である。また、添加する
層は乳剤層が好ましいが、必要に応じてその他の親水性
コロイド層に必要量添加しても良い。
【0082】本発明に用いられる合成あるいは天然水溶
性ポリマーは、単独で用いても良いが、必要ならば2種
以上組み合わせて用いても差し支えない。
性ポリマーは、単独で用いても良いが、必要ならば2種
以上組み合わせて用いても差し支えない。
【0083】本発明に用いられる合成あるいは天然水溶
性ポリマーは、写真感光材料中にその総重量の10%以
上含有され、好ましくは10%以上、30%以下で含有
されれば良い。
性ポリマーは、写真感光材料中にその総重量の10%以
上含有され、好ましくは10%以上、30%以下で含有
されれば良い。
【0084】本発明に用いられるデキストリンは、α−
1,4結合したD−グルコースの重合体であり、一般に
デンプンを加水分解して麦芽糖に至るまでの種々の分解
生成物の総称を指す。学術上重要なものとして化学構造
上特徴ある物がいくつかある他は、特に構造上の特徴を
持たず、分子量も一定のものではない。デンプンをわず
かに加水分解した高分子量のものから、ヨウ素デンプン
反応を呈しない低分子量のものまであり、加水分解の方
法および用途に従って多くの種類がある。
1,4結合したD−グルコースの重合体であり、一般に
デンプンを加水分解して麦芽糖に至るまでの種々の分解
生成物の総称を指す。学術上重要なものとして化学構造
上特徴ある物がいくつかある他は、特に構造上の特徴を
持たず、分子量も一定のものではない。デンプンをわず
かに加水分解した高分子量のものから、ヨウ素デンプン
反応を呈しない低分子量のものまであり、加水分解の方
法および用途に従って多くの種類がある。
【0085】デキストリンの具体例としては、名糖産業
(株)(日本)からはLLD等の商品名で、日澱化学
(株)(日本)からは、アミコール1、デキストリン1
02S等の商品名、又、東和化成工業(株)(日本)か
らは、ピーオー等の商品名で市販されているものが挙げ
られる。
(株)(日本)からはLLD等の商品名で、日澱化学
(株)(日本)からは、アミコール1、デキストリン1
02S等の商品名、又、東和化成工業(株)(日本)か
らは、ピーオー等の商品名で市販されているものが挙げ
られる。
【0086】次に、本発明に用いられる分岐シクロデキ
ストリンについて説明する。
ストリンについて説明する。
【0087】本発明に用いられる分岐シクロデキストリ
ンとは公知のシクロデキストリンにグリコース、マルト
ース、セロビオース、ラクトース、ショ糖、ガラクトー
ス、グルコサミン等の単糖類や二糖類等の水溶性物質を
分岐付加ないし結合させたものであり、好ましくは、シ
クロデキストリンにマルトースを結合させたマルトシル
シクロデキストリン(マルトースの結合分子数は1分
子、2分子、3分子等いずれでもよい)やシクロデキス
トリンにグルコースを結合させたグルコシルシクロデキ
ストリン(グルコースの結合分子数は1分子、2分子、
3分子等いずれでもよい)が挙げられる。
ンとは公知のシクロデキストリンにグリコース、マルト
ース、セロビオース、ラクトース、ショ糖、ガラクトー
ス、グルコサミン等の単糖類や二糖類等の水溶性物質を
分岐付加ないし結合させたものであり、好ましくは、シ
クロデキストリンにマルトースを結合させたマルトシル
シクロデキストリン(マルトースの結合分子数は1分
子、2分子、3分子等いずれでもよい)やシクロデキス
トリンにグルコースを結合させたグルコシルシクロデキ
ストリン(グルコースの結合分子数は1分子、2分子、
3分子等いずれでもよい)が挙げられる。
【0088】これら分岐シクロデキストリンの具体的な
合成方法は、例えば澱粉化学、第33巻、第2号、P.
119〜132(1986)等に記載された公知の合成
法で合成可能であり、例えばマルトシルシクロデキスト
リンはシクロデキストリンとマルトースを原料とし、イ
ソアミラーゼやプルラナーゼ等の酸素を利用して、シク
ロデキストリンにマルトースを結合させる方法で製造で
きる。グルコシルシクロデキストリンも同様の方法で製
造できる。
合成方法は、例えば澱粉化学、第33巻、第2号、P.
119〜132(1986)等に記載された公知の合成
法で合成可能であり、例えばマルトシルシクロデキスト
リンはシクロデキストリンとマルトースを原料とし、イ
ソアミラーゼやプルラナーゼ等の酸素を利用して、シク
ロデキストリンにマルトースを結合させる方法で製造で
きる。グルコシルシクロデキストリンも同様の方法で製
造できる。
【0089】本発明において、好ましく用いられる分岐
シクロデキストリンとしては、以下に示す具体的例示化
合物を挙げることができる。
シクロデキストリンとしては、以下に示す具体的例示化
合物を挙げることができる。
【0090】〔例示化合物〕D−1 マルトースが1分
子結合したα−シクロデキストリン、D−2 マルトー
スが1分子結合したβ−シクロデキストリン、D−3
マルトースが1分子結合したγ−シクロデキストリン、
D−4 マルトースが2分子結合したα−シクロデキス
トリン、D−5 マルトースが2分子結合したβ−シク
ロデキストリン、D−6 マルトースが2分子結合した
γ−シクロデキストリン、D−7 マルトースが3分子
結合したα−シクロデキストリン、D−8 マルトース
が3分子結合したβ−シクロデキストリン、D−9 マ
ルトースが3分子結合したγ−シクロデキストリン、D
−10 グルコースが1分子結合したα−シクロデキス
トリン、D−11 グルコースが1分子結合したβ−シ
クロデキストリン、D−12 グルコースが1分子結合
したγ−シクロデキストリン、D−13 グルコースが
2分子結合したα−シクロデキストリン、D−14 グ
ルコースが2分子結合したβ−シクロデキストリン、D
−15 グルコースが2分子結合したγ−シクロデキス
トリン、D−16 グルコースが3分子結合したα−シ
クロデキストリン、D−17 グルコースが3分子結合
したβ−シクロデキストリン、D−18 グルコースが
3分子結合したγ−シクロデキストリン、これら分岐シ
クロデキストリンの構造については、HPLC,NM
R,TLC(薄層クロマトグラフィー),INEPT法
(Insensitive nuclei enhan
ced by polarization trans
fer)等の測定法で種々検討されてきているが、現在
の科学技術をもってしてもいまだ確定されておらず推定
構造の段階にある。しかしながら、各単糖類又は二糖類
等がシクロデキストリンに結合していることは上記測定
法で誤りのないことである。この故に、本発明において
は、単糖類や二糖類の多分子がシクロデキストリンに結
合している際には、例えば下記に示すようにシクロデキ
ストリンの各ぶどう糖に個々に結合している場合や、1
つのぶどう糖に直鎖状に結合しているものの両方を包含
するものである。
子結合したα−シクロデキストリン、D−2 マルトー
スが1分子結合したβ−シクロデキストリン、D−3
マルトースが1分子結合したγ−シクロデキストリン、
D−4 マルトースが2分子結合したα−シクロデキス
トリン、D−5 マルトースが2分子結合したβ−シク
ロデキストリン、D−6 マルトースが2分子結合した
γ−シクロデキストリン、D−7 マルトースが3分子
結合したα−シクロデキストリン、D−8 マルトース
が3分子結合したβ−シクロデキストリン、D−9 マ
ルトースが3分子結合したγ−シクロデキストリン、D
−10 グルコースが1分子結合したα−シクロデキス
トリン、D−11 グルコースが1分子結合したβ−シ
クロデキストリン、D−12 グルコースが1分子結合
したγ−シクロデキストリン、D−13 グルコースが
2分子結合したα−シクロデキストリン、D−14 グ
ルコースが2分子結合したβ−シクロデキストリン、D
−15 グルコースが2分子結合したγ−シクロデキス
トリン、D−16 グルコースが3分子結合したα−シ
