JPH09156059A - 表面加工積層ポリエステルフイルム及びその製造方法 - Google Patents
表面加工積層ポリエステルフイルム及びその製造方法Info
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- JPH09156059A JPH09156059A JP33617095A JP33617095A JPH09156059A JP H09156059 A JPH09156059 A JP H09156059A JP 33617095 A JP33617095 A JP 33617095A JP 33617095 A JP33617095 A JP 33617095A JP H09156059 A JPH09156059 A JP H09156059A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】実質的に粒子を含有しないポリエステル層の表
面に均一且つ微細な凹凸を有する新規な表面加工積層ポ
リエステルフイルムを提供する。 【解決手段】融点が５〜１１０℃異なる２種類以上のポ
リエステルを積層して成り、低融点ポリエステルは、実
質的に粒子を含有しておらず且つその表面粗度（Ｒｍａ
ｘ）が０．０５〜２０μｍである。
面に均一且つ微細な凹凸を有する新規な表面加工積層ポ
リエステルフイルムを提供する。 【解決手段】融点が５〜１１０℃異なる２種類以上のポ
リエステルを積層して成り、低融点ポリエステルは、実
質的に粒子を含有しておらず且つその表面粗度（Ｒｍａ
ｘ）が０．０５〜２０μｍである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面加工積層ポリ
エステルフイルム及びその製造方法に関するものであ
り、詳しくは、表面に均一且つ微細な凹凸が形成され、
各種分野において好適な表面加工積層ポリエステルフイ
ルム及びその製造方法に関するものである。
エステルフイルム及びその製造方法に関するものであ
り、詳しくは、表面に均一且つ微細な凹凸が形成され、
各種分野において好適な表面加工積層ポリエステルフイ
ルム及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ポリエステルフイルムの表面を粗
面化する手法として、ポリエステルに無機粒子や有機粒
子を含有させて製膜する方法、フイルム製膜工程中ある
いは工程後表面に粒子含有塗布液を塗布する所謂コーテ
ィング法、フイルム製膜後に表面にケイ砂等の粒子を叩
きつけて表面を粗面化する所謂サンドブラスト法が知ら
れている。
面化する手法として、ポリエステルに無機粒子や有機粒
子を含有させて製膜する方法、フイルム製膜工程中ある
いは工程後表面に粒子含有塗布液を塗布する所謂コーテ
ィング法、フイルム製膜後に表面にケイ砂等の粒子を叩
きつけて表面を粗面化する所謂サンドブラスト法が知ら
れている。
【０００３】また、特開平１−１８８５３３号公報に
は、ポリエステル成形物にヘキサフルオロイソプロパノ
ール等の多ハロゲン化脂肪族アルコールを一定時間接触
させて部分的に溶解させた後、溶媒をクロロホルム等で
洗浄除去することにより、表面に均一微細な突起を密に
形成する方法が提案されている。
は、ポリエステル成形物にヘキサフルオロイソプロパノ
ール等の多ハロゲン化脂肪族アルコールを一定時間接触
させて部分的に溶解させた後、溶媒をクロロホルム等で
洗浄除去することにより、表面に均一微細な突起を密に
形成する方法が提案されている。
【０００４】しかしながら、ポリエステルに粒子を含有
させて製膜する方法は、フイルム表面を高度に粗面化す
る場合、粒子の含有量を高くする必要があるため、ポリ
エステル原料調製上のみならず製膜上も限界があり、更
に、フイルム表面に均一な突起を形成し難いと言う欠点
もある。コーティング法は、フイルムと塗膜との密着性
が悪いと言う問題があり、サンドブラスト法は、表面に
形成された凹凸の形状が不規則であって、その大きさ、
高さ、密度の制御が困難である。特に、サンドブラスト
法は、ブラスト表面の残砂が後加工に影響を与えると言
う欠点もある。特開平１−１８８５３３号公報に記載の
方法は、均一な突起を形成し得るが、工程が複雑であ
り、連続処理性や生産性の点で問題である。
させて製膜する方法は、フイルム表面を高度に粗面化す
る場合、粒子の含有量を高くする必要があるため、ポリ
エステル原料調製上のみならず製膜上も限界があり、更
に、フイルム表面に均一な突起を形成し難いと言う欠点
もある。コーティング法は、フイルムと塗膜との密着性
が悪いと言う問題があり、サンドブラスト法は、表面に
形成された凹凸の形状が不規則であって、その大きさ、
高さ、密度の制御が困難である。特に、サンドブラスト
法は、ブラスト表面の残砂が後加工に影響を与えると言
う欠点もある。特開平１−１８８５３３号公報に記載の
方法は、均一な突起を形成し得るが、工程が複雑であ
り、連続処理性や生産性の点で問題である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑み成されたものであり、その目的は、実質的に粒子を
含有しないポリエステル層の表面に均一且つ微細な凹凸
を有する新規な表面加工積層ポリエステルフイルム及び
上記の凹凸を短時間で広範囲に形成することが出来る上
記フイルムの製造方法を提供することにある。
鑑み成されたものであり、その目的は、実質的に粒子を
含有しないポリエステル層の表面に均一且つ微細な凹凸
を有する新規な表面加工積層ポリエステルフイルム及び
上記の凹凸を短時間で広範囲に形成することが出来る上
記フイルムの製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の第１
の要旨は、融点が５〜１１０℃異なる２種類以上のポリ
エステルを積層して成り、低融点ポリエステルは、実質
的に粒子を含有しておらず且つその表面粗度（Ｒｍａ
ｘ）が０．０５〜２０μｍであることを特徴とする表面
加工積層ポリエステルフイルムに存し、第２の要旨は、
融点が５〜１１０℃異なる低融点ポリエステルと高融点
ポリエステルであって低融点ポリエステルが実質的に粒
子を含有していない２種類以上のポリエステルを原料と
し、先ず、共押出しによって低融点ポリエステルが表面
に位置する積層シートを得、次いで、得られた積層シー
トを延伸した後、低融点ポリエステルの融点以上で且つ
高融点ポリエステルの融点未満の温度で熱処理を行い、
次いで、低融点ポリエステルのフイルム表面を溶剤処理
した後に乾燥することを特徴とする表面加工積層ポリエ
ステルフイルムの製造方法に存する。
の要旨は、融点が５〜１１０℃異なる２種類以上のポリ
エステルを積層して成り、低融点ポリエステルは、実質
的に粒子を含有しておらず且つその表面粗度（Ｒｍａ
ｘ）が０．０５〜２０μｍであることを特徴とする表面
加工積層ポリエステルフイルムに存し、第２の要旨は、
融点が５〜１１０℃異なる低融点ポリエステルと高融点
ポリエステルであって低融点ポリエステルが実質的に粒
子を含有していない２種類以上のポリエステルを原料と
し、先ず、共押出しによって低融点ポリエステルが表面
に位置する積層シートを得、次いで、得られた積層シー
トを延伸した後、低融点ポリエステルの融点以上で且つ
高融点ポリエステルの融点未満の温度で熱処理を行い、
次いで、低融点ポリエステルのフイルム表面を溶剤処理
した後に乾燥することを特徴とする表面加工積層ポリエ
ステルフイルムの製造方法に存する。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
