JPH09143176A - エポキシシクロペンチル＝ベンジルエーテル類 - Google Patents

エポキシシクロペンチル＝ベンジルエーテル類

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JPH09143176A
JPH09143176A JP33104995A JP33104995A JPH09143176A JP H09143176 A JPH09143176 A JP H09143176A JP 33104995 A JP33104995 A JP 33104995A JP 33104995 A JP33104995 A JP 33104995A JP H09143176 A JPH09143176 A JP H09143176A
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methyl
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Shigeru Tamogami
繁 田母神
Osamu Kodama
治 児玉
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Abstract

(57)【要約】 【課題】新規の除草活性を持つ化合物の提供 【解決手段】式Ｉ 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子又は直鎖又は分枝鎖の炭素原子
数１ないし８のアルキル基を表し；Ｒ2 は、未置換の又
は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし６のアルキル
基、直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし６のアルコキ
シ基、炭素原子数１ないし４のハロゲン化アルキル基及
び／又はハロゲン原子の１ないし５個により置換された
フェニル基を表し、Ｘは未置換の又はメチル基で置換さ
れたメチレン基又は−ＣＯ−を表す。）で表わされる化
合物、その製造法及びその化合物を含有する除草剤。式
Ｉの化合物は優れた除草効果を示す。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、除草活性を有する
２，３−エポキシ−シクロペンタン−１−イル＝ベンジ
ルエーテルと安息香酸の２，３−エポキシ−シクロペン
タン−１−イル・エステル、その製造法及びそれを含有
する除草剤、並びにそれを製造するための中間体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術と課題を解決するための手段】】従来、高
い除草活性を示す２，３−エポキシ−シクロペンタン−
１−イル＝ベンジルエーテル類と安息香酸の２，３−エ
ポキシ−シクロペンタン−１−イル・エステル類は開示
されていない。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者は、式Ｉ
【化５】 （式中、Ｒ1 は水素原子又は直鎖又は分枝鎖の炭素原子
数１ないし８のアルキル基を表し；Ｒ2 は、未置換の又
は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし６のアルキル
基、直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし６のアルコキ
シ基、炭素原子数１ないし４のハロゲン化アルキル基及
び／又はハロゲン原子の１ないし５個により置換された
フェニル基を表し、Ｘは未置換の又はメチル基で置換さ
れたメチレン基又は−ＣＯ−を表す。）で表わされる
２，３−エポキシ−シクロペンチル＝ベンジルエーテル
と安息香酸＝２，３−エポキシ−シクロペンチルが優れ
た除草活性を示すことを見出し本発明を完成した。
【０００４】
【発明の実施の形態】上述の式Ｉ中の各置換基について
説明する。炭素原子数１ないし８のアルキル基としての
Ｒ1 は、直鎖又は分枝鎖のアルキル基であって、例え
ば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基とその異性体
基、ｎ−ヘキシル基とその異性体基、ｎ−ヘプチル基と
その異性体基及びｎ−オクチル基とその異性体基であ
る。ハロゲン原子としてのフェニル基の置換基は、フッ
素塩素原子、臭素原子又は塩素原子である。炭素原子数
１ないし６のアルキル基としてのフェニル基の置換基
は、直鎖又は分枝鎖のアルキル基であって、例えば上述
の炭素原子数１ないし８のアルキル基としてのＲ1 の炭
素原子数１ないし６のアルキル基の例の他に、ネオペン
チル基、イソペンチル基又はイソヘキシル基もある。炭
素原子数１ないし４のハロゲン化アルキル基としてのフ
ェニル基の置換基としては、モノフルオロメチル基、ジ
フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロ
メチル基、ジクロロメチル基又はトリクロロメチル基が
ある。本願発明の化合物は、上記式Ｉの化合物のいずれ
もの絶対配置異性体例えばステレオアイソマーそして光
学異性体を対象とする。
【０００５】式Ｉの化合物は、式II
【化６】 （式中、Ｒ1 は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし８
のアルキル基を表す。）により表される化合物の塩に、
又は式IIの化合物に塩基の存在下、式III ： ＹＸＲ2 (III) （式中、Ｒ2 は未置換又は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数
１ないし６のアルキル基、炭素原子数１ないし６のアル
コキシ基、炭素原子数１ないし４のハロゲン化アルキル
基及び／又はハロゲン原子の１ないし５個により置換さ
れたフェニル基を表し、Ｘは未置換又はメチル基で置換
されたメチレン基又は−ＣＯ−を表し、Ｙは臭素原子又
は塩素原子を表す。）で表される化合物を反応させるこ
とにより製造される。
【０００６】式IIの化合物（以下、化合物IIと言う）の
塩とは、化合物IIを適当な塩基性化合物例えば水素化ナ
トリウムと反応させて化合物IIの塩例えばナトリウムア
ルコラートにしたものである。通常は、下記に挙げる溶
媒の存在下又は不存在下、化合物IIに塩基性化合物を添
加、反応させて、化合物IIの塩とし、化合物IIの塩含有
物に式III の化合物（以下、化合物III という）を添加
する方法により、化合物Ｉを製造する。
【０００７】この反応に使用される塩基性化合物は、化
合物III がベンジルハライド系化合物である場合は、化
合物IIのアルコール基と容易に塩を形成し得る化合物、
例えばアルカリ金属水素化物又はアルカリ土類金属水素
化物例えば水素化ナトリウムである。そして化合物IIの
塩として、ナトリウムアルコラートを生成せしめる。
【０００８】化合物III のＸが−ＣＯ−である場合は、
化合物IIの塩（例えばナトリウムアルコラート）を生成
せしめて反応させる以外に、塩基性化合物として第３級
アミン例えばトリアルキルアミン例えばトリエチルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリン例えばジメチルアニリ
ン又はピリジン類例えばピリジン、メチルエチルピリジ
ンも使用することができる。この場合、これら第３級ア
ミン類は、脱ハロゲン化水素剤として機能する。
【０００９】この反応に使用される溶媒は、これら化合
物II、塩基性化合物、化合物III そして化合物IIの塩に
不活性である溶媒であって、好ましくは、化合物II、塩
基性化合物、化合物III そして化合物IIの塩を溶解せし
めることのできる溶媒であればよい。
【００１０】化合物III がベンジルハライド系化合物で
ある場合の反応溶媒は、好ましくは化合物IIの塩を少な
くとも微量溶解せしめることのできる極性溶媒であり、
例えばエーテル系溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジ
メキシエタン、ジエトキシエタン、ビス（メトキシエチ
ル）エーテル；Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミド例えばジメチ
ルホルムアミド；又はこれらの混合溶媒である。
【００１１】化合物III のＸが−ＣＯ−である場合の反
応溶媒は、上述の溶媒の他にベンゼン、トルエン、クロ
ロホルム、塩化メチレン、ジエチルエーテルのような極
性の比較的低い溶媒も使用することができる。又、化合
物II又はIII 又は塩基（例えばピリジン）そのものを溶
媒又は溶媒の一部分として使用することもできる。
【００１２】原料として使用される化合物II：化合物II
I のモル比は、０．５ないし２．０であり、好ましくは
化合物II：化合物III ＝１：１．０ないし１：１．１、
特に好ましくは１：１．０ないし１：１．０５である。
【００１３】原料として使用される塩基は、化合物IIに
対して１．０ないし１．５当量倍である。化合物IIの塩
は、上記溶媒中で、無水条件下、通常−１０ないし１２
０℃、好ましくは０ないし７０℃の温度範囲で合成され
る。得られた化合物IIの塩の溶液又は懸濁液に、通常
は、溶媒に溶解されていない又は化合物IIの溶液又は懸
濁液の溶媒と同じ溶媒に溶解した化合物III を添加、好
ましくは分割添加又は滴下添加して、反応を実施する。
反応温度は、０ないしないし使用される溶媒の沸点であ
るが、通常は０〜４０℃で化合物III を滴下して反応を
行い、熟成反応はそれより高い温度、例えば還流温度で
実施される。
【００１４】反応終了後の反応液の後処理は、常法に従
う。反応に水溶性の溶媒を使用した場合は、そのまま又
は溶媒を一部ないし全部留去した後、水と水に難溶性の
有機溶媒を添加して常法により（中性及び／又は酸性水
