JPH0920774A - 1−スルホニルピロール誘導体および制癌剤 - Google Patents
1−スルホニルピロール誘導体および制癌剤Info
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- JPH0920774A JPH0920774A JP17477795A JP17477795A JPH0920774A JP H0920774 A JPH0920774 A JP H0920774A JP 17477795 A JP17477795 A JP 17477795A JP 17477795 A JP17477795 A JP 17477795A JP H0920774 A JPH0920774 A JP H0920774A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規な化学構造を有し、しかも強力な細胞毒
性を有する新しい制癌剤を創製する。 【解決手段】 下記一般式 【化1】 [式中、Rは炭素数1〜5の直鎖状もしくは分岐状アル
キル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、または置
換もしくは無置換のアリール基を表し、Xは塩素原子、
臭素原子、またはヨウ素原子を表す]で表される1−ス
ルホニルピロール誘導体およびそれを有効成分とする制
癌剤。 【効果】 上記の1−スルホニルピロール誘導体は、悪
性腫瘍細胞増殖阻害活性試験において強力な細胞毒性を
示し、制癌剤としての用途を有する。
性を有する新しい制癌剤を創製する。 【解決手段】 下記一般式 【化1】 [式中、Rは炭素数1〜5の直鎖状もしくは分岐状アル
キル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、または置
換もしくは無置換のアリール基を表し、Xは塩素原子、
臭素原子、またはヨウ素原子を表す]で表される1−ス
ルホニルピロール誘導体およびそれを有効成分とする制
癌剤。 【効果】 上記の1−スルホニルピロール誘導体は、悪
性腫瘍細胞増殖阻害活性試験において強力な細胞毒性を
示し、制癌剤としての用途を有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は強力な細胞毒性を示
し、制癌効果を発揮する新規化合物及びその用途に関す
る。
し、制癌効果を発揮する新規化合物及びその用途に関す
る。
【0002】
【従来の技術】優れた制癌剤の開発には社会からの強力
な要請があり、強力な細胞毒性を有する新規な化合物を
創製することは優れた制癌剤の開発において大変重要な
位置を占めている。一般に化合物の制癌活性と制癌スペ
クトルはその化学構造に大きく依存するので、既知のも
のとは異なる新規な構造を有する細胞毒性化合物から、
現在実用に供せられている制癌剤より優れた特徴を有す
る制癌剤が開発される可能性は極めて大きい。
な要請があり、強力な細胞毒性を有する新規な化合物を
創製することは優れた制癌剤の開発において大変重要な
位置を占めている。一般に化合物の制癌活性と制癌スペ
クトルはその化学構造に大きく依存するので、既知のも
のとは異なる新規な構造を有する細胞毒性化合物から、
現在実用に供せられている制癌剤より優れた特徴を有す
る制癌剤が開発される可能性は極めて大きい。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、新規
な化学構造を有し、しかも強力な細胞毒性を有する新し
い制癌剤を創製するところにある。
な化学構造を有し、しかも強力な細胞毒性を有する新し
い制癌剤を創製するところにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、新規な化学構造を有し、しかも強力な細胞毒性
を有する化合物として下記一般式[I]を見出し、本発
明を完成させた。
た結果、新規な化学構造を有し、しかも強力な細胞毒性
を有する化合物として下記一般式[I]を見出し、本発
明を完成させた。
【0005】すなわち本発明は、下記一般式
【0006】
【化3】
【0007】[式中、Rは炭素数1〜5の直鎖状もしく
は分岐状アルキル基、置換もしくは無置換のアラルキル
基、または置換もしくは無置換のアリール基を表し、X
は塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す]で表
される1−スルホニルピロール誘導体を提供する。
は分岐状アルキル基、置換もしくは無置換のアラルキル
基、または置換もしくは無置換のアリール基を表し、X
は塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す]で表
される1−スルホニルピロール誘導体を提供する。
【0008】
【発明の実施の形態】置換基Rとしてはメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基
などのアルキル基、フェニルメチル基、p−トリルメチ
ル基、(3−フルオロフェニル)メチル基、(2−ニト
ロフェニル)メチル基、フェネチル基などのアラルキル
基、フェニル基、p−クロロフェニル基、p−メトキシ
フェニル基、p−ニトロフェニル基、p−トリル基、
2,5−ジクロロフェニル基、2,4−ジメチルフェニ
ル基、2,4−ジニトロフェニル基、メシチル基、4−
tert−ブチルフェニル基、2,4,6−トリイソプ
ロピルフェニル基などのアリール基などが例示される。
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基
などのアルキル基、フェニルメチル基、p−トリルメチ
ル基、(3−フルオロフェニル)メチル基、(2−ニト
ロフェニル)メチル基、フェネチル基などのアラルキル
基、フェニル基、p−クロロフェニル基、p−メトキシ
フェニル基、p−ニトロフェニル基、p−トリル基、
2,5−ジクロロフェニル基、2,4−ジメチルフェニ
ル基、2,4−ジニトロフェニル基、メシチル基、4−
tert−ブチルフェニル基、2,4,6−トリイソプ
ロピルフェニル基などのアリール基などが例示される。
【0009】上記一般式[I]で表される1−スルホニ
ルピロール誘導体は下記一般式[II]で表される2−
(2−フリル)ピロール誘導体(参考例参照)を金属塩
または酸で処理することにより製造することができる。
ルピロール誘導体は下記一般式[II]で表される2−
(2−フリル)ピロール誘導体(参考例参照)を金属塩
または酸で処理することにより製造することができる。
【0010】
【化4】
【0011】[式中、Rは炭素数1〜5の直鎖状もしく
