JPH09169859A - 磁気記録媒体用基材フィルム、その製造方法およびそれを用いてなる磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体用基材フィルム、その製造方法およびそれを用いてなる磁気記録媒体

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JPH09169859A
JPH09169859A JP34922595A JP34922595A JPH09169859A JP H09169859 A JPH09169859 A JP H09169859A JP 34922595 A JP34922595 A JP 34922595A JP 34922595 A JP34922595 A JP 34922595A JP H09169859 A JPH09169859 A JP H09169859A
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賢一 大久保
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佃  明光
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ドロップアウトが少なく、耐久性の良い、さ
らには高弾性を有する磁気記録媒体、特に高密度磁気記
録媒体を実現する基材フィルムおよびその製造方法を提
供する。 【解決手段】 有機高分子体からなる磁気記録媒体用基
材フィルムであって、該基材フィルム中の周期律表Vb
、VIb 、VIIb、VIII、Ib 、およびIIb 族の金属元素
の総濃度が100ppm未満であり、かつ該基材フィル
ムの少なくとも片面の高さp(nm)の突起個数A(個
/1mm)が下記式を満足することを特徴とする磁気記
録媒体用基材フィルムおよびその製造方法、ならびにそ
れを用いた磁気記録媒体。 p≧50 A<50 p>100 A<20 p>200 A<10

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体、特
に高密度磁気記録媒体、さらに詳しくはコンピュータの
メモリー用途であるデジタルデータストレージ用テープ
として好適に用いられる磁気記録媒体用の基材フィル
ム、およびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、ビデオテープ、データメモリー用
テープなどの磁気記録媒体では高密度記録化が要求さ
れ、特公平3−26453号公報などに示されている方
法が提案されている。また、その基材フィルムについて
は、平坦性、無欠点性などが特に要求され、例えば特開
昭58−155940号公報などが提案されている。ま
た、特に近年、テープは長時間化の傾向にあり、その基
材フィルムの薄膜化および高弾性化が望まれており、そ
の目的達成のため特公平2−51463号公報などに芳
香族ポリアミドを用いた磁気記録媒体が提案されてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような手段を用いる場合には下記の問題がある。第1
に、高密度磁気記録媒体では電磁変換特性の向上のた
め、その基材フィルムの平滑性および無欠点性が要求さ
れる。その基材フィルムに粗大突起が多ければ、出力低
下やドロップアウトの多発が引き起こされる懸念があ
り、基材フィルム製造の際の粗大異物の高精度濾過が特
に求められる。第2に、基材フィルム中に鉄やマンガン
等の金属が多く含まれる場合には、例えば基材フィルム
の着色が起こったり、磁気記録媒体とした際の磁気記録
層の腐食による経時の出力低下などを引き起こす懸念が
あり、その改善が必要である。
【0004】そこで本発明の課題は、ドロップアウトが
少なく、耐久性の良い、さらには高弾性を有する磁気記
録媒体、特に高密度磁気記録媒体を実現する基材フィル
ムおよびその製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の磁気記録媒体用基材フィルムは、有機高分
子体からなる磁気記録媒体用基材フィルムであって、該
基材フィルム中の周期律表Vb 、VIb 、VIIb、VIII、I
b 、およびIIb 族の金属元素の総濃度が100ppm未
満であり、かつ該基材フィルムの少なくとも片面の高さ
p(nm)の突起個数A(個/1mm)が下記式を満足
することを特徴とするものからなる。 p≧50 A<50 p>100 A<20 p>200 A<10
【0006】また、本発明に係る磁気記録媒体は、この
ような基材フィルムの少なくとも片面に磁性層を設けて
なるものであり、特に高密度磁気記録媒体として好適で
ある。
【0007】さらに、本発明の磁気記録媒体用基材フィ
ルムの製造方法は、耐蝕性を有する素材からなる100
00nm未満の濾過精度を有するフィルターにて有機高
分子体の溶融物あるいは溶液を濾過した後、該有機高分
子体をフィルム状に成形することを特徴とする方法から
なる。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明に係る基材フィルムには、
ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン−2,6−