による）水洗をした後、有機溶媒を留去する。得られた
粗生成物を必要に応じて蒸留、クロマトグラフィー及び
／又は再結晶により精製する。反応に水に難溶性の溶媒
を使用した場合は、上述の水洗からの処理をする。
【００１５】化合物IIは、下記の反応スキーム中の式IV
の化合物（以下、化合物IVという）
【化７】 （式中、Ｒ1 は式Ｉ中の定義と同意味である。）のカル
ボニル基を、適当な溶媒中、選択的に還元してアルコー
ル基にする適当な還元剤で還元することにより製造でき
る〔例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２７，４１４１
（１９６２）を参照〕。適当な還元剤としては、例えば
水素化ホウ素ナトリウム、水素化シアノホウ素ナトリウ
ム等の水素化ホウ素系の還元剤が挙げられる。適当な溶
媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノ
ール等が挙げられる。化合物IVと還元剤のモル比は、
１．０ないし１０．０であり、好ましくは、化合物IV：
還元剤＝１：１ないし１：４である。反応温度は通常１
５℃から３０℃の範囲内である。
【００１６】上記のスキーム中の化合物IVは、同スキー
ム中の化合物Ｖの二重結合の常法によるエポキシ化によ
り製造できる（例えば、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅ
ｓｉｓ，ｃｏｌｌｅｃｔｉｖｅ ｖｏｌｕｍｅ ４，５
５２頁（１９６３）を参照）。このエポキシ化反応は、
化合物Ｖの二重結合に対して３当量又はそれ以上の過酸
化水素を、０．１〜１．０当量の適当なアルカリの存在
下、適当な溶媒中で反応させることにより製造される。
このエポキシ化反応に使用されるアルカリの例は、無機
アルカリ例えば水酸化アルカリ金属、例えば水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等である。エポキシ化反応に使
用でき溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパ
ノール等の低級アルコールがある。反応温度は、通常１
５〜３０℃の範囲内である。
【００１７】化合物Ｖは、市販品として購入（例えば、
東京化成工業（株）から）できるか、又は既知の方法、
例えば下記のスキーム
【化８】 （式中、Ｒ3 については、Ｒ3 ＣＨ2 が対応する化合物
ＶのＲ1 を表す関係になっている。）に記載した方法に
従って合成できる。即ち、、シクロペンタノンをアルデ
ヒドと反応させて得られた化合物を脱水、そして生成し
た化合物の二重結合（Ｃ＝Ｃ）を転移することにより得
られる（参照：高橋、増田編、植物ホルモンハンドブッ
ク、２８６頁、培風館（１９９４））。
【００１８】本発明の一般式Ｉの化合物の代表例を第１
表に示す。第 １ 表
【化９】
【表１】 合成実 施例No. Ｒ1 Ｒ2 Ｘ ──────────── ─────────── ────── １−１ n-ペンチル フェニル -CH2- １−２ n-ペンチル 2-メチルフェニル -CH2- １−３ n-ペンチル 4-クロロフェニル -CH2- １−４ n-ペンチル 3,4-ジメチルフェニル -CH2- １−５ メチル フェニル -CH2- １−６ メチル 2-メチルフェニル -CH2- １−７ メチル 2-クロロフェニル -CH2- -- n-ペンチル 2-クロロフェニル -CH2- -- n-ペンチル 2-フルオロフェニル -CH2- -- n-ペンチル 3-クロロフェニル -CH2- -- n-ペンチル 2,6-ジクロロフェニル -CH2- -- メチル 2-フルオロフェニル -CH2- -- メチル 2,6-ジクロロフェニル -CH2- -- エチル フェニル -CH2- -- エチル 2-メチルフェニル -CH2- -- エチル 2-クロロフェニル -CH2- -- エチル 2-フルオロフェニル -CH2- ２−１ n-ペンチル フェニル -CO- ２−２ n-ペンチル 3-メチルフェニル -CO- -- n-ペンチル 2-クロロフェニル -CO- -- n-ペンチル 2-フルオロフェニル -CO- -- n-ペンチル 2-メチルフェニル -CO- -- メチル フェニル -CO- -- メチル 2-クロロフェニル -CO- -- メチル 2-フルオロフェニル -CO- -- メチル 2-メチルフェニル -CO- -- エチル フェニル -CO- -- エチル 2-クロロフェニル -CO- -- エチル 2-フルオロフェニル -CO- ────────────────────────────────
【００１９】好ましい式Ｉの化合物は、式中、Ｒ1 がメ
チル基又はｎ−ペンチル基を表し、Ｒ2 がフェニル基;
メチル基、ｎ−プロピル基及び／又は塩素原子の１又は
２個により置換されたフェニル基を表し、そしてＸがメ
チレン基を表す化合物である。