は分岐状アルキル基、置換もしくは無置換のアラルキル
基、または置換もしくは無置換のアリール基を表し、X
は塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す]
は分岐状アルキル基、置換もしくは無置換のアラルキル
基、または置換もしくは無置換のアリール基を表し、X
は塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す]
【0012】上記一般式[II]で表される2−(2−
フリル)ピロール誘導体と金属塩または酸との反応は通
常溶媒中で行われる。用いられる金属塩としては塩化ス
ズ、臭化スズ、ヨウ化スズ、硫酸スズ、硝酸スズ、塩化
チタン、臭化チタン、ヨウ化チタン、硫酸チタン、硝酸
チタン、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、硫酸亜鉛、
硝酸亜鉛、三フッ化ホウ素、塩化鉄、臭化鉄、ヨウ化
鉄、硫酸鉄、硝酸鉄、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、硫酸
銅、硝酸銅、塩化クロム、臭化クロム、ヨウ化クロム、
塩化ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、硫酸ニ
ッケル、硝酸ニッケル、塩化マンガン、臭化マンガン、
ヨウ化マンガン、硫酸マンガン、硝酸マンガンなどが用
いられる。酸としてはフッ化水素、塩化水素、臭化水
素、ヨウ化水素、塩素酸、臭素酸、過塩素酸、過ヨウ素
酸、硝酸、硫酸、リン酸、ホウ酸などの無機酸、また
は、酢酸、トリフルオロ酢酸、蟻酸、安息香酸、クエン
酸、酒石酸、リンゴ酸、カンファースルホン酸、メタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ピリジニウムp
−トルエンスルホナートなどの有機酸が用いられる。
フリル)ピロール誘導体と金属塩または酸との反応は通
常溶媒中で行われる。用いられる金属塩としては塩化ス
ズ、臭化スズ、ヨウ化スズ、硫酸スズ、硝酸スズ、塩化
チタン、臭化チタン、ヨウ化チタン、硫酸チタン、硝酸
チタン、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、硫酸亜鉛、
硝酸亜鉛、三フッ化ホウ素、塩化鉄、臭化鉄、ヨウ化
鉄、硫酸鉄、硝酸鉄、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、硫酸
銅、硝酸銅、塩化クロム、臭化クロム、ヨウ化クロム、
塩化ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、硫酸ニ
ッケル、硝酸ニッケル、塩化マンガン、臭化マンガン、
ヨウ化マンガン、硫酸マンガン、硝酸マンガンなどが用
いられる。酸としてはフッ化水素、塩化水素、臭化水
素、ヨウ化水素、塩素酸、臭素酸、過塩素酸、過ヨウ素
酸、硝酸、硫酸、リン酸、ホウ酸などの無機酸、また
は、酢酸、トリフルオロ酢酸、蟻酸、安息香酸、クエン
酸、酒石酸、リンゴ酸、カンファースルホン酸、メタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ピリジニウムp
−トルエンスルホナートなどの有機酸が用いられる。
【0013】溶媒としては反応に関与しないものであれ
ばいかなるものでも用いることができるが、ペンタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−
ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロ
ゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエ−テル(エーテ
ル)、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン
(THF)、1,4−ジオキサンなどのエーテル系溶
媒、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−
プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−
メチル−1−プロパノール、2−メチル−2−プロパノ
ールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、プロピ
オニトリル、アセトン、ニトロメタン、ニトロエタン、
N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
などの非プロトン性極性溶媒、これら二つ以上の混合溶
媒系、またはこれら溶媒と水との混合溶媒系が用いられ
る。また、酸が液体の場合には酸を溶媒に兼用して用い
ることもできる。反応は−50℃から100℃で円滑に
進行する。
ばいかなるものでも用いることができるが、ペンタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−
ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロ
ゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエ−テル(エーテ
ル)、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン
(THF)、1,4−ジオキサンなどのエーテル系溶
媒、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−
プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−
メチル−1−プロパノール、2−メチル−2−プロパノ
ールなどのアルコール系溶媒、アセトニトリル、プロピ
オニトリル、アセトン、ニトロメタン、ニトロエタン、
N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
などの非プロトン性極性溶媒、これら二つ以上の混合溶
媒系、またはこれら溶媒と水との混合溶媒系が用いられ
る。また、酸が液体の場合には酸を溶媒に兼用して用い
ることもできる。反応は−50℃から100℃で円滑に
進行する。
【0014】以上のごとくして得られた上記一般式
[I]で表される1−スルホニルピロール誘導体につい
て悪性腫瘍細胞増殖阻害活性試験を行い、これらの化合
物が強力な細胞毒性を示し、制癌剤としての用途を有す
ることを確認した。
[I]で表される1−スルホニルピロール誘導体につい