クロデキストリン、D−17 グルコースが3分子結合
したβ−シクロデキストリン、D−18 グルコースが
3分子結合したγ−シクロデキストリン、これら分岐シ
クロデキストリンの構造については、HPLC,NM
R,TLC(薄層クロマトグラフィー),INEPT法
(Insensitive nuclei enhan
ced by polarization trans
fer)等の測定法で種々検討されてきているが、現在
の科学技術をもってしてもいまだ確定されておらず推定
構造の段階にある。しかしながら、各単糖類又は二糖類
等がシクロデキストリンに結合していることは上記測定
法で誤りのないことである。この故に、本発明において
は、単糖類や二糖類の多分子がシクロデキストリンに結
合している際には、例えば下記に示すようにシクロデキ
ストリンの各ぶどう糖に個々に結合している場合や、1
つのぶどう糖に直鎖状に結合しているものの両方を包含
するものである。
【0091】
【化10】
【0092】既存のシクロデキストリンの環構造はその
まま保持されているので、既存のシクロデキストリンと
同様に包接作用を示し、かつ水溶性の高いマルトースな
いしグルコースが付加し、水への溶解性が飛躍的に向上
しているのが特徴である。
まま保持されているので、既存のシクロデキストリンと
同様に包接作用を示し、かつ水溶性の高いマルトースな
いしグルコースが付加し、水への溶解性が飛躍的に向上
しているのが特徴である。
【0093】そして上記例示化合物におけるシクロデキ
ストリンは、下記一般式〔A〕で表される。
ストリンは、下記一般式〔A〕で表される。
【0094】
【化11】
【0095】このうち本発明に特に有用なものはn1=
4のα−シクロデキストリン、n1=5のβ−シクロデ
キストリン、n1=6のγ−シクロデキストリンであ
る。
4のα−シクロデキストリン、n1=5のβ−シクロデ
キストリン、n1=6のγ−シクロデキストリンであ
る。
【0096】また、これら分岐シクロデキストリンのう
ち本発明において、とりわけ特に有効なものは、分岐β
−シクロデキストリンである。
ち本発明において、とりわけ特に有効なものは、分岐β
−シクロデキストリンである。
【0097】更に本発明に係るシクロデキストリン部分
は包接作用を行い包接化合物を形成するが、本発明にお
いては該包接化合物を使用することも可能である。
は包接作用を行い包接化合物を形成するが、本発明にお
いては該包接化合物を使用することも可能である。
【0098】該シクロデキストリンの包接化合物とは、
例えばエフ・クラマー著(F.Cramer)「アイン
シェルフェルビンドゥンゲン」(Einschluβ
verbindangen)Soringer(195
4)あるいはエム・ハーゲン著(M.Hagan)「ク
ラスレートインクルージョンコンパウント」(Clat
hrate Inclusion Conpound
e)Reinhld(1962)に記載の如く「原子ま
たは分子が結合してできた3次元構造の内部に適当な大
きさの空孔があって、その中にほかの原子または分子が
一定の組成比で入りこんで特定の結晶構造をつくってい
る物質」のことをいう。
例えばエフ・クラマー著(F.Cramer)「アイン
シェルフェルビンドゥンゲン」(Einschluβ
verbindangen)Soringer(195
4)あるいはエム・ハーゲン著(M.Hagan)「ク
ラスレートインクルージョンコンパウント」(Clat
hrate Inclusion Conpound
e)Reinhld(1962)に記載の如く「原子ま
たは分子が結合してできた3次元構造の内部に適当な大
きさの空孔があって、その中にほかの原子または分子が
一定の組成比で入りこんで特定の結晶構造をつくってい
る物質」のことをいう。
【0099】該シクロデキストリンの包接化合物の製造
例の引用文献を以下に記載するが、これは単にその数例
であって勿論これらに限定されるものではない。
例の引用文献を以下に記載するが、これは単にその数例
であって勿論これらに限定されるものではない。
【0100】◎ジャーナル オブ ジ アメリカン ケ
ミカル ソサエティ(Journal of the
American Chemical Societ
y) 第71巻 第354頁 1949年 ◎ケミッシュ ベリッヒテ(Chemishe Ber
ichte) 第90巻 第2572頁 1957年 ◎同第90巻 第2561頁 1957年 本発明においても、これらに記載された方法により、あ
らかじめシクロデキストリンの包接化合物を作成し、感
光材料中および/または現像液中に添加することもでき
るが、別にシクロデキストリンを感光材料中および/ま
たは現像液中に添加することにより、その中に含有され
ている化合物を一部又は全部包接化することが可能であ
る。
ミカル ソサエティ(Journal of the
American Chemical Societ
y) 第71巻 第354頁 1949年 ◎ケミッシュ ベリッヒテ(Chemishe Ber
ichte) 第90巻 第2572頁 1957年 ◎同第90巻 第2561頁 1957年 本発明においても、これらに記載された方法により、あ
らかじめシクロデキストリンの包接化合物を作成し、感
光材料中および/または現像液中に添加することもでき
るが、別にシクロデキストリンを感光材料中および/ま
たは現像液中に添加することにより、その中に含有され
ている化合物を一部又は全部包接化することが可能であ
る。
【0101】本発明に用いられる分岐シクロデキストリ
ンは市販品としての入手も可能であり、例えばマルトシ
ルシクロデキストリンは塩水港精糖社製イソエリート
(登録商標)として市販されている。
ンは市販品としての入手も可能であり、例えばマルトシ
ルシクロデキストリンは塩水港精糖社製イソエリート
(登録商標)として市販されている。
【0102】本発明に用いられる分岐シクロデキストリ
ンは粉末であってもよいし、液状(例えば70%液)で
あってもよい。
ンは粉末であってもよいし、液状(例えば70%液)で
あってもよい。
【0103】本発明に用いられるシクロデキストリンポ
リマーとしては、下記一般式〔B〕で表されるものが好
ましい。
リマーとしては、下記一般式〔B〕で表されるものが好
ましい。
【0104】
【化12】
【0105】本発明に用いられるシクロデキストリンポ
リマーは、シクロデキストリンを例えばエピクロルヒド
リンにより架橋高分子化して製造できる。
リマーは、シクロデキストリンを例えばエピクロルヒド
リンにより架橋高分子化して製造できる。
【0106】前記シクロデキストリンポリマーは、その
水溶性すなわち水に対する溶解度が、25℃で水100
mlに対し20g以上であることが好ましく、そのため
には上記一般式〔B〕における重合度n2を3〜4とす
ればよく、この値が小さい程シクロデキストリンポリマ
ー自身の水溶性および前記物質の可溶化効果が高い。
水溶性すなわち水に対する溶解度が、25℃で水100
mlに対し20g以上であることが好ましく、そのため
には上記一般式〔B〕における重合度n2を3〜4とす
ればよく、この値が小さい程シクロデキストリンポリマ
ー自身の水溶性および前記物質の可溶化効果が高い。
【0107】これらシクロデキストリンポリマーは、例
えば特開昭61−97025号や、ドイツ特許3,54
4,842号等に記載された一般的な方法で合成でき
る。
えば特開昭61−97025号や、ドイツ特許3,54
4,842号等に記載された一般的な方法で合成でき
る。
【0108】該シクロデキストリンポリマーについて
も、前記の如くシクロデキストリンポリマーの包接化合
物として使用してもよい。
も、前記の如くシクロデキストリンポリマーの包接化合
物として使用してもよい。
【0109】次に、本発明に用いられるハロゲン化銀粒
子について説明する。
子について説明する。