【００２０】更に好ましい式Ｉの化合物は、式中、Ｒ1
がメチル基又はｎ−ペンチル基を表し、Ｒ2 がフェニル
基、２−メチルフェニル基、２−クロロフェニル基、４
−クロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基又は
３，４−ジメチルフェニル基を表し、そしてＸがメチレ
ン基を表すそれらである。これらの化合物は、比較的高
い除草活性を示すからである。
【００２１】そして特に好ましい化合物は、Ｘがメチレ
ン基を表し、そしてＲ1 とＲ2 が下記の関係にある式Ｉ
の化合物である：Ｒ1 がｎ−ペンチル基を表し、Ｒ2 が
２−メチルフェニル基を表す;Ｒ1 がメチル基を表し、
Ｒ2 がフェニル基を表す;Ｒ1 がメチル基を表し、Ｒ2
が２−メチルフェニル基を表す;これらの化合物はいず
れも除草作用が特に高いからである。更に特に好ましい
のは、Ｘがメチレン基を表し、そしてＲ1 とＲ2 が下記
の関係にある式Ｉの化合物である：Ｒ1 がｎ−ペンチル
基を表しそしてＲ2 がフェニル基を表す;Ｒ1 がメチル
基を表しそしてＲ2 が２−クロロフェニル基を表す;こ
れらの化合物の活性が更に特に高いからである。
【００２２】本願の発明は、上述のように、化合物Ｉが
除草剤（又は選択除草剤）として優れた活性を示すこと
を見出したことに基づいている。化合物Ｉをそのまま又
は適当な製剤の形にして、除草生育区域に散布すると、
いろいろのイネ科雑草、例えばタイヌビエ、イヌビエ、
ノビエ、エノコログサ、メヒシバ、スズメノカタビラ及
び／又はカラスムギ等、特にノビエの生育を阻害するか
又はそれを枯死させることができる。
【００２３】化合物Ｉ又はそれを含有する製剤は、上記
の雑草に対して発芽前又は発芽後の処理、例えば灌注散
布、土壌散布又は茎葉散布でも効果がある。化合物Ｉを
含有する製剤は、化合物Ｉを活性成分として、固形担
体、液体担体、界面活性剤及び／又はその他の助剤と常
法により混合することにより製造できる。そして、製剤
の使用場面に合わせて、所望の形態の製剤、例えば乳
剤、水和剤、液剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤又は錠剤
に製剤化できる。更に、化合物Ｉの農耕地への放出を制
御した、所謂リリースコントロール剤、例えば高分子に
カプセル化した型にも製剤化できる。
【００２４】上記の製剤化に使用される固形担体、液体
担体の例を下記する。 固形担体：例えば鉱物質粉末（ベントナイト、クレー、
タルク、炭酸カルシウム等）、合成高分子化合物（ポリ
ビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース等）、
天然高分子化合物（キサンタンガム、ロジン、ミツロ
ウ、デンプン等）、多孔性化合物（活性炭、フヨーライ
ト等）。
【００２５】液体担体：例えば、水、アルコール類（メ
タノール、エタノール、エチレングリコール等）、芳香
族炭化水素類（トルエン、キシレン、メチルナフタレン
など）、エーテル類（エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサノン等）、エステル類（酢酸エチル等）、
酸アミド類（ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリ
ドン等）、ニトリル類（アセトニトリル）、スルホキシ
ド類（ジメチルスルホキシド等）、アルコールエーテル
類（エチレングリコールモノエチルエーテルなど）、脂
肪族炭化水素類（ヘキサン、リグロイン等）、脂環式炭
化水素類（シクロヘキサン等）。
【００２６】上記の各種の製剤型について、いろいろの
界面活性剤や助剤を製剤品における有効成分の乳化、分
散、安定化、可溶化の向上を目的として、或いは、製剤
の散布調製液の安定性、展開性、雑草への付着向上を目
的として添加できる。
【００２７】界面活性剤として、非イオン型（ポリオキ
シエチレン類、アルキルエーテルなど）、陰イオン型
（アルキルベンゼンスルホネート例えばナトリウム塩、
アルキルベンゼンサクシネート例えばナトリウム等）、
陽イオン型（アルキルアミン等）などが挙げられる。
【００２８】助剤としては、アルギン酸ナトリウム、ゼ
ラチン、グリセリンのトリ脂肪酸エステル、吸水性高分
子、パラフィン、ワックス等があり、製剤の安定性向上
や有効成分のコントロールされたリリースを達成するた
とができる。
【００２９】本発明の除草剤製剤に含有される化合物Ｉ
の含有量は、０．０１〜７０重量％の範囲内にあり、こ
の含有量の範囲は下記のように剤形により変動する：粒
剤では０．０１〜３０重量％、水和剤、乳剤、フロアブ
ル剤では１〜７０重量％。又、本発明の除草剤製剤に含
有される化合物Ｉの他に、他の有効成分、例えば本発明
の化合物Ｉとは異なる除草剤、殺菌剤、殺虫剤及び／又
は植物生長調節剤を追加して含有することもでき、これ
により、本発明の除草剤の適用性を拡大することが可能
になる。
