JPH09246305A - 絶縁型半導体装置の製造方法 - Google Patents
絶縁型半導体装置の製造方法Info
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 52
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 55
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 55
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims description 19
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 15
- 239000011295 pitch Substances 0.000 claims description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 12
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】
【課題】半導体装置の外形に対しアウターリード部が樹
脂封入後所定位置になるようダイボンディング前にフラ
ットフープフレームをリード成形し樹脂封入後、片側キ
ャビティーのみ封入を行ない品質の向上及び生産性の向
上を図る。 【解決手段】フレーム供給装置4より供給されたフラッ
トフープフレーム1のインナーリード部3のリード成形
を行なうリード成形装置6をフレーム供給装置4とダイ
ボンディング装置5間に取付け半導体ペレット11をダ
イボンディングを行なう前にインナーリード部3のリー
ド成形を行なった後ダイボンディング及びワイヤボンデ
ィングを行ない樹脂封入装置13にて下金型キャビティ
ー16片側のみ樹脂封入を行なう。
脂封入後所定位置になるようダイボンディング前にフラ
ットフープフレームをリード成形し樹脂封入後、片側キ
ャビティーのみ封入を行ない品質の向上及び生産性の向
上を図る。 【解決手段】フレーム供給装置4より供給されたフラッ
トフープフレーム1のインナーリード部3のリード成形
を行なうリード成形装置6をフレーム供給装置4とダイ
ボンディング装置5間に取付け半導体ペレット11をダ
イボンディングを行なう前にインナーリード部3のリー
ド成形を行なった後ダイボンディング及びワイヤボンデ
ィングを行ない樹脂封入装置13にて下金型キャビティ
ー16片側のみ樹脂封入を行なう。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、絶縁型半導体装置
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図12を参照して、従来の絶縁型半導体
装置の製造方法においては、フレーム供給装置より供給
されたフラットフープフレーム1(工程A参照)は、ダ
イボンディング装置に供給され、ダイボンディング装置
では、供給されたフラットフープフレーム1のインナー
リード部3のアイランド10上に半導体ペレット11の
ダイボンディングを行ない(工程B参照)、このフラッ
トフープフレーム1をバッファーを介し、ワイヤボンデ
ィング装置に供給される。
装置の製造方法においては、フレーム供給装置より供給
されたフラットフープフレーム1(工程A参照)は、ダ
イボンディング装置に供給され、ダイボンディング装置
では、供給されたフラットフープフレーム1のインナー
リード部3のアイランド10上に半導体ペレット11の
ダイボンディングを行ない(工程B参照)、このフラッ
トフープフレーム1をバッファーを介し、ワイヤボンデ
ィング装置に供給される。
【0003】ワイヤボンディング装置では、供給された
フラットフープフレーム1は、半導体ペレット11のパ
ッド(不図示)とインナーリード部3とをワイヤ18に
てボンディングし(工程C参照)、バッファーを介し、
樹脂封入装置に供給する。
フラットフープフレーム1は、半導体ペレット11のパ
ッド(不図示)とインナーリード部3とをワイヤ18に
てボンディングし(工程C参照)、バッファーを介し、
樹脂封入装置に供給する。
【0004】樹脂封入装置に供給されたフラットフープ
フレーム1は、図13に示すように、上金型14と下金
型15とで挟み込加圧した後、上金型キャビティー24
と下金型キャビティー16を上下に樹脂封入を行なった
(工程D参照)後、フレーム巻き取り機に収納する。フ
レーム巻き取り機に巻き取られたフラットフープフレー
ムは半田メッキ装置により半田メッキされた後、図12
の工程E以降において、複合装置(リードカット装置、
リード成形装置、選別装置、捺印装置、及びテーピング
装置から成る)に供給され、所定量の出荷リールに巻き
取られる。
フレーム1は、図13に示すように、上金型14と下金
型15とで挟み込加圧した後、上金型キャビティー24
と下金型キャビティー16を上下に樹脂封入を行なった
(工程D参照)後、フレーム巻き取り機に収納する。フ
レーム巻き取り機に巻き取られたフラットフープフレー
ムは半田メッキ装置により半田メッキされた後、図12
の工程E以降において、複合装置(リードカット装置、