ナフタレートなどのポリエステル、芳香族ポリアミドあ
るいは芳香族ポリイミドなどの有機高分子体が使用され
るが、基材フィルムの高弾性を達成するため、主として
芳香族ポリアミドまたは芳香族ポリイミドフィルムを使
用することが好ましい。ここで「主として」とは、芳香
族ポリアミドまたは芳香族ポリイミドを50モル%以上
含むことを指す。
【0009】芳香族ポリアミドとは、次の一般式化1お
よび/または一般式化2で表される繰り返し単位を50
モル%以上、好ましくは70モル%以上含むものからな
る。
【0010】
【化1】
【0011】
【化2】
【0012】ここでAr1 、Ar2 、Ar3 は、例え
ば、下記化3に示すものなどを挙げることができ、化3
におけるX、Yは、−O−、−CH2 −、−CO−、−
SO2 −、−S−、−C(CH3 2 −等から選ばれる
が、これに限定されるものではない。
【0013】
【化3】
【0014】更に上記化3においては、芳香環上の水素
原子の一部が、塩素、フッ素、臭素などのハロゲン基
(特に塩素)、ニトロ基、アルキル基、アルコキシル基
などの置換基で置換されているものも含み、また、重合
体を構成するアミド結合中の水素が他の置換基によって
置換されているものも含む。なお、Ar1 、Ar2 、A
3 は同じかまたは異なってもよい。またこれらは2種
以上の共重合体であっても良いし、混合体であっても良
い。さらに上記以外の芳香族または脂肪族の共重合成分
を50モル%未満の割合で共重合されていてもよい。
【0015】ここで共重合可能な成分としてはシクロヘ
キシレンなどの脂環族化合物、ヘキシレンなどの脂肪族
化合物を挙げることができる。また上記の芳香環がパラ
位で結合されたものが、全芳香環の50モル%以上、好
ましくは75モル%以上をを占める重合体が、基材フィ
ルムのヤング率が高く耐熱性も良好となるため好まし
い。また芳香環上の水素原子の一部がハロゲン基(特に
塩素)で置換された芳香環が全体の30モル%以上であ
ると耐湿性が向上し、吸湿による寸法変化、剛性低下な
どの特性が改善されるために好ましい。
【0016】なお、芳香族ポリイミドとは、重合体の繰
り返し単位の中に芳香環とイミド環を1つ以上含むもの
であり、下記一般式化4および/または一般式化5で表
される繰り返し単位を50モル%以上、好ましくは70
モル%以上含むものである。
【0017】
【化4】
【0018】
【化5】
【0019】ここでAr4 、Ar6 は少なくとも1個の
芳香環を含み、イミド環を形成する2つのカルボニル基
は芳香環上の隣接する炭素原子に結合している。このA
4は、芳香族テトラカルボン酸あるいはこの無水物に
由来する。代表例としては次の化6で示すようなものを
挙げることができる。
【0020】
【化6】
【0021】ここでZは、−O−、−CH2 −、−CO
−、−SO2 −、−S−、−C(CH3 2 −等から選
ばれるが、これに限定されるものではない。またAr6
は無水カルボン酸あるいはこのハライドに由来する。A
5 、Ar7 は、例えば、下記化7で示すようなものを
挙げることができる。
【0022】
【化7】
【0023】化7において、X、Yは、−O−、−CH
2 −、−CO−、−SO2 −、−S−、−C(CH3
2 −等から選ばれるが、これに限定されるものではな
い。更にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、塩素、
フッ素、臭素などのハロゲン基(特に塩素)、ニトロ
基、アルキル基、アルコキシル基などの置換基で置換さ
れているものも含み、また、重合体を構成するアミド結
合中の水素が他の置換基によって置換されているものも
含む。また本発明の芳香族ポリイミドには他の繰り返し
単位が共重合、あるいは単に混合されていてもよい。
【0024】また、本発明の芳香族ポリアミドあるいは
芳香族ポリイミドには、基材フィルムの物性および表面
性を損なわない程度に滑剤、酸化防止剤、帯電防止剤そ
の他の添加剤等が添加されていてもよい。ただし、添加
後の該基材フィルム中の周期律表Vb 、VIb 、VIIb、VI
II、Ib 、およびIIb 族の金属元素の総濃度は100p
pm未満でなければならない。
【0025】本発明の基材フィルムにおいては、少なく
とも一方向のヤング率が8800MPa以上であること
が好ましい。すなわち磁気テープの出力は、テープと磁
気ヘッドのヘッドタッチ性の向上に伴って上がるが、そ
のために基材フィルムの高ヤング率が求められる。記録
方法が固定ヘッド方式の場合は長手方向の、ヘリカルス
キャン方式の場合は幅方向の高ヤング率が特に必要であ
り、基材フィルムのいずれの方向のヤング率も8800
MPa未満であれば、いずれの記録方式を採用しても高
出力は得られないので好ましくない。なお基材フィルム
の少なくとも一方向のヤング率は、好ましくは9900
MPa以上、特に好ましくは11000MPa以上であ
る。なお、すべての方向のヤング率が8800MPa以
上であることが好ましいのは言うまでもない。
【0026】本発明の基材フィルムの一方の面は中心線
平均粗さで0.010μm未満であることが好ましい。
すなわち磁気記録媒体とする際の磁性体を施す側の面、
すなわち磁性面は電磁変換特性の向上のために平滑面で
あることが好ましいためである。なお好ましくは、中心
線平均粗さが0.008μm未満、より好ましくは0.