て悪性腫瘍細胞増殖阻害活性試験を行い、これらの化合
物が強力な細胞毒性を示し、制癌剤としての用途を有す
ることを確認した。
【0015】本発明に係る制癌剤は、経口または非経口
的に投与することができる。その投与剤形としては、例
えば、散剤、顆粒剤、カプセル剤錠剤、丸剤、シロップ
剤、懸濁剤、注射剤などを例示することができる。これ
らは、患者の症状、年齢、および治療の目的に応じて常
用の賦形剤(例えばデンプン、乳糖、結晶セルロース、
メタケイ酸アルミン酸マグネシウム、無水ケイ酸、マン
ニトール等)、結合剤(例えばヒドロキシプロピルセル
ロース、ポリビニルピロリドン等)、滑沢剤(例えばス
テアリン酸マグネシウム、タルク等)、崩壊剤(例えば
カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ースカルシウム等)、コーテング剤(例えばヒドロキシ
エチルセルロース)、矯味剤、溶解剤ないし溶解補助剤
(例えば注射用蒸留水、生理食塩水プロピレングリコー
ル等)、懸濁剤(例えばポリソルベート80等の界面活
性剤)、pH調整剤(例えば有機酸またはその金属塩
等)、水性ないし油性の溶解補助剤(例えばアルコー
ル、脂肪酸エステル類等)、粘着剤(例えばカルボキシ
ビニルポリマー、多糖類等)、乳化剤(例えば界面活性
剤等)、安定化剤等を用い、通常の製造法(例えば第1
2改正日本薬局方に規定する方法)を用いて製造するこ
とができる。さらに、公知の技術により持続性製剤とす
ることも可能である。
的に投与することができる。その投与剤形としては、例
えば、散剤、顆粒剤、カプセル剤錠剤、丸剤、シロップ
剤、懸濁剤、注射剤などを例示することができる。これ
らは、患者の症状、年齢、および治療の目的に応じて常
用の賦形剤(例えばデンプン、乳糖、結晶セルロース、
メタケイ酸アルミン酸マグネシウム、無水ケイ酸、マン
ニトール等)、結合剤(例えばヒドロキシプロピルセル
ロース、ポリビニルピロリドン等)、滑沢剤(例えばス
テアリン酸マグネシウム、タルク等)、崩壊剤(例えば
カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ースカルシウム等)、コーテング剤(例えばヒドロキシ
エチルセルロース)、矯味剤、溶解剤ないし溶解補助剤
(例えば注射用蒸留水、生理食塩水プロピレングリコー
ル等)、懸濁剤(例えばポリソルベート80等の界面活
性剤)、pH調整剤(例えば有機酸またはその金属塩
等)、水性ないし油性の溶解補助剤(例えばアルコー
ル、脂肪酸エステル類等)、粘着剤(例えばカルボキシ
ビニルポリマー、多糖類等)、乳化剤(例えば界面活性
剤等)、安定化剤等を用い、通常の製造法(例えば第1
2改正日本薬局方に規定する方法)を用いて製造するこ
とができる。さらに、公知の技術により持続性製剤とす
ることも可能である。
【0016】本発明に係る制癌剤の投与量は、成人を治
療する場合で1日あたり約1〜500mgであり、これを
2〜3回に分けて投与することが好ましい。この投与量
は、患者の年齢、体重および症状によって増減すること
ができる。
療する場合で1日あたり約1〜500mgであり、これを
2〜3回に分けて投与することが好ましい。この投与量
は、患者の年齢、体重および症状によって増減すること
ができる。
【0017】以下、参考例、実施例、試験例で本発明を
詳細に説明するが本発明はこれらによって限定されるも
のではない。
詳細に説明するが本発明はこれらによって限定されるも
のではない。
【0018】
参考例1
【0019】
【化5】
【0020】アルゴン気流中、文献[F.Bellam
y and J.Streith,J.Chem.Re
s.(S)18(1979)およびJ.Chem.Re
s.(M)0101(1979)]記載の方法によって
合成した3−クロロ−2−ホルミルピロール(130m
g,1.00mmol)とトリエチルアミン(0.42
mL,3.0mmol)のアセトニトリル(10mL)
溶液に塩化p−トルエンスルホニル(287mg,1.
50mmol)を室温で加え、その後引き続き20時間
かきまぜた。反応混合物を飽和食塩水中にあけジエチル
エーテルで3回抽出した。有機層を集め硫酸マグネシウ
ムで乾燥したのちエバポレーターで濃縮した。残渣をシ
リカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチ
ル 9:1−4:1)で精製して3−クロロ−2−ホル
ミル−1−p−トルエンスルホニルピロール(278m
g,0.979mmol)を98%の収率で得た。
y and J.Streith,J.Chem.Re
s.(S)18(1979)およびJ.Chem.Re
s.(M)0101(1979)]記載の方法によって
合成した3−クロロ−2−ホルミルピロール(130m
g,1.00mmol)とトリエチルアミン(0.42
mL,3.0mmol)のアセトニトリル(10mL)
溶液に塩化p−トルエンスルホニル(287mg,1.
50mmol)を室温で加え、その後引き続き20時間
かきまぜた。反応混合物を飽和食塩水中にあけジエチル
エーテルで3回抽出した。有機層を集め硫酸マグネシウ
ムで乾燥したのちエバポレーターで濃縮した。残渣をシ
リカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチ
ル 9:1−4:1)で精製して3−クロロ−2−ホル
ミル−1−p−トルエンスルホニルピロール(278m
g,0.979mmol)を98%の収率で得た。
【0021】TLC Rf 0.33(ヘキサン/酢酸
エチル 4:1). 融点 74〜75℃.1 HNMRスペクトル(200MHz,CDCl3)δ
2.43(s,3H),6.39(d,J=3.3H
z,1H),7.34(br d,J=8.1Hz,2
H),7.68(d,J=3.2Hz,1H),7.8
6(br d,J=8.4Hz,2H),9.89
(s,1H). IRスペクトル (neat) 3430(br,
m),2920(m),1720(s),1680
(s),1380(s),1175(s),1120
(w),1035(m),810(m),665(m)
cm-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 285(M,
1),283(M,2),221(4),219(1
1),155(31),91(100). 元素分析 (C12H10ClNO3S) 計算値: C;
50.80,H;3.55,N;4.94,S;11.
30,Cl;12.50, 実測値: C;50.8
0,H;3.35,N;4.98,S;11.15,C
l;12.50.