リード成形装置、選別装置、捺印装置、及びテーピング
装置から成る)に供給され、所定量の出荷リールに巻き
取られる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この従来の半導体装置
の製造方法においては、フレーム供給装置より供給され
たフラットフープフレームをダイボンディング装置によ
り、フラットインナーリード部のアイランド上に半導体
ペレットをダイボンディングした後、ワイヤボンディン
グ装置により半導体ペレットのパットとインナーリード
部をワイヤボンディングし、樹脂封入装置により上下金
型キャビティー24、16(図13参照)に樹脂封入を
行なった後、半田メッキ装置に供給し半田メッキを行な
い、複合装置に供給される、という工程を経て製造され
ることから、樹脂封入時の上下金型キャビティー位置ズ
レ(上下キャップズレ)が発生すると、複合装置におい
ては、半導体装置の外形にて位置決めをして、各種の加
工を行うため、リードカット時のアウターリード17の
左右の長さのバラツキが発生し、リード成形時のアウタ
ーリード17(アウターリードについては図14参照)
の高さ位置、リード幅寸法、フラット面長さが所定の寸
法とならないという事態が生じる。
の製造方法においては、フレーム供給装置より供給され
たフラットフープフレームをダイボンディング装置によ
り、フラットインナーリード部のアイランド上に半導体
ペレットをダイボンディングした後、ワイヤボンディン
グ装置により半導体ペレットのパットとインナーリード
部をワイヤボンディングし、樹脂封入装置により上下金
型キャビティー24、16(図13参照)に樹脂封入を
行なった後、半田メッキ装置に供給し半田メッキを行な
い、複合装置に供給される、という工程を経て製造され
ることから、樹脂封入時の上下金型キャビティー位置ズ
レ(上下キャップズレ)が発生すると、複合装置におい
ては、半導体装置の外形にて位置決めをして、各種の加
工を行うため、リードカット時のアウターリード17の
左右の長さのバラツキが発生し、リード成形時のアウタ
ーリード17(アウターリードについては図14参照)
の高さ位置、リード幅寸法、フラット面長さが所定の寸
法とならないという事態が生じる。
【0006】また、半田クズが発生し、位置決めステー
ジ及び位置決めクランパーに付着して、位置決め不良が
発生するという問題もある。
ジ及び位置決めクランパーに付着して、位置決め不良が
発生するという問題もある。
【0007】更に、選別時、フラット面長さのバラツ
キ、位置決め不良等による測定不良も発生するという問
題点があった。
キ、位置決め不良等による測定不良も発生するという問
題点があった。
【0008】フラットフープフレーム加工は、プレス抜
きにて加工を行なっているが、加工時、インナーリード
部をリード成形すると、供給リールに巻取った時に、リ
ード変形等をおこす。
きにて加工を行なっているが、加工時、インナーリード
部をリード成形すると、供給リールに巻取った時に、リ
ード変形等をおこす。
【0009】また、リール巻き径の増大を行なう際に、
作業性が悪くなり、作業出来ないという問題点もあっ
た。
作業性が悪くなり、作業出来ないという問題点もあっ
た。
【0010】従って、本発明は、上記従来技術の問題点
を解消すべく為されたものであって、半導体装置の外形
に対しアウターリード部が樹脂封入後において所定位置
となるようダイボンディング前にフラットフープフレー
ムをリード成形し、樹脂封入時の上下金型キャビティー
位置ズレ(上下キャップズレ)の発生を回避して品質及
び生産性の向上を図る製造方法を提供することにある。
を解消すべく為されたものであって、半導体装置の外形
に対しアウターリード部が樹脂封入後において所定位置
となるようダイボンディング前にフラットフープフレー
ムをリード成形し、樹脂封入時の上下金型キャビティー
位置ズレ(上下キャップズレ)の発生を回避して品質及
び生産性の向上を図る製造方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、フレーム供給装置より供給されたフラッ
トフープフレームのインナーリード部のリード成形を、
半導体ペレットをダイボンディングする工程の前に行な
い、ダイボンディング工程及びワイヤボンディング工程
の後の樹脂封入工程において、上金型キャビティー又は
下金型キャビティーの一側にのみ樹脂封入を行なう、こ
とを特徴とする絶縁型半導体装置の製造方法を提供す
る。
め、本発明は、フレーム供給装置より供給されたフラッ
トフープフレームのインナーリード部のリード成形を、
半導体ペレットをダイボンディングする工程の前に行な
い、ダイボンディング工程及びワイヤボンディング工程
の後の樹脂封入工程において、上金型キャビティー又は
下金型キャビティーの一側にのみ樹脂封入を行なう、こ
とを特徴とする絶縁型半導体装置の製造方法を提供す
る。
【0012】また本発明においては、好ましくは、前記
フラットフープフレームは、そのインナーリード部が樹
脂封入センターの位置よりも所定の長さ分さらに延在さ
れていることを特徴とする。
フラットフープフレームは、そのインナーリード部が樹
脂封入センターの位置よりも所定の長さ分さらに延在さ
れていることを特徴とする。