006μm未満ある。一方、他方の面は、磁気記録媒体
とした際の走行面となるので走行性向上のため、中心線
平均粗さで0.005〜0.030μmの範囲であるこ
とが好ましい。
【0027】上記の表面粗さを達成するために、本発明
のフィルムに粒子を含有せしめてもよい。すなわち粒子
径が10〜500nm、さらに好ましくは50〜400
nmの範囲であり、材料としては、例えば架橋ポリビニ
ルベンゼン、アクリル粒子、架橋ポリスチレン粒子など
の有機高分子粒子、あるいは酸化チタン、酸化アルミニ
ウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、コロイダル
シリカ等の無機粒子を用いることができる。なお、該粒
子の形状については、突起高さや突起の形状を制御しや
すい観点から球状粒子であることが好ましい。またフィ
ルム表面に形成する突起の高さをそれぞれ均一にするた
めに、該粒子の粒度分布が相対標準偏差で0.5以下で
あることが特に好ましい。該粒子の含有量は0.001
〜3重量%、好ましくは0.01〜1重量%である。該
粒子を含有せしめる方法としては、重合前、重合中、重
合後のいずれに添加してもよい。
【0028】なお、本発明の基材フィルムは、少なくと
も2層からなる積層フィルムであることが好ましい。
【0029】本発明の基材フィルムにおいては、フィル
ム中の周期律表Vb 、VIb 、VIIb、VIII、Ib 、および
IIb 族の金属元素の総濃度が100ppm未満である必
要がある。すなわち、基材フィルム中の周期律表Vb 、
VIb 、VIIb、VIII、Ib 、およびIIb 族の金属元素の総
濃度が100ppm以上であれば、基材フィルムの着色
が起こったり、磁気記録媒体とした際に、長時間の使用
や、高湿度下および高温下での磁気記録層の腐食が起こ
り、経時での出力低下などを引き起こすおそれがあるた
めである。なお好ましくは、基材フィルム中の周期律表
Vb 、VIb 、VIIb、VIII、Ib 、およびIIb 族の金属元
素の総濃度は10ppm未満、さらに好ましくは1pp
m未満である。
【0030】上記のような基材フィルムとするため、本
発明に係る基材フィルムの製造方法においては、耐蝕性
を有する素材からなるフィルターにて有機高分子体の溶
融物あるいは溶液を濾過した後、該有機高分子体をフィ
ルム状に成形する必要がある。すなわち、該フィルター
が耐蝕性を有しない素材であれば、有機高分子体自身、
溶媒、該有機高分子体の溶融物あるいは溶液に含まれる
含有物、あるいは熱等によりフィルターが腐食し、フィ
ルター素材自身、フィルター素材の酸化物、フィルター
素材の金属イオン、フィルター素材の含浸物、およびフ
ィルター素材の含浸物のイオンが基材フィルムへ流出
し、結果として周期律表Vb 、VIb 、VIIb、VIII、Ib
、およびIIb 族の金属元素が不純物あるいは欠点とし
て基材フィルム中に含まれてしまうためである。
【0031】耐蝕性を有する素材として、具体的には、
ニッケル、チタン、ジルコニウム、タンタル、鉛の単
体、およびそれら単体を主成分とする、例えばインコネ
ル、モネル(International Nickel Co.社の商標名)や
ハステロイ(Haynes StelliteCo. 社の商標名)などの
合金、不動態化した鉄あるいはステンレス、等の金属か
らなる素材や、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹
脂、ナイロン樹脂、エポキシ樹脂、セルロース樹脂、活
性炭、ガラス、ポリエステル樹脂、テフロン樹脂、ポリ
ビニル樹脂などの非金属からなる素材を挙げることがで
きる。また、上記の素材を組み合わせて使用してもよ
い。
【0032】なお、フィルターを使用後に洗浄して繰り
返し使用する場合は、上述の金属からなる素材が、また
一回あるいは数回の使用後に廃棄する場合は後述の非金