エチル 4:1). 融点 74〜75℃.1 HNMRスペクトル(200MHz,CDCl3)δ
2.43(s,3H),6.39(d,J=3.3H
z,1H),7.34(br d,J=8.1Hz,2
H),7.68(d,J=3.2Hz,1H),7.8
6(br d,J=8.4Hz,2H),9.89
(s,1H). IRスペクトル (neat) 3430(br,
m),2920(m),1720(s),1680
(s),1380(s),1175(s),1120
(w),1035(m),810(m),665(m)
cm-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 285(M,
1),283(M,2),221(4),219(1
1),155(31),91(100). 元素分析 (C12H10ClNO3S) 計算値: C;
50.80,H;3.55,N;4.94,S;11.
30,Cl;12.50, 実測値: C;50.8
0,H;3.35,N;4.98,S;11.15,C
l;12.50.
【0022】参考例2
【0023】
【化6】
【0024】アルゴン気流中、−78℃で3−クロロ−
2−ホルミル−1−p−トルエンスルホニルピロール
(709mg,2.50mmol)のTHF(25m
L)溶液に臭化メチルマグネシウムの3.0Mジエチル
エーテル溶液(1.00mL,3.0mmol)を加
え、−78℃で2時間、室温でさらに16時間かきまぜ
た。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水中にあけエー
テルで3回抽出した。有機層を集め硫酸マグネシウムで
乾燥したのちエバポレーターで濃縮した。残渣をシリカ
ゲルフラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エ
チル 9:1)で精製して3−クロロ−2−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−p−トルエンスルホニルピロール
(632mg,2.11mmol)を84%の収率で得
た。
2−ホルミル−1−p−トルエンスルホニルピロール
(709mg,2.50mmol)のTHF(25m
L)溶液に臭化メチルマグネシウムの3.0Mジエチル
エーテル溶液(1.00mL,3.0mmol)を加
え、−78℃で2時間、室温でさらに16時間かきまぜ
た。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水中にあけエー
テルで3回抽出した。有機層を集め硫酸マグネシウムで
乾燥したのちエバポレーターで濃縮した。残渣をシリカ
ゲルフラッシュクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エ
チル 9:1)で精製して3−クロロ−2−(1−ヒド
ロキシエチル)−1−p−トルエンスルホニルピロール
(632mg,2.11mmol)を84%の収率で得
た。
【0025】TLC Rf 0.49(ヘキサン/酢酸
エチル 4:1).1 HNMRスペクトル (200MHz,CDCl3)δ
1.56(d,J=6.7Hz,3H),2.42
(s,3H),2.74(d,J=8.4Hz,1
H),5.28(dq,Jd=8.3,Jq=6.8H
z,1H),6.21(d,J=3.5Hz,1H),
7.20(d,J=3.5Hz,1H),7.32
(d,J=8.1Hz,2H),7.69(d,J=
8.5Hz,2H). IRスペクトル (neat) 3555(w),34
30(br w),3154(w),2978(w),
2932(w),1582(m),1370(s),1
208(m),1177(vs),1138(m),1
086(m),1034(w),999(w),920
(br w),814(w),714(m),673
(s)cm-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 301(M,
3),299(M,10),286(9),284(2
4),291(6),155(29),128(3
3),91(100).
エチル 4:1).1 HNMRスペクトル (200MHz,CDCl3)δ
1.56(d,J=6.7Hz,3H),2.42
(s,3H),2.74(d,J=8.4Hz,1
H),5.28(dq,Jd=8.3,Jq=6.8H
z,1H),6.21(d,J=3.5Hz,1H),
7.20(d,J=3.5Hz,1H),7.32
(d,J=8.1Hz,2H),7.69(d,J=
8.5Hz,2H). IRスペクトル (neat) 3555(w),34
30(br w),3154(w),2978(w),
2932(w),1582(m),1370(s),1
208(m),1177(vs),1138(m),1
086(m),1034(w),999(w),920
(br w),814(w),714(m),673
(s)cm-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 301(M,
3),299(M,10),286(9),284(2
4),291(6),155(29),128(3
3),91(100).
【0026】参考例3
【0027】
【化7】
【0028】アルゴン気流中、3−クロロ−2−(1−
ヒドロキシエチル)−1−p−トルエンスルホニルピロ
ール(116mg,0.386mmol)の塩化メチレ
ン(4mL)溶液に1,1,1−トリアセトキシ−1,
1−ジヒドロ−1,2−ベンズヨードキソール−3(1
H)−オン(327mg,0.771mmol)を室温
で加え、その後引き続き30分間かきまぜた。10%チ
オ硫酸ナトリウム水を加え激しくかきまぜたのち、反応
混合物を飽和食塩水中にあけエーテルで3回抽出した。
有機層を集め硫酸マグネシウムで乾燥したのちエバポレ
ーターで濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマ
トグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル9:1)で精製し
て2−アセチル−3−クロロ−1−p−トルエンスルホ
ニルピロール(109mg,0.365mmol)を9
5%の収率で得た。
ヒドロキシエチル)−1−p−トルエンスルホニルピロ
ール(116mg,0.386mmol)の塩化メチレ
ン(4mL)溶液に1,1,1−トリアセトキシ−1,
1−ジヒドロ−1,2−ベンズヨードキソール−3(1
H)−オン(327mg,0.771mmol)を室温
で加え、その後引き続き30分間かきまぜた。10%チ
オ硫酸ナトリウム水を加え激しくかきまぜたのち、反応
混合物を飽和食塩水中にあけエーテルで3回抽出した。
有機層を集め硫酸マグネシウムで乾燥したのちエバポレ
ーターで濃縮した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマ
トグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル9:1)で精製し
て2−アセチル−3−クロロ−1−p−トルエンスルホ
ニルピロール(109mg,0.365mmol)を9
5%の収率で得た。
【0029】TLC Rf 0.40(ヘキサン/酢酸
エチル 4:1). 融点 117℃.1 HNMRスペクトル (200MHz,CDCl3)δ
2.42(s,3H),2.54(s,3H),6.
