JPH09225301A - 燻蒸排ガス浄化用触媒および燻蒸排ガスの浄化方法 - Google Patents
燻蒸排ガス浄化用触媒および燻蒸排ガスの浄化方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 燻蒸排ガスを経済的に且つ高効率で浄化する
ことのできる燻蒸排ガス浄化用触媒、および該触媒を用
いた燻蒸排ガスの浄化方法を提供する。 【解決手段】 燻蒸排ガスを浄化するための触媒であっ
て、触媒Ａ成分として、Ｔｉ，ＳｉおよびＺｒよりなる
群から選ばれる少なくとも１種の金属の金属酸化物また
は２種以上の金属を含む複合酸化物、およびＢ成分とし
て、Ｖ，Ｃｕ，ＷおよびＣｒよりなる群から選ばれる１
種以上の金属を含む酸化物を含有してなり、且つ該触媒
の平均細孔径：０．０１０〜０．０７０μｍ，全細孔容
積：０．３０〜０．６０ｍｌ／ｇ、比表面積：５０〜２
００ｍ2 ／ｇである。
ことのできる燻蒸排ガス浄化用触媒、および該触媒を用
いた燻蒸排ガスの浄化方法を提供する。 【解決手段】 燻蒸排ガスを浄化するための触媒であっ
て、触媒Ａ成分として、Ｔｉ，ＳｉおよびＺｒよりなる
群から選ばれる少なくとも１種の金属の金属酸化物また
は２種以上の金属を含む複合酸化物、およびＢ成分とし
て、Ｖ，Ｃｕ，ＷおよびＣｒよりなる群から選ばれる１
種以上の金属を含む酸化物を含有してなり、且つ該触媒
の平均細孔径：０．０１０〜０．０７０μｍ，全細孔容
積：０．３０〜０．６０ｍｌ／ｇ、比表面積：５０〜２
００ｍ2 ／ｇである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、穀物や青果物等の
食品、或は材木や土壌の殺菌・殺虫のために用いられた
後の燻蒸排ガスを、無害化処理するための触媒、および
このような触媒を用いて燻蒸排ガスを効果的に浄化する
方法に関するものであり、特に前記燻蒸排ガス中の臭化
メチルやクロロピクリン等の燻蒸成分を効率良く分解し
て燻蒸排ガスを浄化する為の触媒、および燻蒸排ガスの
浄化方法等に関するものである。
食品、或は材木や土壌の殺菌・殺虫のために用いられた
後の燻蒸排ガスを、無害化処理するための触媒、および
このような触媒を用いて燻蒸排ガスを効果的に浄化する
方法に関するものであり、特に前記燻蒸排ガス中の臭化
メチルやクロロピクリン等の燻蒸成分を効率良く分解し
て燻蒸排ガスを浄化する為の触媒、および燻蒸排ガスの
浄化方法等に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】燻蒸方法は、密閉空間にガス状の薬剤
（燻蒸剤）を充満させて、有害生物を駆除する方法であ
り、主として輸入された穀物や青果物等の食品、木材の
防疫対策として実施される他、ハウス栽培用の土壌の殺
菌・殺虫のために実施されている。このような燻蒸方法
で用いられる燻蒸ガスとしては、その効果や低コスト性
等を考慮して、臭化メチルやクロロピクリン等の有機ハ
ロゲン化合物を燻蒸成分として含有するものが極めて多
量に使用されている。
（燻蒸剤）を充満させて、有害生物を駆除する方法であ
り、主として輸入された穀物や青果物等の食品、木材の
防疫対策として実施される他、ハウス栽培用の土壌の殺
菌・殺虫のために実施されている。このような燻蒸方法
で用いられる燻蒸ガスとしては、その効果や低コスト性
等を考慮して、臭化メチルやクロロピクリン等の有機ハ
ロゲン化合物を燻蒸成分として含有するものが極めて多
量に使用されている。
【０００３】ところで上記の様な有機ハロゲン化合物を
多量に含む燻蒸排ガスは、その使用後においては、無害
化処理を施すことなく大気に放出されているのが実情で
ある。しかしながら、近年、地球環境の為に重要な役割
を果たすオゾン層が、上記の有機ハロゲン化合物によっ
て破壊されていることが明らかにされており、世界的に
有機ハロゲン化合物の排出規制や使用規制が厳しくなっ
てきており、燻蒸排ガス中に含まれる臭化メチルやクロ
ロピクリン等の有機ハロゲン化合物を、高効率且つ低コ
ストで分解して燻蒸排ガスを浄化する方法の確立が急が
れている。
多量に含む燻蒸排ガスは、その使用後においては、無害
化処理を施すことなく大気に放出されているのが実情で
ある。しかしながら、近年、地球環境の為に重要な役割
を果たすオゾン層が、上記の有機ハロゲン化合物によっ
て破壊されていることが明らかにされており、世界的に
有機ハロゲン化合物の排出規制や使用規制が厳しくなっ
てきており、燻蒸排ガス中に含まれる臭化メチルやクロ
ロピクリン等の有機ハロゲン化合物を、高効率且つ低コ
ストで分解して燻蒸排ガスを浄化する方法の確立が急が
れている。
【０００４】燻蒸排ガス中の燻蒸成分を効果的に分解す
る方法は、かねてより検討されてきたが、上記のような
情勢のもとで、以前にも増して様々な角度から検討され
ている。しかしながら、燻蒸排ガス中に含まれる燻蒸成
分の濃度は、例えば穀物燻蒸サイロでは排出初期では約
１容量％程度であっても、排出時間と共に低下していき
最終的には数ｐｐｍ程度になるものであり、この様な広
い濃度範囲に亙って排出される燻蒸成分を効率良く分解
・除去することは極めて困難であった。
る方法は、かねてより検討されてきたが、上記のような
情勢のもとで、以前にも増して様々な角度から検討され
ている。しかしながら、燻蒸排ガス中に含まれる燻蒸成
分の濃度は、例えば穀物燻蒸サイロでは排出初期では約
１容量％程度であっても、排出時間と共に低下していき
最終的には数ｐｐｍ程度になるものであり、この様な広
い濃度範囲に亙って排出される燻蒸成分を効率良く分解
・除去することは極めて困難であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】燻蒸排ガスを浄化する
方法としては、これまで直接燃焼法、プラズマ法、薬液
吸収法、接触酸化法および吸着法等が提案されている
が、いずれも下記に示す様な欠点がある。
方法としては、これまで直接燃焼法、プラズマ法、薬液
吸収法、接触酸化法および吸着法等が提案されている
が、いずれも下記に示す様な欠点がある。
【０００６】まず直接燃焼法は、通常６００℃以上の高
温度を要するので、燃料費等のランニングコストが極め
て高くなり、また有機ハロゲン化合物の燃焼によって、
Ｃｌ 2 やＢｒ2 等の極めて有害なハロゲンガスが発生す
るという実用上の問題がある。
温度を要するので、燃料費等のランニングコストが極め
て高くなり、また有機ハロゲン化合物の燃焼によって、
Ｃｌ 2 やＢｒ2 等の極めて有害なハロゲンガスが発生す
るという実用上の問題がある。
【０００７】またプラズマ法については、近年研究が盛
んに行なわれているが、大量の電力を消費する他、ヘリ
ウムガスやアルゴンガス等の高価な希ガスを必要とし、
特殊な対象物の処理には適すると言えるが、多量の燻蒸
排ガスを浄化する方法としては不適切である。
んに行なわれているが、大量の電力を消費する他、ヘリ
ウムガスやアルゴンガス等の高価な希ガスを必要とし、
特殊な対象物の処理には適すると言えるが、多量の燻蒸
排ガスを浄化する方法としては不適切である。
【０００８】更に、薬液吸収法にあっては、特殊な薬品
を必要とし、また多量の排水が発生するので、その二次
処理が必要になり、また除去効率の低さとも相俟って実
用的ではない。
を必要とし、また多量の排水が発生するので、その二次
処理が必要になり、また除去効率の低さとも相俟って実
用的ではない。
【０００９】接触酸化法としては、例えば特開平３−２
８９９７３号に開示された方法があり、この方法では有
機ハロゲン化合物を複合酸化物触媒と接触させることに
よって酸化分解できるものの、多量の一酸化炭素が発生
する恐れがあり、また一酸化炭素とハロゲンとの反応に
よって極めて有害なホスゲンやブロモホスゲン等が発生
する恐れもあり、更に後段に酸化触媒を配置する必要が
ある等の問題がある。
８９９７３号に開示された方法があり、この方法では有
機ハロゲン化合物を複合酸化物触媒と接触させることに
よって酸化分解できるものの、多量の一酸化炭素が発生
する恐れがあり、また一酸化炭素とハロゲンとの反応に
よって極めて有害なホスゲンやブロモホスゲン等が発生
する恐れもあり、更に後段に酸化触媒を配置する必要が
ある等の問題がある。
【００１０】また吸着法では、吸着剤として活性炭が一
般的に用いられているが、この吸着剤の特性として低濃
度域で用いられる場合には、吸着剤の使用量は少なくて
も良く、また破過時間も長くなる。しかしながら燻蒸排
ガスの如く排出初期濃度が高い条件では、吸着後の吸着
成分濃度が高くなるばかりか、破過時間も短くなってし
まい、それに対処するためには、極めて多量の吸着剤が
必要になる。
般的に用いられているが、この吸着剤の特性として低濃
度域で用いられる場合には、吸着剤の使用量は少なくて
も良く、また破過時間も長くなる。しかしながら燻蒸排
ガスの如く排出初期濃度が高い条件では、吸着後の吸着
成分濃度が高くなるばかりか、破過時間も短くなってし
まい、それに対処するためには、極めて多量の吸着剤が
必要になる。
【００１１】本発明はこのような事情に着目してなされ
たものであって、その目的は、燻蒸排ガスを経済的且つ
高効率で浄化することのできる燻蒸排ガス浄化用触媒、
および該触媒を用いた燻蒸排ガスの浄化方法を提供する
ことにある。