【0110】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子とし
ては、特に制限はないが、平板状ハロゲン化銀粒子でア
スペクト比は2以上のものが好ましい。さらに好ましく
は2.0以上15.0未満である。特に4以上8未満が
好ましい。
ては、特に制限はないが、平板状ハロゲン化銀粒子でア
スペクト比は2以上のものが好ましい。さらに好ましく
は2.0以上15.0未満である。特に4以上8未満が
好ましい。
【0111】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子はハ
ロゲン化銀として臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化
銀、沃塩化銀、塩沃臭化銀等を用いることができる。沃
化銀の含有量は、ハロゲン化銀粒子全体での平均沃化銀
含有率として1.0モル%以下が好ましいが、更には
0.5モル%以下が更に好ましい。
ロゲン化銀として臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化
銀、沃塩化銀、塩沃臭化銀等を用いることができる。沃
化銀の含有量は、ハロゲン化銀粒子全体での平均沃化銀
含有率として1.0モル%以下が好ましいが、更には
0.5モル%以下が更に好ましい。
【0112】本発明において、ハロゲン化銀粒子は種々
のハロゲン組成が可能であるが塩化銀を50モル%以上
含有すること、更には70モル%以上含有することが好
ましい。
のハロゲン組成が可能であるが塩化銀を50モル%以上
含有すること、更には70モル%以上含有することが好
ましい。
【0113】本発明に用いられる平板状ハロゲン化銀粒
子は米国特許5,320,938号記載の方法で作成す
ることが出来る。即ち、(100)面を形成しやすい条
件下で沃度イオンの存在下、低pClで核形成させるこ
とが好ましい。核形成後は、オストワルド熟成及び/又
は成長を行い、所望の粒径、分布を有する平板状ハロゲ
ン化銀粒子を得ることが出来る。本発明に用いられる平
板状ハロゲン化銀粒子は、いわゆるハロゲン変換型(コ
ンバージョン型)の粒子であっても構わない。ハロゲン
変換量は銀量に対して0.2モル%〜0.5モル%が好
ましく、変換の時期は物理熟成中でも物理熟成終了後で
も良い。
子は米国特許5,320,938号記載の方法で作成す
ることが出来る。即ち、(100)面を形成しやすい条
件下で沃度イオンの存在下、低pClで核形成させるこ
とが好ましい。核形成後は、オストワルド熟成及び/又
は成長を行い、所望の粒径、分布を有する平板状ハロゲ
ン化銀粒子を得ることが出来る。本発明に用いられる平
板状ハロゲン化銀粒子は、いわゆるハロゲン変換型(コ
ンバージョン型)の粒子であっても構わない。ハロゲン
変換量は銀量に対して0.2モル%〜0.5モル%が好
ましく、変換の時期は物理熟成中でも物理熟成終了後で
も良い。
【0114】ハロゲン化銀粒子は、粒子を形成する過程
及び/又は成長させる過程で、カドミウム塩、亜鉛塩、
鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩(錯塩を含む)、ロジ
ウム塩(錯塩を含む)、ルテニウム塩(錯塩を含む)、
オスミニウム塩(錯塩を含む)、及び鉄塩(錯塩を含
む)から選ばれる少なくとも1種を用いて金属イオンを
添加し、粒子内部及び/または粒子表面にこれらの金属
元素を含有させることが好ましい。
及び/又は成長させる過程で、カドミウム塩、亜鉛塩、
鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩(錯塩を含む)、ロジ
ウム塩(錯塩を含む)、ルテニウム塩(錯塩を含む)、
オスミニウム塩(錯塩を含む)、及び鉄塩(錯塩を含
む)から選ばれる少なくとも1種を用いて金属イオンを
添加し、粒子内部及び/または粒子表面にこれらの金属
元素を含有させることが好ましい。
【0115】本発明において現像速度を促進するために
脱塩工程前にハロゲン化銀溶剤を添加することも好まし
い。例えば、チオシアン酸化合物(チオシアン酸カリウ
ム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウ
ム等)を銀1モル当たり1×10-3モル以上、3×10
-2モル以下加えることが好ましい。
脱塩工程前にハロゲン化銀溶剤を添加することも好まし
い。例えば、チオシアン酸化合物(チオシアン酸カリウ
ム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウ
ム等)を銀1モル当たり1×10-3モル以上、3×10
-2モル以下加えることが好ましい。
【0116】本発明において、ハロゲン化銀粒子の保護
コロイド用分散媒としてはゼラチンを用いることが好ま
しく、ゼラチンとしてはアルカリ処理ゼラチン、酸処理
ゼラチン、低分子量ゼラチン(分子量が2万〜10
万)、フタル化ゼラチン等の修飾ゼラチンが用いられ
る。また、これ以外の親水性コロイドも使用できる。具
体的にはリサーチ・ディスクロージャー誌(Resea
rch Disclosure.以下RDと略す)第1
76巻No.17643(1978年12月)の項に記
載されているものが挙げられる。ゼラチン量としては感
光材料片面当たりの全親水性コロイド層のゼラチン量が
1.0〜2.0g/m2である。
コロイド用分散媒としてはゼラチンを用いることが好ま
しく、ゼラチンとしてはアルカリ処理ゼラチン、酸処理
ゼラチン、低分子量ゼラチン(分子量が2万〜10
万)、フタル化ゼラチン等の修飾ゼラチンが用いられ
る。また、これ以外の親水性コロイドも使用できる。具
体的にはリサーチ・ディスクロージャー誌(Resea
rch Disclosure.以下RDと略す)第1
76巻No.17643(1978年12月)の項に記
載されているものが挙げられる。ゼラチン量としては感
光材料片面当たりの全親水性コロイド層のゼラチン量が
1.0〜2.0g/m2である。
【0117】本発明において、ハロゲン化銀粒子の成長
時に不要な可溶性塩類を除去してもよいし、或いは含有
させたままでもよい。該塩類を除去する場合にはRD第
176巻No.17643のII項に記載の方法に基づ
いて行うことができる。
時に不要な可溶性塩類を除去してもよいし、或いは含有
させたままでもよい。該塩類を除去する場合にはRD第
176巻No.17643のII項に記載の方法に基づ
いて行うことができる。
【0118】本発明のハロゲン化銀粒子は化学増感を施
すことができる。化学熟成即ち化学増感の工程の条件、
例えばpH、pAg、温度、時間等については特に制限
がなく、当業界で一般に行われている条件で行うことが
できる。化学増感のためには銀イオンと反応しうる硫黄
を含む化合物や活性ゼラチンを用いる硫黄増感法、セレ
ン化合物を用いるセレン増感法、テルル化合物を用いる
テルル増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金その
他、貴金属を用いる貴金属増感法等を単独または組み合
わせて用いることができるが、なかでも、セレン増感
法、テルル増感法、還元増感法等が好ましく用いられ、
特にセレン増感法が好ましく用いられる。
すことができる。化学熟成即ち化学増感の工程の条件、
例えばpH、pAg、温度、時間等については特に制限
がなく、当業界で一般に行われている条件で行うことが
できる。化学増感のためには銀イオンと反応しうる硫黄
を含む化合物や活性ゼラチンを用いる硫黄増感法、セレ
ン化合物を用いるセレン増感法、テルル化合物を用いる
テルル増感法、還元性物質を用いる還元増感法、金その
他、貴金属を用いる貴金属増感法等を単独または組み合
わせて用いることができるが、なかでも、セレン増感
法、テルル増感法、還元増感法等が好ましく用いられ、
特にセレン増感法が好ましく用いられる。
【0119】セレン増感剤に関しては、米国特許1,5