【0013】本発明によれば、フレーム供給装置より供
給された複数列から成るフラットフープフレームのアウ
ターリード部が樹脂封入後の半導体装置の外形に対して
所定位置となるように、前記フラットフープフレームの
インナーリード部を樹脂封入センターの位置よりも長く
し、半導体ペレットをダイボンディングする前に、前記
リード成形装置により、前記フラットフープフレームの
インナーリード部を複数列、複数ピッチで同時に成形を
行ない、ダイボンディング及びワイヤボンディングを行
なった後に、樹脂封入装置により前記フラットフープフ
レームのアウターリード部が、前記樹脂封入後の半導体
装置の外形に対し所定の位置となるように、片側キャビ
ティーのみに樹脂封入を行なうようにしたことにより、
樹脂封入時の上下金型キャビティー位置ズレ(上下キャ
ップズレ)の発生を抑止したものである。また、本発明
によれば、複合装置でのリード成形処理が不要となり、
リード成形時の、アウターリードの寸法不良、リード成
形時のアウターリードと樹脂部付け根の隙間、半田クズ
の発生、選別時アウターリードフット部が長くなり、測
定不良等が発生しないため、品質の向上と共に、生産性
及び保守性の向上が図られる。
給された複数列から成るフラットフープフレームのアウ
ターリード部が樹脂封入後の半導体装置の外形に対して
所定位置となるように、前記フラットフープフレームの
インナーリード部を樹脂封入センターの位置よりも長く
し、半導体ペレットをダイボンディングする前に、前記
リード成形装置により、前記フラットフープフレームの
インナーリード部を複数列、複数ピッチで同時に成形を
行ない、ダイボンディング及びワイヤボンディングを行
なった後に、樹脂封入装置により前記フラットフープフ
レームのアウターリード部が、前記樹脂封入後の半導体
装置の外形に対し所定の位置となるように、片側キャビ
ティーのみに樹脂封入を行なうようにしたことにより、
樹脂封入時の上下金型キャビティー位置ズレ(上下キャ
ップズレ)の発生を抑止したものである。また、本発明
によれば、複合装置でのリード成形処理が不要となり、
リード成形時の、アウターリードの寸法不良、リード成
形時のアウターリードと樹脂部付け根の隙間、半田クズ
の発生、選別時アウターリードフット部が長くなり、測
定不良等が発生しないため、品質の向上と共に、生産性
及び保守性の向上が図られる。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について図面
を参照して以下に説明する。図1は、本発明の実施の形
態におけるフラットフープフレームを平面図にて示した
ものである。図2は、本発明に係る製造方法を工程順に
説明するための図である。
を参照して以下に説明する。図1は、本発明の実施の形
態におけるフラットフープフレームを平面図にて示した
ものである。図2は、本発明に係る製造方法を工程順に
説明するための図である。
【0015】図1を参照して、フレーム供給装置より供
給される複数列から成るフラットフープフレーム1は、
樹脂封入工程後において、アウターリード部が半導体装
置の外形に対して所定位置となるように、インナーリー
ド部を、半導体ペレット厚、及びボンディングワイヤ高
さを考慮したリード成形量で、樹脂封入センター2の位
置よりもさらに延在させたものとしている。
給される複数列から成るフラットフープフレーム1は、
樹脂封入工程後において、アウターリード部が半導体装
置の外形に対して所定位置となるように、インナーリー
ド部を、半導体ペレット厚、及びボンディングワイヤ高
さを考慮したリード成形量で、樹脂封入センター2の位
置よりもさらに延在させたものとしている。
【0016】このフラットフープフレーム1を、フレー
ム供給装置又はダイボンディング装置に取り付けたリー
ド成形装置により、半導体ペレットをダイボンディング
する工程の前に、フラットフープフレーム1のインナー
リード部3を複数列(縦方向)、複数ピッチ(横方向)
で同時に成形を行なう(図2の工程B参照)。なお、リ
ード成形工程をダイボンディング工程の前に行うように
すれば、リード成形装置は単体機として設置してもよい
ことは勿論である。
ム供給装置又はダイボンディング装置に取り付けたリー
ド成形装置により、半導体ペレットをダイボンディング
する工程の前に、フラットフープフレーム1のインナー
リード部3を複数列(縦方向)、複数ピッチ(横方向)
で同時に成形を行なう(図2の工程B参照)。なお、リ
ード成形工程をダイボンディング工程の前に行うように
すれば、リード成形装置は単体機として設置してもよい
ことは勿論である。
【0017】半導体ペレットのアイランド10へのダイ
ボンディング(図2の工程C参照)、及びワイヤボンデ
ィング(図2の工程D参照)を行なった後、樹脂封入装
置によりフラットフープフレームのアウターリード部
が、樹脂封入後の半導体装置の外形に対し所定の位置と
なるように、上下金型キャビティーの片側キャビティー
のみに、樹脂封入をする(図2の工程E参照)。そし
て、樹脂封入後リードカット装置にてアウターリード部
17がカットされる(図2の工程F参照)。
ボンディング(図2の工程C参照)、及びワイヤボンデ
ィング(図2の工程D参照)を行なった後、樹脂封入装
