JPH09170076A - 陰極スパッタ用ターゲットおよびかかるターゲットの製造方法 - Google Patents
陰極スパッタ用ターゲットおよびかかるターゲットの製造方法Info
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- JPH09170076A JPH09170076A JP8213760A JP21376096A JPH09170076A JP H09170076 A JPH09170076 A JP H09170076A JP 8213760 A JP8213760 A JP 8213760A JP 21376096 A JP21376096 A JP 21376096A JP H09170076 A JPH09170076 A JP H09170076A
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い強度および同時に高いスパッタ速度によ
り優れている陰極スパッタ用ターゲットを提供する。 【解決手段】 理論密度の少なくとも９５％の密度およ
び不足化学量論的酸素含量を有し、熱間圧縮または静水
圧熱間圧縮した酸化インジウム／酸化スズ粉末を基礎と
するターゲットは、少なくとも９０％の重量割合が酸化
インジウムおよび酸化スズの混晶として構成されてい
て、２μｍと２０μｍの間の平均粒度を有する結晶相を
有する。酸素含量の明確な調節およびターゲットの全体
積にわたる均一な化学組成を許容するターゲットは、微
細な金属インジウム−スズの酸化により製造した原料粉
末を使用することにより、簡単かつ価格的に有利に製造
することができる。
り優れている陰極スパッタ用ターゲットを提供する。 【解決手段】 理論密度の少なくとも９５％の密度およ
び不足化学量論的酸素含量を有し、熱間圧縮または静水
圧熱間圧縮した酸化インジウム／酸化スズ粉末を基礎と
するターゲットは、少なくとも９０％の重量割合が酸化
インジウムおよび酸化スズの混晶として構成されてい
て、２μｍと２０μｍの間の平均粒度を有する結晶相を
有する。酸素含量の明確な調節およびターゲットの全体
積にわたる均一な化学組成を許容するターゲットは、微
細な金属インジウム−スズの酸化により製造した原料粉
末を使用することにより、簡単かつ価格的に有利に製造
することができる。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、理論密度の少なく
とも９５％の密度および不足化学量論的酸素含量を有す
る、熱間圧縮または静水圧熱間圧縮した酸化インジウム
／酸化スズ粉末を基礎とする陰極スパッタ用ターゲット
に関する。
とも９５％の密度および不足化学量論的酸素含量を有す
る、熱間圧縮または静水圧熱間圧縮した酸化インジウム
／酸化スズ粉末を基礎とする陰極スパッタ用ターゲット
に関する。
【０００２】
【従来の技術】このようなターゲットは、たとえば酸化
インジウム／酸化スズからなる薄層の製造のために使用
される。これらのいわゆるＩＴＯ層はその光透過性およ
び導電率により優れている。このようなターゲットは、
たとえば液晶表示装置の製造のために使用される。最良
であると実証されたのは、酸化インジウム約９０重量％
および酸化スズ約１０重量％を含有するＩＴＯ層の組成
である。
インジウム／酸化スズからなる薄層の製造のために使用
される。これらのいわゆるＩＴＯ層はその光透過性およ
び導電率により優れている。このようなターゲットは、
たとえば液晶表示装置の製造のために使用される。最良
であると実証されたのは、酸化インジウム約９０重量％
および酸化スズ約１０重量％を含有するＩＴＯ層の組成
である。
【０００３】この種類のターゲットは、ドイツ国特許
（ＤＥ−Ｃ１）第４４０７７７４号から公知である。タ
ーゲットの酸化物セラミックのマトリックス中には、５
０μｍ以下の大きさを有する金属相部分が均一に分配し
て含有されている。ターゲットは、相当する完全酸化物
形材料の理論密度の９６％よりも大きい密度を有する。
（ＤＥ−Ｃ１）第４４０７７７４号から公知である。タ
ーゲットの酸化物セラミックのマトリックス中には、５
０μｍ以下の大きさを有する金属相部分が均一に分配し
て含有されている。ターゲットは、相当する完全酸化物
形材料の理論密度の９６％よりも大きい密度を有する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、高い
強度と同時に高いスパッタ速度により優れているターゲ
ットを提供することである。
強度と同時に高いスパッタ速度により優れているターゲ
ットを提供することである。
【０００５】さらに、本発明は酸化インジウム／酸化ス
ズ原料粉末を熱間圧縮または静水圧熱間圧縮（ホットア
イソスタテイックプレッシング）により供給することに
より陰極スパッタ用ターゲットの製造方法に関する。こ
のような方法も、ドイツ国特許（ＤＥ−Ｃ１）第４４０
７７７４号から公知である。酸化インジウムと酸化スズ
からなる粉末を還元雰囲気下に灼熱して、約０．０２〜
０．２の還元度を調節することが提案される。この場
合、還元度は完全酸物形粉末の酸素含量に対する、上記
還元処理の間の酸素損失と定義されている。還元処理に
より、スズ含量が９０重量％以上である、１〜１０μｍ
の大きさの球状金属相を有する粉末が製造された。こう
して製造された粉末はシリンダー中で予備圧縮され、次
いで鋼製缶中で約８００℃および２００ＭＰａの圧力で
熱間静水圧圧密される。
ズ原料粉末を熱間圧縮または静水圧熱間圧縮（ホットア
イソスタテイックプレッシング）により供給することに
より陰極スパッタ用ターゲットの製造方法に関する。こ
のような方法も、ドイツ国特許（ＤＥ−Ｃ１）第４４０
７７７４号から公知である。酸化インジウムと酸化スズ
からなる粉末を還元雰囲気下に灼熱して、約０．０２〜
０．２の還元度を調節することが提案される。この場
合、還元度は完全酸物形粉末の酸素含量に対する、上記
還元処理の間の酸素損失と定義されている。還元処理に
より、スズ含量が９０重量％以上である、１〜１０μｍ
の大きさの球状金属相を有する粉末が製造された。こう
して製造された粉末はシリンダー中で予備圧縮され、次