【００３０】
【実施例】以下、実施例、製剤例、試験例等により本発
明を更に具体的に説明するが、この記載は本発明の範囲
の限定を意図するものではない。中間体合成参考例１： ２，３−エポキシ−２−ペンチル
シクロペンタン−１−オンの合成 ２−ペンチル−２−シクロペンテン−１−オン １４．
２ｇを、３０％過酸化水素水３２ｇとメタノール５０ｍ
ｌの混合溶液に添加した。この混合溶液に３ｍｌの水に
溶解した１．８０ｇの水酸化ナトリウムを、その溶液の
温度を２０〜２５℃に保ちながら、ゆっくり添加した。
添加終了後、更に２時間、２０℃にて反応させた。反応
混合物に飽和食塩水３００ｍｌを添加した後、酢酸エチ
ル５０ｍｌで３回抽出した。抽出した酢酸エチル層を合
わせ、水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、ロータリエバポレータで減圧濃縮し、生成
物を１２．６ｇ得た（収率：８０％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ）, δppm ：
０．９０（３Ｈ，ｔ），１．４０〜２．４０（１２Ｈ，
ｍ），３．８０（１Ｈ，ｓ）．
【００３１】中間体合成参考例２：２，３−エポキシ−
２−メチルシクロペンタン−１−オンの合成 ２−メチル−２−シクロペンテン−１−オン １５．０
ｇを３０％過酸化水素水５３ｇとメタノール１００ｍｌ
に溶解した。中間体合成参考例１と同様にして３．１２
ｇの水酸化ナトリウムと反応させ、後処理を行い、１
２．５ｇの生成物を得た（収率７０％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ）, δppm ：
１．４２（３Ｈ，ｓ），１．９５〜２．４０（４Ｈ，
ｍ），３．７９（１Ｈ，ｓ）． ＩＲ（液体）：２９３５，２８６５，１７４０cm-1．
【００３２】中間体合成実施例１：２，３−エポキシ−
２−ペンチルシクロペンタン−１−オールの合成 中間体合成参考例１で製造した２，３−エポキシ−２−
ペンチルシクロペンタン−１−オン １２．０ｇを８０
％メタノール９０ｍｌに溶解した。この溶液を氷水で冷
し、約２０〜２５℃で水素化ホウ素ナトリウム２．７３
ｇの粉末を除々に添加した。添加終了後、更に２０〜２
５℃で３時間反応させて還元反応を終了させた。次い
で、０．１Ｎ塩酸水で中和し、飽和食塩水２００ｍｌを
加えた後、酢酸エチル１００ｍｌで３回抽出した。抽出
した酢酸エチル層を合わせ、水、飽和食塩水の順で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリエバポレー
タで減圧乾燥し表記の目的物の粗生成物１２．０ｇを得
た。この粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（展
開溶媒、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：４（v/v))で
精製し、８．８ｇの精製生成物を得た（収率７２％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ）, δppm ：
０．９０（３Ｈ，ｔ），１．２０〜２．００（１２Ｈ，
ｍ），３．３０（１Ｈ，ｂｒｏａｄ ｓ），４．１０
（１Ｈ，ｂｒｏａｄ ｔ）．
【００３３】中間体合成実施例２：２，３−エポキシ−
２−メチルシクロペンタン−１−オールの合成 中間体合成参考例２で合成した２，３−エポキシ−２−
メチル−２−シクロペンテン−１−オン ８．５ｇを８
０％メタノール５０ｍｌに溶解した。２０〜２５℃で水
素化ナトリウム２．８ｇの粉末を徐々に加えた。添加後
さらに２０〜２５℃で３時間反応させ、中間体合成実施
例１と同様に後処理を行い、５．６２ｇの生成物を得た
（収率６５％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ）, δppm ：
１．２０〜２．０（４Ｈ，ｍ），１．４８（３Ｈ，
ｓ），３．３０（１Ｈ，ｓ），４．０２（１Ｈ，ｍ）． ＩＲ（液体）：３３２０，２９３３，１４５０，１０７
０cm-1．
【００３４】合成実施例１−１：２，３−エポキシ−２
−ペンチルシクロペンタン−１−イル＝ベンジルエーテ
ル（化合物No. １−１）の合成 中間体合成実施例１で合成した２，３−エポキシ−２−
ペンチルシクロペンタノール−１ ３．０ｇを乾燥テト
ラヒドロフラン３０ｍｌに溶解し、氷水浴中で冷しなが
ら、水素化ナトリウム（含有率６０％）を１．０１ｇを
少しづつ添加した。次いで、氷水浴を油浴に換えて、還
流するまで加熱した。この混合物に、乾燥テトラヒドロ
フラン１５ｍｌに溶解したベンジルブロマイド３．６２
ｇを少しづつ添加し、３時間還流して反応を終了した。
その後、得られた反応液を３０ｍｌの氷水に注入し、次
いで飽和食塩水５０ｍｌを添加し、酢酸エチル５０ｍｌ