置によりフラットフープフレームのアウターリード部
が、樹脂封入後の半導体装置の外形に対し所定の位置と
なるように、上下金型キャビティーの片側キャビティー
のみに、樹脂封入をする(図2の工程E参照)。そし
て、樹脂封入後リードカット装置にてアウターリード部
17がカットされる(図2の工程F参照)。
【0018】
【実施例】本発明の実施の形態をより詳細に説明すべく
本発明の実施例を図面を参照して以下に説明する。
本発明の実施例を図面を参照して以下に説明する。
【0019】図1に示すように、フラットフープフレー
ム1は、リード成形量を考慮し、樹脂封入センター2の
位置よりもインナーリード部3がさらに延在されてい
る。すなわち、図4(A)に、フラットフープフレーム
1のリード部の詳細として示したように、インナーリー
ド部3及びアイランド部10は、リード成形時におけ
る、半導体ペレット厚、及びボンディングワイヤ高さに
考慮したリード成形量に対応して、樹脂封入センター2
を超えた位置となるように延在されている。
ム1は、リード成形量を考慮し、樹脂封入センター2の
位置よりもインナーリード部3がさらに延在されてい
る。すなわち、図4(A)に、フラットフープフレーム
1のリード部の詳細として示したように、インナーリー
ド部3及びアイランド部10は、リード成形時におけ
る、半導体ペレット厚、及びボンディングワイヤ高さに
考慮したリード成形量に対応して、樹脂封入センター2
を超えた位置となるように延在されている。
【0020】図2は、本発明に係る製造方法を工程順に
説明するための図である。また、図6は、フレーム供給
装置、リード成形装置、及びダイボンディング装置の各
工程の詳細を示す図である。
説明するための図である。また、図6は、フレーム供給
装置、リード成形装置、及びダイボンディング装置の各
工程の詳細を示す図である。
【0021】図6を参照して、このフラットフープフレ
ーム1は、フレーム供給装置4よりダイボンディング装
置5部に取付けたリード成形装置6に供給される。
ーム1は、フレーム供給装置4よりダイボンディング装
置5部に取付けたリード成形装置6に供給される。
【0022】リード成形装置6に供給されたフラットフ
ープフレーム1は、図7にリード成形の様子として示す
ように、リード成形パンチ7及びダイ8にて複数列、複
数ピッチ同時に各インナーリード部3をL字型に下側に
リード成形を行ない、その後、バッファー9を介しダイ
ボンディング装置5に供給される。なお、図7(A)
は、リード成形装置6におけるインナーリード成形の様
子を示す平面図、図7(B)は、図7(A)のB−B′
線の断面図である。また図4(B)は、リード成形装置
6にて、インナーリード部3をL字型に下側にリード成
形を行なった状態を示したものである。
ープフレーム1は、図7にリード成形の様子として示す
ように、リード成形パンチ7及びダイ8にて複数列、複
数ピッチ同時に各インナーリード部3をL字型に下側に
リード成形を行ない、その後、バッファー9を介しダイ
ボンディング装置5に供給される。なお、図7(A)
は、リード成形装置6におけるインナーリード成形の様
子を示す平面図、図7(B)は、図7(A)のB−B′
線の断面図である。また図4(B)は、リード成形装置
6にて、インナーリード部3をL字型に下側にリード成
形を行なった状態を示したものである。
【0023】ダイボンディング装置5においては、供給
されたフラットフープフレーム1のインナーリード部3
のアイランド10上に半導体ペレット11のダイボンデ
ィングを行ない(図2の工程C参照)、ダイボンディン
グ終了後、フラットフープフレーム1は、バッファーを
介しワイヤボンディング装置に供給される。
されたフラットフープフレーム1のインナーリード部3
のアイランド10上に半導体ペレット11のダイボンデ
ィングを行ない(図2の工程C参照)、ダイボンディン
グ終了後、フラットフープフレーム1は、バッファーを
介しワイヤボンディング装置に供給される。
【0024】ワイヤボンディング装置に供給されたフラ
ットフープフレーム1は、半導体ペレット11のパッド
とインナーリード部3とをワイヤ18にてボンディング
を行ない(図2の工程E及び図8(A)参照)、ワイヤ
ボンディング終了後、フラットフープフレーム1は、バ
ッファーを介し樹脂封入装置に供給される。
ットフープフレーム1は、半導体ペレット11のパッド
とインナーリード部3とをワイヤ18にてボンディング
を行ない(図2の工程E及び図8(A)参照)、ワイヤ
ボンディング終了後、フラットフープフレーム1は、バ
ッファーを介し樹脂封入装置に供給される。
【0025】樹脂封入装置に供給されたフラットフープ
フレーム1は、図8(B)に示すように、上金型14と
下金型15とで挟み込み加圧した後、下金型キャビティ
ー16片側にのみ樹脂封入を行ない、その後フレーム巻
き取り機に収納する。図3(A)に樹脂封入後の半導体
装置及びアウターリードの様子を示す平面図、及び図3
(B)に図3(A)のA−A′線の断面を示す。図3に
示すように、樹脂封入された半導体装置において、アウ
ターリード部17は半導体装置の一端面にて曲折し該端
面に沿って外側方向(図中左右)に延在されている。
フレーム1は、図8(B)に示すように、上金型14と