74,944号、同1,602,592号、同1,62
3,499号、特開昭60−150046号、特開平4
−25832号、同4−109240号、同4−147
250号等に記載されている。
74,944号、同1,602,592号、同1,62
3,499号、特開昭60−150046号、特開平4
−25832号、同4−109240号、同4−147
250号等に記載されている。
【0120】有用なセレン増感剤としては、コロイドセ
レン金属、イソセレノシアネート類(例えば、アリルイ
ソセレノシアネート等)、セレノ尿素類(例えば、N,
N−ジメチルセレノ尿素、N,N,N′−トリエチルセ
レノ尿素等)、セレノケトン類(例えば、セレノアセト
ン、セレノアセトフェノン等)、セレノアミド類(例え
ば、セレノアセトアミド、N,N−ジメチルセレノベン
ズアミド等)、セレノカルボン酸類及びセレノエステル
類(例えば、2−セレノプロピオン酸、メチル−3−セ
レノブチレート等)、セレノフォスフェート類(例え
ば、トリ−p−トリセレノフォスフェート等)、セレナ
イド類(ジエチルセレナイド、ジエチルジセレナイド、
トリフェニルフォスフィンセレナイド等)が挙げられ
る。特に、好ましいセレン増感剤は、セレノ尿素類、セ
レノアミド類、及びセレンケトン類である。
レン金属、イソセレノシアネート類(例えば、アリルイ
ソセレノシアネート等)、セレノ尿素類(例えば、N,
N−ジメチルセレノ尿素、N,N,N′−トリエチルセ
レノ尿素等)、セレノケトン類(例えば、セレノアセト
ン、セレノアセトフェノン等)、セレノアミド類(例え
ば、セレノアセトアミド、N,N−ジメチルセレノベン
ズアミド等)、セレノカルボン酸類及びセレノエステル
類(例えば、2−セレノプロピオン酸、メチル−3−セ
レノブチレート等)、セレノフォスフェート類(例え
ば、トリ−p−トリセレノフォスフェート等)、セレナ
イド類(ジエチルセレナイド、ジエチルジセレナイド、
トリフェニルフォスフィンセレナイド等)が挙げられ
る。特に、好ましいセレン増感剤は、セレノ尿素類、セ
レノアミド類、及びセレンケトン類である。
【0121】セレン増感剤の使用量は使用するセレン化
合物、ハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等により変わる
が、一般にハロゲン化銀1モル当たり10-8モル〜10
-4モル程度を用いる。また、添加方法は、使用するセレ
ン化合物の性質に応じて、水またはメタノール、エタノ
ール、酢酸エチルなどの有機溶媒の単独または混合溶媒
に溶解して添加する方法でも、或いは、ゼラチン溶液と
予め混合して添加する方法でも、特開平4−14073
9号に開示されている方法、即ち、有機溶媒可溶性の重
合体との混合溶液の乳化分散物の形態で添加する方法で
も良い。
合物、ハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等により変わる
が、一般にハロゲン化銀1モル当たり10-8モル〜10
-4モル程度を用いる。また、添加方法は、使用するセレ
ン化合物の性質に応じて、水またはメタノール、エタノ
ール、酢酸エチルなどの有機溶媒の単独または混合溶媒
に溶解して添加する方法でも、或いは、ゼラチン溶液と
予め混合して添加する方法でも、特開平4−14073
9号に開示されている方法、即ち、有機溶媒可溶性の重
合体との混合溶液の乳化分散物の形態で添加する方法で
も良い。
【0122】本発明の実施に際して用いられるハロゲン
化銀乳剤は、シアニン色素類その他によって分光増感さ
れてもよい。増感色素は単独に用いてもよいが、それら
の組み合わせを用いてもよく、増感色素の組み合わせは
特に強色増感の目的でしばしば用いられる。
化銀乳剤は、シアニン色素類その他によって分光増感さ
れてもよい。増感色素は単独に用いてもよいが、それら
の組み合わせを用いてもよく、増感色素の組み合わせは
特に強色増感の目的でしばしば用いられる。
【0123】本発明のハロゲン化銀乳剤による感光材料
は、乳剤の物理熟成又は化学熟成前後の工程で、各種の
写真用添加剤を用いることができる。
は、乳剤の物理熟成又は化学熟成前後の工程で、各種の
写真用添加剤を用いることができる。
【0124】このような工程で使用できる化合物として
は例えば、前記のリサーチ・ディスクロージャー(R
D)17643号、(RD)18716号(1979年
11月)及び(RD)308119号(1989年12
月)に記載されている各種の化合物が挙げられる。これ
ら3つの(RD)に記載されている化合物の種類と記載
箇所を表1に掲載した。
は例えば、前記のリサーチ・ディスクロージャー(R
D)17643号、(RD)18716号(1979年
11月)及び(RD)308119号(1989年12
月)に記載されている各種の化合物が挙げられる。これ
ら3つの(RD)に記載されている化合物の種類と記載
箇所を表1に掲載した。
【0125】 添加剤 RD−17643 RD−18716 RD−308119 頁 分類 頁 頁 分類 化学増感剤 23 III 648右上 996 III 増感色素 23 IV 648〜649 996〜8 IV 減感色素 23 IV 998 IVB 染料 25〜26 VIII 649〜650 1003 VIII 現像促進剤 29 XXI 648右上 カブリ抑制剤 ・安定剤 24 IV 649右上 1006〜7 VI 増白剤 24 V 998 V 硬膜剤 26 X 651左 1004〜5 X 界面活性剤 26〜27 XI 650右 1005〜6 XI 可塑剤 27 XXI 650右 1006 XXI スベリ剤 27 XXI マット剤 28 XVI 650右 1008〜9 XVI バインダー 26 XXII 1003〜4 支持体 28 XVII 1009 XVII 本発明の感光材料に用いられる支持体としては、上記の
RDに記載されているものが挙げられるが、適当な支持
体としてはプラスチックフィルムなどで、支持体表面は
塗布層の接着性をよくするために下引き層を設けたり、
コロナ放電や紫外線照射などが施されてもよい。そし
て、このように処理された支持体上の両面に本発明に係
る乳剤を塗布することができる。本発明の感光材料に
は、他に必要に応じて、アンチハレーション層、中間
層、フィルター層などを設けることができる。
RDに記載されているものが挙げられるが、適当な支持
体としてはプラスチックフィルムなどで、支持体表面は
塗布層の接着性をよくするために下引き層を設けたり、
コロナ放電や紫外線照射などが施されてもよい。そし
て、このように処理された支持体上の両面に本発明に係
る乳剤を塗布することができる。本発明の感光材料に
は、他に必要に応じて、アンチハレーション層、中間
層、フィルター層などを設けることができる。
【0126】本発明の感光材料において、ハロゲン化銀
乳剤層その他の親水性コロイド層は種々の塗布法により
支持体上または他の層上に塗布できる。塗布には、ディ
ップ塗布法、ローラー塗布法、カーテン塗布法、押しだ
し塗布法、スライド・ホッパー法などを用いることがで
きる。詳しくは、リサーチ・ディスクロージャー、第1
76巻、P.27−28の「Coating proc
edures」の項に記載されている方法を用いうる。
乳剤層その他の親水性コロイド層は種々の塗布法により
支持体上または他の層上に塗布できる。塗布には、ディ
ップ塗布法、ローラー塗布法、カーテン塗布法、押しだ
し塗布法、スライド・ホッパー法などを用いることがで
きる。詳しくは、リサーチ・ディスクロージャー、第1
76巻、P.27−28の「Coating proc
edures」の項に記載されている方法を用いうる。
【0127】本発明の感光材料の処理は例えば、前記の
RD−17643のXX〜XXI、29〜30頁或いは同3
08119のXX〜XXI、1011〜1012頁に記載さ
れているような処理液による処理がなされてよい。