32(d,J=3.5Hz,1H),7.33(d,J
=8.1Hz,2H),7.70(d,J=3.5H
z,1H),7.86(d,J=8.5Hz,2H). IRスペクトル (neat) 3145(w),29
20(s),2850(m),1670(s),159
0(w),1520(w),1435(m),1400
(s),1360(s),1310(m),1230
(m),1205(m),1170(s),1130
(s),1080(m),1010(m),920
(w),815(m)cm-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 299(M,
2),297(M,4),282(0.6),235
(7),233(19),220(3),218
(8),155(38),91(100). 元素分析 (C13H12ClNO3S) 計算値: C;
52.44,H;4.06,N;4.70,S;10.
77,Cl;11.91, 実測値: C;52.4
7,H;4.06,N;4.60,S;10.61,C
l;11.89.
エチル 4:1). 融点 117℃.1 HNMRスペクトル (200MHz,CDCl3)δ
2.42(s,3H),2.54(s,3H),6.
32(d,J=3.5Hz,1H),7.33(d,J
=8.1Hz,2H),7.70(d,J=3.5H
z,1H),7.86(d,J=8.5Hz,2H). IRスペクトル (neat) 3145(w),29
20(s),2850(m),1670(s),159
0(w),1520(w),1435(m),1400
(s),1360(s),1310(m),1230
(m),1205(m),1170(s),1130
(s),1080(m),1010(m),920
(w),815(m)cm-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 299(M,
2),297(M,4),282(0.6),235
(7),233(19),220(3),218
(8),155(38),91(100). 元素分析 (C13H12ClNO3S) 計算値: C;
52.44,H;4.06,N;4.70,S;10.
77,Cl;11.91, 実測値: C;52.4
7,H;4.06,N;4.60,S;10.61,C
l;11.89.
【0030】参考例4
【0031】
【化8】
【0032】アルゴン気流中、−78℃でジイソプロピ
ルアミン(1.05mL,7.14mmol)のTHF
溶液(35mL)にn−ブチルリチウムの1.7Mヘキ
サン溶液(4.1mL,7.0mmol)を加え−78
℃で5分間、0℃でさらに20分間かきまぜた。−78
℃に冷却したのち2−アセチル−3−クロロ−1−p−
トルエンスルホニルピロール(1.06g,3.56m
mol)のTHF溶液(2mL)を加え−78℃で1時
間かきまぜた。(テトラヒドロ−2−ピラニルオキシ)
アセトアルデヒド(1.01g,7.01mmol)の
THF(2mL)溶液を加え−78℃でさらに1.5時
間かきまぜた。冷反応混合物を飽和塩化アンモニウム水
中にあけエ−テルで3回抽出した。有機層を集め硫酸マ
グネシウムで乾燥したのちエバポレーターで濃縮した。
残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー(ヘキ
サン/酢酸エチル 2:1)で精製して3−クロロ−2
−[3−ヒドロキシ−1−オキソ−4−(テトラヒドロ
−2−ピラニルオキシ)ブチル]−1−p−トルエンス
ルホニルピロール(851mg,1.93mmol)を
54%の収率で原料の2−アセチル−3−クロロ−1−
p−トルエンスルホニルピロール(0.15g,0.5
0mmol)とともに得た。
ルアミン(1.05mL,7.14mmol)のTHF
溶液(35mL)にn−ブチルリチウムの1.7Mヘキ
サン溶液(4.1mL,7.0mmol)を加え−78
℃で5分間、0℃でさらに20分間かきまぜた。−78
℃に冷却したのち2−アセチル−3−クロロ−1−p−
トルエンスルホニルピロール(1.06g,3.56m
mol)のTHF溶液(2mL)を加え−78℃で1時
間かきまぜた。(テトラヒドロ−2−ピラニルオキシ)
アセトアルデヒド(1.01g,7.01mmol)の
THF(2mL)溶液を加え−78℃でさらに1.5時
間かきまぜた。冷反応混合物を飽和塩化アンモニウム水
中にあけエ−テルで3回抽出した。有機層を集め硫酸マ
グネシウムで乾燥したのちエバポレーターで濃縮した。
残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー(ヘキ
サン/酢酸エチル 2:1)で精製して3−クロロ−2
−[3−ヒドロキシ−1−オキソ−4−(テトラヒドロ
−2−ピラニルオキシ)ブチル]−1−p−トルエンス
ルホニルピロール(851mg,1.93mmol)を
54%の収率で原料の2−アセチル−3−クロロ−1−
p−トルエンスルホニルピロール(0.15g,0.5
0mmol)とともに得た。
【0033】TLC Rf 0.59(ヘキサン/酢酸
エチル 1:1).1 HNMRスペクトル (200MHz,CDCl3)δ
1.46〜1.80(m,6H),2.43(s,3
H),3.12〜3.19(m,2H),3.46〜
3.93(m,4H),4.26〜4.38(m,1
H),4.56〜4.64(m,1H),6.31
(d,J=3.4Hz,1H),7.33(d,J=
8.2Hz,2H),7.66(d,J=3.4Hz,
1H),7.86(d,J=8.3Hz,2H). IRスペクトル (neat) 3420(br
m),3145(w),2930(s),2860
(w),1670(s),1590(w),1520
(m),1415(m),1400(m),1365
(s),1170(vs),1125(s),1030
(s),970(m),900(w),810(m)c
m-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 357(M−DH
P,1),340(3),322(5),286
(4),284(4),256(4),202(5),
186(6),155(19),91(57),85
(100). CI−MS m/e 442(M+1).