ポリエステルは、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコー
ルとを重縮合させて得られる。芳香族ジカルボン酸とし
ては、テレフタル酸、２，６ーナフタレンジカルボン酸
などが挙げられ、脂肪族グリコールとしては、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、１，４−シクロヘ
キサンジメタノール等が挙げられる。代表的なポリエス
テルとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシ
レート（ＰＥＮ）等が例示される。
ポリエステルは、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコー
ルとを重縮合させて得られる。芳香族ジカルボン酸とし
ては、テレフタル酸、２，６ーナフタレンジカルボン酸
などが挙げられ、脂肪族グリコールとしては、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、１，４−シクロヘ
キサンジメタノール等が挙げられる。代表的なポリエス
テルとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシ
レート（ＰＥＮ）等が例示される。
【０００８】また、本願発明で使用するポリエステル
は、融点を変化させるために第三成分を共重した共重ポ
リエステルであってもよい。共重合ポリエステルのジカ
ルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレ
フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、アジピン
酸、セバシン酸、オキシカルボン酸（例えば、Ｐ−オキ
シ安息香酸など）の一種または二種以上が挙げられ、グ
リコール成分として、エチレングリコール、ジエチレン
グリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、
１，４−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグ
リコール等の一種または二種以上が挙げられる。
は、融点を変化させるために第三成分を共重した共重ポ
リエステルであってもよい。共重合ポリエステルのジカ
ルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレ
フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、アジピン
酸、セバシン酸、オキシカルボン酸（例えば、Ｐ−オキ
シ安息香酸など）の一種または二種以上が挙げられ、グ
リコール成分として、エチレングリコール、ジエチレン
グリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、
１，４−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグ
リコール等の一種または二種以上が挙げられる。
【０００９】本発明の表面加工積層ポリエステルフイル
ムは、融点が５〜１１０℃異なる２種類以上のポリエス
テルを積層して成る。上記の融点の差は、例えば、共重
合成分の含有量の差により制御することが出来る。上記
の融点の差が５℃未満または１１０℃を超える場合は、
フイルム製造時の連続製膜性が悪化する。上記の融点の
差は、好ましくは１０℃〜８０℃である。
ムは、融点が５〜１１０℃異なる２種類以上のポリエス
テルを積層して成る。上記の融点の差は、例えば、共重
合成分の含有量の差により制御することが出来る。上記
の融点の差が５℃未満または１１０℃を超える場合は、
フイルム製造時の連続製膜性が悪化する。上記の融点の
差は、好ましくは１０℃〜８０℃である。
【００１０】低融点ポリエステル層の厚さは、通常、全
体厚さの５０％以下で且つ絶対厚さとして０．０５μｍ
以上、好ましくは、全体厚さの３０％以下で且つ絶対厚
さとして０．１μｍ以上とされる。低融点ポリエステル
層の厚さが全体厚さの５０％を超える場合は、フイルム
の強度が低下する。また、低融点ポリエステル層の絶対
厚さが０．０５μｍ未満の場合は、積層厚さを制御する
ことが困難となる。
体厚さの５０％以下で且つ絶対厚さとして０．０５μｍ
以上、好ましくは、全体厚さの３０％以下で且つ絶対厚
さとして０．１μｍ以上とされる。低融点ポリエステル
層の厚さが全体厚さの５０％を超える場合は、フイルム
の強度が低下する。また、低融点ポリエステル層の絶対
厚さが０．０５μｍ未満の場合は、積層厚さを制御する
ことが困難となる。
【００１１】本発明の表面加工積層ポリエステルフイル
ムにおいて、低融点ポリエステルは、実質的に粒子を含
有しておらず且つその表面粗度（Ｒｍａｘ）が０．０５
〜２０μｍであることが重要である。ここで、実質的に
粒子を含有していないポリエステルとは、当該ポリエス
テルを単独でｏ−クロルフェノール溶媒に溶かした際の
不溶残留粒子量が０．０１ｗｔ％未満であるポリエステ
ルを言う。
ムにおいて、低融点ポリエステルは、実質的に粒子を含
有しておらず且つその表面粗度（Ｒｍａｘ）が０．０５
〜２０μｍであることが重要である。ここで、実質的に
粒子を含有していないポリエステルとは、当該ポリエス
テルを単独でｏ−クロルフェノール溶媒に溶かした際の
不溶残留粒子量が０．０１ｗｔ％未満であるポリエステ
ルを言う。
【００１２】上記の表面粗度（Ｒｍａｘ）は、好ましく
は０．０７μｍ〜１５μｍ、更に好ましくは０．１μｍ
〜１０μｍの範囲である。この値が０．０５μｍ未満の
場合は、印刷性や接着性などが改良されず、２０μｍを
超える場合は、表面の凹凸が微細とならず且つ不均一と
なり、印刷性や接着性などが悪化する。
は０．０７μｍ〜１５μｍ、更に好ましくは０．１μｍ
〜１０μｍの範囲である。この値が０．０５μｍ未満の
場合は、印刷性や接着性などが改良されず、２０μｍを
超える場合は、表面の凹凸が微細とならず且つ不均一と
なり、印刷性や接着性などが悪化する。
【００１３】本発明の表面加工積層ポリエステルフイル
ムにおいて、高融点ポリエステルは、粒子を含有してい
るのが好ましい。高融点ポリエステルが粒子を含有して
いない場合は、製膜時などにおいて、フイルムの滑り性
が悪く、特に、巻き作業性が不良となる。
ムにおいて、高融点ポリエステルは、粒子を含有してい
るのが好ましい。高融点ポリエステルが粒子を含有して
いない場合は、製膜時などにおいて、フイルムの滑り性
が悪く、特に、巻き作業性が不良となる。
【００１４】上記の粒子の種類は、添加粒子と析出粒子
とに分類することが出来る。添加粒子としては、二酸化
ケイ素、カオリン、タルク、二酸化チタン、リン酸カル
シウム、酸化アルミニウム、ゼオライト、フッ化リチウ
ム、フッ化カルシウム、硫酸バリウム、カーボンブラッ
ク、特公昭５９−５２１６号公報に記載されている様な
耐熱性高分子微粉体、バテライト型炭酸カルシウム、天
然炭酸カルシウム、合成法によるカルサイト型炭酸カル
シウム等が挙げられる。
とに分類することが出来る。添加粒子としては、二酸化
ケイ素、カオリン、タルク、二酸化チタン、リン酸カル
シウム、酸化アルミニウム、ゼオライト、フッ化リチウ
ム、フッ化カルシウム、硫酸バリウム、カーボンブラッ
ク、特公昭５９−５２１６号公報に記載されている様な
耐熱性高分子微粉体、バテライト型炭酸カルシウム、天
然炭酸カルシウム、合成法によるカルサイト型炭酸カル
シウム等が挙げられる。