いで鋼製缶中で約８００℃および２００ＭＰａの圧力で
熱間静水圧圧密される。
【０００６】提案された方法は作業に比較的費用がかか
る。還元雰囲気下の処理は、適当な還元剤、たとえば保
護ガスの準備を必要とし、従って経費がかかる。酸素含
量の正確な調節は、大きい慎重さを必要とする。殊にタ
ーゲットの全体積にわたり均一な還元度の調節ならびに
金属相の高いスズ含量も問題である。
る。還元雰囲気下の処理は、適当な還元剤、たとえば保
護ガスの準備を必要とし、従って経費がかかる。酸素含
量の正確な調節は、大きい慎重さを必要とする。殊にタ
ーゲットの全体積にわたり均一な還元度の調節ならびに
金属相の高いスズ含量も問題である。
【０００７】従ってさらに本発明の課題は、酸素含量の
明確な調節およびターゲットの全体積にわたる均一な化
学的組成を許容するターゲットを提供することである。
明確な調節およびターゲットの全体積にわたる均一な化
学的組成を許容するターゲットを提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】ターゲットに関し、上記
の課題は冒頭に記載したターゲットから出発して、本発
明によりターゲットは少なくとも９０％、とくに少なく
とも９７％の重量割合が酸化インジウムと酸化スズとの
混晶として構成されていて、２μｍと２０μｍの間の粒
度を有することによって解決される。
の課題は冒頭に記載したターゲットから出発して、本発
明によりターゲットは少なくとも９０％、とくに少なく
とも９７％の重量割合が酸化インジウムと酸化スズとの
混晶として構成されていて、２μｍと２０μｍの間の粒
度を有することによって解決される。
【０００９】２０μｍよりも粗大な粒子ではスパッタタ
ーゲットが脆くなり、２μｍよりも微細な粒子では達成
されるスパッタ速度が僅かであることが判明した。酸化
物粒子が混晶として存在することにより、インジウムお
よびスズの殊に均一な分配が保証される。これにより、
本発明によるターゲットから一様で均一なＩＴＯ層の製
造が容易になる。さらに、均一で大体において単相の結
晶組織はターゲットの破壊強さを助長する。さらに、単
相の混晶構造は、高い導電率を有するＩＴＯ層の製造を
可能にする。これらの有利な効果は、ターゲット中の混
晶相の割合が高いほど、ますます強く現れる。この効果
は、９０重量％の最低割合から初めて認められることが
証明された。
ーゲットが脆くなり、２μｍよりも微細な粒子では達成
されるスパッタ速度が僅かであることが判明した。酸化
物粒子が混晶として存在することにより、インジウムお
よびスズの殊に均一な分配が保証される。これにより、
本発明によるターゲットから一様で均一なＩＴＯ層の製
造が容易になる。さらに、均一で大体において単相の結
晶組織はターゲットの破壊強さを助長する。さらに、単
相の混晶構造は、高い導電率を有するＩＴＯ層の製造を
可能にする。これらの有利な効果は、ターゲット中の混
晶相の割合が高いほど、ますます強く現れる。この効果
は、９０重量％の最低割合から初めて認められることが
証明された。
【００１０】混晶相が、外側から内側へ減少する酸素含
量を有する酸化インジウム／酸化スズ粉末粒子の熱間プ
レスまたは静水圧熱間圧縮によって製造されているター
ゲットがとくに有利であることが実証された。しかしこ
の場合、酸素含量は、連続的に減少してもよく、粉末粒
子は金属の芯部を取り囲む酸化物の外皮を有することも
できる。このような粉末粒子は、とくに容易に緻密焼結
できる。その際、混晶が酸化インジウムの格子構造中に
存在するターゲットの実施形が好まれる。
量を有する酸化インジウム／酸化スズ粉末粒子の熱間プ
レスまたは静水圧熱間圧縮によって製造されているター
ゲットがとくに有利であることが実証された。しかしこ
の場合、酸素含量は、連続的に減少してもよく、粉末粒
子は金属の芯部を取り囲む酸化物の外皮を有することも
できる。このような粉末粒子は、とくに容易に緻密焼結
できる。その際、混晶が酸化インジウムの格子構造中に
存在するターゲットの実施形が好まれる。
【００１１】適当な混晶相は、従前のドイツ国特許出願
（ＤＥ）第４４２７０６０号において明瞭に引用されて
おり、殊に粉末回折法による回折測定により詳細に特性
決定されている。
（ＤＥ）第４４２７０６０号において明瞭に引用されて
おり、殊に粉末回折法による回折測定により詳細に特性
決定されている。
【００１２】有利に、粉末粒子は、インジウム含量が少
なくとも５０重量％である金属相を有する。それで、金
属相中ではインジウム含量はスズ分量に比して勝ってい
る。これは、通常のＩＴＯ組成、たとえば酸化インジウ
ム／酸化スズの９０：１０の混合比の場合も事情は同じ
である。従って、技術水準から公知のスズの分量の多い
金属相を有するターゲットに比べて、このようなインジ
ウムの分量の多い金属相を有する粉末粒子はなかんず
く、その化学的組成が酸化物相の化学的組成に一そう良
く一致することによって優れている。これが、ターゲッ
トの全体積にわたるスズおよびインジウムの均一な分配
を保証する。
なくとも５０重量％である金属相を有する。それで、金
属相中ではインジウム含量はスズ分量に比して勝ってい
る。これは、通常のＩＴＯ組成、たとえば酸化インジウ
ム／酸化スズの９０：１０の混合比の場合も事情は同じ
である。従って、技術水準から公知のスズの分量の多い
金属相を有するターゲットに比べて、このようなインジ
ウムの分量の多い金属相を有する粉末粒子はなかんず
く、その化学的組成が酸化物相の化学的組成に一そう良
く一致することによって優れている。これが、ターゲッ
トの全体積にわたるスズおよびインジウムの均一な分配
を保証する。
【００１３】本発明によるターゲットの好ましい１実施
形においては、インジウム分量の多い金属相の化学組成
−酸素含量を除く−は、結晶相の化学組成にできるだけ
接近する。これは、たとえば９０：１０の酸化インジウ
ム：酸化スズを有する結晶相の組成において、金属相中
の５０重量％と９０重量％の間のインジウム分量の場合
も事情は同じである。
形においては、インジウム分量の多い金属相の化学組成
−酸素含量を除く−は、結晶相の化学組成にできるだけ