属からなる素材が、それぞれ実用的で好ましい。なお、
芳香族ポリアミドを基材フィルムとした場合、溶媒とし
て濃硫酸を用いる場合があるので、フィルターが、硫酸
に対する耐蝕性を有する素材からなることが好ましく、
具体的にはニッケル、チタン、ジルコニウム、タンタ
ル、鉛の単体、およびそれら単体を主成分とする、例え
ばインコネル、モネルやハステロイなどの合金、あるい
は不動態化した鉄あるいはステンレスであることが好ま
しく、特に好ましくはインコネル、モネルやハステロイ
などである。
【0033】なお、上記素材のフィルターは、芳香族ポ
リアミドの、例えばN−メチルピロリドンやジメチルア
セトアミドなどの非プロトン性有機溶媒の溶液について
用いられても一向に差支えない。
【0034】また、本発明のフィルターの濾材構成とし
ては、素材が金属であれば、例えば金属繊維、金属粉
末、金属繊維焼結タイプ、および金属粉末焼結タイプか
ら選ばれた少なくとも1種類以上からの組み合わせが好
ましく、また非金属では、例えば繊維、中空糸、粉末、
繊維焼結タイプ、および粉末焼結タイプから選ばれた少
なくとも1種類以上からの組み合わせが好ましい。
【0035】さて、本発明の基材フィルムにおいては、
その少なくとも片面の、高さp(nm)の突起個数A
(個/1mm)が下記式を満足する必要がある。 p≧50 A<50 p>100 A<20 p>200 A<10 すなわち、基材フィルムの少なくとも片面の、高さp
(nm)の突起個数A(個/1mm)が上記式を満足し
ないような粗い面であれば、磁気記録媒体とした際に、
高密度磁気記録媒体として満足できるような出力が得ら
れず、またドロップアウト多発となるためである。
【0036】より好ましくは、高さp(nm)の突起個
数A(個/1mm)が下記式を満足することである。 p≧50 A<20 p>100 A<10 p>200 A<2
【0037】さらにドロップアウトを低減させるために
は、基材フィルムの少なくとも片面の、高さh(nm)
の粗大突起個数B(個/100cm2 )が下記式を満足
することが好ましい。 h≧270 B<100 h>540 B<20 h>810 B<10 h>1080 B<5
【0038】上記無欠点性の目的を達成するため、上記
基材フィルムの製造方法においては、10000nm未
満の濾過精度を有するフィルターにて有機高分子体の溶
融物あるいは溶液を濾過した後、該有機高分子体をフィ
ルム状に成形する必要がある。ここでフィルターの濾過
精度とは、粒子をポリマーあるいは溶媒などに分散し、
フィルターを通過させた時に、丁度95%フィルター上
に補足された粒子の粒径として定義する。当然この濾過
精度の値が小さくなるほど、より小さな異物の除去が可
能となる。すなわち、10000nm以上の濾過精度の
フィルターでは、有機高分子体の溶融物あるいは溶液中
の異物除去が十分でないためである。好ましくは、濾過
精度は5000nm未満、より好ましくは3000nm
未満、さらに好ましくは1500nm未満である。
【0039】なお上記フィルターの濾過精度の測定は、
一定濃度のコンタミナント(例えば、けい砂微粒、関東
ローム超微粒等)のスラリー、および該スラリーをフィ
ルターにて吸引濾過した後の濾液の粒径分布を、コール
ターエレクトロニクス(株)社製コールターカウンター
TA−IIにてそれぞれ測定し、それぞれの粒径について
捕集効率η(%)を下記式から求め、ηが95%となる
粒径を濾過精度とした。 η(%)={(n0 −n1 )/n0 }×100 n0 :元のスラリー中の粒子個数、n1 :濾液の粒子個
【0040】本発明の基材フィルムの製造方法において
は、キャスティングおよび延伸装置の雰囲気を、周囲を
エアフィルターにて覆う方法、あるいはいわゆるクリー
ンルーム化を採用してもよい。この際の雰囲気のクリー
ン度は、好ましくはアメリカ連邦規格Fed.Std.