で３回抽出した。合わせた酢酸エチル抽出層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、ロータリエバポレータで減圧濃縮
し、粗生成物５．４ｇを得た。得られた粗生成物をシリ
カゲルクロマトグラフィー（展開溶媒、酢酸エチル：ヘ
キサン＝１：４（v/v)) で精製し、４．５ｇの精製生成
物を得た（収率９８％）。1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ），δppm ：
０．９０（３Ｈ，ｔ），１．２０〜２．００（１２Ｈ，
ｍ），３．２０（１Ｈ，ｓ），３．９０（１Ｈ，ｔ），
４．４３（１Ｈ，ｄ），４．６２（１Ｈ，ｄ），７．３
０（５Ｈ，ｍ）． ＩＲ（液体）；２９３２、２８６０、１６５０，１１０
２cm-1． ＭＳ；（括弧中、Ｍは分子イオンピークを示す）２６０
（Ｍ），２５９（Ｍ−１），１８９（Ｍ−７１），１６
９（Ｍ−９１），１５３（Ｍ−１０７），１５２（Ｍ−
１０８）。
【００３５】合成実施例１−２〜７：２，３−エポキシ
−２−ペンチルシクロペンタノールを使用するか又は相
当する２ーアルキル−２，３−エポキシシクロペンタノ
ールに換え、そしてベンジルブロマイドを使用するか又
は相当する置換ベンジルハライドに換える以外は、合成
実施例１の反応条件と後処理を同様にして、目的の化合
物を合成した。各目的化合物の収率を第２表に示す。
【００３６】
【表２】 第 ２ 表 ─────────────────────────────────── 実施例No. 化合物Ｉ 化合物III 収率 のＲ1 （ベンジルハライド：Ｘ＝-CH2-) (%) ──────────── ───────────────── ──── １−２ n-ペンチル 2-メチルベンジルクロライド 70 １−３ n-ペンチル 4-クロロベンジルクロライド 75 １−４ n-ペンチル 3,4-ジメチルベンジルクロライド 70 １−５ メチル ベンジルブロマイド 76 １−６ メチル 2-メチルベンジルクロライド 70 １−７ メチル 2-クロロフェニルクロライド 73 ───────────────────────────────────
【００３７】得られた各化合物（合成実施例No. ）の 1
Ｈ−ＮＭＲとＩＲの測定結果を次に示す。化合物１−２（合成実施例１−２から）： 1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ），δppm ：
０．９０（３Ｈ，ｔ），１．２０〜２．００（１２Ｈ，
ｍ），２．４０（３Ｈ，ｓ），３．２０（１Ｈ，ｓ），
３．９０（１Ｈ，ｔ），４．４２（１Ｈ，ｄ），４．６
１（１Ｈ，ｄ），７．３０（４Ｈ，ｍ）． ＩＲ（液体）：２９３４，２８６４，１５１６，１４６
４，１２４９，１０９８cm-1．
【００３８】化合物１−３（合成実施例１−３から）： 1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ）、δppm ：
０．９０（３Ｈ，ｔ），１．２０〜２．００（１２Ｈ，
ｍ），３．２２（１Ｈ，ｓ），３．９０（１Ｈ，ｔ），
４．４２（１Ｈ，ｄ），４．６０（１Ｈ，ｄ），７．３
０（４Ｈ，ｍ）． ＩＲ（液体）：２９３４，２８６４，１４９３，１０９
３，１０１７，８９１，８０８cm-1．
【００３９】化合物１−４（合成実施例１−４から）： 1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ）、δppm ：
０．９０（３Ｈ，ｔ），１．２０〜２．００（１２Ｈ，
ｍ），２．１２（３Ｈ，ｓ），２．１３（３Ｈ，ｓ），
３．２０（１Ｈ，ｓ），３．９０（１Ｈ，ｔ），４．４
２（１Ｈ，ｄ），４．６３（１Ｈ，ｄ），７．１０（３
Ｈ，ｍ）． ＩＲ（液体）：２９３２，２８６２，１４５８，１２４
３，１１００，８９１cm-1．
【００４０】化合物１−５（合成実施例１−５から）： 1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ）、δppm ：
１．４３（１Ｈ，ｍ），１．４８（３Ｈ，ｓ），１．５
８（１Ｈ，ｍ），１．８０（１Ｈ，ｍ），２．００（１
Ｈ，ｍ），３．２０（１Ｈ，ｓ），３．９２（１Ｈ，
ｔ），４．５０（１Ｈ，ｄ），４．６３（１Ｈ，ｄ），
７．３０（５Ｈ，ｍ）． ＩＲ（液体）：２９３４，２８６４，１４９７，１１１
６，８７０，７３９，６９８cm-1．
【００４１】化合物１−６（合成実施例１−６から）： 1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ）、δppm ：
１．４３（１Ｈ，ｍ），１．４８（３Ｈ，ｓ），１．５
８（１Ｈ，ｍ），１．８１（１Ｈ，ｍ），２．１０（１
Ｈ，ｍ），２．１８（３Ｈ，ｓ），３．２０（１Ｈ，
ｓ），３．８１（１Ｈ，ｔ），４．４８（１Ｈ，ｄ），
４．６３（１Ｈ，ｄ），７．２０〜７．３５（４Ｈ，
ｍ）． ＩＲ（液体）：２９３４，２８６８，１４５２，１３７
７，１２４３，１０９８，１０４２，８６８，７４６cm