接近する。これは、たとえば９０：１０の酸化インジウ
ム：酸化スズを有する結晶相の組成において、金属相中
の５０重量％と９０重量％の間のインジウム分量の場合
も事情は同じである。
【００１４】方法に関して、上記の課題は冒頭に記載し
た方法から出発して、本発明により原料粉末を微細な金
属インジウム−スズの酸化によって製造することによっ
て解決される。本発明による方法においては、微細な金
属をインジウムおよびスズの所望の組成に一致して製造
し、引き続き酸化する。金属中でインジウムおよびスズ
は調節すべき濃度比に一致して均一に分配されているの
で、これから製造した原料粉末も均一な組成を有する。
た方法から出発して、本発明により原料粉末を微細な金
属インジウム−スズの酸化によって製造することによっ
て解決される。本発明による方法においては、微細な金
属をインジウムおよびスズの所望の組成に一致して製造
し、引き続き酸化する。金属中でインジウムおよびスズ
は調節すべき濃度比に一致して均一に分配されているの
で、これから製造した原料粉末も均一な組成を有する。
【００１５】原料粉末の酸素含量は、酸化処理の程度に
より容易に変え、明確に調節することができる。それ
で、化学量論的ならびに不足化学量論的酸素含量を有す
る原料粉末を得ることができる。従って、本発明による
方法においては、焼結する際のターゲットのあとからの
酸化−または還元処理は省略することができる。しか
し、本発明による方法は、あとからの酸化−または還元
処理の回避を、はっきりとかつそれだけを目標とはしな
い。このような後処理が付加的に適当と思われる場合に
は、この後処理はその酸化度に予め調節した原料粉末の
使用によってそれぞれの場合に容易になる。
より容易に変え、明確に調節することができる。それ
で、化学量論的ならびに不足化学量論的酸素含量を有す
る原料粉末を得ることができる。従って、本発明による
方法においては、焼結する際のターゲットのあとからの
酸化−または還元処理は省略することができる。しか
し、本発明による方法は、あとからの酸化−または還元
処理の回避を、はっきりとかつそれだけを目標とはしな
い。このような後処理が付加的に適当と思われる場合に
は、この後処理はその酸化度に予め調節した原料粉末の
使用によってそれぞれの場合に容易になる。
【００１６】さらに、本発明による方法は全ターゲット
体積にわたる酸素含量の明確な調節が可能である。個々
の粉末粒子の酸素含量は、明確に調節することができ
る。微細な粉末においては、粉末の適当な分配によりタ
ーゲット中で任意の酸素分配を達成することができる。
たとえばターゲット体積中の酸素含量が−巨視的に見て
−一定であるべき場合には、粉末粒子中にそのつど同じ
酸素含量を有する原料粉末を圧縮する。普通、原料粉末
から大きいブロックを焼結し、次にこれから幾つかのタ
ーゲットを製造することができる。
体積にわたる酸素含量の明確な調節が可能である。個々
の粉末粒子の酸素含量は、明確に調節することができ
る。微細な粉末においては、粉末の適当な分配によりタ
ーゲット中で任意の酸素分配を達成することができる。
たとえばターゲット体積中の酸素含量が−巨視的に見て
−一定であるべき場合には、粉末粒子中にそのつど同じ
酸素含量を有する原料粉末を圧縮する。普通、原料粉末
から大きいブロックを焼結し、次にこれから幾つかのタ
ーゲットを製造することができる。
【００１７】原料粉末をインジウム−スズの金属溶融液
を酸化条件下で噴霧することにより製造する方法が好ま
しい。下記に共酸化（Ｋｏｏｘｉｄａｔｉｏｎ）と呼称
するこの方法においては、インジウム−スズ溶融液を微
細に噴霧し、酸素含有雰囲気中で燃焼させる。このため
には、大気中に存在する酸素が十分であるが、空気も酸
素を添加することができる。こうして普通、完全に酸化
されておらずかつ不足化学量論的酸化物または金属相が
存在しうる混晶粉末が生じる。こうして製造された原料
粉末の場合、粉末粒子は外部に、内部よりも高い酸素含
量を有することができる。これは、粉末粒子が外部で酸
化されており、内部に金属相を有するまで進行しうる。
金属相は、かかる混晶粉末中に殊に均一に分配されてい
る。
を酸化条件下で噴霧することにより製造する方法が好ま
しい。下記に共酸化（Ｋｏｏｘｉｄａｔｉｏｎ）と呼称
するこの方法においては、インジウム−スズ溶融液を微
細に噴霧し、酸素含有雰囲気中で燃焼させる。このため
には、大気中に存在する酸素が十分であるが、空気も酸
素を添加することができる。こうして普通、完全に酸化
されておらずかつ不足化学量論的酸化物または金属相が
存在しうる混晶粉末が生じる。こうして製造された原料
粉末の場合、粉末粒子は外部に、内部よりも高い酸素含
量を有することができる。これは、粉末粒子が外部で酸
化されており、内部に金属相を有するまで進行しうる。
金属相は、かかる混晶粉末中に殊に均一に分配されてい
る。
【００１８】不足化学量論的酸素含量を有する原料粉末
の使用がとくに有利であることが実証された。このよう
な粉末は、さらに還元処理せずに、熱間圧縮または静水
圧熱間圧縮によってさらに加工することができる。それ
故、本発明による方法では、焼結する際にターゲットの
費用のかかるあとからの還元処理を省略することができ
る。完全に酸化されていない原料粉末は熱間圧縮の間な
いしは静水圧熱間圧縮の間還元−ないしは酸化条件の正
確な維持を必要とせず、その際特定の裕度が与えられて
いることが判明した。その際、原料粉末の酸素含量は、
これから製造したターゲット中に金属インジウムおよび
／またはスズが細かく分配された形で存在する程度に低
くてもよい。
の使用がとくに有利であることが実証された。このよう
な粉末は、さらに還元処理せずに、熱間圧縮または静水
圧熱間圧縮によってさらに加工することができる。それ
故、本発明による方法では、焼結する際にターゲットの
費用のかかるあとからの還元処理を省略することができ
る。完全に酸化されていない原料粉末は熱間圧縮の間な
いしは静水圧熱間圧縮の間還元−ないしは酸化条件の正
確な維持を必要とせず、その際特定の裕度が与えられて
いることが判明した。その際、原料粉末の酸素含量は、
これから製造したターゲット中に金属インジウムおよび