209Bに定めるクリーンルーム規格で、クラス100
0よりクリーンであることである。
【0041】本発明の基材フィルムは、厚みが7μm未
満であることが好ましい。すなわち厚みが7μm以上で
あれば、カセットにした際の長時間化が困難となる。好
ましくは6μm未満、より好ましくは5μm未満であ
る。
【0042】次に本発明フィルムの製造方法の一例につ
いて述べるが、これに限定されるものではない。芳香族
ポリアミドを使用する場合は、N−メチルピロリドン、
ジメチルアセトアミドなどの非プロトン性有機溶媒中で
酸クロライドとジアミンの溶液重合にて得る。この際に
発生する塩化水素は水酸化カルシウム、炭酸カルシウ
ム、水酸化リチウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤
あるいはエチレンオキサイド、トリエチルアミン、ジエ
タノールアミンなどの有機の中和剤によって中和する。
これらのポリマ溶液はそのまま製膜原液として使用して
もよく、また、一旦単離したのち有機溶剤あるいは硫酸
などの無機溶剤に再溶解して用いてもよい。また、表面
粗さの調整などのため、粒子を添加する場合には、この
際に添加することが好ましい。なお添加方法および希釈
方法は公知の方法が適用できる。このようにして得られ
た製膜原液を、いわゆる溶液製膜法によってフィルム化
する。溶液製膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などが
あり、いずれの方法を用いても差支えないが、ここでは
乾湿式法を例にとって説明する。
【0043】まず製膜原液を、濾過精度10000nm
未満の耐蝕性素材、例えばステンレス、不動態化された
鉄、あるいはさらに耐蝕性に優れたインコネル、モネ
ル、およびハステロイなどの金属素材、あるいはポリエ
チレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、活性炭、ガラスなど
の非金属からなるフィルター、あるいは上記から選ばれ
る少なくとも1種類以上の組み合わせからなるフィルタ
ーにて濾過し、その後に口金からドラム、エンドレスベ
ルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、次いでかかる
薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜自体が自己支持性を持つ
まで乾燥する。この際に吸引あるいは圧空によって製膜
原液をベルトに密着せしめることが好ましい。また、製
膜原液の吐出については計量部分を備えたギヤポンプを
用いて定量吐出することが好ましい。続いて該薄膜を支
持体から剥離し、水中を通過させ脱塩、脱溶媒する。こ
の際に該薄膜の延伸を行ってもよい。続いて該薄膜の両
端を把持した状態で、ステンターにて該薄膜を乾燥す
る。さらに該薄膜の両端を把持した状態で、ステンター
にて100〜400℃の温度範囲で5秒間以上熱処理
し、最終的には所定の幅に裁断し製品とする。磁気記録
媒体とするには、該フィルムの表面に磁性体粉末を含ん
だ高分子バインダーを塗布する方法、あるいはコバルト
等の磁性金属を減圧下で蒸着する方法によって磁性体を
施し、表面処理などを施した後に所定の幅にスリット
し、カセット等に組み込み製品とする。このようにして
得られたテープは、高密度磁気記録媒体用途に特に好適
である。
【0044】[特性の測定法]本発明における特性値は
次の測定法、評価基準によるものである。 ヤング率の測定 フィルムを試料幅10mm、長さ150mmに切断し、
チャック間100mmにして引張速度300mm/分、
チャート速度500mm/分、25℃の温度にて、イン
ストロンタイプの万能引張試験装置で引張る。得られた