たものであって、その目的は、燻蒸排ガスを経済的且つ
高効率で浄化することのできる燻蒸排ガス浄化用触媒、
および該触媒を用いた燻蒸排ガスの浄化方法を提供する
ことにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成し得た本
発明とは、燻蒸排ガスを浄化するための触媒であって、
触媒Ａ成分として、Ｔｉ，ＳｉおよびＺｒよりなる群か
ら選ばれる少なくとも１種の金属の金属酸化物または２
種以上の金属を含む複合酸化物、および触媒Ｂ成分とし
て、Ｖ，Ｃｕ，ＷおよびＣｒよりなる群から選ばれる１
種以上の金属を含む酸化物を含有してなり、且つ該触媒
の平均細孔径：０．０１０〜０．０７０μｍ、全細孔容
積：０．３０〜０．６０ｍｌ／ｇ、比表面積：５０〜２
００ｍ2／ｇである点に要旨を有するものである。
発明とは、燻蒸排ガスを浄化するための触媒であって、
触媒Ａ成分として、Ｔｉ，ＳｉおよびＺｒよりなる群か
ら選ばれる少なくとも１種の金属の金属酸化物または２
種以上の金属を含む複合酸化物、および触媒Ｂ成分とし
て、Ｖ，Ｃｕ，ＷおよびＣｒよりなる群から選ばれる１
種以上の金属を含む酸化物を含有してなり、且つ該触媒
の平均細孔径：０．０１０〜０．０７０μｍ、全細孔容
積：０．３０〜０．６０ｍｌ／ｇ、比表面積：５０〜２
００ｍ2／ｇである点に要旨を有するものである。
【００１３】上記触媒において、更に、触媒Ｃ成分とし
て、Ｐｄ，Ｐｔ，Ｒｈ，ＲｕおよびＡｕよりなる群から
選ばれる１種以上の金属元素若しくはこれらの酸化物、
および／または触媒Ｄ成分として、Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，
ＭｏおよびＳｎよりなる群から選ばれる１種以上の金属
の酸化物を含有することも有効である。
て、Ｐｄ，Ｐｔ，Ｒｈ，ＲｕおよびＡｕよりなる群から
選ばれる１種以上の金属元素若しくはこれらの酸化物、
および／または触媒Ｄ成分として、Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，
ＭｏおよびＳｎよりなる群から選ばれる１種以上の金属
の酸化物を含有することも有効である。
【００１４】上記目的を達成し得た本発明方法とは、上
記の様な燻蒸排ガス分解用触媒に、燻蒸排ガスを接触さ
せて該排ガス中の燻蒸成分を分解する点に要旨を有する
燻蒸排ガスの浄化方法である。上記方法は、燻蒸成分が
臭化メチルおよび／またはクロロピクリンであるときに
特に有効な方法である。
記の様な燻蒸排ガス分解用触媒に、燻蒸排ガスを接触さ
せて該排ガス中の燻蒸成分を分解する点に要旨を有する
燻蒸排ガスの浄化方法である。上記方法は、燻蒸成分が
臭化メチルおよび／またはクロロピクリンであるときに
特に有効な方法である。
【００１５】また燻蒸排ガスを浄化する方法のより具体
的な構成としては、燻蒸排ガス中の燻蒸成分を吸着剤に
吸着させて、燻蒸成分を燻蒸排ガスから除去した後、前
記吸着剤から燻蒸成分を脱着させ、脱着させた燻蒸成分
を、上記の様な燻蒸排ガス浄化用触媒に接触させて分解
処理する構成が挙げられる。このとき用いる吸着剤とし
ては、粒状活性炭、繊維状活性炭、粒状ゼオライトおよ
び繊維状ゼオライトよりなる群から選ばれる１種以上の
吸着剤が挙げられる。
的な構成としては、燻蒸排ガス中の燻蒸成分を吸着剤に
吸着させて、燻蒸成分を燻蒸排ガスから除去した後、前
記吸着剤から燻蒸成分を脱着させ、脱着させた燻蒸成分
を、上記の様な燻蒸排ガス浄化用触媒に接触させて分解
処理する構成が挙げられる。このとき用いる吸着剤とし
ては、粒状活性炭、繊維状活性炭、粒状ゼオライトおよ
び繊維状ゼオライトよりなる群から選ばれる１種以上の
吸着剤が挙げられる。
【００１６】上記した各方法のいずれを実施するにして
も、燻蒸排ガス中の燻蒸成分を分解除去した後、熱交換
器によって降温し、更にアルカリスクラバーに導入する
構成を採用することも有効であり、こうした構成を採用
することによってＨＢｒやＨＣｌ等の酸性ガスも洗浄除
去することができる。
も、燻蒸排ガス中の燻蒸成分を分解除去した後、熱交換
器によって降温し、更にアルカリスクラバーに導入する
構成を採用することも有効であり、こうした構成を採用
することによってＨＢｒやＨＣｌ等の酸性ガスも洗浄除
去することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】燻蒸排ガスは、燻蒸系内に空気を
送り込むことによって排出されるので、燻蒸排ガス中に
含まれる燻蒸成分（燻蒸剤）は、前述した如く初期排出
濃度が約１容量％と極めて高い濃度であり、この濃度は
排出時間（２〜４時間）に伴って急速に減少していき、
排出作業終了時には数ｐｐｍになる。この様に広い範囲
に亙って急速に変化する臭化メチル等の燻蒸剤を効率良
く除去することは困難であった。
送り込むことによって排出されるので、燻蒸排ガス中に
含まれる燻蒸成分（燻蒸剤）は、前述した如く初期排出
濃度が約１容量％と極めて高い濃度であり、この濃度は
排出時間（２〜４時間）に伴って急速に減少していき、
排出作業終了時には数ｐｐｍになる。この様に広い範囲
に亙って急速に変化する臭化メチル等の燻蒸剤を効率良
く除去することは困難であった。
【００１８】本発明者らは、まず高濃度域での問題点に
ついて検討し、この問題を解決する為の手段について鋭
意研究を重ねた。臭化メチルやクロロピクリン等の燻蒸
剤の濃度が１０００ｐｐｍを超える場合には、これを酸
化触媒に接触させて酸化分解すると、Ｂｒ2 やＣｌ2 等
の活性なハロゲンガスが高濃度で発生し、触媒活性点に
吸着して該活性点が被覆されてしまい、酸化分解に必要
な酸素分子の触媒活性点への吸着を阻害することにな
り、触媒の酸化分解能を低下させるという問題がある。
また前記した特開平３−２８９９７３号に開示された様
な触媒では、一酸化炭素が多量に発生してしまい、これ
らとハロゲンガスの反応による有害なホスゲンやブロモ
ホスゲンが発生するという問題がある。
ついて検討し、この問題を解決する為の手段について鋭
意研究を重ねた。臭化メチルやクロロピクリン等の燻蒸
剤の濃度が１０００ｐｐｍを超える場合には、これを酸
化触媒に接触させて酸化分解すると、Ｂｒ2 やＣｌ2 等
の活性なハロゲンガスが高濃度で発生し、触媒活性点に
吸着して該活性点が被覆されてしまい、酸化分解に必要
な酸素分子の触媒活性点への吸着を阻害することにな
り、触媒の酸化分解能を低下させるという問題がある。
また前記した特開平３−２８９９７３号に開示された様
な触媒では、一酸化炭素が多量に発生してしまい、これ
らとハロゲンガスの反応による有害なホスゲンやブロモ
ホスゲンが発生するという問題がある。
【００１９】そこで本発明者らは、これらの問題点を解
決する手段について、様々な角度から検討した。その結
果、触媒Ａ成分として、Ｔｉ，ＳｉおよびＺｒよりなる
群から選ばれる少なくとも１種以上の金属の金属酸化物
または２種以上の金属を含む複合酸化物、触媒Ｂ成分と
して、Ｖ，Ｃｕ，ＷおよびＣｒよりなる群から選ばれる
１種以上の金属を含む酸化物を含有する触媒であって、
該触媒の平均細孔径が０．０１０〜０．０７０μｍ、全
細孔容積が０．３０〜０．６０ｍｌ／ｇ、比表面積が５
０〜２００ｍ2 ／ｇのものが、極めて有効であることを
見出し、本発明を完成した。
決する手段について、様々な角度から検討した。その結
果、触媒Ａ成分として、Ｔｉ，ＳｉおよびＺｒよりなる
群から選ばれる少なくとも１種以上の金属の金属酸化物
または２種以上の金属を含む複合酸化物、触媒Ｂ成分と
して、Ｖ，Ｃｕ，ＷおよびＣｒよりなる群から選ばれる
１種以上の金属を含む酸化物を含有する触媒であって、
該触媒の平均細孔径が０．０１０〜０．０７０μｍ、全
細孔容積が０．３０〜０．６０ｍｌ／ｇ、比表面積が５
０〜２００ｍ2 ／ｇのものが、極めて有効であることを
見出し、本発明を完成した。
【００２０】一方、本発明者らは、低濃度域での問題点
についても検討し、この問題を解決する為の手段につい
て鋭意研究を重ねた。そして、例えば穀物のサイロ等に
おいて、燻蒸排ガス排気工程の後半部における燻蒸成分
が低濃度になったとき、或はハウス栽培土壌の燻蒸排ガ
スの如く、燻蒸排ガス中に含まれる燻蒸成分がもともと
１０００ｐｐｍ以下の低濃度の場合には、触媒を充填し
てなる浄化装置で直接的に排ガスを浄化することは技術
的に可能であるが、燃焼熱が小さいので、熱回収が小さ
くなり、酸化分解温度を維持する為には燃料費が高くな
り、実用的ではないことが分かった。
についても検討し、この問題を解決する為の手段につい
て鋭意研究を重ねた。そして、例えば穀物のサイロ等に
おいて、燻蒸排ガス排気工程の後半部における燻蒸成分
が低濃度になったとき、或はハウス栽培土壌の燻蒸排ガ
スの如く、燻蒸排ガス中に含まれる燻蒸成分がもともと
１０００ｐｐｍ以下の低濃度の場合には、触媒を充填し
てなる浄化装置で直接的に排ガスを浄化することは技術
的に可能であるが、燃焼熱が小さいので、熱回収が小さ
くなり、酸化分解温度を維持する為には燃料費が高くな
り、実用的ではないことが分かった。
【００２１】そこで本発明者らは、こうした不都合を解
消するという観点からも検討した。その結果、まず活性
炭やゼオライト等よりなる吸着剤によって燻蒸成分を吸
着させ、燻蒸成分を燻蒸排ガスから一旦除去した後、該