／またはスズが細かく分配された形で存在する程度に低
くてもよい。
【００１９】原料粉末の酸素含量は、いわゆる“熱間抽
出法（Ｈｅｉｓｓｅｘｔｒａｋｔｉｏｎｓｖｅｒｆａｈ
ｒｅｎ）”を用いて確かめられる。その際、原料粉末な
いしは粉末状ターゲット材料の正確な秤取量を黒鉛坩堝
中で加熱し、その際一酸化炭素または二酸化炭素の形で
遊離した酸素を測定する。
出法（Ｈｅｉｓｓｅｘｔｒａｋｔｉｏｎｓｖｅｒｆａｈ
ｒｅｎ）”を用いて確かめられる。その際、原料粉末な
いしは粉末状ターゲット材料の正確な秤取量を黒鉛坩堝
中で加熱し、その際一酸化炭素または二酸化炭素の形で
遊離した酸素を測定する。
【００２０】原料粉末の粉末粒子が外部から内部へ減少
する酸素含量を有する方法がとくに有利であることが実
証された。その際、酸素含量は連続的に減少してもよい
し、または粉末粒子は金属相からなる芯部を取り囲む酸
化物の外皮を有していてもよい。それぞれの場合に、金
属相または不足化学量論的酸化物は各個々の粉末粒子中
に一様に生じる。従ってこの粉末粒子から製造されるプ
レス加工品中に存在する酸素は一様に分配されている。
する酸素含量を有する方法がとくに有利であることが実
証された。その際、酸素含量は連続的に減少してもよい
し、または粉末粒子は金属相からなる芯部を取り囲む酸
化物の外皮を有していてもよい。それぞれの場合に、金
属相または不足化学量論的酸化物は各個々の粉末粒子中
に一様に生じる。従ってこの粉末粒子から製造されるプ
レス加工品中に存在する酸素は一様に分配されている。
【００２１】このような原料粉末は焼結雰囲気の変化に
対して鈍感に反応し、殊に容易に緻密焼結できることが
判明した。酸化物外皮が粉末粒子がさらに酸化されるの
を阻止するかまたは遅くするので、これにより粉末粒子
の焼結はたとえば空気中で、粉末粒子ないしはターゲッ
トの予め調節された酸化度を著しく左右することなしに
可能になるものと想定することができる。原料粉末から
は、焼結する際に液状の金属相が生じ、この金属相が焼
結した後ターゲット中でそれぞれ任意の立体配置をとる
ことができる。しかし、本発明による方法はそれぞれの
場合にこのような金属相の一様な分配を容易にする。
対して鈍感に反応し、殊に容易に緻密焼結できることが
判明した。酸化物外皮が粉末粒子がさらに酸化されるの
を阻止するかまたは遅くするので、これにより粉末粒子
の焼結はたとえば空気中で、粉末粒子ないしはターゲッ
トの予め調節された酸化度を著しく左右することなしに
可能になるものと想定することができる。原料粉末から
は、焼結する際に液状の金属相が生じ、この金属相が焼
結した後ターゲット中でそれぞれ任意の立体配置をとる
ことができる。しかし、本発明による方法はそれぞれの
場合にこのような金属相の一様な分配を容易にする。
【００２２】インジウム含量が少なくとも５０重量％で
ある金属相を有する原料粉末を使用する方法がとくに有
利であることが実証された。この原料粉末においては、
金属相中のインジウム含量はスズ含量に勝る。これは、
通常のＩＴＯ組成の場合、たとえば酸化インジウム対酸
化スズの９０：１０の量比の場合も事情は同じである。
技術水準から公知の、スズ分量の多い金属相を有するタ
ーゲットに比して、このようなインジウム分量の多い金
属相を有する粉末粒子はなかんずく、その化学組成が酸
化物相の化学組成に一そう接近しているかまたはむしろ
これに一致することにより優れている。これが、ターゲ
ットの全体積にわたる、しかも金属相においても、所定
のインジウム−スズ濃度比に応じてスズおよびインジウ
ムの均一な分配を保証する。これは、上記の“同時ない
しは共酸化法”によって達成することができる。それと
いうのもインジウム−スズ−金属溶融液の霧化の際には
通常化学平衡は成立しないので、粉末中に維持されてい
る金属相の組成はむしろ金属溶融液の組成に一致し、必
然的に熱力学に基づき平衡が期待される組成には一致し
ない。
ある金属相を有する原料粉末を使用する方法がとくに有
利であることが実証された。この原料粉末においては、
金属相中のインジウム含量はスズ含量に勝る。これは、
通常のＩＴＯ組成の場合、たとえば酸化インジウム対酸
化スズの９０：１０の量比の場合も事情は同じである。
技術水準から公知の、スズ分量の多い金属相を有するタ
ーゲットに比して、このようなインジウム分量の多い金
属相を有する粉末粒子はなかんずく、その化学組成が酸
化物相の化学組成に一そう接近しているかまたはむしろ
これに一致することにより優れている。これが、ターゲ
ットの全体積にわたる、しかも金属相においても、所定
のインジウム−スズ濃度比に応じてスズおよびインジウ
ムの均一な分配を保証する。これは、上記の“同時ない
しは共酸化法”によって達成することができる。それと
いうのもインジウム−スズ−金属溶融液の霧化の際には
通常化学平衡は成立しないので、粉末中に維持されてい
る金属相の組成はむしろ金属溶融液の組成に一致し、必
然的に熱力学に基づき平衡が期待される組成には一致し
ない。
【００２３】本発明による方法の好ましい実施形におい
ては、インジウム分量の多い金属相の化学組成−酸素含
量は除く−結晶相の化学組成にできるだけ接近する。こ
れは、たとえば９０：１０の酸化インジウム対酸化スズ
を有する結晶相の組成の場合、金属相中の５０重量％と
９０重量％の間のインジウム分量の場合でも事情は同じ
である。
ては、インジウム分量の多い金属相の化学組成−酸素含
量は除く−結晶相の化学組成にできるだけ接近する。こ
れは、たとえば９０：１０の酸化インジウム対酸化スズ
を有する結晶相の組成の場合、金属相中の５０重量％と
９０重量％の間のインジウム分量の場合でも事情は同じ
である。
【００２４】緻密焼結は、原料粉末が２μｍ〜２０μｍ
の範囲内の平均粒度を有する場合、さらに簡単になる。
このような微細な原料粉末によって、全ターゲット体積
中の酸素および存在する金属相の同様に微細かつ一様な
分配が達成される。これに関して、できるだけ狭い粒度
分布を有する原料粉末を使用するのが殊に有利である。
粉末粒子の９０％量が平均粒度から最大５０％変異する
原料粉末が有利であることが実証された。
の範囲内の平均粒度を有する場合、さらに簡単になる。