荷重−伸び曲線の立上がり部の接線よりヤング率を求め
る。
【0045】表面粗さ(Ra) (株)小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ET−10
を用いて測定した。条件は下記のとおりであり、20回
の測定の平均値をもって値とした。 ・触針先端半径:0.5μm ・触針荷重 :5mg ・測定長 :1.0mm ・カットオフ値:0.08mm なお、Raの定義は、たとえば奈良治郎著「表面粗さの
測定・評価法」(総合技術センター、1983)に示さ
れているものである。
【0046】基材フィルム中の高さp(nm)の突起
個数A(個/1mm) により求めた表面粗さチャートから求めた。突起の高
さp(nm)は、該突起の中心線からの垂直方向の距離
として得た。
【0047】基材フィルム中の高さh(nm)の粗大
突起個数B(個/100cm2 ) 基材フィルムを顕微鏡により50cm2 以上観察し、そ
の突起高さh(nm)は多重干渉法により求め、個数を
100cm2 当たりの個数に換算した。
【0048】基材フィルム中の金属元素の総濃度 フィルム0.7グラムを白金坩堝に精秤し、550℃以
上の温度で灰化させ、この灰分を硝酸およびフッ化水素
酸で溶解した後希硝酸で定容とし、この定容液中の周期
律表Vb 、VIb 、VIIb、VIII、Ib 、およびIIb 族の金
属元素について、それぞれの原子吸光光度法により分析
した。なお単位ppmはμg/gである。
【0049】磁気テープ特性 得られた基材フィルムの磁性面側に、以下の組成からな
る磁性塗膜を乾燥後の膜厚で2μmとなるように塗設し
た。 ・γ−Fe2 3 微粉末:200重量部 ・ポリウレタン樹脂 : 30重量部 ・ニトロセルロース : 10重量部 ・塩化ビニル : 10重量部 ・ポリイソシアネート : 5重量部 (溶媒:メチルエチルケトン) このようにして得られた磁性層塗設後のフィルムを、1
/2インチにスリットし、3000mの長さにリール状
に巻き取り、松下電器産業(株)製NV−3700型ビ
デオデッキにより、常速にて下記の磁気テープ特性を評
価した。 イ.VTRヘッド出力:シンクロスコープにより測定周
波数4メガヘルツに於けるVTRヘッド出力を測定し、
基準サンプルに対する相対値をデシベル(dB)で表示
した。 ロ.ドロップアウト:4.4メガヘルツの信号を記録
し、該テープを再生し、大倉インダストリー(株)製ド
ロップアウトカウンターにて15μsec−20dBに
おけるドロップアウト数を20分間測定し、1分間当た
りのドロップアウト数(個/分)に換算した。 ハ.耐環境性:恒温恒室槽にて90%RHの環境下70
℃、30日間放置した。その後磁性層面の顕微鏡観察を
行い、外観について次の3段階で評価した。 ◎:磁性層面に特別の変化が認められない。 △:磁性層面のごく一部に変色が認められる。 ×:磁性層面に、変色、ふくれ等の変化が認められる。
【0050】
【実施例】次に実施例に基づき本発明を更に詳細に説明
する。結果を表1にまとめた。 実施例1 N−メチルピロリドン(NMP)に芳香族ジアミン成分
として85モル%に相当する2−クロルパラフェニレン
ジアミンと、15モル%に相当する4、4´−ジアミノ
ジフェニルエーテルとを溶解させ、これに100モル%
に相当する2−クロルテレフタル酸クロリド部を添加
し、2時間撹拌し重合した。これを水酸化リチウムで中
和して、ポリマー濃度10重量%、粘度3000ポイズ
の芳香族ポリアミド溶液を得た。この溶液に、一次粒径
16nmの乾式シリカをポリマ当たり2重量%添加し
た。このようにして得られたポリマー溶液を用いて、ク
リーン度がクラス1000の製膜室内で製膜した。まず
このポリマー溶液を濾材がステンレスからなる濾過精度