RD−17643のXX〜XXI、29〜30頁或いは同3
08119のXX〜XXI、1011〜1012頁に記載さ
れているような処理液による処理がなされてよい。
【0128】白黒写真処理での現像剤としては、ジヒド
ロキシベンゼン類(例えばハイドロキノン)、3−ピラ
ゾリドン類(例えば1−フェニル−3−ピラゾリド
ン)、アミノフェノール類(例えばN−メチル−アミノ
フェノール)などを単独もしくは組み合わせて用いるこ
とができる。なお、現像液には公知の例えば保恒剤、ア
ルカリ剤、pH緩衝剤、カブリ防止剤、硬膜剤、現像促
進剤、界面活性剤、消泡剤、色調剤、硬水軟化剤、溶解
助剤、粘性付与剤などを必要に応じて用いてもよい。
ロキシベンゼン類(例えばハイドロキノン)、3−ピラ
ゾリドン類(例えば1−フェニル−3−ピラゾリド
ン)、アミノフェノール類(例えばN−メチル−アミノ
フェノール)などを単独もしくは組み合わせて用いるこ
とができる。なお、現像液には公知の例えば保恒剤、ア
ルカリ剤、pH緩衝剤、カブリ防止剤、硬膜剤、現像促
進剤、界面活性剤、消泡剤、色調剤、硬水軟化剤、溶解
助剤、粘性付与剤などを必要に応じて用いてもよい。
【0129】定着液にはチオ硫酸塩、チオシアン酸塩な
どの定着剤が用いられ、さらに硬膜剤として水溶性のア
ルミニウム塩例えば硫酸アルミニウム或いはカリ明ばん
などを含んでいてもよい。その他保恒剤、pH調整剤、
硬水軟化剤などを含有していてもよい。
どの定着剤が用いられ、さらに硬膜剤として水溶性のア
ルミニウム塩例えば硫酸アルミニウム或いはカリ明ばん
などを含んでいてもよい。その他保恒剤、pH調整剤、
硬水軟化剤などを含有していてもよい。
【0130】本発明において全処理時間(Dry to
Dry)が10〜30秒以下の超迅速処理することが
できる。本発明における“現像工程時間”又は“現像時
間”とは、処理する感光材料の先端が自動現像機(以
下、自現機と呼ぶ)の現像タンク液に浸漬してから次の
定着液に浸漬するまでの時間、“定着時間”とは定着タ
ンク液に浸漬してから次の水洗タンク液(安定液)に浸
漬するまでの時間、“水洗時間”とは、水洗タンク液に
浸漬している時間をいう。また“乾燥時間”とは、通常
自現機には、35℃〜100℃、好ましくは40℃〜8
0℃の熱風が吹きつけられる乾燥ゾーンが設置されてお
り、その乾燥ゾーンに入っている時間をいう。
Dry)が10〜30秒以下の超迅速処理することが
できる。本発明における“現像工程時間”又は“現像時
間”とは、処理する感光材料の先端が自動現像機(以
下、自現機と呼ぶ)の現像タンク液に浸漬してから次の
定着液に浸漬するまでの時間、“定着時間”とは定着タ
ンク液に浸漬してから次の水洗タンク液(安定液)に浸
漬するまでの時間、“水洗時間”とは、水洗タンク液に
浸漬している時間をいう。また“乾燥時間”とは、通常
自現機には、35℃〜100℃、好ましくは40℃〜8
0℃の熱風が吹きつけられる乾燥ゾーンが設置されてお
り、その乾燥ゾーンに入っている時間をいう。
【0131】本発明の現像、定着等の処理では、処理時
間が15秒以下、処理温度は25℃〜50℃であるが、
好ましくは30℃〜40℃で2秒〜10秒である。
間が15秒以下、処理温度は25℃〜50℃であるが、
好ましくは30℃〜40℃で2秒〜10秒である。
【0132】本発明の方法によれば、現像、定着及び水
洗(又は安定化)された感光材料は水洗水をしぼり切る
スクイズローラーを経て乾燥される。水洗工程は、5〜
50℃で2〜10秒が好ましい。
洗(又は安定化)された感光材料は水洗水をしぼり切る
スクイズローラーを経て乾燥される。水洗工程は、5〜
50℃で2〜10秒が好ましい。
【0133】本発明では現像、定着、水洗された感光材
料はスクイズローラーを経て乾燥される。乾燥方式は、
熱風対流乾燥、遠赤外線ヒーターによる放射乾燥、ヒー
トローラーによる伝熱乾燥のいずれか又は併用すること
ができる。乾燥温度と時間は40〜100℃で4〜15
秒で行われる。
料はスクイズローラーを経て乾燥される。乾燥方式は、
熱風対流乾燥、遠赤外線ヒーターによる放射乾燥、ヒー
トローラーによる伝熱乾燥のいずれか又は併用すること
ができる。乾燥温度と時間は40〜100℃で4〜15
秒で行われる。
【0134】本発明においては、現像液や定着液の補充
量が感光材料1m2当たり35〜130mlで処理する
ことができる。補充方法としては、特開昭55−126
243号に記載の幅、送り速度による補充、特開昭60
−104946号記載の面積補充、特開平1−1491
56号記載の連続処理枚数によりコントロールされた面
積補充でもよい。
量が感光材料1m2当たり35〜130mlで処理する
ことができる。補充方法としては、特開昭55−126
243号に記載の幅、送り速度による補充、特開昭60
−104946号記載の面積補充、特開平1−1491
56号記載の連続処理枚数によりコントロールされた面
積補充でもよい。
【0135】
【実施例】以下、実施例により本発明の効果を具体的に
例証する。
例証する。
【0136】実施例1 〈導電性粒子体Aの合成〉撹拌機、還流冷却機、滴下ロ
ート、窒素導入管を備えた反応容器に、水700部を入
れ、これに、スチレンスルホン酸とマレイン酸との共重
合体ナトリウム塩(重合モル比、スチレンスルホン酸:
マレイン酸=3:1)100部を撹拌しながら添加し水
溶液とした。そして、上記窒素導入管を通して窒素ガス
を導入し、反応容器内を窒素ガス雰囲気下にするととも
に、水溶液中の溶存酸素を排除した。その後、水溶液を
80℃まで昇温した。この水溶液に、スチレン90部、
アクリル酸ブチル10部、過硫酸カリウム水溶液(濃
度:1重量%)100部を滴下し、窒素ガス還流下、8
0℃で重合反応を行い、目的とする導電性粒子体(エマ
ルジョン形態)Aを得た。
ート、窒素導入管を備えた反応容器に、水700部を入
れ、これに、スチレンスルホン酸とマレイン酸との共重
合体ナトリウム塩(重合モル比、スチレンスルホン酸:
マレイン酸=3:1)100部を撹拌しながら添加し水
溶液とした。そして、上記窒素導入管を通して窒素ガス
を導入し、反応容器内を窒素ガス雰囲気下にするととも
に、水溶液中の溶存酸素を排除した。その後、水溶液を
80℃まで昇温した。この水溶液に、スチレン90部、
アクリル酸ブチル10部、過硫酸カリウム水溶液(濃
度:1重量%)100部を滴下し、窒素ガス還流下、8
0℃で重合反応を行い、目的とする導電性粒子体(エマ
ルジョン形態)Aを得た。
【0137】〈導電性粒子体Bの合成〉粒子本体の形成
材料である単量体として、スチレン90部及びメタクリ
ル酸グリシジル10部を用いた。この他は、粒子体Aと
同様にして、目的とする導電性粒子体Bを得た。
材料である単量体として、スチレン90部及びメタクリ
ル酸グリシジル10部を用いた。この他は、粒子体Aと
同様にして、目的とする導電性粒子体Bを得た。
【0138】〈導電性粒子体Cの合成〉水溶性高分子と
して、スルホン酸基とカルボキシル基とのモル比が、ス
ルホン酸基:カルボキシル基=33:67のもの(スチ
レンスルホン酸/マレイン酸共重合体ナトリウム塩)を
使用した。この他は、粒子体Aと同様にして、目的とす
る導電性粒子体Cを得た。
して、スルホン酸基とカルボキシル基とのモル比が、ス
ルホン酸基:カルボキシル基=33:67のもの(スチ
レンスルホン酸/マレイン酸共重合体ナトリウム塩)を
使用した。この他は、粒子体Aと同様にして、目的とす
る導電性粒子体Cを得た。
【0139】〈比較用ラテックスDの合成〉水40リッ
トルに名糖産業製KMDS(デキストラン硫酸エステル
ナトリウム塩)0.25kg及び過硫酸アンモニウム
0.05kgを加えた液に、液温81℃で攪拌しつつ窒
素雰囲気下で、n−ブチルアクリレート4.51kg、
スチレン5.49kg及びアクリル酸0.1kgの混合
液を1時間かけて添加、その後過硫酸アンモニウムを
0.005kg加え、更に1.5時間攪拌後、冷却し、