このような微細な原料粉末によって、全ターゲット体積
中の酸素および存在する金属相の同様に微細かつ一様な
分配が達成される。これに関して、できるだけ狭い粒度
分布を有する原料粉末を使用するのが殊に有利である。
粉末粒子の９０％量が平均粒度から最大５０％変異する
原料粉末が有利であることが実証された。
【００２５】ターゲットを、混晶相の分量が酸化インジ
ウムの結晶格子中に存在する原料粉末から製造する方法
がとくに有利であることが実証された。これにより、イ
ンジウムおよびスズのことに均一な分配が保証され、こ
れが本発明によるターゲットからの一様で均一なＩＴＯ
相の製造を容易にする。均一で、大体において単相の結
晶組織は、ターゲットの破壊強さも増加する。これらの
有利な効果は、ターゲット中の混晶相の分量が高ければ
高いほど、ますます強く現れる。効果は、約９０重量％
の最低分量から初めて観察される。混晶相は、上記に記
載した共酸化法によってとくに簡単に得られる。
ウムの結晶格子中に存在する原料粉末から製造する方法
がとくに有利であることが実証された。これにより、イ
ンジウムおよびスズのことに均一な分配が保証され、こ
れが本発明によるターゲットからの一様で均一なＩＴＯ
相の製造を容易にする。均一で、大体において単相の結
晶組織は、ターゲットの破壊強さも増加する。これらの
有利な効果は、ターゲット中の混晶相の分量が高ければ
高いほど、ますます強く現れる。効果は、約９０重量％
の最低分量から初めて観察される。混晶相は、上記に記
載した共酸化法によってとくに簡単に得られる。
【００２６】原料粉末の熱間圧縮ないしは静水圧熱間圧
縮は、とくに８００℃と１０５０℃の間の低い温度で行
われる。これらの温度で、原料粉末の緻密焼結が行われ
る。より高い焼結温度では、酸化スズが混晶相から再び
析出する危険がある。他面において、できるだけ高い温
度で焼結するのが高い密度を得るのには有利である。こ
れらの焼結温度は、経済的方法を可能にする。しかし低
い焼結温度は、周知のように、長い焼結時間によって相
殺され、その逆も起こりうる。記載された焼結温度はこ
の限りにおいて単に基準値とみなすべきである。それと
いうのも同じ焼結結果がたとえば低い焼結温度で、しか
し相応に長い焼結時間においても達成可能であるからで
ある。
縮は、とくに８００℃と１０５０℃の間の低い温度で行
われる。これらの温度で、原料粉末の緻密焼結が行われ
る。より高い焼結温度では、酸化スズが混晶相から再び
析出する危険がある。他面において、できるだけ高い温
度で焼結するのが高い密度を得るのには有利である。こ
れらの焼結温度は、経済的方法を可能にする。しかし低
い焼結温度は、周知のように、長い焼結時間によって相
殺され、その逆も起こりうる。記載された焼結温度はこ
の限りにおいて単に基準値とみなすべきである。それと
いうのも同じ焼結結果がたとえば低い焼結温度で、しか
し相応に長い焼結時間においても達成可能であるからで
ある。
【００２７】次に、本発明によるターゲットおよびかか
るターゲットの本発明による製造を、実施例および図面
につき詳説する。
るターゲットの本発明による製造を、実施例および図面
につき詳説する。
【００２８】
１．粉末製造方法の第１法 原料粉末製造のために、インジウムとスズからなる金属
溶融液を製造した。溶融液のインジウム分量ないしはス
ズ分量は、酸化物に関して、酸化インジウム９０重量
％、酸化スズ１０重量％の重量割合が得られるように調
節した。溶融液を噴霧し、その際酸素８０容量％および
空気２０容量％からなる雰囲気下で部分的に酸化した。
溶融液を製造した。溶融液のインジウム分量ないしはス
ズ分量は、酸化物に関して、酸化インジウム９０重量
％、酸化スズ１０重量％の重量割合が得られるように調
節した。溶融液を噴霧し、その際酸素８０容量％および
空気２０容量％からなる雰囲気下で部分的に酸化した。
【００２９】こうして製造したＩＴＯ原料粉末は、約９
７％の重量割合が、なお金属相を含有する酸化物の混晶
として生じる。粉末の酸化物部分は、単相のＸ線構造、
すなわち酸化インジウムのＸ線構造を示し、１７．２％
の不足化学量論的酸素含量を有する（化学量論的酸素含
量は約１７．４％である）。インジウムおよびスズから
なる金属相中では、インジウム分量が勝る。
７％の重量割合が、なお金属相を含有する酸化物の混晶
として生じる。粉末の酸化物部分は、単相のＸ線構造、
すなわち酸化インジウムのＸ線構造を示し、１７．２％
の不足化学量論的酸素含量を有する（化学量論的酸素含
量は約１７．４％である）。インジウムおよびスズから
なる金属相中では、インジウム分量が勝る。
【００３０】粉末粒子は、相互にほぼ同じ酸化度を有
し、その際個々の粉末粒子の内部における金属相の分量
は多くてもよい。 約１７．２重量％の酸素含量は不足
化学量論的酸素含量に相当する。この組成の純酸化物混
合物の場合、化学量論的酸素含量は１７．７重量％であ
り、この組成の混晶の場合には約１７．４重量％であ
る。
し、その際個々の粉末粒子の内部における金属相の分量
は多くてもよい。 約１７．２重量％の酸素含量は不足
化学量論的酸素含量に相当する。この組成の純酸化物混
合物の場合、化学量論的酸素含量は１７．７重量％であ
り、この組成の混晶の場合には約１７．４重量％であ
る。
【００３１】こうして製造した粉末は、約３μｍの平均
粒度を有し、約０．３ｍ2/gのＢＥＴ法で測定した比表
面積を有する。
粒度を有し、約０．３ｍ2/gのＢＥＴ法で測定した比表
面積を有する。
【００３２】ターゲット製造の第１実施例：上記したよ
うに製造した原料粉末を、真空下約４００℃で乾燥し、
その後金属カプセル中へ押し込み、排気し、引き続き１
０５０ｂａｒの圧力および９７０℃の温度で３時間の時
間にわたり熱間静水圧圧縮した。
うに製造した原料粉末を、真空下約４００℃で乾燥し、
その後金属カプセル中へ押し込み、排気し、引き続き１
０５０ｂａｒの圧力および９７０℃の温度で３時間の時
間にわたり熱間静水圧圧縮した。
【００３３】こうして製造したプレス加工品は、理論密
度の９８％の密度を有する。ひび割れおよび剥裂は認め
られなかった。結晶相の平均粒度は５μｍである。プレ
ス加工品からは、容易に数個のターゲットを切り出すこ