4000nmの金属繊維フィルターで濾過した。その後
にベルト上に流延し、180℃の熱風で2分間加熱して
溶媒を蒸発させ、自己支持性を得たフィルムをベルトか
ら連続的に剥離した。次に脱イオン水を満たした水槽内
へフィルムを導入して残存溶媒と中和で生じた無機塩の
水抽出を行った。この際にフィルムの長手方向に1.2
倍に延伸を実施した。水抽出終了後、幅方向の平均温度
280℃のステンターにて乾燥、幅方向に1.3倍に延
伸、および熱処理を合計1.5分間行い、20℃/秒の
速度で徐冷し、最終的に厚さ5μmの芳香族ポリアミド
フィルムを得た。得られたフィルムは磁気テープとした
際のビデオ出力も良好で、ドロップアウトも少なく、か
つ耐環境性も良好であった。
【0051】実施例2 実施例1の方法において、ステンレスからなる濾過精度
4000nmの金属繊維フィルターの代わりに、ハステ
ロイからなる濾過精度3000nmの金属繊維フィルタ
ーを用いた他は、実施例1と同じ方法で本発明を実施し
た。磁気テープとした際の特性は実施例1と同様に良好
であった。
【0052】実施例3 NMPに芳香族ジアミン成分として100モル%に相当
するパラフェニレンジアミンを溶解させ、−10℃に冷
却する。これに100モル%に相当するテレフタル酸ク
ロライドを添加し、重合中に析出する固体は小さく粉砕
しながら2時間撹拌して重合を完了した。この固体物ス
ラリーを水中にて沈殿、水洗し、濃硫酸に溶解して、芳
香族ポリアミド溶液を得た。この溶液に一次粒径16n
mの乾式シリカをポリマー当たり2重量%および塩化ナ
トリウム0.5重量%を添加し撹拌した。この溶液を濾
材がステンレスからなる濾過精度4000nmの金属繊
維フィルターで濾過した後、金メッキしたベルト上へ流
延し、75℃、85%RHの雰囲気下において等方性溶
液となるまでおき、ついで脱イオン水を満たした水槽に
導いて凝固させ、この凝固フィルムをベルトから剥離し
て水洗、ついで中和のため、0.1%荷性ソーダ水溶液
の槽へ通じ、その後脱イオン水を満たした水槽へ通じ
た。以下実施例1と同じ方法で延伸し、最終的に厚さ5
μmの芳香族ポリアミドフィルムを得た。磁気テープと
した際のビデオ出力は良好で、ドロップアウトも少なか
ったが、耐環境性で弱く小さい変色部分があった。
【0053】実施例4 実施例3の方法において、ステンレスからなる濾過精度
4000nmの金属繊維フィルターの代わりに、ハステ
ロイからなる濾過精度3000nmの金属繊維フィルタ
ーを用いた他は、実施例3と同じ方法で本発明を実施し
た。磁気テープとした際の特性は良好であり、また耐環
境性が実施例3に比べ良好であった。
【0054】実施例5 実施例3の方法において、ステンレスからなる濾過精度
4000nmの金属繊維フィルターの代わりに、ガラス
からなる濾過精度3000nmの粉末焼結フィルターを
用いた他は、実施例3と同じ方法で本発明を実施した。
磁気テープとした際の特性は良好であり、また耐環境性
が良好であった。
【0055】実施例6 NMPに芳香族ジアミン成分として100モル%に相当
する2−クロルパラフェニレンジアミンを溶解させ、こ
れに100モル%に相当する3,3´,4,4´−ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物を添加し重合して、ポ
リアミド酸溶液を得た。この溶液に一次粒径16nmの
乾式シリカをポリマー当たり2重量%および塩化リチウ
ム1重量%を添加した。この溶液を濾材がステンレスか
らなる濾過精度4000nmの金属繊維フィルターで濾
過した後、ベルト上へ流延し、150℃の熱風で自己保
持性を持つまで乾燥し、ベルトから連続的に剥離した。
次に420℃のテンターで熱処理を行った後、20℃/
秒の速度で徐冷した。延伸倍率はMD、TDともに1.