【００１５】ポリエステルに粒子を添加する方法として
は、特に限定されるものではなく、公知の方法を採用し
得る。例えば、ポリエステルを製造する任意の段階にお
いて添加することが出来るが、エステル化の段階または
エステル交換反応終了後重縮合反応開始前の段階でエチ
レングリコール等に分散させたスラリーとして添加した
後に重縮合反応を進めるのが好ましい。また、ベント付
き混練押出機を使用してエチレングリコール又は水など
に分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブ
レンドする方法、または、混練押出機を使用して乾燥さ
せた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法など
も採用し得る。
は、特に限定されるものではなく、公知の方法を採用し
得る。例えば、ポリエステルを製造する任意の段階にお
いて添加することが出来るが、エステル化の段階または
エステル交換反応終了後重縮合反応開始前の段階でエチ
レングリコール等に分散させたスラリーとして添加した
後に重縮合反応を進めるのが好ましい。また、ベント付
き混練押出機を使用してエチレングリコール又は水など
に分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブ
レンドする方法、または、混練押出機を使用して乾燥さ
せた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法など
も採用し得る。
【００１６】析出粒子とは、例えば、エステル交換触媒
としてアルカリ金属またはアルカリ土類金属化合物を使
用した系を常法により重合することにより、反応系内に
析出する粒子である。また、析出粒子としては、エステ
ル交換反応または重縮合反応時にテレフタル酸を添加す
ることにより、析出させた粒子であってもよい。これら
の場合、リン酸、リン酸トリメチル、リン酸トリエチ
ル、リン酸トリブチル、酸性リン酸エチル、亜リン酸、
亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸ト
リブチル等のリン化合物の一種以上を当該系内に存在さ
せておいてもよい。
としてアルカリ金属またはアルカリ土類金属化合物を使
用した系を常法により重合することにより、反応系内に
析出する粒子である。また、析出粒子としては、エステ
ル交換反応または重縮合反応時にテレフタル酸を添加す
ることにより、析出させた粒子であってもよい。これら
の場合、リン酸、リン酸トリメチル、リン酸トリエチ
ル、リン酸トリブチル、酸性リン酸エチル、亜リン酸、
亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸ト
リブチル等のリン化合物の一種以上を当該系内に存在さ
せておいてもよい。
【００１７】また、エステル化工程中に、上述の方法で
不活性物質粒子を反応系内に析出させることが出来る。
例えば、エステル化反応終了前または後にアルカリ金属
またはアルカリ土類金属化合物を存在させ、リン化合物
の存在下または不存在下に重合反応を行うことにより、
ポリエステル中に不活性物質粒子を析出させる。ポリエ
ステル生成反応中に生成する微細な析出粒子には、カル
シウム、リチウム、アンチモン、リン等の元素が一種以
上含まれている。
不活性物質粒子を反応系内に析出させることが出来る。
例えば、エステル化反応終了前または後にアルカリ金属
またはアルカリ土類金属化合物を存在させ、リン化合物
の存在下または不存在下に重合反応を行うことにより、
ポリエステル中に不活性物質粒子を析出させる。ポリエ
ステル生成反応中に生成する微細な析出粒子には、カル
シウム、リチウム、アンチモン、リン等の元素が一種以
上含まれている。
【００１８】高融点ポリエステルに含有させる粒子の平
均粒径は、特に限定するものではないが、通常０．０１
μｍ〜３．５μｍ、好ましくは０．０５μｍ〜２．０μ
ｍ、更に好ましくは０．１μｍ〜１．５μｍの範囲であ
る。平均粒径が０．０１μｍ未満の場合は、フイルムの
滑り性が改良されない。粒子の含有量は、特に限定する
ものではないが、通常０．０１ｗｔ％〜１０ｗｔ％、好
ましくは、０．０５ｗｔ％〜７．５ｗｔ％、更に好まし
くは、０．１ｗｔ％〜５．０ｗｔ％の範囲である。粒子
の含有量が０．０１ｗｔ％未満の場合は、フイルムの滑
り性が改良されない。
均粒径は、特に限定するものではないが、通常０．０１
μｍ〜３．５μｍ、好ましくは０．０５μｍ〜２．０μ
ｍ、更に好ましくは０．１μｍ〜１．５μｍの範囲であ
る。平均粒径が０．０１μｍ未満の場合は、フイルムの
滑り性が改良されない。粒子の含有量は、特に限定する
ものではないが、通常０．０１ｗｔ％〜１０ｗｔ％、好
ましくは、０．０５ｗｔ％〜７．５ｗｔ％、更に好まし
くは、０．１ｗｔ％〜５．０ｗｔ％の範囲である。粒子
の含有量が０．０１ｗｔ％未満の場合は、フイルムの滑
り性が改良されない。
【００１９】本発明においては、低融点ポリエステル及
び／又は高融点ポリエステルに有機滑剤を含有させるこ
とも出来る。有機滑剤の種類としては、特に限定するも
のではないが、脂肪族化合物、脂肪酸エステル類、アル
キレンビス脂肪族類および芳香族アミド等が好ましい。
脂肪族化合物としては、モンタン酸などの炭素数の多い
ものが好ましい。また、脂肪族エステルとしては、モン
タン酸エチレングリコールエステル等が挙げられる。ア
ルキレンビス脂肪族および／または芳香族アミドとして
は、ヘキサメチレンビスベヘンアミド、ヘキサメチレン
ビスステアリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジステアリルテレフ
タルアミド等が挙げられる。
び／又は高融点ポリエステルに有機滑剤を含有させるこ
とも出来る。有機滑剤の種類としては、特に限定するも
のではないが、脂肪族化合物、脂肪酸エステル類、アル
キレンビス脂肪族類および芳香族アミド等が好ましい。
脂肪族化合物としては、モンタン酸などの炭素数の多い
ものが好ましい。また、脂肪族エステルとしては、モン
タン酸エチレングリコールエステル等が挙げられる。ア
ルキレンビス脂肪族および／または芳香族アミドとして
は、ヘキサメチレンビスベヘンアミド、ヘキサメチレン
ビスステアリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジステアリルテレフ
タルアミド等が挙げられる。
【００２０】有機滑剤の含有量は、通常５００ｐｐｍ以
下、好ましくは２００ｐｐｍ以下とされる。有機滑剤の
含有量が多すぎる場合は、蒸着または塗布などをフイル
ムにを施す際の接着性が低下したり、フイルムの色目と
して黄味が強くなり過ぎるので好ましくない。
下、好ましくは２００ｐｐｍ以下とされる。有機滑剤の
含有量が多すぎる場合は、蒸着または塗布などをフイル
ムにを施す際の接着性が低下したり、フイルムの色目と
して黄味が強くなり過ぎるので好ましくない。
【００２１】本発明においては、フイルムの印刷性や接
着性を向上させる目的で、低融点ポリエステルにポリア
ルキレングリコール類を含有させることが好ましい。ポ
リアルキレングリコールとしては、ポリエチレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール等が挙げられる。ポリアルキレングリコール
の分子量は、フイルムの透明性を損なわない様にすると
の観点から、通常１００００以下、好ましくは８０００
以下とされる。
着性を向上させる目的で、低融点ポリエステルにポリア
ルキレングリコール類を含有させることが好ましい。ポ