吸着剤に排ガスの１／５〜１／１５の熱風を送って吸着
した燻蒸成分を脱着させ、その後触媒を充填してなる浄
化装置に導入して酸化分解し、その後必要によって熱交
換機にて除熱した後、アルカリスクラバーによってＨＢ
ｒやＨＣｌ等の酸性ガスを洗浄除去してから、外気に放
出する様にすれば良いとの着想が得られた。尚このとき
用いる吸着剤としては、粒状活性炭、繊維状活性炭、粒
状ゼオライト、繊維状ゼオライト等様々なものが挙げら
れ、これらの１種または２種以上を混合して使用するこ
とができる。また吸着剤の形状についても限定するもの
でなく、上記した様な粒状、繊維状の他、一体成形して
ハニカム状としたものも使用できる。
消するという観点からも検討した。その結果、まず活性
炭やゼオライト等よりなる吸着剤によって燻蒸成分を吸
着させ、燻蒸成分を燻蒸排ガスから一旦除去した後、該
吸着剤に排ガスの１／５〜１／１５の熱風を送って吸着
した燻蒸成分を脱着させ、その後触媒を充填してなる浄
化装置に導入して酸化分解し、その後必要によって熱交
換機にて除熱した後、アルカリスクラバーによってＨＢ
ｒやＨＣｌ等の酸性ガスを洗浄除去してから、外気に放
出する様にすれば良いとの着想が得られた。尚このとき
用いる吸着剤としては、粒状活性炭、繊維状活性炭、粒
状ゼオライト、繊維状ゼオライト等様々なものが挙げら
れ、これらの１種または２種以上を混合して使用するこ
とができる。また吸着剤の形状についても限定するもの
でなく、上記した様な粒状、繊維状の他、一体成形して
ハニカム状としたものも使用できる。
【００２２】輸入穀物等のサイロ燻蒸、或は青果物等の
倉庫燻蒸の様に、使用頻度が多く且つ大型の燻蒸設備に
あっては、触媒を充填してなる燻蒸排ガス浄化設備と、
吸着剤を充填してなる吸着設備を併設し、燻蒸排ガス工
程の前期の高濃度域では、触媒を充填してなる浄化設備
に燻蒸排ガスを直接導入して浄化し、後期の濃度が低下
したときには、吸着設備に導入して浄化した後、排ガス
量の１／５〜１／１５の熱風によって吸着剤から燻蒸成
分を脱着させ、濃縮された脱着ガスを、触媒を充填して
なる浄化設備に導入して浄化する様にすれば良い。
倉庫燻蒸の様に、使用頻度が多く且つ大型の燻蒸設備に
あっては、触媒を充填してなる燻蒸排ガス浄化設備と、
吸着剤を充填してなる吸着設備を併設し、燻蒸排ガス工
程の前期の高濃度域では、触媒を充填してなる浄化設備
に燻蒸排ガスを直接導入して浄化し、後期の濃度が低下
したときには、吸着設備に導入して浄化した後、排ガス
量の１／５〜１／１５の熱風によって吸着剤から燻蒸成
分を脱着させ、濃縮された脱着ガスを、触媒を充填して
なる浄化設備に導入して浄化する様にすれば良い。
【００２３】これに対し、ハウス栽培土壌の燻蒸の様
に、規模が比較的小さく且つ作業頻度の比較的少ない設
備では、燻蒸排ガス浄化設備と吸着設備を併設すること
は経済的に極めて困難である。この様な場合には、移動
可能な吸着機を備えておき、必要に応じて該吸着機によ
って燻蒸排ガスを吸着させる様にすれば良い。またこう
した規模においては、触媒を充填してなる浄化設備を組
合や地域グループで共同して設置しておき、各ハウスで
吸着が終了した上記吸着機を、前記浄化設備を設置した
場所に搬入、接続し、熱風によって脱着せしめ、吸着剤
の再生と共に、脱着した燻蒸ガス成分を触媒に導入して
酸化分解し、更にアルカリスクラバーによって酸性ガス
を洗浄して浄化する様な実施形態も可能である。
に、規模が比較的小さく且つ作業頻度の比較的少ない設
備では、燻蒸排ガス浄化設備と吸着設備を併設すること
は経済的に極めて困難である。この様な場合には、移動
可能な吸着機を備えておき、必要に応じて該吸着機によ
って燻蒸排ガスを吸着させる様にすれば良い。またこう
した規模においては、触媒を充填してなる浄化設備を組
合や地域グループで共同して設置しておき、各ハウスで
吸着が終了した上記吸着機を、前記浄化設備を設置した
場所に搬入、接続し、熱風によって脱着せしめ、吸着剤
の再生と共に、脱着した燻蒸ガス成分を触媒に導入して
酸化分解し、更にアルカリスクラバーによって酸性ガス
を洗浄して浄化する様な実施形態も可能である。
【００２４】本発明の触媒は、少なくとも触媒Ａ成分と
触媒Ｂ成分を含有してなるものであるが、このうち触媒
Ａ成分は、Ｔｉ，ＳｉおよびＺｒよりなる群から選ばれ
る少なくとも１種の金属の金属酸化物または２種以上の
金属を含む複合酸化物であり、この複合酸化物は固体酸
であって、臭化メチルやクロロピクリン等の燻蒸成分か
らの脱ハロゲン作用に優れた特性を持ち、しかもハロゲ
ンと水素との反応によって生じるハロゲン化水素の選択
率にも優れているという特性がある。
触媒Ｂ成分を含有してなるものであるが、このうち触媒
Ａ成分は、Ｔｉ，ＳｉおよびＺｒよりなる群から選ばれ
る少なくとも１種の金属の金属酸化物または２種以上の
金属を含む複合酸化物であり、この複合酸化物は固体酸
であって、臭化メチルやクロロピクリン等の燻蒸成分か
らの脱ハロゲン作用に優れた特性を持ち、しかもハロゲ
ンと水素との反応によって生じるハロゲン化水素の選択
率にも優れているという特性がある。
【００２５】一方、本発明の触媒を構成する触媒Ｂ成分
としては、Ｖ，Ｃｕ，ＷおよびＣｒよりなる群から選ば
れる１種以上の金属を含む酸化物を含有するものである
が、この触媒Ｂ成分は前記複合酸化物（触媒Ａ成分）の
特性を向上させるものであり、特に、より低温条件での
脱ハロゲンおよびハロゲン化水素生成が可能となる。尚
この触媒成分は、上記金属の酸化物を混合したものでも
良く、或は複合酸化物を形成したものであっても良い。
としては、Ｖ，Ｃｕ，ＷおよびＣｒよりなる群から選ば
れる１種以上の金属を含む酸化物を含有するものである
が、この触媒Ｂ成分は前記複合酸化物（触媒Ａ成分）の
特性を向上させるものであり、特に、より低温条件での
脱ハロゲンおよびハロゲン化水素生成が可能となる。尚
この触媒成分は、上記金属の酸化物を混合したものでも
良く、或は複合酸化物を形成したものであっても良い。
【００２６】本発明で用いる触媒は、上記の如く、少な
くとも上記触媒Ａ成分と触媒Ｂ成分とを含有するもので
あるが、必要によって触媒Ｃ成分として、Ｐｄ，Ｐｔ，
Ｒｈ，ＲｕおよびＡｕよりなる群から選ばれる１種以上
の金属元素、またはこれらの酸化物を含有することも有
効である。この触媒Ｃ成分は、一酸化炭素、ホスゲンお
よび副生有機ハロゲン化合物等の有害物質の生成を抑制
し、完全酸化率を高めるという効果を発揮する。更に、
必要によって上記触媒Ｃ成分と共に、或は触媒Ｃ成分の
代わりに、触媒Ｄ成分として、Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｍｏ
およびＳｎよりなる群から選ばれる１種以上の金属元素
の酸化物を含有することも有効である。この触媒Ｄ成分
は、触媒Ａ成分および触媒Ｂ成分の活性向上または耐熱
性を向上させるために添加するものである。
くとも上記触媒Ａ成分と触媒Ｂ成分とを含有するもので
あるが、必要によって触媒Ｃ成分として、Ｐｄ，Ｐｔ，
Ｒｈ，ＲｕおよびＡｕよりなる群から選ばれる１種以上
の金属元素、またはこれらの酸化物を含有することも有
効である。この触媒Ｃ成分は、一酸化炭素、ホスゲンお
よび副生有機ハロゲン化合物等の有害物質の生成を抑制
し、完全酸化率を高めるという効果を発揮する。更に、
必要によって上記触媒Ｃ成分と共に、或は触媒Ｃ成分の
代わりに、触媒Ｄ成分として、Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｍｏ
およびＳｎよりなる群から選ばれる１種以上の金属元素
の酸化物を含有することも有効である。この触媒Ｄ成分
は、触媒Ａ成分および触媒Ｂ成分の活性向上または耐熱
性を向上させるために添加するものである。
【００２７】本発明の触媒における各触媒成分Ａ〜Ｄの
割合については、特に限定されるものではないが、触媒
成分ＡとＢを用いる場合は少なくとも触媒Ａ成分は触媒
成分全体に対して７５〜９８重量％程度であることが好
ましい。即ち、この触媒Ａ成分が７５重量％未満である
場合は、触媒の成形性が落ちて好ましくなく、９８重量
％を超える場合には触媒活性が低下し好ましくないから
である。また、触媒Ｃ成分を含む場合においては、この
Ｃ成分は触媒成分（Ａ＋Ｂ）の合計重量に対して０．０
１〜１０重量％程度であることが好ましい。更に、触媒
Ｄ成分を含む場合においては、この触媒Ｄ成分は触媒成
分（Ａ＋Ｂ）の合計重量に対して１〜１５重量％程度で
あることが好ましい。
割合については、特に限定されるものではないが、触媒
成分ＡとＢを用いる場合は少なくとも触媒Ａ成分は触媒
成分全体に対して７５〜９８重量％程度であることが好
ましい。即ち、この触媒Ａ成分が７５重量％未満である
場合は、触媒の成形性が落ちて好ましくなく、９８重量
％を超える場合には触媒活性が低下し好ましくないから
である。また、触媒Ｃ成分を含む場合においては、この
Ｃ成分は触媒成分（Ａ＋Ｂ）の合計重量に対して０．０
１〜１０重量％程度であることが好ましい。更に、触媒
Ｄ成分を含む場合においては、この触媒Ｄ成分は触媒成
分（Ａ＋Ｂ）の合計重量に対して１〜１５重量％程度で
あることが好ましい。
【００２８】本発明の触媒は上記の成分を満足するほ
か、該触媒の平均細孔径：０．０１０〜０．０７０μ