とができた。
度の９８％の密度を有する。ひび割れおよび剥裂は認め
られなかった。結晶相の平均粒度は５μｍである。プレ
ス加工品からは、容易に数個のターゲットを切り出すこ
とができた。
【００３４】比較例：原料粉末を最初に説明したように
製造し、空気中で５時間８５０℃で後酸化した。原料粉
末は、酸素処理後約１７．４％の酸素含量を有してい
た。粉末回折法による測定法での測定により、この場合
スズの約７５％が酸化物混晶中に存在し、この混晶は化
学量論的酸素含量を有していたことが判明した。これか
ら、こうして処理した混晶粉末に対しては１７．４％の
酸素含量が化学量論的酸素含量に一致することが確かめ
られる。
製造し、空気中で５時間８５０℃で後酸化した。原料粉
末は、酸素処理後約１７．４％の酸素含量を有してい
た。粉末回折法による測定法での測定により、この場合
スズの約７５％が酸化物混晶中に存在し、この混晶は化
学量論的酸素含量を有していたことが判明した。これか
ら、こうして処理した混晶粉末に対しては１７．４％の
酸素含量が化学量論的酸素含量に一致することが確かめ
られる。
【００３５】こうして後酸化した原料粉末を、１０５０
ｂａｒの圧力および９５０℃の温度で３時間の時間にわ
たり熱間静水圧圧縮した。
ｂａｒの圧力および９５０℃の温度で３時間の時間にわ
たり熱間静水圧圧縮した。
【００３６】理論密度の６５％の密度を有するプレス加
工品だけを製造することができ、ひび割れおよび剥裂は
認めることができなかった。
工品だけを製造することができ、ひび割れおよび剥裂は
認めることができなかった。
【００３７】ターゲット製造の第２実施例：上記に記載
したように製造した原料粉末を、５５０℃で排気し、そ
の際ガス抜きし、引き続き１０５０ｂａｒの圧力および
９７０℃の温度で３時間の時間にわたり熱間静水圧圧縮
した。それで、粉末のこの後処理において強い酸化条件
が回避された。こうして製造したプレス加工品は、理論
密度の９８％の密度を有していた。ひび割れまたは剥裂
は、認めることができなかった。原料粉末を軽還元条件
下で後処理する場合、類似の結果が得られた。
したように製造した原料粉末を、５５０℃で排気し、そ
の際ガス抜きし、引き続き１０５０ｂａｒの圧力および
９７０℃の温度で３時間の時間にわたり熱間静水圧圧縮
した。それで、粉末のこの後処理において強い酸化条件
が回避された。こうして製造したプレス加工品は、理論
密度の９８％の密度を有していた。ひび割れまたは剥裂
は、認めることができなかった。原料粉末を軽還元条件
下で後処理する場合、類似の結果が得られた。
【００３８】ターゲット製造の第３実施例：第１製造方
法に応じて製造した粉末を、さらに前処理なしに、１０
５０ｂａｒの圧力および９７０℃の温度で２時間の時間
にわたり熱間静水圧圧縮した。
法に応じて製造した粉末を、さらに前処理なしに、１０
５０ｂａｒの圧力および９７０℃の温度で２時間の時間
にわたり熱間静水圧圧縮した。
【００３９】こうして製造したＩＴＯブロックから試料
を取り出し、Ｘ線回折測定法によりならびに酸素含量を
調べた。回折計測定は、酸化インジウムの格子中に単相
のＸ線構造を示した。さらに、酸素含量は１７．２％で
あった。
を取り出し、Ｘ線回折測定法によりならびに酸素含量を
調べた。回折計測定は、酸化インジウムの格子中に単相
のＸ線構造を示した。さらに、酸素含量は１７．２％で
あった。
【００４０】粉末製造の第２法：原料粉末の製造のため
に、インジウムとスズからなる金属溶融液を製造した。
溶融液のインジウム分量ないしはスズ分量は、酸化物に
関し、酸化インジウム９０重量％および酸化スズ１０重
量％の重量割合が得られるように調節した。溶融液を噴
霧し、その際酸素７０容量％および空気３０容量％から
なる雰囲気下で部分的に酸化した。
に、インジウムとスズからなる金属溶融液を製造した。
溶融液のインジウム分量ないしはスズ分量は、酸化物に
関し、酸化インジウム９０重量％および酸化スズ１０重
量％の重量割合が得られるように調節した。溶融液を噴
霧し、その際酸素７０容量％および空気３０容量％から
なる雰囲気下で部分的に酸化した。
【００４１】こうして製造したＩＴＯ原料粉末は、約９
７％の重量割合が、なお金属相を含有する酸化物混晶と
して生じる。粉末の酸化物部分は単相のＸ線構造、すな
わち酸化インジウムのＸ線構造を示し、１６．８％の不
足化学量論的酸素含量を有する。この組成の純酸化物混
合物の場合、化学量論的酸素含量は１７．７重量％であ
り、この組成の混晶の場合には約１７．４重量％であ
る。インジウムとスズからなる金属相中ではインジウム
の分量が勝る。粉末粒子は相互にほぼ等しい酸化度を有
し、その際金属相は個々の粉末粒子の内部でその割合が
多くてもよい。
７％の重量割合が、なお金属相を含有する酸化物混晶と
して生じる。粉末の酸化物部分は単相のＸ線構造、すな
わち酸化インジウムのＸ線構造を示し、１６．８％の不
足化学量論的酸素含量を有する。この組成の純酸化物混
合物の場合、化学量論的酸素含量は１７．７重量％であ
り、この組成の混晶の場合には約１７．４重量％であ
る。インジウムとスズからなる金属相中ではインジウム
の分量が勝る。粉末粒子は相互にほぼ等しい酸化度を有
し、その際金属相は個々の粉末粒子の内部でその割合が
多くてもよい。
【００４２】こうして製造した粉末は約３μｍの平均粒
度を有し、約０．３ｍ2/gのＢＥＴ法により測定した比
表面積を有する。
度を有し、約０．３ｍ2/gのＢＥＴ法により測定した比
表面積を有する。
【００４３】ターゲット製造の第４実施例：粉末製造法
の第２法により製造した粉末を、それぞれの処理なし
に、１０５０ｂａｒの圧力および９７０℃の温度で３時
間の時間にわたり熱間静水圧圧縮した。
の第２法により製造した粉末を、それぞれの処理なし
に、１０５０ｂａｒの圧力および９７０℃の温度で３時
間の時間にわたり熱間静水圧圧縮した。
【００４４】こうして製造したブロック状のプレス加工
品は、理論密度の９８％の密度を有する。ひび割れおよ
び剥裂は殆ど認められず、そのうえこれらは縁範囲に制
限されていた、ブロックは問題なく数個のターゲットに
切断することができた。図１には、上記の組成９０：１