アンモニア水を用いてpHを6に調製した。
トルに名糖産業製KMDS(デキストラン硫酸エステル
ナトリウム塩)0.25kg及び過硫酸アンモニウム
0.05kgを加えた液に、液温81℃で攪拌しつつ窒
素雰囲気下で、n−ブチルアクリレート4.51kg、
スチレン5.49kg及びアクリル酸0.1kgの混合
液を1時間かけて添加、その後過硫酸アンモニウムを
0.005kg加え、更に1.5時間攪拌後、冷却し、
アンモニア水を用いてpHを6に調製した。
【0140】得られたラテックス液をWhotman社
製GF/Dフィルターで濾別し、水で50.5kgに仕
上げ、平均粒径250nmの単分散なラテックス(D)
を作製した。
製GF/Dフィルターで濾別し、水で50.5kgに仕
上げ、平均粒径250nmの単分散なラテックス(D)
を作製した。
【0141】以下に、乳剤の調製方法を示す。
【0142】(Em−1の調製)以下に示す3種の溶液
を用い、平板状沃塩化銀乳剤Em−1を調製した。
を用い、平板状沃塩化銀乳剤Em−1を調製した。
【0143】 A1 低メチオニンゼラチン 214.37g 塩化ナトリウム 1.995g 沃化カリウム 149.6mg 水で 6090mlに仕上げる B1 塩化ナトリウム 10.48g 沃化カリウム 149.4g 水で 90mlに仕上げる C1 硝酸銀 30.58g 水で 90mlに仕上げる D1 塩化ナトリウム 165.0g 水で 5640mlに仕上げる E1 硝酸銀 479.0g 水で 5640mlに仕上げる 反応容器内で溶液A1を40℃に保ちながら激しく撹拌
し、そこに溶液B1と溶液C1の全量を毎分180ml
の流量で30秒かけて同時混合法にて添加した。次に、
この混合溶液を40℃で10分間保った後、溶液D1と
溶液E1を毎分24mlの流量で40分かけて同時混合
法にて添加し、引き続き、更に溶液D1と溶液E1の残
り全量を初期流量24ml、最終流量48mlとなるよ
うに直線的に流量を増やしながら、130分かけて同時
添加法にて添加した。この間、pClは2.35に終始
保った。その後、塩化ナトリウムで1.30に調整し、
限外濾過膜を用いてpClを2.0とし、更に塩化ナト
リウムを添加してpClを1.65に調整した。
し、そこに溶液B1と溶液C1の全量を毎分180ml
の流量で30秒かけて同時混合法にて添加した。次に、
この混合溶液を40℃で10分間保った後、溶液D1と
溶液E1を毎分24mlの流量で40分かけて同時混合
法にて添加し、引き続き、更に溶液D1と溶液E1の残
り全量を初期流量24ml、最終流量48mlとなるよ
うに直線的に流量を増やしながら、130分かけて同時
添加法にて添加した。この間、pClは2.35に終始
保った。その後、塩化ナトリウムで1.30に調整し、
限外濾過膜を用いてpClを2.0とし、更に塩化ナト
リウムを添加してpClを1.65に調整した。
【0144】得られたハロゲン化銀乳剤は沃度を0.0
6モル%含有しており、電子顕微鏡観察したところ平均
粒径(円直径換算)1.45μm、平均厚さ0.13μ
m、平均アスペクト比11、直径の変動係数18.5%
の主平面が四角形状(隣接辺比1.4)の単分散平板状
ハロゲン化銀粒子であった。
6モル%含有しており、電子顕微鏡観察したところ平均
粒径(円直径換算)1.45μm、平均厚さ0.13μ
m、平均アスペクト比11、直径の変動係数18.5%
の主平面が四角形状(隣接辺比1.4)の単分散平板状
ハロゲン化銀粒子であった。
【0145】引き続き、上記の乳剤Em−1を55℃に
した後に、下記の分光増感色素(A)、(B)の所定量
を固体微粒子状の分散物として添加後にチオシアン酸ア
ンモニウム、塩化金酸水溶液、下に示す硫黄増感剤の水
溶液或いはメタノール溶液及びトリフェニルホスフィン
セレナイドの固体微粒子状分散物を加え、総計2時間の
熟成を施した。熟成終了時に安定剤として4−ヒドロキ
シ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
(TAI)を添加した。
した後に、下記の分光増感色素(A)、(B)の所定量
を固体微粒子状の分散物として添加後にチオシアン酸ア
ンモニウム、塩化金酸水溶液、下に示す硫黄増感剤の水
溶液或いはメタノール溶液及びトリフェニルホスフィン
セレナイドの固体微粒子状分散物を加え、総計2時間の
熟成を施した。熟成終了時に安定剤として4−ヒドロキ
シ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
(TAI)を添加した。
【0146】尚、添加剤とその添加量(AgX1モル当
たり)を下に示す。
たり)を下に示す。
【0147】 分光増感色素(A) 300mg 分光増感色素(B) 375mg チオシアン酸アンモニウム 145mg 塩化金酸 18.5mg チオ硫酸ナトリウム(5水塩) 15.0mg 1−エチル,3−(2−チアゾリル)チオ尿素 3.8mg 単体硫黄 3.5mg トリフェニルホスフィンセレナイド 3.0mg 安定剤(TAI) 1000mg 分光増感色素の固体微粒子状分散物は特願平4−994
37号に記載の方法に準じた方法によって調製した。即
ち分光増感色素の所定量を予め27℃に調温した水に加
え高速撹拌機(ディゾルバー)で3,500rpmにて
30〜120分間にわたって撹拌することによって得
た。
37号に記載の方法に準じた方法によって調製した。即
ち分光増感色素の所定量を予め27℃に調温した水に加
え高速撹拌機(ディゾルバー)で3,500rpmにて
30〜120分間にわたって撹拌することによって得
た。
【0148】増感色素(A):5,5′−ジクロロ−9
−エチル−3,3′−ジ−(スルホプロピル)オキサカ
ルボ シアニン−ナトリウム塩 無水物 増感色素(B):5,5′−ジ−(ブトキシカルボニ
ル)−1,1′−ジエチル−3,3′−ジ−(4−スル
ホブチル)ベンゾイミダゾロカルボシアニン−ナトリウ
ム塩無水物 以下の塗布液を、グリシジメタクリレート50wt%、
メチルアクリレート10wt%、ブチルメタクリレート
40wt%の3種モノマーからなる共重合体の濃度が1
0wt%になるように希釈して得た共重合体水性分散液
を下引き液として下引き処理された、ブルー濃度0.1
5に着色した厚さ175μのポリエチレンテレフタレー
ト支持体の両面に下から横断光遮光層、乳剤層、乳剤保
護層の順に毎分150mのスピードで両面同時重層塗
布、乾燥した。
−エチル−3,3′−ジ−(スルホプロピル)オキサカ
ルボ シアニン−ナトリウム塩 無水物 増感色素(B):5,5′−ジ−(ブトキシカルボニ
ル)−1,1′−ジエチル−3,3′−ジ−(4−スル
ホブチル)ベンゾイミダゾロカルボシアニン−ナトリウ
ム塩無水物 以下の塗布液を、グリシジメタクリレート50wt%、
メチルアクリレート10wt%、ブチルメタクリレート
40wt%の3種モノマーからなる共重合体の濃度が1
0wt%になるように希釈して得た共重合体水性分散液
を下引き液として下引き処理された、ブルー濃度0.1
5に着色した厚さ175μのポリエチレンテレフタレー
ト支持体の両面に下から横断光遮光層、乳剤層、乳剤保
護層の順に毎分150mのスピードで両面同時重層塗
布、乾燥した。
【0149】 (試料の作成) 第1層(横断光遮光層) 固体微粒子分散体染料(AH) 50mg/m2 ゼラチン 0.1g/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 5mg/m2 化合物(I) 5mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5− トリアジンンナトリウム塩 5mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.014μm) 10mg/m2 ラテックス(L) 0.2g/m2 ポリスチレンスルホン酸カリウム 50mg/m2 第2層(乳剤層) 上記で得た各々の乳剤に下記の各種添加剤を加えた。