-1．
【００４２】化合物１−７（合成実施例１−７から）：1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ）、δppm ：
１．５２（３Ｈ，ｓ），１．４５〜１．６４（２Ｈ，
ｍ），１．９０（１Ｈ，ｍ），２．０４（１Ｈ，ｍ），
３．２０（１Ｈ，ｓ），３．９５（１Ｈ，ｔ），４．６
２（１Ｈ，ｄ），４．６６（１Ｈ，ｄ），７．２０〜
７．６０（４Ｈ，ｍ）． ＩＲ（液体）：２９３４，２８５８，１４４６，１１１
４，１０５２，１０３６，７５４．
【００４３】合成実施例２−１：安息香酸＝２，３−エ
ポキシ−２−ペンチルシクロペンタン−１−イルの合成 中間体合成実施例１で合成した２，３−エポキシ−２−
ペンチルシクロペンタン−１−オール ０．５ｇをピリ
ジン３ｍｌに溶解した。これに塩化ベンゾイル０．５ｇ
を滴下し、室温で２時間反応させた。反応後、反応混合
物を２０ｍｌの氷水に注ぎ、次いで酢酸エチル２５ｍｌ
で３回抽出した。合わせた酢酸エチル層を、水、希塩
酸、水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、ロータリエバポレータで濃縮し、粗生成物を
得た。これをシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶
媒、ヘキサン：酢酸エチル＝４：１(v/v) ）により精製
し、０．７３ｇの目的物を得た（収率９０％）。
【００４４】合成実施例２−２：３−メチル安息香酸＝
２，３−エポキシ−２−ペンチルシクロペンタン−１−
イルの合成 中間体合成実施例１で合成した２，３−エポキシ−２−
ペンチル−シクロペンタン−１−オール ０．５ｇをピ
リジン３ｍｌに溶解した。これに塩化３−メチルベンゾ
イル０．５５ｇを滴下し、室温で２時間反応させた。反
応後、反応混合物を２０ｍｌの氷水に注ぎ、次いで酢酸
エチル２５ｍｌで３回抽出した。合わせた酢酸エチル層
を、水、希塩酸、水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、ロータリエバポレータで濃縮
し、粗生成物を得た。これをシリカゲルクロマトグラフ
ィー（展開溶媒、ヘキサン：酢酸エチル＝４：１(v/v)
）により精製し、０．７２ｇの目的物を得た（収率８
８％）。
【００４５】得られた各化合物（合成実施例No. ）の 1
Ｈ−ＮＭＲとＩＲの測定結果を次に示す。化合物２−１（合成実施例２−１から）： 1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ），δppm ：
０．８３（３Ｈ，ｔ），１．２０〜２．２０（１２Ｈ，
ｍ），２．４０（３Ｈ，ｓ），３．３８（１Ｈ，ｓ），
５．４０（１Ｈ，ｔ），７．４０〜８．１０（４Ｈ，
ｍ）． ＩＲ（液体）：２９６０，２９３６，２８６４，１７２
１，１４５４，１３１７，１２７４，１１１６，７１４
cm-1．
【００４６】化合物２−２（合成実施例２−２から）： 1 Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ），δppm ：
０．８３（３Ｈ，ｔ），１．２０〜２．２０（１２Ｈ，
ｍ），２．４０（３Ｈ，ｓ），３．３８（１Ｈ，ｓ），
５．４０（１Ｈ，ｔ），７．４０〜８．１０（４Ｈ，
ｍ）． ＩＲ（液体）：２９６０，２９３４，１７１９，１３１
１，１２７８，１２０１，１１１０，７４６cm-1．
【００４７】製剤例１：本発明の化合物No. １−１を１
０部（部は重量部を表す。以下、同様）、ベントナイト
６８部、炭酸カルシウム２０部、リグニンスルホン酸カ
ルシウム１部、ラウリルサルフェート１部を均一に混合
した。混合物に水１５部を加え、混練機で練り上げた。
目開き１．５ｍｍのスクリーンを取り付けた造粒機によ
り造粒し、６０℃において２時間乾燥させた。約２ｍｍ
の長さに切断し、目開き０．５ｍｍの篩で微粉を取り除
き、活性成分１０％を含む粒剤を得た。
【００４８】製剤例２：本発明の化合物No. １−５を３
０部、ソルポール７００Ｈ（東邦化学工業（株）製）２
０部、キシレン４５部、メチルナフタレン５部を均一に
混合して、活性成分３０％を含む乳剤を得た。
【００４９】製剤例３：本発明の化合物No. １−５の２
０部を炭酸カルシウム２０部、ポリオキシエチレンノニ
ルフェニルエーテル３部、クレー５７部に加え、ハンマ
ーミルで均一に粉砕混合し、活性成分２０％を含む水和
剤を得た。
【００５０】試験例１：直径７ｃｍのシャーレに直径
５．５ｃｍのろ紙を敷き、所定濃度の本発明化合物を含
むアセトン溶液を一定量ろ紙に滲み込ませた。アセトン
を完全に蒸散させてから、３ｍｌの蒸留水を加え、前日
に蒸留水に浸しておいたノビエの種子を１シャーレ当た
り３個置いた。有効成分の濃度が、１０、５、１、０．
５又は０．２５ppm になるように調製した。対照区とし
ては、有効成分を含まないアセトンのみを使用し、同様