０を有する酸化インジウム−スズの混晶粉末（ＩＴＯ粉
末）の示差熱分析（ＤＴＡ）の測定曲線図が示されてい
る。粉末は、化学量論的酸素含量を有する酸化物から出
発し、あとから保護ガス（Ａｒ９５％，Ｈ2５％）下に
部分的に還元した。この限りでは、還元処理は、最初に
挙げた公知技術による方法において公知であるような、
ターゲットを焼結する際の粉末の後還元に相当する。粉
末の酸素含量は約１６．８重量％である。
品は、理論密度の９８％の密度を有する。ひび割れおよ
び剥裂は殆ど認められず、そのうえこれらは縁範囲に制
限されていた、ブロックは問題なく数個のターゲットに
切断することができた。図１には、上記の組成９０：１
０を有する酸化インジウム−スズの混晶粉末（ＩＴＯ粉
末）の示差熱分析（ＤＴＡ）の測定曲線図が示されてい
る。粉末は、化学量論的酸素含量を有する酸化物から出
発し、あとから保護ガス（Ａｒ９５％，Ｈ2５％）下に
部分的に還元した。この限りでは、還元処理は、最初に
挙げた公知技術による方法において公知であるような、
ターゲットを焼結する際の粉末の後還元に相当する。粉
末の酸素含量は約１６．８重量％である。
【００４５】ＤＴＡ曲線は、約２２０℃の温度において
明らかな相変換を示す。この相変換は、Ｉｎ−Ｓｎ状態
図によればスズ含量が約９０％である金属のインジウム
−スズ合金の融点と明白に相関可能である。それで、上
記組成の酸化物ＩＴＯ粉末のあとからの還元処理の場合
に第１にスズ−および恐らくインジウムではない−が還
元され、その際スズ分量の多い金属相が形成することが
明らかになる。
明らかな相変換を示す。この相変換は、Ｉｎ−Ｓｎ状態
図によればスズ含量が約９０％である金属のインジウム
−スズ合金の融点と明白に相関可能である。それで、上
記組成の酸化物ＩＴＯ粉末のあとからの還元処理の場合
に第１にスズ−および恐らくインジウムではない−が還
元され、その際スズ分量の多い金属相が形成することが
明らかになる。
【００４６】図２には、“共酸化”により製造した原料
粉末の示差熱分析の測定曲線が示されている。この粉末
は、最初に説明した方法（粉末製造法の第２法）により
製造されかつ１６．８重量％の酸素含量を有し、組成９
０：１０を有する同様に酸化インジウム−スズの共晶粉
末（ＩＴＯ粉末）である。
粉末の示差熱分析の測定曲線が示されている。この粉末
は、最初に説明した方法（粉末製造法の第２法）により
製造されかつ１６．８重量％の酸素含量を有し、組成９
０：１０を有する同様に酸化インジウム−スズの共晶粉
末（ＩＴＯ粉末）である。
【００４７】この粉末のＤＴＡ曲線は、図１による後還
元した粉末の曲線とは根本的に相違する。約１２０℃の
温度において相変換が認められる。この温度は、インジ
ウム約５１重量％およびスズ４９重量％の組成のＩｎＳ
ｎ共融混合物の溶融温度にほぼ一致する。相変換が認め
られる温度範囲の幅から、この場合にＩＴＯ粉末は、イ
ンジウム分量が８０％にまでであってもよい、インジウ
ム分量の多い金属相を有することを推論することができ
る。金属相のこのような組成は酸化物相の組成に、後還
元した粉末における金属相の組成よりも良好に適合され
ていることは明白である。従って、この粉末から製造し
たターゲットでは、個々の化学成分はターゲットの全体
積にわたって均一に分配されている。
元した粉末の曲線とは根本的に相違する。約１２０℃の
温度において相変換が認められる。この温度は、インジ
ウム約５１重量％およびスズ４９重量％の組成のＩｎＳ
ｎ共融混合物の溶融温度にほぼ一致する。相変換が認め
られる温度範囲の幅から、この場合にＩＴＯ粉末は、イ
ンジウム分量が８０％にまでであってもよい、インジウ
ム分量の多い金属相を有することを推論することができ
る。金属相のこのような組成は酸化物相の組成に、後還
元した粉末における金属相の組成よりも良好に適合され
ていることは明白である。従って、この粉末から製造し
たターゲットでは、個々の化学成分はターゲットの全体
積にわたって均一に分配されている。
【図１】あとから保護ガス下に還元した酸化物のインジ
ウム−スズ混晶粉末の示差熱分析曲線図
ウム−スズ混晶粉末の示差熱分析曲線図
【図２】完全に酸化されてないインジウム−スズ混晶粉
末の示差熱分析曲線図
末の示差熱分析曲線図
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デイヴィッド フランシス ラプトン ドイツ連邦共和国 ゲルンハウゼン アム ライン ８ (72)発明者 イェルク シールケ ドイツ連邦共和国 ブルーフケーベル シ ュヴァイツァーガッセ １ (72)発明者 フリートホルト シェルツ ドイツ連邦共和国 ローデンバッハ アル ツェナウアー シュトラーセ 78 (72)発明者 ベルナール セロール フランス国 ペラン レンフェ （番地な し) (72)発明者 ハンス ボーマイアー ドイツ連邦共和国 フライベルク フラン ツ−ケークラー−リング 23
Claims (13)
- 【請求項１】 理論密度の少なくとも９５％の密度およ
び不足化学量論的酸素含量を有する、熱間圧縮または静
水圧熱間圧縮した酸化インジウム／酸化スズ粉末を基礎
とする陰極スパッタ用ターゲットにおいて、ターゲット
が、少なくとも９０％の重量割合が酸化インジウムと酸
化スズの混晶として構成されていて、２μｍと２０μｍ
の間の平均粒度を有する結晶相を有することを特徴とす
る陰極スパッタ用ターゲット。 - 【請求項２】 結晶相は少なくとも９７％の重量割合が
混晶として構成されていることを特徴とする請求項１記
載のターゲット。 - 【請求項３】 混晶相が酸化インジウムの結晶格子中に
存在することを特徴とする請求項１または２記載のター
ゲット。 - 【請求項４】 混晶相が、外側から内側へ減少する酸素
含量を有する、酸化インジウム／酸化スズ粉末粒子の熱
間圧縮または静水圧熱間圧縮によって製造されているこ
とを特徴とする請求項１から３までのいずれか１項記載
のターゲット。 - 【請求項５】 粉末粒子が、金属相からなる芯部を取り
囲む酸化物の外皮を有することを特徴とする請求項４記
載のターゲット。 - 【請求項６】 粉末粒子が、インジウム含量が少なくと