ｍ、全細孔容積：０．３０〜０．６０ｍｌ／ｇ、比表面
積：５０〜２００ｍ2 ／ｇの各要件を満足する必要があ
る。即ち、本発明者らが、触媒の形態が燻蒸排ガスに及
ぼす影響について検討したところ、上記各要件を満足さ
せれば、臭化メチルやクロロピクリン等の燻蒸成分の酸
化分解に優れた性能を発揮することを見出したのであ
る。この様な効果が得られる理由については、これを全
て解明し得た訳ではないが、おそらく触媒表面上での酸
化反応とそれによって生ずるハロゲン（Ｂｒ，Ｃｌ等）
が触媒活性点へ吸着する作用に対して、上記の要件が重
要な役割を果たしているものと考えられる。尚上記各要
件の好ましい範囲は、夫々平均細孔径：０．０１５〜
０．０４０μｍ、全細孔容積：０．３５〜０．５０ｍｌ
／ｇ、比表面積：８０〜１６０ｍ2 ／ｇである。また平
均細孔径とは、水銀圧入法によって測定される細孔分布
から計算される平均径の意味であり、全細孔容積とは、
水銀圧入法によって測定される細孔の総容積の意味であ
り、担体も含めた趣旨である。
か、該触媒の平均細孔径：０．０１０〜０．０７０μ
ｍ、全細孔容積：０．３０〜０．６０ｍｌ／ｇ、比表面
積：５０〜２００ｍ2 ／ｇの各要件を満足する必要があ
る。即ち、本発明者らが、触媒の形態が燻蒸排ガスに及
ぼす影響について検討したところ、上記各要件を満足さ
せれば、臭化メチルやクロロピクリン等の燻蒸成分の酸
化分解に優れた性能を発揮することを見出したのであ
る。この様な効果が得られる理由については、これを全
て解明し得た訳ではないが、おそらく触媒表面上での酸
化反応とそれによって生ずるハロゲン（Ｂｒ，Ｃｌ等）
が触媒活性点へ吸着する作用に対して、上記の要件が重
要な役割を果たしているものと考えられる。尚上記各要
件の好ましい範囲は、夫々平均細孔径：０．０１５〜
０．０４０μｍ、全細孔容積：０．３５〜０．５０ｍｌ
／ｇ、比表面積：８０〜１６０ｍ2 ／ｇである。また平
均細孔径とは、水銀圧入法によって測定される細孔分布
から計算される平均径の意味であり、全細孔容積とは、
水銀圧入法によって測定される細孔の総容積の意味であ
り、担体も含めた趣旨である。
【００２９】特に燻蒸排ガスの如く、初期の排出濃度が
高い場合にあっては、触媒上で分解時に発生するハロゲ
ン（Ｂｒ，Ｃｌ等）の分圧が高くなり、それらが触媒の
活性点に吸着、被覆し易い状況下にある。そしてこれら
のハロゲンによって触媒の活性点が被覆されれば、酸化
分解に必要な酸素分子の吸着が阻害され、触媒の活性を
低下させることになる。従って、触媒の活性能を維持す
る為には、発生したハロゲンが速やかに触媒活性点から
脱離しなくてはならない。上記の各要件は、こうした作
用に重要な機能を発揮するものと考えられる。
高い場合にあっては、触媒上で分解時に発生するハロゲ
ン（Ｂｒ，Ｃｌ等）の分圧が高くなり、それらが触媒の
活性点に吸着、被覆し易い状況下にある。そしてこれら
のハロゲンによって触媒の活性点が被覆されれば、酸化
分解に必要な酸素分子の吸着が阻害され、触媒の活性を
低下させることになる。従って、触媒の活性能を維持す
る為には、発生したハロゲンが速やかに触媒活性点から
脱離しなくてはならない。上記の各要件は、こうした作
用に重要な機能を発揮するものと考えられる。
【００３０】本発明に係る触媒の形状については、球
状、ペレット状、ハニカム状のいずれの形状でも良い
が、好ましくは一体成形物からなるハニカム型である。
その理由は下記の通りである。
状、ペレット状、ハニカム状のいずれの形状でも良い
が、好ましくは一体成形物からなるハニカム型である。
その理由は下記の通りである。
【００３１】燻蒸排ガスでは、サイロ内で、小麦，トウ
モロコシ等を燻蒸処理した後、サイロ内に空気を吹込
み、燻蒸剤を追い出すが、このとき小麦，トウモロコシ
等から多くの粉塵が発生し、排気ガスと共に排出され
る。
モロコシ等を燻蒸処理した後、サイロ内に空気を吹込
み、燻蒸剤を追い出すが、このとき小麦，トウモロコシ
等から多くの粉塵が発生し、排気ガスと共に排出され
る。
【００３２】排ガス中に存在する粉塵は、反応器内に充
填した触媒層に蓄積し、圧損増加を引き起こすと共に、
触媒上に蓄積した粉塵は、温度環境と触媒の酸化によっ
て炭化し、発火事故を引き起こす恐れがある。従って、
充填触媒としては、粉塵が触媒層内に堆積しない形状の
触媒が必須となる。従来型のペレット触媒や、コージェ
ライト担体にウオシュコートしたタイプの長さの短いハ
ニカム型触媒では、粉塵の蓄積は避け難い。
填した触媒層に蓄積し、圧損増加を引き起こすと共に、
触媒上に蓄積した粉塵は、温度環境と触媒の酸化によっ
て炭化し、発火事故を引き起こす恐れがある。従って、
充填触媒としては、粉塵が触媒層内に堆積しない形状の
触媒が必須となる。従来型のペレット触媒や、コージェ
ライト担体にウオシュコートしたタイプの長さの短いハ
ニカム型触媒では、粉塵の蓄積は避け難い。
【００３３】これに対し、一体成形になるハニカム型触
媒では、成形ダイスの選定により触媒の目開きを自由に
選ぶことができ、また触媒の長さも１ｍ以下程度まで成
形可能である。従って、この様な形状の触媒を充填する
ことにより、ガス中に共存する粉塵類は速やかに触媒の
直管セル内を通過することになり、触媒層内に蓄積する
ことが防げる。
媒では、成形ダイスの選定により触媒の目開きを自由に
選ぶことができ、また触媒の長さも１ｍ以下程度まで成
形可能である。従って、この様な形状の触媒を充填する
ことにより、ガス中に共存する粉塵類は速やかに触媒の
直管セル内を通過することになり、触媒層内に蓄積する
ことが防げる。
【００３４】また上記触媒で燻蒸排ガスを処理するとき
の該ガスの空間速度は、１０００〜２００００ｈｒ-1程
度が好ましく、より好ましくは２０００〜１００００ｈ
ｒ-1程度であり、このときの触媒温度は２００〜５００
℃程度が好ましく、より好ましくは２５０〜４５０℃程
度である。
の該ガスの空間速度は、１０００〜２００００ｈｒ-1程
度が好ましく、より好ましくは２０００〜１００００ｈ
ｒ-1程度であり、このときの触媒温度は２００〜５００
℃程度が好ましく、より好ましくは２５０〜４５０℃程
度である。
【００３５】以下、図面を参照しながら本発明を更に詳
しく説明する。図１は本発明方法を実施するための燻蒸
排ガス浄化設備の一構成例を示す概略説明図であり、図
中１は燻蒸サイロ、２はブロワー、３は熱交換器、４は
ヒーター、５は反応器、６はアルカリ溶液貯蔵タンク、
７はポンプ、８はアルカリスクラバー、９は循環ポン
プ、１０は燻蒸排ガス浄化用触媒を夫々示す。図１に示
した燻蒸排ガス浄化設備において、反応器５内には燻蒸
排ガス浄化用触媒１０が充填されると共に、この反応器
５内には温度指示調節器（ＴＩＣ）によって温度が調節
された燻蒸排ガスが導入される。
しく説明する。図１は本発明方法を実施するための燻蒸
排ガス浄化設備の一構成例を示す概略説明図であり、図
中１は燻蒸サイロ、２はブロワー、３は熱交換器、４は
ヒーター、５は反応器、６はアルカリ溶液貯蔵タンク、
７はポンプ、８はアルカリスクラバー、９は循環ポン
プ、１０は燻蒸排ガス浄化用触媒を夫々示す。図１に示
した燻蒸排ガス浄化設備において、反応器５内には燻蒸
排ガス浄化用触媒１０が充填されると共に、この反応器
５内には温度指示調節器（ＴＩＣ）によって温度が調節
された燻蒸排ガスが導入される。
【００３６】一方、図２は、回転式吸着装置の一構成例
を示すが略説明図であり、図中１１は再生ブロワー、１
２は加熱器、１３は回転可能なハニカム状吸着剤を夫々
示す。図２に示した回転式吸着装置において、燻蒸サイ
ロ等からの燻蒸排ガスＡはハニカム状吸着剤１３に導入
されて燻蒸成分が吸着され、燻蒸成分が吸着された残余
のガスは浄化ガスＢとして放出される。またハニカム状
吸着剤１３に吸着された燻蒸成分は、加熱器１２で加熱
された熱風が再生ブロワー１１によってハニカム状吸着
剤１３に導入されることによって脱着され、その後触媒
式浄化装置（前記反応器５）に送られて酸化分解され
る。尚図２において、Ｃは水蒸気を示し、加熱器１２の
熱源である。また熱源としては水蒸気の他電気ヒータを
用いることも可能である。
を示すが略説明図であり、図中１１は再生ブロワー、１
２は加熱器、１３は回転可能なハニカム状吸着剤を夫々
示す。図２に示した回転式吸着装置において、燻蒸サイ
ロ等からの燻蒸排ガスＡはハニカム状吸着剤１３に導入
されて燻蒸成分が吸着され、燻蒸成分が吸着された残余
のガスは浄化ガスＢとして放出される。またハニカム状
吸着剤１３に吸着された燻蒸成分は、加熱器１２で加熱
された熱風が再生ブロワー１１によってハニカム状吸着
剤１３に導入されることによって脱着され、その後触媒
式浄化装置（前記反応器５）に送られて酸化分解され
る。尚図２において、Ｃは水蒸気を示し、加熱器１２の
熱源である。また熱源としては水蒸気の他電気ヒータを
用いることも可能である。
【００３７】
実施例１ 輸入トウモロコシに対して、臭化メチルガスを燻蒸剤と
して燻蒸した後、排出される燻蒸排ガスを前記図１に示
した燻蒸排ガス浄化設備に導入し、経時的に出入口のガ
ス分析を行なった。このとき、反応器５に充填した燻蒸
排ガス浄化用触媒１０は下記の手順に従って調製した。
して燻蒸した後、排出される燻蒸排ガスを前記図１に示
した燻蒸排ガス浄化設備に導入し、経時的に出入口のガ