【0150】 テトラクロロパラジウム(2)酸カリウム 100mg/m2 化合物(G) 0.5mg/m2 2,6−ビス(ヒドロキシアミノ)−4−ジエチルアミノ− 1,3,5−トリアジン 5mg/m2 t−ブチル−カテコール 130mg/m2 ポリビニルピロリドン(分子量10,000) 35mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 80mg/m2 トリメチロールプロパン 50mg/m2 ジエチレングリコール 50mg/m2 ニトロフェニル−トリフェニル−ホスホニウムクロリド 20mg/m2 1,3−ジヒドロキシベンゼン−4−スルホン酸アンモニウム 100mg/m2 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸ナトリウム 5mg/m2 化合物(H) 0.5mg/m2 n−C4H9OCH2CH(OH)CH2N(CH2COOH)2 35mg/m2 化合物(M) 5mg/m2 化合物(N) 5mg/m2 本発明の水溶性ポリマー 表1記載の量 本発明の疎水性ポリマー粒子 表1記載の量 コロイダルシリカ(平均粒径0.014μm) 表1記載の量 ただし、ゼラチン量は1.0g/m2になるように調整
した。
した。
【0151】 第3層(乳剤保護層) ゼラチン 0.4g/m2 4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン 50mg/m2 ポリメチルメタクリレート粒子(平均粒径4.0μm) 20mg/m2 ポリメチルメタクリレート粒子(平均粒径1.0μm) 50mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.014μm) 10mg/m2 ホルムアルデヒド 20mg/m2 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5− トリアジンンナトリウム塩 10mg/m2 ビス−ビニルスルホニルメチルエーテル 36mg/m2 ポリアクリルアミド(平均分子量10000) 50mg/m2 ポリシロキサン(SI) 20mg/m2 化合物(I) 12mg/m2 化合物(J) 2mg/m2 化合物(S−1) 7mg/m2 化合物(K) 15mg/m2 化合物(O) 50mg/m2 化合物(S−2) 5mg/m2 化合物(F−1) 3mg/m2 化合物(F−2) 2mg/m2 化合物(F−3) 1mg/m2
【0152】
【化13】
【0153】
【化14】
【0154】
【化15】
【0155】
【化16】
【0156】なお、素材の付量は片面分であり、塗布銀
量は片面分として1.0g/m2になるように調整し
た。
量は片面分として1.0g/m2になるように調整し
た。
【0157】(1)感度の評価 塗布乾燥した試料を23℃55%RHで3日間保存した
後、X線写真用増感紙KO−250ではさみ、ペネトロ
メータB型を介してX線照射後、ローラー搬送型自動現
像機(SRX−501:コニカ(株)製)を用い下記組
成の現像液、定着液にて処理を行った。
後、X線写真用増感紙KO−250ではさみ、ペネトロ
メータB型を介してX線照射後、ローラー搬送型自動現
像機(SRX−501:コニカ(株)製)を用い下記組
成の現像液、定着液にて処理を行った。
【0158】 処理条件 温度(℃) 時間(秒) 現像 35 14.0 定着 34 9.7 水洗 26 9.0 スクイズ 2.4 乾燥 55 8.3 合計(Dry To Dry) 43.4 (現像液処方) Part−A(12l仕上げ用) 水酸化カリウム 450g 亜硫酸カリウム(50%溶液) 2280g ジエチレンテトラアミン5酢酸 120g 重炭酸水素ナトリウム 132g 5−メチルベンゾトリアゾール 1.2g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.2g ハイドロキノン 340g 水を加えて 500mlに仕上げる Part−B(12l仕上げ用) 氷酢酸 170g トリエチレングリコール 185g 1−フェニル−3−ピラゾリドン 22g 5−ニトロインダゾール 0.4g (スターター) 氷酢酸 120g 臭化カリウム 225g 水を加えて 1.0lに仕上げる (定着液処方) Part−A(18l仕上げ用) チオ硫酸アンモニウム(70wt/vol%) 6000g 亜硫酸ナトリウム 110g 酢酸ナトリウム・3水塩 450g クエン酸ナトリウム 50g グルコン酸 70g 1−(N,N−ジメチルアミノ)−エチル−5−メルカプトテトラゾール 18g Part−B 硫酸アルミニウム 800g 現像液の調製は水約5lにPartA、PartBを同
時添加し、撹拌溶解しながら水を加え12lに仕上げ氷
酢酸でpHを10.40に調整した。これを現像補充液
とする。
時添加し、撹拌溶解しながら水を加え12lに仕上げ氷
酢酸でpHを10.40に調整した。これを現像補充液
とする。
【0159】この現像補充液1lに対して前記のスター
ターを20ml/l添加しpHを10.26に調整し使
用液とする。
ターを20ml/l添加しpHを10.26に調整し使
用液とする。
【0160】定着液の調製は水約5lにPartA、P
artBを同時添加し、撹拌溶解しながら水を加え18
lに仕上げ、硫酸とNaOHを用いてpHを4.4に調
整した。これを定着補充液とする。
artBを同時添加し、撹拌溶解しながら水を加え18
lに仕上げ、硫酸とNaOHを用いてpHを4.4に調
整した。これを定着補充液とする。
【0161】(1) 感度は試料1がカブリ+1.0の
濃度を与えるのに要した露光エネルギー量の逆数を10
0とした相対値で表した。
濃度を与えるのに要した露光エネルギー量の逆数を10
0とした相対値で表した。
【0162】(2) 耐圧性の評価 得られた試料を23℃相対湿度40%RH条件下で2時
間放置後、新東科学(株)製連続荷重引掻試験機(HE
IDON−18型)を用い、直径0.1mmのサファイ
ヤ針で0〜200gの連続荷重で試料の表面を摩擦後、
未露光のまま上記と同じ現像処理を行い、黒化濃度がカ
ブリ+0.1になる荷重を求めた。つまり、この値が大
きい程、耐圧性がよいことになる。
間放置後、新東科学(株)製連続荷重引掻試験機(HE
IDON−18型)を用い、直径0.1mmのサファイ
ヤ針で0〜200gの連続荷重で試料の表面を摩擦後、
未露光のまま上記と同じ現像処理を行い、黒化濃度がカ
ブリ+0.1になる荷重を求めた。つまり、この値が大
きい程、耐圧性がよいことになる。
【0163】(3) ヒビワレの評価 得られた試料を35mm×135mmサイズに切り出し
てから光を曝射して上記と同じ現像処理を行い、黒化試
料を作成した。これをシリカゲルのはいった容器に入れ
密閉し、絶乾状態(〜0%RH)で45℃7日間保存し
た。保存試料のヒビワレ(長さが1mm以上のもの)の
発生有無を評価した。なお、上記保存条件ではヒビワレ
が一本でも発生しないことが必要である。
てから光を曝射して上記と同じ現像処理を行い、黒化試
料を作成した。これをシリカゲルのはいった容器に入れ
密閉し、絶乾状態(〜0%RH)で45℃7日間保存し
た。保存試料のヒビワレ(長さが1mm以上のもの)の
発生有無を評価した。なお、上記保存条件ではヒビワレ
が一本でも発生しないことが必要である。
【0164】評価 ○:発生なし ×:発生 (4) アンチスタチック性の評価 未露光の各試料を25℃、25%RHで2時間調湿後、
同一空調条件の暗室中において試料の乳剤面側をネオプ
レンゴムローラーで摩擦した後、上記と同じ現像処理を
行い、スタチックマークの発生度を評価した。
同一空調条件の暗室中において試料の乳剤面側をネオプ
レンゴムローラーで摩擦した後、上記と同じ現像処理を
行い、スタチックマークの発生度を評価した。