下金型15とで挟み込み加圧した後、下金型キャビティ
ー16片側にのみ樹脂封入を行ない、その後フレーム巻
き取り機に収納する。図3(A)に樹脂封入後の半導体
装置及びアウターリードの様子を示す平面図、及び図3
(B)に図3(A)のA−A′線の断面を示す。図3に
示すように、樹脂封入された半導体装置において、アウ
ターリード部17は半導体装置の一端面にて曲折し該端
面に沿って外側方向(図中左右)に延在されている。
【0026】フレーム巻き取り機に巻き取られたフラッ
トフープフレーム1は、半田メッキ装置により半田メッ
キを行ない、半田メッキ後、フラットフープフレーム1
は、リードカット装置、選別装置、捺印装置、テーピン
グ装置からなる複合装置(図2の工程F参照)に供給さ
れ、所定量の出荷リールに巻き取られる。なお、複合装
置において、アウターリード17はカットされ、図5に
示すように、半導体装置の20の下面からアウターリー
ド17(フット部)は下面に沿って所定量外側に突設さ
れた形状とされている。
トフープフレーム1は、半田メッキ装置により半田メッ
キを行ない、半田メッキ後、フラットフープフレーム1
は、リードカット装置、選別装置、捺印装置、テーピン
グ装置からなる複合装置(図2の工程F参照)に供給さ
れ、所定量の出荷リールに巻き取られる。なお、複合装
置において、アウターリード17はカットされ、図5に
示すように、半導体装置の20の下面からアウターリー
ド17(フット部)は下面に沿って所定量外側に突設さ
れた形状とされている。
【0027】図9(A)は、本発明の別の実施例のフラ
ットフレームリード部の詳細、図9(B)は、インナー
リード成形後のリード部の詳細を示す図である。また、
図9(C)は、比較例として、従来のフラットフレーム
リード部の詳細を示した図であり、図9(D)は従来の
フラットフレームインナーリード成形後のリード部詳細
を示した図である。また、図10は、実施例における樹
脂封入金型部の詳細を示す図である。
ットフレームリード部の詳細、図9(B)は、インナー
リード成形後のリード部の詳細を示す図である。また、
図9(C)は、比較例として、従来のフラットフレーム
リード部の詳細を示した図であり、図9(D)は従来の
フラットフレームインナーリード成形後のリード部詳細
を示した図である。また、図10は、実施例における樹
脂封入金型部の詳細を示す図である。
【0028】図9(A)を参照して、本実施例において
は、フラットフープフレーム1は、リード成形量を考慮
し、樹脂封入センター2の位置よりもインナーリード部
3が長く設けられている。
は、フラットフープフレーム1は、リード成形量を考慮
し、樹脂封入センター2の位置よりもインナーリード部
3が長く設けられている。
【0029】このフラットフープフレーム1は、リード
成形装置により複数列、複数ピッチ同時に各インナーリ
ード部3をL字型に上側にリード成形を行なう(図9
(B)参照)。
成形装置により複数列、複数ピッチ同時に各インナーリ
ード部3をL字型に上側にリード成形を行なう(図9
(B)参照)。
【0030】本実施例においては、ダイボンディング及
びワイヤボンディング工程の後の樹脂封入工程におい
て、図10(B)に示すように、樹脂封入金型の上金型
キャビティー24の片側のみ樹脂封入を行なう。このた
め、リード成形量、長さを最少にすることができる。
びワイヤボンディング工程の後の樹脂封入工程におい
て、図10(B)に示すように、樹脂封入金型の上金型
キャビティー24の片側のみ樹脂封入を行なう。このた
め、リード成形量、長さを最少にすることができる。
【0031】また、本実施例においては、ワイヤボンデ
ィング工程において、ワイヤ18を斜めにボンディング
することにより、従来のフラットフープフレーム1(図
9(C)参照)で、リード成形(図9(D)参照)を行
なうことのできるという利点を有する。
ィング工程において、ワイヤ18を斜めにボンディング
することにより、従来のフラットフープフレーム1(図
9(C)参照)で、リード成形(図9(D)参照)を行
なうことのできるという利点を有する。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、フレー
ム供給装置より供給された複数列から成るフラットフー
プフレームのアウターリード部が樹脂封入後の半導体装
置の外形に対して、所定位置となるように、フラットフ
ープフレームのインナーリード部をリード成形量を考慮
して樹脂封入センターよりも長くし、半導体ペレットを
ダイボンディングする前に、フラットフープフレームの
インナーリード部を複数列(縦方向)、複数ピッチ(横
方向)で同時に成形を行ない、ダイボンディング及びワ
イヤボンディングを行なった後、樹脂封入装置によりフ
ラットフープフレームのアウターリード部が、前記樹脂
封入後の半導体装置の外形に対し所定の位置となるよう
に片側キャビティーのみに、樹脂封入を行なうようにし
たことにより、樹脂封入時の上下金型キャビティー位置
ズレ(上下キャップズレ)の発生がなくなるという効果
を有する。
ム供給装置より供給された複数列から成るフラットフー
プフレームのアウターリード部が樹脂封入後の半導体装
置の外形に対して、所定位置となるように、フラットフ
ープフレームのインナーリード部をリード成形量を考慮