ス分析を行なった。このとき、反応器５に充填した燻蒸
排ガス浄化用触媒１０は下記の手順に従って調製した。
【００３８】まずチタンおよび珪素を含む二元系複合酸
化物（ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 ）を下記の方法で調製した。
水４００リットルに硫酸チタニル［ＴｉＯＳＯ4 硫酸水
溶液（ＴｉＯ2 ：２５％／リットル）］１５３リットル
を混合し、次にスノーテックス−Ｏ（日産化学製シリカ
ゲル、ＳｉＯ2 として３０重量％含有）２４ｋｇを加え
た。この溶液を３０℃に保持しつつ、攪拌しながらアン
モニア水を徐々に滴下し、ｐＨが７になるまで加え、そ
の後２時間放置して熟成した。
化物（ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 ）を下記の方法で調製した。
水４００リットルに硫酸チタニル［ＴｉＯＳＯ4 硫酸水
溶液（ＴｉＯ2 ：２５％／リットル）］１５３リットル
を混合し、次にスノーテックス−Ｏ（日産化学製シリカ
ゲル、ＳｉＯ2 として３０重量％含有）２４ｋｇを加え
た。この溶液を３０℃に保持しつつ、攪拌しながらアン
モニア水を徐々に滴下し、ｐＨが７になるまで加え、そ
の後２時間放置して熟成した。
【００３９】この様にして得られたＴｉＯ2 −ＳｉＯ2
ゲルを濾過水洗後、２００℃で１０時間乾燥した後、５
００℃で３時間焼成した。得られた粉体（以下、この粉
体を「ＴＳ−１粉体」と呼ぶ）の組成は、酸化物として
ＴｉＯ2 ／ＳｉＯ2 ＝４（モル比）であった。
ゲルを濾過水洗後、２００℃で１０時間乾燥した後、５
００℃で３時間焼成した。得られた粉体（以下、この粉
体を「ＴＳ−１粉体」と呼ぶ）の組成は、酸化物として
ＴｉＯ2 ／ＳｉＯ2 ＝４（モル比）であった。
【００４０】次いで、シュウ酸８．４ｋｇを水１８リッ
トルに溶解し、これにメタバナジン酸アンモニウム４．
２８ｋｇを加えて溶解した溶液に、上記ＴＳ−１粉体３
０ｋｇと成形助剤としての澱粉１．５ｋｇを加えて混合
し、ニーダーで良く練り合わせた。更に、適量の水を加
えつつ練った後、外形１５０ｍｍ角、孔径（貫通孔の相
当径）：２．８ｍｍ、開孔率：７０％のハニカム型に押
し出し成形し、１２０℃で６時間乾燥した後、酸素濃度
が１５％以下に調節された雰囲気下、４５０℃で６時間
焼成して成形体とした。この様にして得られた成形体
を、以下では「焼成体−１」と呼ぶ。
トルに溶解し、これにメタバナジン酸アンモニウム４．
２８ｋｇを加えて溶解した溶液に、上記ＴＳ−１粉体３
０ｋｇと成形助剤としての澱粉１．５ｋｇを加えて混合
し、ニーダーで良く練り合わせた。更に、適量の水を加
えつつ練った後、外形１５０ｍｍ角、孔径（貫通孔の相
当径）：２．８ｍｍ、開孔率：７０％のハニカム型に押
し出し成形し、１２０℃で６時間乾燥した後、酸素濃度
が１５％以下に調節された雰囲気下、４５０℃で６時間
焼成して成形体とした。この様にして得られた成形体
を、以下では「焼成体−１」と呼ぶ。
【００４１】得られた焼成体−１を、パラジウム濃度が
１６ｇ／リットルの硝酸パラジウム水溶液に１分間浸漬
し、次いで１２０℃で６時間乾燥した後、空気雰囲気
下、５００℃で２時間焼成し、成形体−１にパラジウム
を分散担持させることによって、燻蒸排ガス浄化用触媒
を得た。こうして得られた燻蒸排ガス浄化用触媒の組成
は、重量百分率でＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2
Ｏ5 ：Ｐｄ＝８９．３：１０．０：０．７であり、平均
細孔径：０．０２３μｍ、全細孔容積：０．４５ｍｌ／
ｇ、ＢＥＴ比表面積：１１０ｍ2 ／ｇであった。
１６ｇ／リットルの硝酸パラジウム水溶液に１分間浸漬
し、次いで１２０℃で６時間乾燥した後、空気雰囲気
下、５００℃で２時間焼成し、成形体−１にパラジウム
を分散担持させることによって、燻蒸排ガス浄化用触媒
を得た。こうして得られた燻蒸排ガス浄化用触媒の組成
は、重量百分率でＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2
Ｏ5 ：Ｐｄ＝８９．３：１０．０：０．７であり、平均
細孔径：０．０２３μｍ、全細孔容積：０．４５ｍｌ／
ｇ、ＢＥＴ比表面積：１１０ｍ2 ／ｇであった。
【００４２】得られた燻蒸排ガス浄化用触媒を、図１に
示した反応器５に充填し、燻蒸サイロ１からの排ガス
を、ブロワー２によって昇圧し、熱交換器３およびヒー
ター４によって所定温度に昇温して、反応器５に充填し
た燻蒸排ガス浄化用触媒により酸化分解した。反応器５
で酸化分解された排ガスは、その後熱交換器３を介して
降温された後、アルカリスクラバー８の充填塔下方に導
入され、充填塔の上部から噴霧供給されるｐＨ９〜１１
の苛性ソーダー水溶液（流量：３ｍ3 ／ｈｒ）と接触さ
せて系外に放出した。尚このときの他の処理条件は、下
記の通りに設定した。 （処理条件） 排ガス処理量 ：６０Ｎｍ3 ／ｈｒ 空間速度 ：３０００ｈｒ-1 反応器入口温度：３００℃
示した反応器５に充填し、燻蒸サイロ１からの排ガス
を、ブロワー２によって昇圧し、熱交換器３およびヒー
ター４によって所定温度に昇温して、反応器５に充填し
た燻蒸排ガス浄化用触媒により酸化分解した。反応器５
で酸化分解された排ガスは、その後熱交換器３を介して
降温された後、アルカリスクラバー８の充填塔下方に導
入され、充填塔の上部から噴霧供給されるｐＨ９〜１１
の苛性ソーダー水溶液（流量：３ｍ3 ／ｈｒ）と接触さ
せて系外に放出した。尚このときの他の処理条件は、下
記の通りに設定した。 （処理条件） 排ガス処理量 ：６０Ｎｍ3 ／ｈｒ 空間速度 ：３０００ｈｒ-1 反応器入口温度：３００℃
【００４３】燻蒸サイロ１からの排ガス取り出しを開始
してから、２時間に亘って経時的にガス分析を行ない、
浄化率を測定した。尚ガス分析項目は、臭化メチル、臭
化水素および一酸化炭素とした。ガス分析結果を下記表
１に示すが、燻蒸排ガスが長期に亘って効率良く浄化さ
れていることがわかる。
してから、２時間に亘って経時的にガス分析を行ない、
浄化率を測定した。尚ガス分析項目は、臭化メチル、臭
化水素および一酸化炭素とした。ガス分析結果を下記表
１に示すが、燻蒸排ガスが長期に亘って効率良く浄化さ
れていることがわかる。
【００４４】
【表１】
【００４５】実施例２ 燻蒸サイロ１からの排出を開始してから２時間後の排ガ
スを、前記図２に示した回転式吸脱着装置に導入して連
続的に吸着させながら、一方で１３０℃に加熱した熱風
をハニカム構造物の脱着ゾーンに吹き込んだ。尚このと
きハニカム構造物は、繊維状活性炭を一体成形したもの
を用い、吸着ゾーン、脱着ゾーンおよび冷却ゾーンがい
ずれも１／３づつ形成されたものとした。
スを、前記図２に示した回転式吸脱着装置に導入して連
続的に吸着させながら、一方で１３０℃に加熱した熱風
をハニカム構造物の脱着ゾーンに吹き込んだ。尚このと
きハニカム構造物は、繊維状活性炭を一体成形したもの
を用い、吸着ゾーン、脱着ゾーンおよび冷却ゾーンがい
ずれも１／３づつ形成されたものとした。
【００４６】この様にして脱着された排ガスを、図１に
示した燻蒸排ガス浄化設備に導き、実施例１と同様にし
てガス分析を行なった。尚このときの処理条件は、下記
の通りに設定した。 （処理条件） 排ガス処理量 ：２００Ｎｍ3 ／ｈｒ 脱着熱風量 ：４０Ｎｍ3 ／ｈｒ（活性戻しロータ回
転数：２回／ｈｒ） 空間速度 ：２０００ｈｒ-1（反応器５内） 反応器入口温度：３００℃
示した燻蒸排ガス浄化設備に導き、実施例１と同様にし
てガス分析を行なった。尚このときの処理条件は、下記
の通りに設定した。 （処理条件） 排ガス処理量 ：２００Ｎｍ3 ／ｈｒ 脱着熱風量 ：４０Ｎｍ3 ／ｈｒ（活性戻しロータ回
転数：２回／ｈｒ） 空間速度 ：２０００ｈｒ-1（反応器５内） 反応器入口温度：３００℃
【００４７】そして経時的にガス分析を行ない、浄化率
を測定した。尚ガス分析項目は、実施例１と同様に、臭
化メチル、臭化水素および一酸化炭素とした。ガス分析
結果を下記表２に示すが、回転式吸脱着装置を配置する
ことは、燻蒸成分の濃度が低下してきた燻蒸排ガスを浄
化する上で極めて有効であることがわかる。
を測定した。尚ガス分析項目は、実施例１と同様に、臭
化メチル、臭化水素および一酸化炭素とした。ガス分析
結果を下記表２に示すが、回転式吸脱着装置を配置する
ことは、燻蒸成分の濃度が低下してきた燻蒸排ガスを浄
化する上で極めて有効であることがわかる。
【００４８】
【表２】
【００４９】実施例３ 各種物性の違う触媒を調製し、臭化メチル分解率を調べ
た。 （触媒Ｎo.１）実施例１の方法において、スノーテック
スを用いなかった以外は実施例１の方法に準じて酸化チ
タンからなる粉体を調整した。この酸化チタンを用い
て、実施例１の方法に準じて外形８０ｍｍ角、孔径：
２．８ｍｍ、開孔率：７０％の格子状ハニカム型に押し
出し成形し、乾燥，焼成を行ない、「焼成体−２」を得
た。こうして得られた「焼成体−２」を実施例１の方法
に準じて、パラジウムを含浸してなる触媒を得た。こう
して得られた触媒の組成は、重量百分率でＴｉＯ2:Ｖ2
Ｏ5 ：Ｐｄ＝８９．３：１０．０：０．７であり、平均
細孔径：０．０１μｍ、全細孔容積：０．２５ｍｌ／
ｇ、ＢＥＴ比表面積：５０ｍ2 ／ｇであった。