リアルキレングリコールとしては、ポリエチレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール等が挙げられる。ポリアルキレングリコール
の分子量は、フイルムの透明性を損なわない様にすると
の観点から、通常１００００以下、好ましくは８０００
以下とされる。
【００２２】ポリエステルにポリアルキレングリコール
を含有させる方法としては、エステル交換中または重合
中に反応系に添加する方法、ポリアルキレングリコール
を共重合させた重合体をブレンドする方法、ポリエステ
ルの乾燥時または押出時に練り込む方法が挙げられる。
ポリアルキレングリコールの含有量は、通常１．０ｗｔ
％以下、好ましくは０．５ｗｔ％以下とされる。
を含有させる方法としては、エステル交換中または重合
中に反応系に添加する方法、ポリアルキレングリコール
を共重合させた重合体をブレンドする方法、ポリエステ
ルの乾燥時または押出時に練り込む方法が挙げられる。
ポリアルキレングリコールの含有量は、通常１．０ｗｔ
％以下、好ましくは０．５ｗｔ％以下とされる。
【００２３】また、本発明においては、ポリエステルフ
イルムには、必要に応じ、安定剤、酸化防止剤、帯電防
止剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤などの添加剤を含有
させてもよい。
イルムには、必要に応じ、安定剤、酸化防止剤、帯電防
止剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤などの添加剤を含有
させてもよい。
【００２４】本発明のポリエステルフイルムの厚さ（全
体厚さ）は、通常１μｍ〜５００μｍ、好ましくは２μ
ｍ〜２５０μｍとされるが、特に５μｍ〜２００μｍ厚
さの場合に優れた効果を発揮する。
体厚さ）は、通常１μｍ〜５００μｍ、好ましくは２μ
ｍ〜２５０μｍとされるが、特に５μｍ〜２００μｍ厚
さの場合に優れた効果を発揮する。
【００２５】本発明のフイルムは、前述の低融点ポリエ
ステルと高融点ポリエステルを原料とし、先ず、共押出
しによって低融点ポリエステルが表面に位置する積層シ
ートを得、次いで、得られた積層シートを延伸した後、
低融点ポリエステルの融点以上で且つ高融点ポリエステ
ルの融点未満の温度で熱処理を行い、次いで、低融点ポ
リエステルのフイルム表面を溶剤処理した後に乾燥する
方法によって製造することが出来る。
ステルと高融点ポリエステルを原料とし、先ず、共押出
しによって低融点ポリエステルが表面に位置する積層シ
ートを得、次いで、得られた積層シートを延伸した後、
低融点ポリエステルの融点以上で且つ高融点ポリエステ
ルの融点未満の温度で熱処理を行い、次いで、低融点ポ
リエステルのフイルム表面を溶剤処理した後に乾燥する
方法によって製造することが出来る。
【００２６】共押出しは、複数台の押出機、複数層のマ
ルチマニホールドダイ又はフィードブロックを使用し、
それぞれのポリエステルを積層して口金から複数層の溶
融シートを押出し、冷却ロールで冷却固化することによ
り行われる。この場合、積層シートの平面性を向上させ
るため、シートと回転冷却ドラムとの密着性を高める必
要があり、静電印加密着法や液体塗布密着法を採用する
のが好ましい。
ルチマニホールドダイ又はフィードブロックを使用し、
それぞれのポリエステルを積層して口金から複数層の溶
融シートを押出し、冷却ロールで冷却固化することによ
り行われる。この場合、積層シートの平面性を向上させ
るため、シートと回転冷却ドラムとの密着性を高める必
要があり、静電印加密着法や液体塗布密着法を採用する
のが好ましい。
【００２７】静電印加密着法とは、通常、シートの上面
側にシートの流れと直行する方向に線状電極を張架し、
該電極に約５〜１０ｋＶの直流電圧を印加することによ
り、シートに静電荷を付与してシートとドラムとの密着
性を向上させる方法である。また、液体塗布密着法と
は、回転冷却ドラム表面の全体または一部（例えばシー
ト両端部と接触する部分のみ）に液体を均一に塗布する
ことにより、ドラムとシートとの密着性を向上させる方
法である。本発明においては必要に応じ両者を併用して
もよい。
側にシートの流れと直行する方向に線状電極を張架し、
該電極に約５〜１０ｋＶの直流電圧を印加することによ
り、シートに静電荷を付与してシートとドラムとの密着
性を向上させる方法である。また、液体塗布密着法と
は、回転冷却ドラム表面の全体または一部（例えばシー
ト両端部と接触する部分のみ）に液体を均一に塗布する
ことにより、ドラムとシートとの密着性を向上させる方
法である。本発明においては必要に応じ両者を併用して
もよい。
【００２８】積層シートの延伸において、積層シート
は、ロール又はテンター方式の延伸機により一方向に延
伸され、次いで、一段目の延伸方向と直交する方向に延
伸される。一段目の延伸において、延伸温度は、通常７
０〜１２０℃、好ましくは８０〜１１０℃であり、延伸
倍率は、通常２．５〜７倍、好ましくは３．０〜６倍で
ある。二段目の延伸において、延伸温度は、通常７０〜
１２０℃、好ましくは８０〜１１５℃であり、延伸倍率
は、通常３．０〜７倍、好ましくは３．５〜６倍であ
る。
は、ロール又はテンター方式の延伸機により一方向に延
伸され、次いで、一段目の延伸方向と直交する方向に延
伸される。一段目の延伸において、延伸温度は、通常７
０〜１２０℃、好ましくは８０〜１１０℃であり、延伸
倍率は、通常２．５〜７倍、好ましくは３．０〜６倍で
ある。二段目の延伸において、延伸温度は、通常７０〜
１２０℃、好ましくは８０〜１１５℃であり、延伸倍率
は、通常３．０〜７倍、好ましくは３．５〜６倍であ
る。
【００２９】上記の延伸においては、一方向の延伸を２
段階以上で行うことも出来る。その場合、最終的に二方
向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となる様に行うのが好
ましい。また、前記の未延伸シートを面積倍率が１０〜
４０倍になる様に同時二軸延伸を行うことも可能であ
る。更に、必要に応じて熱処理を行う前または後に再度
縦および／または横方向に延伸してもよい。
段階以上で行うことも出来る。その場合、最終的に二方
向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となる様に行うのが好
ましい。また、前記の未延伸シートを面積倍率が１０〜
４０倍になる様に同時二軸延伸を行うことも可能であ
る。更に、必要に応じて熱処理を行う前または後に再度
縦および／または横方向に延伸してもよい。
【００３０】また、上記の延伸工程においては、高融点
側ポリエステルフイルム表面を処理する所謂インライン
コーティングを施すことが出来る。例えば、１段目の延
伸が終了して２段目の延伸前に、帯電防止性、滑り性、
接着性などの改良、２次加工性改良などの目的で、水溶
液、水系エマルジョン、水系スラリー等のコーティング
処理を施すことが出来る。
側ポリエステルフイルム表面を処理する所謂インライン
コーティングを施すことが出来る。例えば、１段目の延
伸が終了して２段目の延伸前に、帯電防止性、滑り性、
接着性などの改良、２次加工性改良などの目的で、水溶
液、水系エマルジョン、水系スラリー等のコーティング
処理を施すことが出来る。
【００３１】熱処理は、緊張条件下または３０％以内の
弛緩条件下で行われ、低融点ポリエステルは実質的に無
配向とされる。
弛緩条件下で行われ、低融点ポリエステルは実質的に無
配向とされる。
【００３２】本発明における溶剤処理とは、実質的に無