して樹脂封入センターよりも長くし、半導体ペレットを
ダイボンディングする前に、フラットフープフレームの
インナーリード部を複数列(縦方向)、複数ピッチ(横
方向)で同時に成形を行ない、ダイボンディング及びワ
イヤボンディングを行なった後、樹脂封入装置によりフ
ラットフープフレームのアウターリード部が、前記樹脂
封入後の半導体装置の外形に対し所定の位置となるよう
に片側キャビティーのみに、樹脂封入を行なうようにし
たことにより、樹脂封入時の上下金型キャビティー位置
ズレ(上下キャップズレ)の発生がなくなるという効果
を有する。
【0033】また、本発明によれば、複合装置でのリー
ド成形処理が不要となり、リード成形時の、アウターリ
ードの寸法不良、リード成形時のアウターリードと樹脂
部付け根の隙間、半田クズの発生、選別時アウターリー
ドフット部が長くなり、測定不良等が発生しないため、
品質の向上と共に、生産性及び保守性の向上が図られ
る。
ド成形処理が不要となり、リード成形時の、アウターリ
ードの寸法不良、リード成形時のアウターリードと樹脂
部付け根の隙間、半田クズの発生、選別時アウターリー
ドフット部が長くなり、測定不良等が発生しないため、
品質の向上と共に、生産性及び保守性の向上が図られ
る。
【0034】さらに、本発明によれば、樹脂封入装置に
おいて金型の片側キャビティー加工とし、複合装置での
リード成形装置が不要としたため、金型及び複合装置の
コスト低減を達成するという効果を有する。
おいて金型の片側キャビティー加工とし、複合装置での
リード成形装置が不要としたため、金型及び複合装置の
コスト低減を達成するという効果を有する。
【図1】本発明の一実施形態に係るフラットフープフレ
ームの平面図である。
ームの平面図である。
【図2】本発明の一実施形態を説明するための半導体装
置の製造方法の工程フロー図である。
置の製造方法の工程フロー図である。
【図3】本発明の一実施例における樹脂封入後の詳細を
示す図であり、(A)は半導体装置の平面図、(B)は
(A)のA−A′線の断面図である。
示す図であり、(A)は半導体装置の平面図、(B)は
(A)のA−A′線の断面図である。
【図4】本発明の一実施例のインナーリード成形の様子
を説明するための図であり、(A)はフラットフープフ
レームリード部詳細図、(B)はインナーリード成形後
のリード部詳細図である。
を説明するための図であり、(A)はフラットフープフ
レームリード部詳細図、(B)はインナーリード成形後
のリード部詳細図である。
【図5】本発明の一実施例における絶縁型半導体装置の
一側端面からみた図である。
一側端面からみた図である。
【図6】本発明の一実施例におけるフレーム供給装置、
リード成形装置、ダイボンディング装置の工程詳細図で
ある。
リード成形装置、ダイボンディング装置の工程詳細図で
ある。
【図7】本発明の一実施例におけるインナーリード成形
部の詳細図であり、(A)は平面図、(B)はB−B′
線の断面図である。
部の詳細図であり、(A)は平面図、(B)はB−B′
線の断面図である。
【図8】本発明の一実施例における樹脂封入金型部の詳
細図であり、(A)は平面図、(B)はB−B′線の断
面図である。
細図であり、(A)は平面図、(B)はB−B′線の断
面図である。
【図9】(A)は本発明の別の実施例のフラットフープ
フレームリード部の詳細図である。(B)は本発明の別
の実施例のインナーリード成形後のリード部詳細図であ
る。(C)は従来のフラットフープフレームリード部詳
細図である。(D)は従来のフラットフープフレームイ
ンナーリード成形後のリード部詳細図である。
フレームリード部の詳細図である。(B)は本発明の別
の実施例のインナーリード成形後のリード部詳細図であ
る。(C)は従来のフラットフープフレームリード部詳
細図である。(D)は従来のフラットフープフレームイ
ンナーリード成形後のリード部詳細図である。
【図10】本発明の別の実施例における樹脂封入金型部
の詳細図であり、(A)は平面図、(B)はB−B′線
の断面図である。
の詳細図であり、(A)は平面図、(B)はB−B′線
の断面図である。
【図11】従来のフラットフープフレーム平面図であ
る。
る。
【図12】従来の半導体装置の製造方法の工程フローを
示す図である。
示す図である。
【図13】従来の製造方法における樹脂封入金型の詳細
図である。
図である。
【図14】従来の製造方法による絶縁型半導体装置を一
側端面からみた図である。
側端面からみた図である。
1 フラットフープフレーム 2 樹脂封入センター 3 インナーリード部 4 フレーム供給装置 5 ダイボンディング装置 6 リード成形装置 7 パンチ 8 ダイ 9 バッファー 10 アイランド 11 半導体ペレット 12 ワイヤボンディング装置 13 樹脂封入装置 14 上金型 15 下金型 16 下金型キャビティー 17 アウターリード部 18 ワイヤ 19 リードカット装置 20 半導体装置 21 ダイボンディングヘッド 22 パッド 23 ゲート 24 上金型キャビティー 25 アウターリード成形装置
Claims (6)
- 【請求項1】絶縁型半導体装置の製造方法において、 フレーム供給装置より供給された複数列から成るフラッ