た。 （触媒Ｎo.１）実施例１の方法において、スノーテック
スを用いなかった以外は実施例１の方法に準じて酸化チ
タンからなる粉体を調整した。この酸化チタンを用い
て、実施例１の方法に準じて外形８０ｍｍ角、孔径：
２．８ｍｍ、開孔率：７０％の格子状ハニカム型に押し
出し成形し、乾燥，焼成を行ない、「焼成体−２」を得
た。こうして得られた「焼成体−２」を実施例１の方法
に準じて、パラジウムを含浸してなる触媒を得た。こう
して得られた触媒の組成は、重量百分率でＴｉＯ2:Ｖ2
Ｏ5 ：Ｐｄ＝８９．３：１０．０：０．７であり、平均
細孔径：０．０１μｍ、全細孔容積：０．２５ｍｌ／
ｇ、ＢＥＴ比表面積：５０ｍ2 ／ｇであった。
【００５０】（触媒Ｎo.２）実施例１と同じ触媒を調製
した。このときＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ 2 Ｏ
5 ：Ｐｄ＝８９．３：１０．０：０．７であり、平均細
孔径：０．０２３μｍ、全細孔容積：０．４５ｍｌ／
ｇ、ＢＥＴ比表面積：１１０ｍ2 ／ｇであった。
した。このときＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ 2 Ｏ
5 ：Ｐｄ＝８９．３：１０．０：０．７であり、平均細
孔径：０．０２３μｍ、全細孔容積：０．４５ｍｌ／
ｇ、ＢＥＴ比表面積：１１０ｍ2 ／ｇであった。
【００５１】（触媒Ｎo.３）実施例１で得られた粉体
（ＴＳ−１）を用い、以下の方法で触媒を調製した。モ
ノエタノールアミン０．７リットルを水７リットルと混
合し、これにパラタングステン酸アンモニウム１．０３
ｋｇを加えて溶解させ、次いでメタバナジン酸アンモニ
ウムを１．１４ｋｇ溶解させ均一な溶液とする。更にこ
の溶液に上記ＴＳ−１粉体１６ｋｇを加え、ニーダーで
水を添加しつつよく混合，混練した後、押し出し成形機
で、外形８０ｍｍ角、孔径２．８ｍｍ、開孔率７０％の
格子状ハニカム型に押し出し成形し、乾燥，焼成を行な
い、「焼成体−３」を得た。
（ＴＳ−１）を用い、以下の方法で触媒を調製した。モ
ノエタノールアミン０．７リットルを水７リットルと混
合し、これにパラタングステン酸アンモニウム１．０３
ｋｇを加えて溶解させ、次いでメタバナジン酸アンモニ
ウムを１．１４ｋｇ溶解させ均一な溶液とする。更にこ
の溶液に上記ＴＳ−１粉体１６ｋｇを加え、ニーダーで
水を添加しつつよく混合，混練した後、押し出し成形機
で、外形８０ｍｍ角、孔径２．８ｍｍ、開孔率７０％の
格子状ハニカム型に押し出し成形し、乾燥，焼成を行な
い、「焼成体−３」を得た。
【００５２】得られた「焼成体−３」を実施例１の方法
に準じてパラジウムを含浸してなる触媒を得た。こうし
て得られた触媒の組成は重量百分率で、ＴｉＯ2 −Ｓｉ
Ｏ2複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：Ｐｄ＝８９．３：
５．０：５．０：０．７であり、平均細孔径：０．０３
０μｍ、全細孔容積：０．５０ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面
積：１４０ｍ2 ／ｇであった。
に準じてパラジウムを含浸してなる触媒を得た。こうし
て得られた触媒の組成は重量百分率で、ＴｉＯ2 −Ｓｉ
Ｏ2複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：Ｐｄ＝８９．３：
５．０：５．０：０．７であり、平均細孔径：０．０３
０μｍ、全細孔容積：０．５０ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面
積：１４０ｍ2 ／ｇであった。
【００５３】（触媒Ｎo.４）上記触媒Ｎo.３触媒の調製
法において、成形体を得るのに、成形助剤としての澱粉
０．５ｋｇを加えた以外は、全て同様の方法で触媒Ｎo.
４の触媒を得た。得られた触媒の組成は、触媒Ｎo.３触
媒と同様であり、平均細孔径：０．０６μｍ、全細孔容
積：０．６ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：１８０ｍ2 ／ｇ
であった。
法において、成形体を得るのに、成形助剤としての澱粉
０．５ｋｇを加えた以外は、全て同様の方法で触媒Ｎo.
４の触媒を得た。得られた触媒の組成は、触媒Ｎo.３触
媒と同様であり、平均細孔径：０．０６μｍ、全細孔容
積：０．６ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：１８０ｍ2 ／ｇ
であった。
【００５４】得られた触媒（Ｎo.１〜４）を用い、臭化
メチルの分解試験を実施した。その結果を表３に示す。
尚分解条件（机上テスト）は、下記の通りである。 （分解試験条件） 触媒層入口温度：２５０℃，３００℃，３５０℃ 空間速度 ：３０００ｈｒ-1 ガス組成 ：臭化メチル；１容量％，Ｈ2 Ｏ；５容
量％，空気；残
メチルの分解試験を実施した。その結果を表３に示す。
尚分解条件（机上テスト）は、下記の通りである。 （分解試験条件） 触媒層入口温度：２５０℃，３００℃，３５０℃ 空間速度 ：３０００ｈｒ-1 ガス組成 ：臭化メチル；１容量％，Ｈ2 Ｏ；５容
量％，空気；残
【００５５】
【表３】
【００５６】実施例４ 各種物性の違う触媒を調製し、臭化メチル分解率を調べ
た。 （触媒Ｎo.５）実施例１で得られた粉体（ＴＳ−１）２
０ｋｇに、メタバナジン酸アンモニウム０．８６ｋｇお
よびパラタングステン酸アンモニウム１．７９ｋｇを含
む１０％モノエタノールアミン水溶液１２ｋｇを加え、
更に成形助剤としての澱粉を加えて混合し、ニーダーで
練り合わせた後、押し出し成形機で、外形１５０ｍｍ
角、目開き２．８ｍｍ、肉厚０．５ｍｍ、長さ５００ｍ
ｍのハニカム状に成形した。次いで、８０℃で乾燥した
後、空気雰囲気下、４５０℃で５時間焼成を行ない、
「焼成体−４」を得た。
た。 （触媒Ｎo.５）実施例１で得られた粉体（ＴＳ−１）２
０ｋｇに、メタバナジン酸アンモニウム０．８６ｋｇお
よびパラタングステン酸アンモニウム１．７９ｋｇを含
む１０％モノエタノールアミン水溶液１２ｋｇを加え、
更に成形助剤としての澱粉を加えて混合し、ニーダーで
練り合わせた後、押し出し成形機で、外形１５０ｍｍ
角、目開き２．８ｍｍ、肉厚０．５ｍｍ、長さ５００ｍ
ｍのハニカム状に成形した。次いで、８０℃で乾燥した
後、空気雰囲気下、４５０℃で５時間焼成を行ない、
「焼成体−４」を得た。
【００５７】得られた焼成体−４を、硝酸銅［Ｃｕ（Ｎ
Ｏ3 ）・３Ｈ2 Ｏ］と硝酸パラジウムの混合水溶液（Ｃ
ｕＯとして１４０ｇ／リットル，Ｐｄとして６ｇ／リッ
トル含有）に含浸し、その後１５０℃で３時間乾燥し、
続いて空気雰囲気下で２時間焼成した。
Ｏ3 ）・３Ｈ2 Ｏ］と硝酸パラジウムの混合水溶液（Ｃ
ｕＯとして１４０ｇ／リットル，Ｐｄとして６ｇ／リッ
トル含有）に含浸し、その後１５０℃で３時間乾燥し、
続いて空気雰囲気下で２時間焼成した。
【００５８】こうして得られた触媒の組成は重量百分率
で、ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ
3 ：ＣｕＯ：Ｐｄ＝８４．８：３．０：７．０：５．
０：０．２であり、平均細孔径：０．０２１μｍ、全細
孔容積：０．４１ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：９３ｍ2
／ｇであった。
で、ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ
3 ：ＣｕＯ：Ｐｄ＝８４．８：３．０：７．０：５．
０：０．２であり、平均細孔径：０．０２１μｍ、全細
孔容積：０．４１ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：９３ｍ2
／ｇであった。
【００５９】（触媒Ｎo.６）上記触媒Ｎo.５の触媒の調
製法において、硝酸銅を用いる代わりに硝酸クロム［Ｃ
ｒ（ＮＯ3 ）3 ・９Ｈ2 Ｏ］を用いる以外は、全て同様
の方法で触媒Ｎo.６の触媒を得た。こうして得られた触
媒の組成は重量百分率で、ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化
物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：Ｃｒ2 Ｏ3 ：Ｐｄ＝８４．４：
３．０：７．０：５．０：０．６であり、平均細孔径：
０．０３２μｍ、全細孔容積：０．４２ｍｌ／ｇ、ＢＥ
Ｔ比表面積：１００ｍ2 ／ｇであった。
製法において、硝酸銅を用いる代わりに硝酸クロム［Ｃ
ｒ（ＮＯ3 ）3 ・９Ｈ2 Ｏ］を用いる以外は、全て同様
の方法で触媒Ｎo.６の触媒を得た。こうして得られた触
媒の組成は重量百分率で、ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化
物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：Ｃｒ2 Ｏ3 ：Ｐｄ＝８４．４：
３．０：７．０：５．０：０．６であり、平均細孔径：
０．０３２μｍ、全細孔容積：０．４２ｍｌ／ｇ、ＢＥ
Ｔ比表面積：１００ｍ2 ／ｇであった。