配向層とされた低融点ポリエステルの表面に溶剤を塗布
することを言う。溶剤処理前の表面は、Ｒｍａｘが０．
０１μｍ以下、Ｒａが０．００１μｍ以下であることが
好ましい。溶剤処理に使用される溶剤は、常温（２３
℃）で固体または液体の何れであってもよい。
配向層とされた低融点ポリエステルの表面に溶剤を塗布
することを言う。溶剤処理前の表面は、Ｒｍａｘが０．
０１μｍ以下、Ｒａが０．００１μｍ以下であることが
好ましい。溶剤処理に使用される溶剤は、常温（２３
℃）で固体または液体の何れであってもよい。
【００３３】上記の溶剤としては、脂肪族または芳香族
の炭化水素類、アルコール類、高級アルコール類、チオ
アルコール類、エステル類、ケトン類、エーテル類、グ
リコールエーテル類、石油類、ハロゲン類、フェノール
類などが挙げられる。これらは、単独使用の他、２種以
上の混合物として使用される。
の炭化水素類、アルコール類、高級アルコール類、チオ
アルコール類、エステル類、ケトン類、エーテル類、グ
リコールエーテル類、石油類、ハロゲン類、フェノール
類などが挙げられる。これらは、単独使用の他、２種以
上の混合物として使用される。
【００３４】溶剤が水溶性液体の場合は、水で希釈して
使用することも出来る。また、溶剤に溶解し得る限り、
例えば、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、染
料、帯電防止剤などの各種添加剤を溶剤に配合して使用
してもよい。溶剤の塗布量は、通常１ｇ〜２５ｇ／ｍ、
好ましくは２ｇ〜２０ｇ／ｍとされる。
使用することも出来る。また、溶剤に溶解し得る限り、
例えば、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、染
料、帯電防止剤などの各種添加剤を溶剤に配合して使用
してもよい。溶剤の塗布量は、通常１ｇ〜２５ｇ／ｍ、
好ましくは２ｇ〜２０ｇ／ｍとされる。
【００３５】溶剤の塗布方法としては、公知の任意の塗
工法を適用することが出来る。例えば、キスコート法、
リバースコート法、ダイコート法、リバースキスコート
法、オフセットグラビアコート法、マイヤーバーコート
法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナ
イフコート法、ディップコート法、カーテンコート法な
どを単独または適宜組み合わせて適用することが出来
る。
工法を適用することが出来る。例えば、キスコート法、
リバースコート法、ダイコート法、リバースキスコート
法、オフセットグラビアコート法、マイヤーバーコート
法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナ
イフコート法、ディップコート法、カーテンコート法な
どを単独または適宜組み合わせて適用することが出来
る。
【００３６】溶剤の乾燥は、通常２０℃〜１５０℃、好
ましくは４０℃〜１２０℃の温度で行われ、乾燥時間
は、通常２分以内、好ましくは１分以内とされる。本発
明においては、上記の溶剤処理および乾燥から成る一連
の表面加工工程により、実質的に粒子を含有しないポリ
エステル層の表面に均一且つ微細な凹凸を形成すること
が出来る。
ましくは４０℃〜１２０℃の温度で行われ、乾燥時間
は、通常２分以内、好ましくは１分以内とされる。本発
明においては、上記の溶剤処理および乾燥から成る一連
の表面加工工程により、実質的に粒子を含有しないポリ
エステル層の表面に均一且つ微細な凹凸を形成すること
が出来る。
【００３７】なお、上記の表面加工は、フイルム製造工
程と直結した所謂インラインコーティング法や、直結さ
せないで表面加工処理を単独で行う所謂オフラインコー
ティング法の何れか又は両者を併用させて行うことが出
来る。
程と直結した所謂インラインコーティング法や、直結さ
せないで表面加工処理を単独で行う所謂オフラインコー
ティング法の何れか又は両者を併用させて行うことが出
来る。
【００３８】本発明の表面加工積層ポリエステルフイル
ムは、印刷性、接着性、易滑性等に優れているため、グ
ラフィック用、精密製図用、拡散シート用、建材用、離
型用、電気電子の材料（例えばエレクトロニクスデバイ
ス等の基板用）等多くの工業分野の材料として好適に利
用される。
ムは、印刷性、接着性、易滑性等に優れているため、グ
ラフィック用、精密製図用、拡散シート用、建材用、離
型用、電気電子の材料（例えばエレクトロニクスデバイ
ス等の基板用）等多くの工業分野の材料として好適に利
用される。
【００３９】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。なお、実施例および比較
例中「部」とあるのは「重量部」を示す。また、本発明
で使用した測定法は、次の通りである。
するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。なお、実施例および比較
例中「部」とあるのは「重量部」を示す。また、本発明
で使用した測定法は、次の通りである。
【００４０】（１）表面凹凸の微細均一性 複写機（リコー（株）社製「ＩＭＡＧＩＯ ＭＦ５３
０」）を使用し、試料フイルムにファクシミリテストチ
ャート（画像電子学会製「Ｎｏ．２（１９７２）」）を
複写し、複写後の仕上がり具合を目視により観察し、下
記の評価基準にて評価した。
０」）を使用し、試料フイルムにファクシミリテストチ
ャート（画像電子学会製「Ｎｏ．２（１９７２）」）を
複写し、複写後の仕上がり具合を目視により観察し、下
記の評価基準にて評価した。
【００４１】
【表１】 ○：複写の状態が良好。 △：複写の状態が若干不鮮明であるが実用上問題ない。 ×：複写の状態が不鮮明であり不良。
【００４２】（２）易滑性 傾斜角度の変えられる平坦な板の上に試料フイルムを乗
せ、その上に２ｃｍ×２ｃｍの表面仕上げが０．２Ｓで
重さ１００ｇのステンレス板を乗せて徐々に傾斜させて
行き、ステンレス板の滑り出す傾斜角度を測定し、下記
の評価基準にて評価した。
せ、その上に２ｃｍ×２ｃｍの表面仕上げが０．２Ｓで
重さ１００ｇのステンレス板を乗せて徐々に傾斜させて
行き、ステンレス板の滑り出す傾斜角度を測定し、下記
の評価基準にて評価した。
【００４３】
【表２】 ４５°以下 ：○（滑り性良好） ４５°を超える：×（滑り性不良）
【００４４】（３）最大高さ（Ｒｍａｘ） 表面粗さ測定機（（株）小坂研究所製「ＳＥ−３Ｆ」）
によって得られた断面曲線から、基準長さ（２．５ｍ
ｍ）だけ抜き取った部分（以下「抜き取り部分という）
の平均線に平行な２直線で抜き取り部分を挟んだ時、こ
の２直線の間隔を断面曲線の縦倍率の方向に測定してそ
の値をマイクロメートル（μｍ）単位で表わしたものを
抜き取り部分の最大高さとした。最大高さは、試料フイ
ルム表面から１０本の断面曲線を求め、これらの断面曲
線から求めた抜き取り部分の最大高さの平均値で表わし
た。なお、使用した触針の半径は２．０μｍ、荷重は３
０ｍｇ、カットオフ値は０．０８ｍｍとした。
によって得られた断面曲線から、基準長さ（２．５ｍ
ｍ）だけ抜き取った部分（以下「抜き取り部分という）
の平均線に平行な２直線で抜き取り部分を挟んだ時、こ
の２直線の間隔を断面曲線の縦倍率の方向に測定してそ
の値をマイクロメートル（μｍ）単位で表わしたものを
抜き取り部分の最大高さとした。最大高さは、試料フイ
ルム表面から１０本の断面曲線を求め、これらの断面曲
線から求めた抜き取り部分の最大高さの平均値で表わし
た。なお、使用した触針の半径は２．０μｍ、荷重は３
０ｍｇ、カットオフ値は０．０８ｍｍとした。