トフープフレームのアウターリード部が樹脂封入後の半
導体装置の外形に対して所定位置となるように、前記フ
ラットフープフレームのインナーリード部を樹脂封入セ
ンターの位置よりも長くし、 半導体ペレットをダイボンディングする前に、リード成
形装置により、前記フラットフープフレームのインナー
リード部を複数列、複数ピッチで同時に成形を行ない、 ダイボンディング及びワイヤボンディングを行なった後
に、 樹脂封入装置により前記フラットフープフレームのアウ
ターリード部が、前記樹脂封入後の半導体装置の外形に
対し所定の位置となるように、片側キャビティーのみに
樹脂封入を行なう、 ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 【請求項2】半導体ペレット厚、及びボンディングワイ
ヤ高さに考慮したリード成形量に対応して、前記樹脂封
入センターの位置よりも前記インナーリード部を長くし
たことを特徴とする請求項1記載の絶縁型半導体装置の
製造方法。 - 【請求項3】フレーム供給装置より供給されたフラット
フープフレームのインナーリード部のリード成形を、半
導体ペレットをダイボンディングする工程の前に行な
い、 ダイボンディング工程及びワイヤボンデング工程の後の
樹脂封入工程において、上金型キャビティー又は下金型
キャビティーの一側にのみ樹脂封入を行なう、 ことを特徴とする絶縁型半導体装置の製造方法。 - 【請求項4】前記フラットフープフレームは、そのイン
ナーリード部が樹脂封入センターの位置よりも所定の長
さ分さらに延在されてなることを特徴とする請求項3記
載の絶縁型半導体装置の製造方法。 - 【請求項5】前記インナーリード部を長手方向の所定の
位置において前記インナーリード部がアウターリード部
に対して下側又は上側に位置するようにL字型に加工す
ることを特徴とする請求項3記載の絶縁型半導体装置の
製造方法。 - 【請求項6】樹脂封入された半導体装置において、前記
アウターリード部が前記半導体装置の一側端面から該端
面に沿って外側に延在されてなることを特徴とする請求
項3記載の絶縁型半導体装置の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8080777A JP2828016B2 (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 絶縁型半導体装置の製造方法 |
US08/808,036 US5705431A (en) | 1996-03-08 | 1997-03-04 | Production method for insulated semiconductor device |
EP97103714A EP0794560A3 (en) | 1996-03-08 | 1997-03-06 | Production method for insulated semiconductor device |
KR1019970007861A KR100246694B1 (ko) | 1996-03-08 | 1997-03-08 | 절연형 반도체 디바이스의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8080777A JP2828016B2 (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 絶縁型半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09246305A true JPH09246305A (ja) | 1997-09-19 |
JP2828016B2 JP2828016B2 (ja) | 1998-11-25 |
Family
ID=13727878
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8080777A Expired - Fee Related JP2828016B2 (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 絶縁型半導体装置の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5705431A (ja) |
EP (1) | EP0794560A3 (ja) |
JP (1) | JP2828016B2 (ja) |
KR (1) | KR100246694B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013051324A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | リードフレーム、半導体装置及びその製造方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2781783B2 (ja) * | 1996-07-30 | 1998-07-30 | 山形日本電気株式会社 | 半導体装置用パッケージ |
JP3012816B2 (ja) * | 1996-10-22 | 2000-02-28 | 松下電子工業株式会社 | 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 |