も５０重量％である金属相を有することを特徴とする請
求項１から５までのいずれか１項記載のターゲット。 - 【請求項７】 酸化インジウムと酸化スズからなる原料
粉末を使用し、原料粉末を熱間圧縮または静水圧熱間圧
縮により圧縮することにより陰極スパッタ用ターゲット
を製造する方法において、原料粉末を微細な金属インジ
ウム−スズの酸化によって製造することを特徴とする陰
極スパッタ用ターゲットの製造方法。 - 【請求項８】 原料粉末をインジウム−スズの金属溶融
液を酸化雰囲気下で噴霧することによって製造すること
を特徴とする請求項７記載の方法。 - 【請求項９】 インジウム含量が少なくとも５０重量％
である金属相を有する原料粉末を使用することを特徴と
する請求項７または８記載の方法。 - 【請求項１０】 原料粉末が、２μｍ〜２０μｍの範囲
内の平均粒度を有することを特徴とする請求項７記載の
方法。 - 【請求項１１】 原料粉末の粉末粒子の酸化物相が混晶
相を有することを特徴とする請求項７または１０記載の
方法。 - 【請求項１２】 混晶相が酸化インジウムの結晶格子中
に存在することを特徴とする請求項１１記載の方法。 - 【請求項１３】 混晶相の割合が原料粉末の全体積の少
なくとも９０容量％であることを特徴とする請求項１１
または１２記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19530364 | 1995-08-18 | ||
| DE19530364.4 | 1995-08-18 | ||
| DE19540379.7 | 1995-10-30 | ||
| DE19540379A DE19540379C1 (de) | 1995-08-18 | 1995-10-30 | Target für die Kathodenzerstäubung und Verfahren zur Herstellung eines solchen Targets |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09170076A true JPH09170076A (ja) | 1997-06-30 |
| JP3207758B2 JP3207758B2 (ja) | 2001-09-10 |
Family
ID=26017804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21376096A Expired - Fee Related JP3207758B2 (ja) | 1995-08-18 | 1996-08-13 | 陰極スパッタ用ターゲットおよびかかるターゲットの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5762768A (ja) |
| EP (1) | EP0761838B1 (ja) |
| JP (1) | JP3207758B2 (ja) |
| CN (1) | CN1066782C (ja) |
| AT (1) | ATE204029T1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008115425A (ja) * | 2006-11-06 | 2008-05-22 | Mitsubishi Materials Corp | 透明導電膜形成用スパッタリングターゲット |
| KR100891952B1 (ko) * | 2008-07-24 | 2009-04-08 | 주식회사 나노신소재 | 투명 도전막용 산화물계 타겟 및 그 제조방법, 그리고산화물계 투명 도전막 |
Families Citing this family (49)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3781878B2 (ja) * | 1996-10-04 | 2006-05-31 | 同和鉱業株式会社 | Ｉｔｏ焼結体およびｉｔｏスパッタリングターゲット |
| DE19721649C2 (de) * | 1997-05-23 | 2003-02-20 | Heraeus Gmbh W C | Verfahren zur Herstellung eines Mischkristallpulvers mit geringem spezifischen elektrischen Widerstand |
| CN1120899C (zh) * | 1997-11-27 | 2003-09-10 | 中南工业大学 | 制造氧化铟/氧化锡溅射靶材的方法 |
| DE19822570C1 (de) * | 1998-05-20 | 1999-07-15 | Heraeus Gmbh W C | Verfahren zum Herstellen eines Indium-Zinn-Oxid-Formkörpers |
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| US6682636B2 (en) | 2000-08-18 | 2004-01-27 | Honeywell International Inc. | Physical vapor deposition targets and methods of formation |
| US7153468B2 (en) * | 2000-08-18 | 2006-12-26 | Honeywell International Inc. | Physical vapor deposition targets and methods of formation |
| US7469558B2 (en) * | 2001-07-10 | 2008-12-30 | Springworks, Llc | As-deposited planar optical waveguides with low scattering loss and methods for their manufacture |
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