【００４５】（４）印刷インキ接着性 セロカラー用印刷インキ（藍）（東洋インキ製造（株）
製「ＣＣＳＴ３９」）を使用し、乾燥後の塗膜厚さが
１．５μになる様にフイルム表面に塗布し、８０℃で１
分間熱風乾燥し、評価用フイルムを得る。評価用フイル
ムを２３℃、湿度５０％ＲＨにて２４時間調温調湿し、
当該フイルムのインキ塗布面に１８ｍｍ幅のセロテープ
（ニチバン（株）製）を気泡の入らぬ様に７ｃｍの長さ
に貼り、この上から３Ｋｇの手動式荷重ロールで一定の
荷重を与える。フイルムを固定し、セロテープの一端を
５００ｇの錘に接続し、錘が４５ｃｍの距離を自然落下
後に、１８０°方向の剥離試験が開始する方法で評価す
る。接着性は、次の５段階の基準で評価した。なお、実
用的には、評価４以上であれば問題なく使用できる。
製「ＣＣＳＴ３９」）を使用し、乾燥後の塗膜厚さが
１．５μになる様にフイルム表面に塗布し、８０℃で１
分間熱風乾燥し、評価用フイルムを得る。評価用フイル
ムを２３℃、湿度５０％ＲＨにて２４時間調温調湿し、
当該フイルムのインキ塗布面に１８ｍｍ幅のセロテープ
（ニチバン（株）製）を気泡の入らぬ様に７ｃｍの長さ
に貼り、この上から３Ｋｇの手動式荷重ロールで一定の
荷重を与える。フイルムを固定し、セロテープの一端を
５００ｇの錘に接続し、錘が４５ｃｍの距離を自然落下
後に、１８０°方向の剥離試験が開始する方法で評価す
る。接着性は、次の５段階の基準で評価した。なお、実
用的には、評価４以上であれば問題なく使用できる。
【００４６】
【表３】 評価５：インキが全く剥離しない。 評価４：インキがセロテープ面に剥離する面積が１０％
未満である。 評価３：インキがセロテープ面に剥離する面積が１０％
〜５０％である。 評価２：インキがセロテープ面に剥離する面積が５０％
を超えている。 評価１：インキがセロテープ側に完全に剥離する。
未満である。 評価３：インキがセロテープ面に剥離する面積が１０％
〜５０％である。 評価２：インキがセロテープ面に剥離する面積が５０％
を超えている。 評価１：インキがセロテープ側に完全に剥離する。
【００４７】（５）融点（Ｔｍ） 差動熱量計（パーキンエルマー社製「ＤＳＣ７型」）を
使用し、１６℃／ｍｉｎの昇温速度で得られた結晶融解
による吸熱ピーク温度を融点とした。なお、使用した試
料は、測定対象のポリエステルを単独で二軸延伸したフ
イルムである。
使用し、１６℃／ｍｉｎの昇温速度で得られた結晶融解
による吸熱ピーク温度を融点とした。なお、使用した試
料は、測定対象のポリエステルを単独で二軸延伸したフ
イルムである。
【００４８】（６）フイルム積層厚み フイルム小片をエポキシ樹脂にて固定成形した後、ミク
ロトームで切断し、フイルムの断面を透過型電子顕微鏡
にて観察した。フイルム表面とほぼ平行に、明暗によっ
てその界面が観察される。その界面とフイルム表面まで
の距離を透過型電子顕微鏡写真１枚について平均して厚
みを計算した。少なくとも５０枚の写真について計算を
行い、測定値の大きい方から１０点、小さい方から１０
点を削除して３０点の相加平均をフイルム厚さとした。
ロトームで切断し、フイルムの断面を透過型電子顕微鏡
にて観察した。フイルム表面とほぼ平行に、明暗によっ
てその界面が観察される。その界面とフイルム表面まで
の距離を透過型電子顕微鏡写真１枚について平均して厚
みを計算した。少なくとも５０枚の写真について計算を
行い、測定値の大きい方から１０点、小さい方から１０
点を削除して３０点の相加平均をフイルム厚さとした。
【００４９】製造例１（ポリエステルＡ１） ジメチルテレフタレート１００部、エチレングリコール
６０部および酢酸マグネシウム・４水塩０．０９部を反
応器に採り、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、
エステル交換反応を行い、反応開始から４時間を要して
２３０℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了し
た。次いで、平均粒径（ｄ50）１．５４μｍのシリカ粒
子を０．３部含有するエチレングリコールスラリーを反
応系に添加し、更に、エチルアシッドフォスフェート
０．０４部、三酸化アンチモン０．０４部を添加した後
１００分で温度を２８０℃、圧力を１５ｍｍＨｇに達せ
しめ、以後も徐々に圧力を減じ最終的に０．３ｍｍＨｇ
とした。４時間後、系内を常圧に戻しポリエステルＡ１
を得た。ポリエステルＡ１の融点は２６０℃、シリカ粒
子の含有量は０．３％であった。
６０部および酢酸マグネシウム・４水塩０．０９部を反
応器に採り、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、
エステル交換反応を行い、反応開始から４時間を要して
２３０℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了し
た。次いで、平均粒径（ｄ50）１．５４μｍのシリカ粒
子を０．３部含有するエチレングリコールスラリーを反
応系に添加し、更に、エチルアシッドフォスフェート
０．０４部、三酸化アンチモン０．０４部を添加した後
１００分で温度を２８０℃、圧力を１５ｍｍＨｇに達せ
しめ、以後も徐々に圧力を減じ最終的に０．３ｍｍＨｇ
とした。４時間後、系内を常圧に戻しポリエステルＡ１
を得た。ポリエステルＡ１の融点は２６０℃、シリカ粒
子の含有量は０．３％であった。
【００５０】製造例２（ポリエステルＡ２） 製造例１において、シリカ粒子を含有するエチレングリ
コールスラリーを反応系に添加しない以外は、製造例１
と同様にして融点２６０℃のポリエステルＡ２を得た。
コールスラリーを反応系に添加しない以外は、製造例１
と同様にして融点２６０℃のポリエステルＡ２を得た。
【００５１】製造例３（共重合ポリエステルＢ１） 製造例１において、シリカ粒子を含有するエチレングリ
コールスラリーを反応系に添加せず、ジカルボン酸成分
をジメチルテレフタレート８０部とジメチルイソフタレ
ート２０部に変更した以外は、製造例１と同様にして融
点２００℃の共重合ポリエステルＢ１を得た。
コールスラリーを反応系に添加せず、ジカルボン酸成分
をジメチルテレフタレート８０部とジメチルイソフタレ
ート２０部に変更した以外は、製造例１と同様にして融
点２００℃の共重合ポリエステルＢ１を得た。
【００５２】製造例４（共重合ポリエステルＢ２） 製造例１において、シリカ粒子を含有するエチレングリ
コールスラリーを反応系に添加せず、ジカルボン酸成分
をジメチルテレフタレート８５部とジメチルイソフタレ
ート１５部に変更した以外は、製造例１と同様にして融
点２１５℃の共重合ポリエステルＢ２を得た。
コールスラリーを反応系に添加せず、ジカルボン酸成分
をジメチルテレフタレート８５部とジメチルイソフタレ
ート１５部に変更した以外は、製造例１と同様にして融
点２１５℃の共重合ポリエステルＢ２を得た。
【００５３】製造例５（共重合ポリエステルＢ３） 製造例１において、シリカ粒子を含有するエチレングリ
コールスラリーを反応系に添加せず、ジカルボン酸成分
をジメチルテレフタレート９０部とジメチルイソフタレ
ート１０部に変更した以外は、製造例１と同様にして融
点２３０℃の共重合ポリエステルＢ３を得た。
コールスラリーを反応系に添加せず、ジカルボン酸成分
をジメチルテレフタレート９０部とジメチルイソフタレ
ート１０部に変更した以外は、製造例１と同様にして融
点２３０℃の共重合ポリエステルＢ３を得た。
【００５４】製造例６（共重合ポリエステルＢ４） 製造例１において、シリカ粒子を含有するエチレングリ
コールスラリーを反応系に添加せず、ジカルボン酸成分