【００６０】（触媒Ｎo.７）上記触媒Ｎo.５の触媒の調
製法において、硝酸銅を用いる代わりに硝酸セリウムを
用いる以外は、全て同様の方法で触媒Ｎo.７の触媒を得
た。こうして得られた触媒の組成は重量百分率で、Ｔｉ
Ｏ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：ＣｅＯ
2 ：Ｐｄ＝８４．４：３．０：７．０：５．０：０．６
であり、平均細孔径：０．０２５μｍ、全細孔容積：
０．４１ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：９４ｍ2 ／ｇであ
った。
製法において、硝酸銅を用いる代わりに硝酸セリウムを
用いる以外は、全て同様の方法で触媒Ｎo.７の触媒を得
た。こうして得られた触媒の組成は重量百分率で、Ｔｉ
Ｏ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：ＣｅＯ
2 ：Ｐｄ＝８４．４：３．０：７．０：５．０：０．６
であり、平均細孔径：０．０２５μｍ、全細孔容積：
０．４１ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：９４ｍ2 ／ｇであ
った。
【００６１】（触媒Ｎo.８）上記触媒Ｎo.５の触媒の調
製法において、硝酸銅を用いる代わりに硝酸ネオジムを
用いる以外は、全て同様の方法で触媒Ｎo.８の触媒を得
た。こうして得られた触媒の組成は重量百分率で、Ｔｉ
Ｏ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：Ｎｄ2
Ｏ3 ：Ｐｄ＝８４．４：３．０：７．０：５．０：０．
６であり、平均細孔径：０．０２１μｍ、全細孔容積：
０．３９ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：９１ｍ2 ／ｇであ
った。
製法において、硝酸銅を用いる代わりに硝酸ネオジムを
用いる以外は、全て同様の方法で触媒Ｎo.８の触媒を得
た。こうして得られた触媒の組成は重量百分率で、Ｔｉ
Ｏ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：Ｎｄ2
Ｏ3 ：Ｐｄ＝８４．４：３．０：７．０：５．０：０．
６であり、平均細孔径：０．０２１μｍ、全細孔容積：
０．３９ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：９１ｍ2 ／ｇであ
った。
【００６２】（触媒Ｎo.９）上記触媒Ｎo.５の触媒の調
製法において、硝酸銅を用いる代わりに硝酸プラセオジ
ムを用いる以外は、全て同様の方法で触媒Ｎo.９の触媒
を得た。こうして得られた触媒の組成は重量百分率で、
ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：Ｐ
ｒ6 Ｏ11：Ｐｄ＝８４．４：３．０：７．０：５．０：
０．６であり、平均細孔径：０．０２４μｍ、全細孔容
積：０．４０ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：９１ｍ2 ／ｇ
であった。
製法において、硝酸銅を用いる代わりに硝酸プラセオジ
ムを用いる以外は、全て同様の方法で触媒Ｎo.９の触媒
を得た。こうして得られた触媒の組成は重量百分率で、
ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：Ｐ
ｒ6 Ｏ11：Ｐｄ＝８４．４：３．０：７．０：５．０：
０．６であり、平均細孔径：０．０２４μｍ、全細孔容
積：０．４０ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：９１ｍ2 ／ｇ
であった。
【００６３】（触媒Ｎo.１０）硝酸銅と硝酸パラジウム
の混合水溶液を用いる代わりに、硝酸銅と塩化白金酸の
混合水溶液を用いる以外は、上記触媒Ｎo.５の触媒の調
製法と同様にして触媒Ｎo.１０を得た。こうして得られ
た触媒の組成は重量百分率で、ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合
酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：ＣｕＯ：Ｐｔ＝８４．８：
３．０：７．０：５．０：０．２であり、平均細孔径：
０．０２２μｍ、全細孔容積：０．４１ｍｌ／ｇ、ＢＥ
Ｔ比表面積：９５ｍ2 ／ｇであった。
の混合水溶液を用いる代わりに、硝酸銅と塩化白金酸の
混合水溶液を用いる以外は、上記触媒Ｎo.５の触媒の調
製法と同様にして触媒Ｎo.１０を得た。こうして得られ
た触媒の組成は重量百分率で、ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合
酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：ＣｕＯ：Ｐｔ＝８４．８：
３．０：７．０：５．０：０．２であり、平均細孔径：
０．０２２μｍ、全細孔容積：０．４１ｍｌ／ｇ、ＢＥ
Ｔ比表面積：９５ｍ2 ／ｇであった。
【００６４】（触媒Ｎo.１１）実施例１の方法におい
て、スノーテックスの代わりに酸化塩化ジルコニウム
（ＺｒＯＣｌ2 ・８Ｈ2 Ｏ）を用いる以外は、実施例１
の方法に準じてＴｉおよびＺｒからなる二元系複合酸化
物を調製した。得られた粉体の組成は、酸化物としてＴ
ｉＯ2 ：ＺｒＯ2 ＝４：１（モル比）であり、Ｘ線の回
折チャートからはＴｉＯ2 やＺｒＯ2 の明らかな固有ピ
ークは認められず、ブロードな回折ピークから非晶質な
微細構造を有するＴｉおよびＺｒを含む複合酸化物であ
ることが確認された。
て、スノーテックスの代わりに酸化塩化ジルコニウム
（ＺｒＯＣｌ2 ・８Ｈ2 Ｏ）を用いる以外は、実施例１
の方法に準じてＴｉおよびＺｒからなる二元系複合酸化
物を調製した。得られた粉体の組成は、酸化物としてＴ
ｉＯ2 ：ＺｒＯ2 ＝４：１（モル比）であり、Ｘ線の回
折チャートからはＴｉＯ2 やＺｒＯ2 の明らかな固有ピ
ークは認められず、ブロードな回折ピークから非晶質な
微細構造を有するＴｉおよびＺｒを含む複合酸化物であ
ることが確認された。
【００６５】このＴｉおよびＺｒを含む複合酸化物の粉
体を用いて、触媒Ｎo.５の調製法と同様にしてハニカム
状触媒を得た。こうして得られた触媒の組成は、重量百
分率でＴｉＯ2 −ＺｒＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ
3 ：ＣｕＯ：Ｐｄ＝８４．８：３．０：７．０：５．
０：０．２であり、平均細孔径：０．０１５μｍ、全細
孔容積：０．３７ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：８０ｍ2
／ｇであった。
体を用いて、触媒Ｎo.５の調製法と同様にしてハニカム
状触媒を得た。こうして得られた触媒の組成は、重量百
分率でＴｉＯ2 −ＺｒＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ
3 ：ＣｕＯ：Ｐｄ＝８４．８：３．０：７．０：５．
０：０．２であり、平均細孔径：０．０１５μｍ、全細
孔容積：０．３７ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：８０ｍ2
／ｇであった。
【００６６】（触媒Ｎo.１２）Ｔｉ，ＳｉおよびＺｒを
含む三元系複合酸化物を下記の手順によって調製した。
まずＺｒ源として酸化塩化ジルコニウム（ＺｒＯＣｌ2
・８Ｈ2 Ｏ）を更に加える以外は、実施例１の方法に準
じてＴｉ，ＳｉおよびＺｒを含む三元系複合酸化物の粉
体を調製した。
含む三元系複合酸化物を下記の手順によって調製した。
まずＺｒ源として酸化塩化ジルコニウム（ＺｒＯＣｌ2
・８Ｈ2 Ｏ）を更に加える以外は、実施例１の方法に準
じてＴｉ，ＳｉおよびＺｒを含む三元系複合酸化物の粉
体を調製した。
【００６７】得られた粉体の組成は、Ｔｉ：Ｓｉ：Ｚｒ
＝２０：４：１（モル比）であり、Ｘ線の回折チャート
からはＴｉＯ2 ，ＳｉＯ2 およびＺｒＯ2 の明らかな固
有ピークは認められず、ブロードな回折ピークから非晶
質な微細構造を有するＴｉ，ＳｉおよびＺｒを含む複合
酸化物であることが確認された。
＝２０：４：１（モル比）であり、Ｘ線の回折チャート
からはＴｉＯ2 ，ＳｉＯ2 およびＺｒＯ2 の明らかな固
有ピークは認められず、ブロードな回折ピークから非晶
質な微細構造を有するＴｉ，ＳｉおよびＺｒを含む複合
酸化物であることが確認された。
【００６８】このＴｉ，ＳｉおよびＺｒを含む複合酸化
物の粉体を用いて、触媒Ｎo.５の調製法と同様にしてハ
ニカム状触媒を得た。こうして得られた触媒の組成は、
重量百分率でＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 −ＺｒＯ2 複合酸化
物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：ＣｕＯ：Ｐｄ＝８４．８：３．
０：７．０：５．０：０．２であり、平均細孔径：０．
０１８μｍ、全細孔容積：０．４１ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比