エチル 1:1).1 HNMRスペクトル (200MHz,CDCl3)δ
1.46〜1.80(m,6H),2.43(s,3
H),3.12〜3.19(m,2H),3.46〜
3.93(m,4H),4.26〜4.38(m,1
H),4.56〜4.64(m,1H),6.31
(d,J=3.4Hz,1H),7.33(d,J=
8.2Hz,2H),7.66(d,J=3.4Hz,
1H),7.86(d,J=8.3Hz,2H). IRスペクトル (neat) 3420(br
m),3145(w),2930(s),2860
(w),1670(s),1590(w),1520
(m),1415(m),1400(m),1365
(s),1170(vs),1125(s),1030
(s),970(m),900(w),810(m)c
m-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 357(M−DH
P,1),340(3),322(5),286
(4),284(4),256(4),202(5),
186(6),155(19),91(57),85
(100). CI−MS m/e 442(M+1).
【0034】参考例5
【0035】
【化9】
【0036】アルゴン気流中、3−クロロ−2−[3−
ヒドロキシ−1−オキソ−4−(テトラヒドロ−2−ピ
ラニルオキシ)ブチル]−1−p−トルエンスルホニル
ピロール(176mg,0.398mmol)の塩化メ
チレン(8mL)溶液に、1,1,1−トリアセトキシ
−1,1−ジヒドロ−1,2−ベンズヨードキソール−
3(1H)−オン(212mg,0.500mmol)
を室温で1時間かけて少量ずつ加え、その後さらに1時
間室温でかきまぜた。10%チオ硫酸ナトリウム水を加
え激しくかきまぜたのち、反応混合物を飽和食塩水中に
あけエーテルで3回抽出した。有機層を集め硫酸マグネ
シウムで乾燥したのちエバポレーターで濃縮した。残渣
をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸
エチル2:1)で精製して3−クロロ−2−[1,3−
ジオキソ−4−(テトラヒドロ−2−ピラニルオキシ)
ブチル]−1−p−トルエンスルホニルピロール(10
6mg,0.240mmol)を60%の収率で得た。
ヒドロキシ−1−オキソ−4−(テトラヒドロ−2−ピ
ラニルオキシ)ブチル]−1−p−トルエンスルホニル
ピロール(176mg,0.398mmol)の塩化メ
チレン(8mL)溶液に、1,1,1−トリアセトキシ
−1,1−ジヒドロ−1,2−ベンズヨードキソール−
3(1H)−オン(212mg,0.500mmol)
を室温で1時間かけて少量ずつ加え、その後さらに1時
間室温でかきまぜた。10%チオ硫酸ナトリウム水を加
え激しくかきまぜたのち、反応混合物を飽和食塩水中に
あけエーテルで3回抽出した。有機層を集め硫酸マグネ
シウムで乾燥したのちエバポレーターで濃縮した。残渣
をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸
エチル2:1)で精製して3−クロロ−2−[1,3−
ジオキソ−4−(テトラヒドロ−2−ピラニルオキシ)
ブチル]−1−p−トルエンスルホニルピロール(10
6mg,0.240mmol)を60%の収率で得た。
【0037】TLC Rf 0.50(ヘキサン/酢酸
エチル 2:1).1 HNMRスペクトル (200MHz,CDCl3)δ
1.46〜1.93(m,6H),2.44(s,3
H),3.49〜3.59(m,1H),3.79〜
3.90(m,1H),4.16(d,J=17.0H
z,1H),4.35(d,J=16.6Hz,1
H),4.71〜4.73(br s,1H),6.3
2(d,J=3.5Hz,1H),6.41(s,1
H),7.33(d,J=8.1Hz,2H),7.5
8(d,J=3.5Hz,1H),7.86(d,J=
8.4Hz,2H). IRスペクトル (neat) 3150(br
w),2940(m),1735(w),1595(b
r s),1370(m),1175(s),1125
(s),1080(s),1035(m),810
(m)cm-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 355(M−DH
P,4),324(16),320(10),297
(3),282(4),184(7),155(4
0),128(13),91(62),85(10
0). CI−MS m/e 440(M+1).
エチル 2:1).1 HNMRスペクトル (200MHz,CDCl3)δ
1.46〜1.93(m,6H),2.44(s,3
H),3.49〜3.59(m,1H),3.79〜
3.90(m,1H),4.16(d,J=17.0H
z,1H),4.35(d,J=16.6Hz,1
H),4.71〜4.73(br s,1H),6.3
2(d,J=3.5Hz,1H),6.41(s,1
H),7.33(d,J=8.1Hz,2H),7.5
8(d,J=3.5Hz,1H),7.86(d,J=
8.4Hz,2H). IRスペクトル (neat) 3150(br
w),2940(m),1735(w),1595(b
r s),1370(m),1175(s),1125
(s),1080(s),1035(m),810
(m)cm-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 355(M−DH
P,4),324(16),320(10),297
(3),282(4),184(7),155(4
0),128(13),91(62),85(10
0). CI−MS m/e 440(M+1).