をジメチルテレフタレート９１部とジメチルイソフタレ
ート９部に変更した以外は、製造例１と同様にして融点
２３３℃の共重合ポリエステルＢ４を得た。
コールスラリーを反応系に添加せず、ジカルボン酸成分
をジメチルテレフタレート９１部とジメチルイソフタレ
ート９部に変更した以外は、製造例１と同様にして融点
２３３℃の共重合ポリエステルＢ４を得た。
【００５５】製造例７（共重合ポリエステルＢ５） 製造例３において、シリカ粒子を含有するエチレングリ
コールスラリーを反応系に添加せず、ジカルボン酸成分
をジメチルテレフタレート９５部とジメチルイソフタレ
ート５部に変更した以外は、製造例１と同様にして融点
２４５℃の共重合ポリエステルＢ５を得た。
コールスラリーを反応系に添加せず、ジカルボン酸成分
をジメチルテレフタレート９５部とジメチルイソフタレ
ート５部に変更した以外は、製造例１と同様にして融点
２４５℃の共重合ポリエステルＢ５を得た。
【００５６】製造例８（積層フイルムＦ１） ポリエステルＡ１とＢ１の各チップを１６０℃で２４時
間真空乾燥機中で乾燥し、別個の溶融押出機により２９
０℃で溶融押出しを行い、これらのポリマーをフィード
ブロック内で合流して積層し、静電印加密着法を使用し
て表面温度を４０℃に設定した冷却ロール上で冷却固化
して未延伸積層シートを得た。得られたシートを８５℃
で３．２倍縦方向に延伸した。次いで、得られた一軸延
伸フイルムをテンターに導き１００℃で３．２倍横方向
に延伸した後、２３０℃にて熱固定を行い、層構成がＡ
１／Ｂ１であり、各層の厚さが６０／１５（μｍ）であ
る厚さ７５μｍの二軸延伸積層フイルムを得た。
間真空乾燥機中で乾燥し、別個の溶融押出機により２９
０℃で溶融押出しを行い、これらのポリマーをフィード
ブロック内で合流して積層し、静電印加密着法を使用し
て表面温度を４０℃に設定した冷却ロール上で冷却固化
して未延伸積層シートを得た。得られたシートを８５℃
で３．２倍縦方向に延伸した。次いで、得られた一軸延
伸フイルムをテンターに導き１００℃で３．２倍横方向
に延伸した後、２３０℃にて熱固定を行い、層構成がＡ
１／Ｂ１であり、各層の厚さが６０／１５（μｍ）であ
る厚さ７５μｍの二軸延伸積層フイルムを得た。
【００５７】製造例９（積層ポリエステルフイルムＦ
２） 製造例８と同様の方法により、層構成がＢ５／Ｂ２であ
り、各層の厚さが６５／１０（μｍ）である厚さ７５μ
ｍの二軸延伸積層フイルムを得た。
２） 製造例８と同様の方法により、層構成がＢ５／Ｂ２であ
り、各層の厚さが６５／１０（μｍ）である厚さ７５μ
ｍの二軸延伸積層フイルムを得た。
【００５８】製造例１０（積層ポリエステルフイルムＦ
３） 製造例８と同様の方法により、層構成がＡ１／Ａ２であ
り、各層の厚さが６５／１０（μｍ）である厚さ７５μ
ｍの二軸延伸積層フイルムを得た。
３） 製造例８と同様の方法により、層構成がＡ１／Ａ２であ
り、各層の厚さが６５／１０（μｍ）である厚さ７５μ
ｍの二軸延伸積層フイルムを得た。
【００５９】製造例１１（積層ポリエステルフイルムＦ
４） 製造例８と同様の方法により、層構成がＢ４／Ｂ３であ
り、各層の厚さが６５／１０（μｍ）である厚さ７５μ
ｍの二軸延伸積層フイルムを得ようとしたが、熱処理工
程において、破断が頻発して目的とするフイルムを得る
ことが出来なかった。
４） 製造例８と同様の方法により、層構成がＢ４／Ｂ３であ
り、各層の厚さが６５／１０（μｍ）である厚さ７５μ
ｍの二軸延伸積層フイルムを得ようとしたが、熱処理工
程において、破断が頻発して目的とするフイルムを得る
ことが出来なかった。
【００６０】実施例１ 積層フイルムＦ１のポリエステルＢ１面上に酢酸ブチル
をグラビアロールにて８ｇ／ｍ2 の塗布量でコーティン
グし、乾燥温度１２０℃、滞留時間３０秒で処理を行い
表面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
をグラビアロールにて８ｇ／ｍ2 の塗布量でコーティン
グし、乾燥温度１２０℃、滞留時間３０秒で処理を行い
表面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
【００６１】実施例２ 実施例１と同様の方法により、酢酸ブチルを酢酸エチル
／ｎ−ヘキサン：５０／５０（重量比）の混合溶媒に変
えて表面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
／ｎ−ヘキサン：５０／５０（重量比）の混合溶媒に変
えて表面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
【００６２】実施例３ 実施例１と同様の方法により、酢酸ブチルをモノクロル
ベンゼン／ｎ−ヘキサン：５０／５０（重量比）の混合
溶媒に変えて表面加工積層ポリエステルフイルムを得
た。
ベンゼン／ｎ−ヘキサン：５０／５０（重量比）の混合
溶媒に変えて表面加工積層ポリエステルフイルムを得
た。
【００６３】実施例４ 実施例１と同様の方法により、酢酸ブチルをアセトンに
変えて表面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
変えて表面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
【００６４】実施例５ 積層ポリエステルフイルムＦ２のポリエステルＢ２面上
にベンゼンをグラビアロールにて８ｇ／ｍ2 の塗布量で
コーティングし、乾燥温度１２０℃、滞留時間３０秒で
処理を行い表面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
にベンゼンをグラビアロールにて８ｇ／ｍ2 の塗布量で
コーティングし、乾燥温度１２０℃、滞留時間３０秒で
処理を行い表面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
【００６５】実施例６ 実施例５と同様の方法により、ベンゼンを１，４ジオキ
サン／水：６０／４０（重量比）の混合溶媒に変えて表
面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
サン／水：６０／４０（重量比）の混合溶媒に変えて表
面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
【００６６】実施例７ 実施例５と同様の方法により、ベンゼンを酢酸エチルに
変えて表面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
変えて表面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
【００６７】実施例８ 実施例５と同様の方法により、ベンゼンをメチルエチル
ケトンに変えて表面加工積層ポリエステルフイルムを得
た。
ケトンに変えて表面加工積層ポリエステルフイルムを得
た。
【００６８】実施例９ 実施例５と同様の方法により、ベンゼンを１，４ジオキ
サン／ｎ−ヘキサン：２０／８０に変えて表面加工積層
ポリエステルフイルムを得た。
サン／ｎ−ヘキサン：２０／８０に変えて表面加工積層
ポリエステルフイルムを得た。
【００６９】比較例１ 積層ポリエステルフイルムＦ３のポリエステルＡ２面上
に酢酸エチルをグラビアロールにて８ｇ／ｍ2 の塗布量
でコーティングし、乾燥温度１２０℃、滞留時間３０秒
で処理を行い表面加工積層ポリエステルフイルムを得
た。
に酢酸エチルをグラビアロールにて８ｇ／ｍ2 の塗布量
でコーティングし、乾燥温度１２０℃、滞留時間３０秒