表面積：９４ｍ2 ／ｇであった。
物の粉体を用いて、触媒Ｎo.５の調製法と同様にしてハ
ニカム状触媒を得た。こうして得られた触媒の組成は、
重量百分率でＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 −ＺｒＯ2 複合酸化
物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ3 ：ＣｕＯ：Ｐｄ＝８４．８：３．
０：７．０：５．０：０．２であり、平均細孔径：０．
０１８μｍ、全細孔容積：０．４１ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比
表面積：９４ｍ2 ／ｇであった。
【００６９】（触媒Ｎo.１３）硝酸銅と硝酸パラジウム
の混合水溶液を用いる代わりに、硝酸銅水溶液を用いる
以外は、上記触媒Ｎo.５の触媒の調製法と同様にして触
媒を得た。こうして得られた触媒の組成は重量百分率
で、ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ
3 ：ＣｕＯ＝８５．０：３．０：７．０：５．０であ
り、平均細孔径：０．０２５μｍ、全細孔容積：０．４
０ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：９３ｍ2 ／ｇであった。
の混合水溶液を用いる代わりに、硝酸銅水溶液を用いる
以外は、上記触媒Ｎo.５の触媒の調製法と同様にして触
媒を得た。こうして得られた触媒の組成は重量百分率
で、ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ
3 ：ＣｕＯ＝８５．０：３．０：７．０：５．０であ
り、平均細孔径：０．０２５μｍ、全細孔容積：０．４
０ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：９３ｍ2 ／ｇであった。
【００７０】（触媒Ｎo.１４）硝酸銅と硝酸パラジウム
の混合水溶液のＣｕＯ濃度を８４ｇ／リッットルに変更
する以外は、上記触媒Ｎo.５の触媒の調製法と同様にし
て触媒を得た。こうして得られた触媒の組成は重量百分
率で、ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ
3 ：ＣｕＯ：Ｐｄ＝８６．８：３．０：７．０：３．
０：０．２であり、平均細孔径：０．０３０μｍ、全細
孔容積：０．４３ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：１０５ｍ
2 ／ｇであった。
の混合水溶液のＣｕＯ濃度を８４ｇ／リッットルに変更
する以外は、上記触媒Ｎo.５の触媒の調製法と同様にし
て触媒を得た。こうして得られた触媒の組成は重量百分
率で、ＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 複合酸化物：Ｖ2 Ｏ5 ：ＷＯ
3 ：ＣｕＯ：Ｐｄ＝８６．８：３．０：７．０：３．
０：０．２であり、平均細孔径：０．０３０μｍ、全細
孔容積：０．４３ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面積：１０５ｍ
2 ／ｇであった。
【００７１】（比較例１）実施例１で得られた粉体（Ｔ
Ｓ−１）２０ｋｇに、水１２リットルと澱粉を加えて混
合し、ニーダーで練り合わせ、更に適量の水を加えつつ
練った後、押し出し成形機で、外形１５０ｍｍ角、目開
き２．８ｍｍ、肉厚０．５ｍｍ、長さ５００ｍｍのハニ
カム状に成形した。次いで、８０℃で乾燥した後、空気
雰囲気下、４５０℃で５時間焼成を行ない、「焼成体−
５」を得た。得られた焼成体−５は、平均細孔径：０．
０６μｍ、全細孔容積：０．７ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面
積：２１０ｍ2 ／ｇであった。
Ｓ−１）２０ｋｇに、水１２リットルと澱粉を加えて混
合し、ニーダーで練り合わせ、更に適量の水を加えつつ
練った後、押し出し成形機で、外形１５０ｍｍ角、目開
き２．８ｍｍ、肉厚０．５ｍｍ、長さ５００ｍｍのハニ
カム状に成形した。次いで、８０℃で乾燥した後、空気
雰囲気下、４５０℃で５時間焼成を行ない、「焼成体−
５」を得た。得られた焼成体−５は、平均細孔径：０．
０６μｍ、全細孔容積：０．７ｍｌ／ｇ、ＢＥＴ比表面
積：２１０ｍ2 ／ｇであった。
【００７２】（比較例２）セル数：２１０セル／ｉｎか
らなるコージェライト担体に、γＡｌ2 Ｏ3 を触媒１リ
ットル当たりで１５０ｇ、Ｐｔを２ｇ担持してなる市販
の酸化触媒を準備した。
らなるコージェライト担体に、γＡｌ2 Ｏ3 を触媒１リ
ットル当たりで１５０ｇ、Ｐｔを２ｇ担持してなる市販
の酸化触媒を準備した。
【００７３】上記の触媒（Ｎo.５〜１４および比較例
１、２の触媒）を用い、臭化メチルの分解試験を実施し
た。その結果を表４に示す。尚分解条件（机上テスト）
は、下記の通りである。 （分解試験条件） 触媒層入口温度：２５０℃，２７５℃，３００℃ 空間速度 ：５０００ｈｒ-1 ガス組成 ：臭化メチル；０．５容量％，Ｈ2 Ｏ；
５容量％，空気；残
１、２の触媒）を用い、臭化メチルの分解試験を実施し
た。その結果を表４に示す。尚分解条件（机上テスト）
は、下記の通りである。 （分解試験条件） 触媒層入口温度：２５０℃，２７５℃，３００℃ 空間速度 ：５０００ｈｒ-1 ガス組成 ：臭化メチル；０．５容量％，Ｈ2 Ｏ；
５容量％，空気；残
【００７４】
【表４】
【００７５】
【発明の効果】本発明は以上の様に構成されており、燻
蒸排ガスを経済的且つ高効率で浄化することのできる燻
蒸排ガス浄化用触媒、および該触媒を用いた燻蒸排ガス
の浄化方法が確立できた。
蒸排ガスを経済的且つ高効率で浄化することのできる燻
蒸排ガス浄化用触媒、および該触媒を用いた燻蒸排ガス
の浄化方法が確立できた。
【図１】本発明方法を実施するための燻蒸排ガス浄化設
備の一構成例を示す概略説明図である。
備の一構成例を示す概略説明図である。
【図２】回転式吸着装置の一構成例を示す略説明図であ
る。
る。
１ 燻蒸サイロ ２ ブロワー ３ 熱交換器 ４ ヒーター ５ 反応器 ６ アルカリ溶液貯蔵タンク ７ ポンプ ８ アルカリスクラバー ９ 循環ポンプ １１ 再生ブロワー １２ 加熱器 １３ ハニカム状吸着剤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 23/26 ＺＡＢ Ｂ０１Ｊ 23/30 ＺＡＢＡ 23/30 ＺＡＢ 23/62 ＺＡＢＡ 23/63 23/68 ＺＡＢＡ 23/62 ＺＡＢ 23/72 ＺＡＢＡ 23/68 ＺＡＢ 23/85 ＺＡＢＡ 23/72 ＺＡＢ 23/89 ＺＡＢＡ 23/85 ＺＡＢ 35/10 ３０１Ｆ 23/89 ＺＡＢ Ｂ０１Ｄ 53/36 ＺＡＢＧ 35/10 ３０１ Ｂ０１Ｊ 23/56 ３０１Ａ (72)発明者 奥原 一巳 兵庫県姫路市網干区興浜字西沖992番地の １ 株式会社日本触媒内
Claims (7)
- 【請求項１】 燻蒸排ガスを浄化するための触媒であっ
て、触媒Ａ成分として、Ｔｉ，ＳｉおよびＺｒよりなる
群から選ばれる少なくとも１種の金属の金属酸化物また
は２種以上の金属を含む複合酸化物、および触媒Ｂ成分
として、Ｖ，Ｃｕ，ＷおよびＣｒよりなる群から選ばれ
る１種以上の金属を含む酸化物を含有してなり、且つ該
触媒の平均細孔径：０．０１０〜０．０７０μｍ、全細
孔容積：０．３０〜０．６０ml／ｇ、比表面積：５０〜
２００m2／ｇであることを特徴とする燻蒸排ガス浄化用
触媒。 - 【請求項２】 更に、触媒Ｃ成分として、Ｐｄ，Ｐｔ，
Ｒｈ，ＲｕおよびＡｕよりなる群から選ばれる１種以上
の金属元素若しくはこれらの酸化物、および／または触
媒Ｄ成分として、Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，ＭｏおよびＳｎよ
りなる群から選ばれる１種以上の金属の酸化物を含有し
たものである請求項１に記載の燻蒸排ガス浄化用触媒。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の燻蒸排ガス浄
化用触媒に、燻蒸排ガスを接触させて該排ガス中の燻蒸
成分を分解する燻蒸排ガスの浄化方法。 - 【請求項４】 燻蒸排ガス中の燻蒸成分が臭化メチルお
よび／またはクロロピクリンである請求項３に記載の方
法。 - 【請求項５】 燻蒸排ガス中の燻蒸成分を吸着剤に吸着
させて、燻蒸成分を燻蒸排ガスから除去した後、前記吸
着剤から燻蒸成分を脱着させ、脱着させた燻蒸成分を、
請求項１または２に記載の燻蒸排ガス浄化用触媒に接触
させて分解処理する燻蒸排ガスの浄化方法。 - 【請求項６】 前記吸着剤が、粒状活性炭、繊維状活性
炭、粒状ゼオライトおよび繊維状ゼオライトよりなる群
から選ばれる１種以上の吸着剤である請求項５に記載の
燻蒸排ガスの浄化方法。 - 【請求項７】 燻蒸排ガス中の燻蒸成分を分解除去した
後、熱交換器によって降温し、更にアルカリスクラバー
に導入する請求項３〜６のいずれかに記載の燻蒸排ガス
の浄化方法。
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