【0038】参考例6
【0039】
【化10】
【0040】アルゴン気流中、3−クロロ−2−[1,
3−ジオキソ−4−(テトラヒドロ−2−ピラニルオキ
シ)ブチル]−1−p−トルエンスルホニルピロール
(93.9mg,0.213mmol)のメタノール
(2.1mL)溶液にカンファースルホン酸(9.9m
g,0.043mmol)を室温で加え、その後引き続
き13時間かきまぜた。反応混合物を飽和炭酸水素ナト
リウム水中にあけエーテルで3回抽出した。有機層を集
め硫酸マグネシウムで乾燥したのちエバポレーターで濃
縮した。残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘ
キサン/酢酸エチル2:1,1%トリエチルアミン)で
精製して5−(3−クロロ−1−p−トルエンスルホニ
ル−2−ピロリル)−3−メトキシフラン(56.7m
g,0.161mmol)を76%の収率で得た。
3−ジオキソ−4−(テトラヒドロ−2−ピラニルオキ
シ)ブチル]−1−p−トルエンスルホニルピロール
(93.9mg,0.213mmol)のメタノール
(2.1mL)溶液にカンファースルホン酸(9.9m
g,0.043mmol)を室温で加え、その後引き続
き13時間かきまぜた。反応混合物を飽和炭酸水素ナト
リウム水中にあけエーテルで3回抽出した。有機層を集
め硫酸マグネシウムで乾燥したのちエバポレーターで濃
縮した。残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘ
キサン/酢酸エチル2:1,1%トリエチルアミン)で
精製して5−(3−クロロ−1−p−トルエンスルホニ
ル−2−ピロリル)−3−メトキシフラン(56.7m
g,0.161mmol)を76%の収率で得た。
【0041】TLC Rf 0.62(ヘキサン/酢酸
エチル 2:1).1 HNMRスペクトル(200MHz,C6D6)δ
1.72(s,3H),3.16(s,3H),5.9
0(d,J=3.5Hz,1H),6.43(brs,
1H),6.53(d,J=8.2Hz,2H),6.
83(d,J=0.9Hz,1H),7.21(d,J
=3.6Hz,1H),7.45(d,J=8.4H
z,2H). IRスペクトル (neat) 3680〜3230
(br w),2920(m),2360(w),17
20(w),1635(m),1570(m),145
5(m),1380(s),1300(w),1265
(m),1205(w),1170(s),1130
(s),1080(w),1050(m),1025
(s),980(w),890(m),800(m)c
m-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 353(M,1
1),351(M,28),198(34),196
(100),155(9),153(19),125
(8),91(23). 高分解能 MS (C16H14ClNO4S) 計算値:
351.0331,実測値: 351.0317.
(C16H14Cl*NO4S) 計算値: 353.030
1, 実測値: 353.0280.
エチル 2:1).1 HNMRスペクトル(200MHz,C6D6)δ
1.72(s,3H),3.16(s,3H),5.9
0(d,J=3.5Hz,1H),6.43(brs,
1H),6.53(d,J=8.2Hz,2H),6.
83(d,J=0.9Hz,1H),7.21(d,J
=3.6Hz,1H),7.45(d,J=8.4H
z,2H). IRスペクトル (neat) 3680〜3230
(br w),2920(m),2360(w),17
20(w),1635(m),1570(m),145
5(m),1380(s),1300(w),1265
(m),1205(w),1170(s),1130
(s),1080(w),1050(m),1025
(s),980(w),890(m),800(m)c
m-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 353(M,1
1),351(M,28),198(34),196
(100),155(9),153(19),125
(8),91(23). 高分解能 MS (C16H14ClNO4S) 計算値:
351.0331,実測値: 351.0317.
(C16H14Cl*NO4S) 計算値: 353.030
1, 実測値: 353.0280.
【0042】実施例1
【0043】
【化11】
【0044】アルゴン気流中、5−(3−クロロ−1−
p−トルエンスルホニル−2−ピロリル)−3−メトキ
シフラン(11.1mg,0.0316mmol)のジ
クロロメタン(0.4mL)溶液に塩化スズの1Mヘプ
タン溶液(0.035mL,0.035mmol)を室
温で加え、その後引き続き3日間かきまぜた。反応混合
物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢
酸エチル 2:1)で精製して淡黄色カラメル状の5−
(3−クロロ−1−p−トルエンスルホニル−2−ピロ
リル)−3−フラノン(2.9mg,0.0086mm
ol)を27%の収率で得た。
p−トルエンスルホニル−2−ピロリル)−3−メトキ
シフラン(11.1mg,0.0316mmol)のジ
クロロメタン(0.4mL)溶液に塩化スズの1Mヘプ
タン溶液(0.035mL,0.035mmol)を室
温で加え、その後引き続き3日間かきまぜた。反応混合
物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢
酸エチル 2:1)で精製して淡黄色カラメル状の5−
(3−クロロ−1−p−トルエンスルホニル−2−ピロ
リル)−3−フラノン(2.9mg,0.0086mm
ol)を27%の収率で得た。
【0045】TLC Rf 0.31(ヘキサン/酢酸
エチル 2:1).1 HNMRスペクトル(200MHz,C6D6)δ
1.77(s,3H),3.86(s,2H),5.7
8(d,J=3.5Hz,1H),5.93(s,1
H),6.56(d,J=8.4Hz,2H),7.1
8(d,J=3.6Hz,1H),7.43(d,J=
8.4Hz,2H). IRスペクトル (neat) 3410(br
m),2970(w),2940(w),1730
(w),1705(m),1605(m),1540
(w),1465(w),1390(m),1290
(w),1180(m),1135(m),1075
(m),1030(m)cm-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 339(M,
2),337(M,4),289(4),275
(6),273(18),183(6),155(4
0),91(100). 高分解能 MS (C15H12ClNO4S) 計算値:
337.0174,実測値: 337.0153.