1倍、厚みは5μであった。磁気テープとした際のビデ
オ出力はやや劣るが、ドロップアウトは少なかった。耐
環境性は良好であった。
【0056】比較例1 実施例1の方法において、ステンレスからなる濾過精度
4000nmの金属繊維フィルターの代わりに、不動態
処理を施さない鉄からなる濾過精度20000nmの金
属繊維フィルターを用いた他は、実施例1と同じ方法で
本発明を実施した。磁気テープとした際のビデオ出力が
低くドロップアウトが多かった。また耐環境性で弱く小
さい変色部分があった。
【0057】比較例2 実施例3の方法において、ステンレスからなる濾過精度
4000nmの金属繊維フィルターの代わりに、不動態
処理を施さない鉄からなる濾過精度20000nmの金
属繊維フィルターを用いた他は、実施例3と同じ方法で
本発明を実施した。磁気テープとした際のビデオ出力が
低くドロップアウトが多かった。また耐環境性で変色や
ふくれが認められた。
【0058】比較例3 実施例6の方法において、ステンレスからなる濾過精度
4000nmの金属繊維フィルターの代わりに、不動態
処理を施さない鉄からなる濾過精度20000nmの金
属繊維フィルターを用いた他は、実施例6と同じ方法で
本発明を実施した。磁気テープとした際のビデオ出力が
著しく低くドロップアウトが多かった。また耐環境性で
変色やふくれが認められた。
【0059】
【表1】
【0060】
【発明の効果】本発明によれば、ドロップアウトが少な
く、耐久性の良い、さらには高弾性を有する磁気記録媒
体、特に高密度磁気記録媒体の提供が可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29L 31:34 C08L 77:00 79:08

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 有機高分子体からなる磁気記録媒体用基
    材フィルムであって、該基材フィルム中の周期律表Vb
    、VIb 、VIIb、VIII、Ib 、およびIIb 族の金属元素
    の総濃度が100ppm未満であり、かつ該基材フィル
    ムの少なくとも片面の高さp(nm)の突起個数A(個
    /1mm)が下記式を満足することを特徴とする磁気記
    録媒体用基材フィルム。 p≧50 A<50 p>100 A<20 p>200 A<10
  2. 【請求項2】 基材フィルムの少なくとも一方向のヤン
    グ率が8800MPa以上であることを特徴とする請求
    項1に記載の磁気記録媒体用基材フィルム。
  3. 【請求項3】 基材フィルムが主として芳香族ポリアミ
    ドまたは芳香族ポリイミドからなることを特徴とする請
    求項1または2に記載の磁気記録媒体用基材フィルム。
  4. 【請求項4】 基材フィルムの少なくとも片面の高さh
    (nm)の粗大突起個数B(個/100cm2 )が下記
    式を満足することを特徴とする請求項1ないし3のいず
    れかに記載の磁気記録媒体用基材フィルム。 h≧270 B<100 h>540 B<20 h>810 B<10 h>1080 B<5
  5. 【請求項5】 基材フィルム中の周期律表Vb 、VIb 、
    VIIb、VIII、Ib 、およびIIb 族の金属元素の総濃度が
    10ppm未満であることを特徴とする請求項1ないし
    4のいずれかに記載の磁気記録媒体用基材フィルム。
  6. 【請求項6】 請求項1ないし5のいずれかに記載の基
    材フィルムの少なくとも片面に磁性層を設けてなる磁気
    記録媒体。
  7. 【請求項7】 高密度磁気記録媒体であることを特徴と
    する請求項6に記載の磁気記録媒体。
  8. 【請求項8】 耐蝕性を有する素材からなる10000
    nm未満の濾過精度を有するフィルターにて有機高分子
    体の溶融物あるいは溶液を濾過した後、該有機高分子体
    をフィルム状に成形することを特徴とする、磁気記録媒
    体用基材フィルムの製造方法。
  9. 【請求項9】 前記フィルターが、硫酸に対する耐蝕性
    を有する素材からなることを特徴とする請求項8に記載
    の基材フィルムの製造方法。
  10. 【請求項10】 有機高分子体が主として芳香族ポリア
    ミドまたは芳香族ポリイミドであることを特徴とする請
    求項8または9に記載の基材フィルムの製造方法。
  11. 【請求項11】 前記フィルターの素材が、ニッケル、
    チタン、ジルコニウム、タンタル、鉛の単体、およびそ
    れら単体を主成分とする合金のうちから選ばれた少なく
    とも1種類からなることを特徴とする請求項8ないし1
    0のいずれかに記載の基材フィルムの製造方法。
  12. 【請求項12】 フィルターの素材が、インコネル、モ
    ネル、およびハステロイから選ばれる少なくとも1種類
    であることを特徴とする請求項8ないし10のいずれか
    に記載の基材フィルムの製造方法。
  13. 【請求項13】 前記フィルターの素材が、ポリエチレ
    ン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ナイロン樹脂、エポキシ
    樹脂、セルロース樹脂、活性炭、ガラス、ポリエステル
    樹脂、テフロン樹脂、ポリビニル樹脂から選ばれた少な
    くとも1種類を主成分とすることを特徴とする請求項8
    ないし10のいずれかに記載の基材フィルムの製造方
    法。
  14. 【請求項14】 前記フィルターが5000nm未満の
    濾過精度を有することを特徴とする請求項8ないし13
    のいずれかに記載の基材フィルムの製造方法。
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