【0165】 評価 A:スタチックマークの発生が全く認められない B:スタチックマークの発生が少し認められる C:スタチックマークの発生がかなり認められる D:スタチックマークの発生がほぼ全面に認められる 結果を表1に示す。
【0166】
【表1】
【0167】表1から明かなように本発明により、高感
度で優れた圧力耐性を有し、かつ、アンチスタチック性
に優れた、ヒビワレの無い感光材料が得られることがわ
かる。
度で優れた圧力耐性を有し、かつ、アンチスタチック性
に優れた、ヒビワレの無い感光材料が得られることがわ
かる。
【0168】実施例2 実施例1で作成した試料No.1〜14にX線露光を与
え、実施例1の現像液、定着液を使用して自動現像機は
実施例1で用いたSRX−501(コニカ(株)製)を
改造して搬送スピードを速めたものを用い、以下の条件
で各試料をランニング平衡に達するまで処理しランニン
グ平衡液1及びランニング平衡液2をつくった。
え、実施例1の現像液、定着液を使用して自動現像機は
実施例1で用いたSRX−501(コニカ(株)製)を
改造して搬送スピードを速めたものを用い、以下の条件
で各試料をランニング平衡に達するまで処理しランニン
グ平衡液1及びランニング平衡液2をつくった。
【0169】 処理条件 温度(℃) 時間(秒) 現像 38 7.0 定着 37 4.0 水洗 26 7.0 スクイズ 2.4 乾燥 58 4.0 合計(Dry To Dry) 24.4 補充条件 下記の3種のランニング平衡液1〜3を調製した。
【0170】4つ切りサイズ1枚(10×12インチ)
当たりの量(ml)を示す。括弧内の数字は試料1m2
当たりの量(ml/m2)を示す。
当たりの量(ml)を示す。括弧内の数字は試料1m2
当たりの量(ml/m2)を示す。
【0171】 ランニング平衡液 1 2 3 現像補充量 14.0 7.0 3.5 (180) (90) (45) 定着補充量 14.0 7.0 3.5 (180) (90) (45) 実施例1で作成した試料No.1〜12を上記のランニ
ング平衡液1(条件1)〜3(条件3)を用いて上記の
条件で処理し、感度及びローラーマークの評価を行っ
た。ローラーマークの評価は下記方法で行った。
ング平衡液1(条件1)〜3(条件3)を用いて上記の
条件で処理し、感度及びローラーマークの評価を行っ
た。ローラーマークの評価は下記方法で行った。
【0172】ローラーマークの評価 試料を10×12インチのサイズで黒化濃度が1.0に
なるように一様露光したのち、上記の処理を行った。た
だし、この時使用した現像ラック、現像から定着への渡
りラックは故意に疲労させたものを用いた。すなわち、
各ラックのローラーは疲労のため、約10μm程度の凹
凸が全面にできていた。処理後の試料にはこの凹凸に起
因する圧力のため、細かい斑点状の濃度ムラが耐圧性の
悪い試料には多数発生した。
なるように一様露光したのち、上記の処理を行った。た
だし、この時使用した現像ラック、現像から定着への渡
りラックは故意に疲労させたものを用いた。すなわち、
各ラックのローラーは疲労のため、約10μm程度の凹
凸が全面にできていた。処理後の試料にはこの凹凸に起
因する圧力のため、細かい斑点状の濃度ムラが耐圧性の
悪い試料には多数発生した。
【0173】このレベルを以下のランクによって目視評
価した。
価した。
【0174】5:斑点の発生なし 4:斑点がわずかに発生しているが実用上問題にならな
いレベル 3:斑点が少量発生しているが通常ラックでは発生しな
い許容限界レベル 2:斑点が発生しており、通常ラックでも時々発生する 1:斑点が多発si、通常ラックでも常に発生している 結果を表2に示す。
いレベル 3:斑点が少量発生しているが通常ラックでは発生しな
い許容限界レベル 2:斑点が発生しており、通常ラックでも時々発生する 1:斑点が多発si、通常ラックでも常に発生している 結果を表2に示す。
【0175】
【表2】
【0176】表2から明かなように本発明により、低補
充量での超迅速処理でも感度の低下が小さく、圧力特性
にすぐれた写真要素が得られることがわかる。
充量での超迅速処理でも感度の低下が小さく、圧力特性
にすぐれた写真要素が得られることがわかる。
【0177】
【発明の効果】本発明により、超迅速、低補充処理にお
いても耐圧力性に優れ、かつ、経時保存における膜のヒ
ビワレが全く生じず、アンチスタチック性に優れた感光
材料およびその処理方法を提供することができた。
いても耐圧力性に優れ、かつ、経時保存における膜のヒ
ビワレが全く生じず、アンチスタチック性に優れた感光
材料およびその処理方法を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】導電性粒子体の模式図
【図2】導電性粒子体の模式図(水溶性高分子体の割合
を多くした場合)
を多くした場合)
【図3】導電性粒子体の模式図(水溶性高分子体の割合
を多くした場合)
を多くした場合)
1 導電性粒子体 2 粒子本体 3 水溶性高分子体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03C 5/31 G03C 5/31
Claims (5)
- 【請求項1】 ハロゲン化銀乳剤層中にコロイド状シリ
カおよび分子構造中にスルホン酸基とカルボキシル基を
有する水溶性高分子体によって保護コロイド化された疎
水性ポリマー粒子による導電性粒子体を含有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項2】 ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1層に
数平均分子量2万以下の水溶性ポリマーを含有すること
を特徴とする請求項1記載のハロゲン化銀写真感光材
料。 - 【請求項3】 上記水溶性ポリマーがデキストリン、分
岐シクロデキストリン及び/又はシクロデキストリンポ
リマーであることを特徴とする請求項1又は2に記載の
ハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項4】 上記水溶性ポリマーがデキストリンであ
ることを特徴とする請求項1、2又は3に記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。 - 【請求項5】 前記請求項1〜4のいずれか1項に記載
のハロゲン化銀写真感光材料を、該ハロゲン化銀写真感
光材料1m2当たり35〜130mlの処理補充液で、
全処理時間が10〜30秒である自動現像機で処理する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7655596A JPH09269560A (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7655596A JPH09269560A (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09269560A true JPH09269560A (ja) | 1997-10-14 |
Family
ID=13608511
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7655596A Pending JPH09269560A (ja) | 1996-03-29 | 1996-03-29 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09269560A (ja) |
-
1996
- 1996-03-29 JP JP7655596A patent/JPH09269560A/ja active Pending
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