EP1324386B1 (de) * | 2001-12-24 | 2011-06-15 | ABB Research Ltd. | Halbleitermodul und Verfahren zum Herstellen eines Halbleitermoduls |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1471243A (fr) * | 1966-01-19 | 1967-03-03 | Radiotechnique | Perfectionnements aux dispositifs semi-conducteurs enrobés dans un revêtement protecteur isolant moulé |
JPS5550648A (en) * | 1978-10-06 | 1980-04-12 | Mitsubishi Electric Corp | Resin sealing type semiconductor device |
DE3421539A1 (de) * | 1984-06-08 | 1985-12-19 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Halbleiterbauelement fuer smd-technik |
JPS6175553A (ja) * | 1984-09-21 | 1986-04-17 | Hitachi Tobu Semiconductor Ltd | 電子部品 |
JPS62298146A (ja) * | 1986-06-18 | 1987-12-25 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | 電子装置 |
US5202288A (en) * | 1990-06-01 | 1993-04-13 | Robert Bosch Gmbh | Method of manufacturing an electronic circuit component incorporating a heat sink |
US5172214A (en) * | 1991-02-06 | 1992-12-15 | Motorola, Inc. | Leadless semiconductor device and method for making the same |
EP0550013B1 (en) * | 1991-12-27 | 2000-07-26 | Fujitsu Limited | Semiconductor device and method of producing the same |
US5436492A (en) * | 1992-06-23 | 1995-07-25 | Sony Corporation | Charge-coupled device image sensor |
JP2747634B2 (ja) * | 1992-10-09 | 1998-05-06 | ローム株式会社 | 面実装型ダイオード |
US5327008A (en) * | 1993-03-22 | 1994-07-05 | Motorola Inc. | Semiconductor device having universal low-stress die support and method for making the same |
-
1996
- 1996-03-08 JP JP8080777A patent/JP2828016B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-03-04 US US08/808,036 patent/US5705431A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-03-06 EP EP97103714A patent/EP0794560A3/en not_active Withdrawn
- 1997-03-08 KR KR1019970007861A patent/KR100246694B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013051324A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | リードフレーム、半導体装置及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0794560A2 (en) | 1997-09-10 |
US5705431A (en) | 1998-01-06 |
KR100246694B1 (ko) | 2000-03-15 |
EP0794560A3 (en) | 1998-03-18 |
KR970067813A (ko) | 1997-10-13 |
JP2828016B2 (ja) | 1998-11-25 |
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