エチル 2:1).1 HNMRスペクトル(200MHz,C6D6)δ
1.77(s,3H),3.86(s,2H),5.7
8(d,J=3.5Hz,1H),5.93(s,1
H),6.56(d,J=8.4Hz,2H),7.1
8(d,J=3.6Hz,1H),7.43(d,J=
8.4Hz,2H). IRスペクトル (neat) 3410(br
m),2970(w),2940(w),1730
(w),1705(m),1605(m),1540
(w),1465(w),1390(m),1290
(w),1180(m),1135(m),1075
(m),1030(m)cm-1. 低分解能 MS m/e(相対比) 339(M,
2),337(M,4),289(4),275
(6),273(18),183(6),155(4
0),91(100). 高分解能 MS (C15H12ClNO4S) 計算値:
337.0174,実測値: 337.0153.
【0046】実施例2
【0047】
【化12】
【0048】アルゴン気流中、5−(3−クロロ−1−
p−トルエンスルホニル−2−ピロリル)−3−メトキ
シフラン(15.9mg,0.0452mmol)のメ
タノール(0.3mL)/水(0.05mL)溶液にカ
ンファースルホン酸(21.0mg,0.0904mm
ol)を室温で加え、その後引き続き3時間かきまぜ
た。反応混合物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー
(ヘキサン/酢酸エチル2:1)で精製して、淡黄色カ
ラメル状の5−(3−クロロ−1−p−トルエンスルホ
ニル−2−ピロリル)−3−フラノン(7.0mg,
0.021mmol)を46%の収率で、原料の5−
(3−クロロ−1−p−トルエンスルホニル−2−ピロ
リル)−3−メトキシフラン(6.0mg,0.017
mmol)とともに得た。得られた化合物のTLC及び
1HNMRスペクトルは実施例1のものと完全に一致し
た.
p−トルエンスルホニル−2−ピロリル)−3−メトキ
シフラン(15.9mg,0.0452mmol)のメ
タノール(0.3mL)/水(0.05mL)溶液にカ
ンファースルホン酸(21.0mg,0.0904mm
ol)を室温で加え、その後引き続き3時間かきまぜ
た。反応混合物をシリカゲル薄層クロマトグラフィー
(ヘキサン/酢酸エチル2:1)で精製して、淡黄色カ
ラメル状の5−(3−クロロ−1−p−トルエンスルホ
ニル−2−ピロリル)−3−フラノン(7.0mg,
0.021mmol)を46%の収率で、原料の5−
(3−クロロ−1−p−トルエンスルホニル−2−ピロ
リル)−3−メトキシフラン(6.0mg,0.017
mmol)とともに得た。得られた化合物のTLC及び
1HNMRスペクトルは実施例1のものと完全に一致し
た.
【0049】試験例1 マウスリンパ性白血病細胞(P388)を10%仔牛胎
児血清含有のRPMI−1640培養液に加え、培養細
胞を5x104個/mLに調整した。これに本発明の化
合物である一般式[I]で表される1−スルホニルピロ
ール誘導体を所定の濃度になるように添加し、37℃で
二日間培養した。コールターカウンターを用いて浮遊細
胞数を計測し、対照区に対する増殖阻害率から50%細
胞増殖阻害濃度(IC50)を求めた。その結果、5−
(3−クロロ−1−p−トルエンスルホニル−2−ピロ
リル)−3−フラノンのIC50は3.4x10-3μg/
mLであった。
児血清含有のRPMI−1640培養液に加え、培養細
胞を5x104個/mLに調整した。これに本発明の化
合物である一般式[I]で表される1−スルホニルピロ
ール誘導体を所定の濃度になるように添加し、37℃で
二日間培養した。コールターカウンターを用いて浮遊細
胞数を計測し、対照区に対する増殖阻害率から50%細
胞増殖阻害濃度(IC50)を求めた。その結果、5−
(3−クロロ−1−p−トルエンスルホニル−2−ピロ
リル)−3−フラノンのIC50は3.4x10-3μg/
mLであった。
【0050】
【発明の効果】本発明の一般式[I]で表される1−ス
ルホニルピロール誘導体は、悪性腫瘍細胞増殖阻害活性
試験において強力な細胞毒性を示し、制癌剤としての用
途を有する。
ルホニルピロール誘導体は、悪性腫瘍細胞増殖阻害活性
試験において強力な細胞毒性を示し、制癌剤としての用
途を有する。
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式 【化1】 [式中、Rは炭素数1〜5の直鎖状もしくは分岐状アル
キル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、または置
換もしくは無置換のアリール基を表し、Xは塩素原子、
臭素原子、またはヨウ素原子を表す]で表される1−ス
ルホニルピロール誘導体。 - 【請求項2】 下記一般式 【化2】 [式中、Rは炭素数1〜5の直鎖状もしくは分岐状アル
キル基、置換もしくは無置換のアラルキル基、または置
換もしくは無置換のアリール基を表し、Xは塩素原子、
臭素原子、またはヨウ素原子を表す]で表される1−ス
ルホニルピロール誘導体を有効成分とする制癌剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17477795A JPH0920774A (ja) | 1995-07-11 | 1995-07-11 | 1−スルホニルピロール誘導体および制癌剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17477795A JPH0920774A (ja) | 1995-07-11 | 1995-07-11 | 1−スルホニルピロール誘導体および制癌剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0920774A true JPH0920774A (ja) | 1997-01-21 |
Family
ID=15984491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17477795A Pending JPH0920774A (ja) | 1995-07-11 | 1995-07-11 | 1−スルホニルピロール誘導体および制癌剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0920774A (ja) |
-
1995
- 1995-07-11 JP JP17477795A patent/JPH0920774A/ja active Pending
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