に行った。比較化合物として、ジャスモン酸を同様に処
理した。２５℃恒温のインキュベータに７日間静置し、
ノビエの生育状況を観察した。ノビエに対する殺草効果
は、第３表に示す殺草指数により評価した。殺草効果を
第４表に示した。
【００５１】
【表３】第 ３ 表 ───────────────────── 殺草指数 殺草率 ───────────────────── ５ 枯死 ４ ８０％〜１００未満％ ３ ６０％〜８０未満％ ２ ４０％〜６０未満％ １ ２０％〜４０未満％ ０ ２０未満％ ─────────────────────
【００５２】
【表４】 第 ４ 表 ────────────────────────────────── 有効成分の濃度 化合物No. 10ppm 5ppm 1ppm 0.5ppm 0.25ppm (殺草指数) ────────────────────────────────── （実施例） １−１ ５ ５ ５ ５ ４．５ １−２ ５ ５ ５ ４．５ ４．０ １−３ ３ ３ ３ − − １−４ ３ ３ ３ − − １−５ ５ ５ ５ ４．５ ４．０ １−６ ５ ５ ５ ４．５ ４．０ １−７ ５ ５ ５ ５ ５ ２−１ ３ ２ − − − ２−２ ３ ２ − − − なし ０ ０ ０ ０ ０ ──────────────────────────────────
【００５３】
【発明の効果】本発明の式Ｉの化合物及びそれを含有す
る製剤は、優れた除草活性を示した。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】式Ｉ： 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子又は直鎖又は分枝鎖の炭素原子
    数１ないし８のアルキル基を表し；Ｒ2 は、未置換の又
    は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし６のアルキル
    基、直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし６のアルコキ
    シ基、炭素原子数１ないし４のハロゲン化アルキル基及
    び／又はハロゲン原子の１ないし５個により置換された
    フェニル基を表し、 Ｘは未置換の又はメチル基で置換されたメチレン基又は
    −ＣＯ−を表す。）で表わされる化合物。
  2. 【請求項２】Ｒ1 がメチル基又はｎ−ペンチル基を表
    し、Ｒ2 がフェニル基; メチル基、ｎ−プロピル基及び
    ／又は塩素原子の１ないし２個により置換されたフェニ
    ル基を表し、Ｘがメチレン基を表す請求項１記載の化合
    物。
  3. 【請求項３】Ｒ2 がフェニル基、２−メチルフェニル
    基、２−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、
    ２，６−ジクロロフェニル基又は３，４−ジメチルフェ
    ニル基である請求項２記載の化合物。
  4. 【請求項４】Ｒ1 がメチル基を表しそしてＲ2 が２−ク
    ロロフェニル基を表すか、又はＲ1 がｎ−プロピル基を
    表しそしてＲ2 がフェニル基を表す請求項２記載の化合
    物。
  5. 【請求項５】式II： 【化２】 （式中、Ｒ1 は水素原子又は直鎖又は分枝鎖の炭素原子
    数１ないし８のアルキル基を表す。）により表される化
    合物の塩に、又は式IIの化合物に塩基の存在下、式III
    ： ＹＸＲ2 (III) （式中、Ｒ2 は未置換の又は直鎖又は分枝鎖の炭素原子
    数１ないし６のアルキル基、直鎖又は分枝鎖の炭素原子
    数１ないし６のアルコキシ基、炭素原子数１ないし４の
    ハロゲン化アルキル基及び／又はハロゲン原子の１ない
    し５個により置換されたフェニル基を表し、 Ｘは未置換の又はメチル基で置換されたメチレン基又は
    −ＣＯ−を表し、 Ｙは臭素原子又は塩素原子を表す。）で表される化合物
    を反応させることによる式Ｉ： 【化３】 （式中のＲ1 、Ｒ2 とＸの定義は、上述の式IIと式III
    中の定義と同じである。）の化合物の製造法。
  6. 【請求項６】式II： 【化４】 （式中、Ｒ1 は水素原子又は直鎖又は分枝鎖の炭素原子
    数１ないし８のアルキル基を表す。）で表される化合
    物。
  7. 【請求項７】請求項１ないし４のいずれかに記載の化合
    物を含有する除草剤。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0976707A4 (en) * 1997-04-07 2001-06-13 Nissan Chemical Ind Ltd CYCLOALKYL-BENZYL ETHER DERIVATIVES

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