で処理を行い表面加工積層ポリエステルフイルムを得
た。
【００７０】比較例２ 比較例１と同様の方法により、酢酸エチルをアセトンに
変えて表面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
変えて表面加工積層ポリエステルフイルムを得た。
【００７１】比較例３ 比較例１と同様の方法により、酢酸エチルをメチルエチ
ルケトンに変えて表面加工積層ポリエステルフイルムを
得た。
ルケトンに変えて表面加工積層ポリエステルフイルムを
得た。
【００７２】比較例４ 積層ポリエステルフイルムＦ３のポリエステルＡ２面に
ケイ砂を叩きつけ、凹凸を付けた後、水洗、乾燥してサ
ンドブラスト表面加工積層ポリエステルフイルムを得
た。
ケイ砂を叩きつけ、凹凸を付けた後、水洗、乾燥してサ
ンドブラスト表面加工積層ポリエステルフイルムを得
た。
【００７３】
【表４】
【００７４】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、実質的に
粒子を含有しないポリエステル層の表面に均一且つ微細
な凹凸を有する新規な表面加工積層ポリエステルフイル
ム及上記の凹凸を短時間で広範囲に形成することが出来
る上記フイルムの製造方法が提供される。
粒子を含有しないポリエステル層の表面に均一且つ微細
な凹凸を有する新規な表面加工積層ポリエステルフイル
ム及上記の凹凸を短時間で広範囲に形成することが出来
る上記フイルムの製造方法が提供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｌ 9:00 Ｃ０８Ｌ 67:00
Claims (2)
- 【請求項１】 融点が５〜１１０℃異なる２種類以上の
ポリエステルを積層して成り、低融点ポリエステルは、
実質的に粒子を含有しておらず且つその表面粗度（Ｒｍ
ａｘ）が０．０５〜２０μｍであることを特徴とする表
面加工積層ポリエステルフイルム。 - 【請求項２】 融点が５〜１１０℃異なる低融点ポリエ
ステルと高融点ポリエステルであって低融点ポリエステ
ルが実質的に粒子を含有していない２種類以上のポリエ
ステルを原料とし、先ず、共押出しによって低融点ポリ
エステルが表面に位置する積層シートを得、次いで、得
られた積層シートを延伸した後、低融点ポリエステルの
融点以上で且つ高融点ポリエステルの融点未満の温度で
熱処理を行い、次いで、低融点ポリエステルのフイルム
表面を溶剤処理した後に乾燥することを特徴とする表面
加工積層ポリエステルフイルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33617095A JP3672646B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 表面加工積層ポリエステルフイルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33617095A JP3672646B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 表面加工積層ポリエステルフイルムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09156059A true JPH09156059A (ja) | 1997-06-17 |
| JP3672646B2 JP3672646B2 (ja) | 2005-07-20 |
Family
ID=18296397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33617095A Expired - Fee Related JP3672646B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 表面加工積層ポリエステルフイルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3672646B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000117900A (ja) * | 1998-10-20 | 2000-04-25 | Toyobo Co Ltd | 離型フィルム |
| JP2002042831A (ja) * | 2000-07-24 | 2002-02-08 | Mitsubishi Polyester Film Copp | 離型フィルム |
| JP2009029099A (ja) * | 2006-10-06 | 2009-02-12 | Toray Ind Inc | 微細加工用二軸延伸積層フィルム、およびその製造方法、成形加工シートおよびその成形方法 |
| JP2012038868A (ja) * | 2010-08-05 | 2012-02-23 | Tokyo Electron Ltd | 気化装置、基板処理装置、塗布現像装置、および基板処理方法 |
| US20150232611A1 (en) * | 2012-10-31 | 2015-08-20 | Toray Industries, Inc. | Polyester film, laminate including the film, and laminated assembly including the laminate and sealant layer |
-
1995
- 1995-11-30 JP JP33617095A patent/JP3672646B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000117900A (ja) * | 1998-10-20 | 2000-04-25 | Toyobo Co Ltd | 離型フィルム |
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| JP2009029099A (ja) * | 2006-10-06 | 2009-02-12 | Toray Ind Inc | 微細加工用二軸延伸積層フィルム、およびその製造方法、成形加工シートおよびその成形方法 |
| JP2012038868A (ja) * | 2010-08-05 | 2012-02-23 | Tokyo Electron Ltd | 気化装置、基板処理装置、塗布現像装置、および基板処理方法 |
| US20150232611A1 (en) * | 2012-10-31 | 2015-08-20 | Toray Industries, Inc. | Polyester film, laminate including the film, and laminated assembly including the laminate and sealant layer |
| US9777110B2 (en) * | 2012-10-31 | 2017-10-03 | Toray Industries, Inc. | Polyester film, laminate including the film, and laminated assembly including the laminate and sealant layer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3672646B2 (ja) | 2005-07-20 |
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