JPH09101625A

JPH09101625A - 電子写真用感光体

Info

Publication number: JPH09101625A
Application number: JP14858296A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Ikuno; 弘生野; Shigeto Kojima; 成人小島; Hiroshi Nagame; 宏永目; Shunpei Yamazaki; 舜平山▲崎▼; Shigenori Hayashi; 茂則林
Original assignee: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd; Ricoh Co Ltd
Current assignee: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd; Ricoh Co Ltd
Priority date: 1995-05-24
Filing date: 1996-05-20
Publication date: 1997-04-15
Anticipated expiration: 2016-05-20
Also published as: JP3409107B2

Abstract

(57)【要約】【課題】感光層上に炭素を主成分とする保護層を有す
る感光体の耐剥離性及び耐スクラッチ性を向上させるこ
とが可能な電子写真用感光体を提供すること。【解決手段】導電性支持体上に少なくとも感光層、水
素を含有するダイヤモンド状カーボンもしくは非晶質カ
ーボン構造を有する表面保護層を順次積層した構成を持
つ電子写真用感光体において、前記表面保護層が窒素、
フッ素、硼素、リン、塩素、臭素及び沃素等から選ばれ
た少なくとも１種の添加物元素を含有する膜からなり、
その添加物元素の炭素に対する含有原子量比が表面保護
層の感光層近傍付近において、それ以外の部分よりも少
なく、さらに表面保護層の最表層のヌープ硬度が１００
０ｋｇ／ｍｍ²以上であるものとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電子写真用感光体に
関し、更に詳しくは感光層上に耐剥離性に優れた表面保
護層を有してなる電子写真用感光体に関する。

【０００２】

【従来技術】従来、電子写真方式において使用される感
光体としては、導電性支持体上にセレンないしセレン合
金を主体とする感光層を設けたもの、酸化亜鉛、硫化カ
ドミウムなどの無機系光導電材料をバインダー中に分散
させたもの、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールとトリニト
ロフルオレノンあるいはアゾ顔料などの有機光導電材料
を用いたもの、及び非晶質シリコン系材料を用いたもの
等が一般に知られている。

【０００３】ところで、一般に「電子写真方式」とは、
光導電性の感光体をまず暗所で例えばコロナ放電によっ
て帯電させ、次いで像露光し、露光部のみの電荷を選択
的に散逸せしめて静電潜像を得、この潜像部を染料、顔
料などの着色剤と高分子物質などの結合剤とから構成さ
れる検電微粒子（トナー）で現像し可視化して画像を形
成するようにした画像形成法の一つである。このような
電子写真法において感光体に要求される基本的な特性と
しては、（１）暗所で適当な電位に帯電できること、
（２）暗所において電荷の散逸が少ないこと、（３）光
照射によって速やかに電荷を散逸できること、などが挙
げられる。近年、電子写真複写機の高速化、大型化が進
むなか、感光体に対して上記特性以外に長期繰返し使用
に際しても高画質を保つことの出来る信頼性が強く要求
される様に成っている。

【０００４】複写機の中で感光体の寿命を損なっている
主な原因としては、大きく分けて２つ考えられており、
ひとつは、現像プロセス、クリーニングプロセス、コピ
ー紙などから受ける機械的なストレスによってひきおこ
される摩耗やスクラッチによるもの、もうひとつは、帯
電、転写、分離過程等で受けるコロナ放電によって引き
起こされる化学的な損傷によるものである。前者の感光
体の摩耗を防ぐ方法として、感光体表面に保護層を設け
る技術が知られている。例えば、感光層の表面に有機フ
ィルムを設ける方法（特公昭３８−１５４６６号公
報）、無機酸化物を設ける方法（特公昭４３−１４５１
７号公報）、接着層を設けた後絶縁層を積層する方法
（特公昭４３−２７５９１号公報）、あるいはプラズマ
ＣＶＤ法、光ＣＶＤ法等によってａ−Ｓｉ層、ａ−Ｓ
ｉ：Ｎ：Ｈ層、ａ−Ｓｉ：Ｏ：Ｈ層等を積層する方法
（特開昭５７−１７９８５９号、特開昭５９−５８４３
７号各公報）等が開示されている。

【０００５】また、近年、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ
法、スパッタ法等の方法で得られる、炭素又は炭素を主
成分とする高硬度膜（ａ−Ｃ：Ｈ膜、無定形炭素膜、非
晶質炭素膜、ダイヤモンド状炭素膜等と称されてい
る。）の感光体保護層への応用が活発化している。例え
ば、感光層の表面に無定形炭素又は硬質炭素からなる保
護層を設けたもの（特開昭６０−２４９１５５号公
報）、最表面にダイヤモンド状カーボン保護層を設けた
もの（特開昭６１−２５５３５２号公報）、感光層上に
炭素を主成分とする高硬度絶縁層を形成したもの（特開
昭６１−２６４３５５号公報）あるいは有機感光層上に
窒素原子、酸素原子、ハロゲン原子、アルカリ金属原子
等の原子を少なくとも含むグロー放電により生成された
非晶質炭化水素膜からなる保護層を設けたもの（特開昭
６３−２２０１６６〜９号各公報）などを挙げることが
出来る。

【０００６】これらの方法により表面硬度が非常に向上
した耐摩耗性に優れた感光体が得られるようになった。
しかし、これらの感光体は、電子写真複写プロセスによ
り受ける局部的で且つ長期的な機械的ストレスにより発
生する表面保護層の剥離及びクラックに対しては充分な
抵抗力を有していない。

【０００７】そこで、表面保護層である非晶質炭化水素
膜に含有されるフッ素濃度を膜厚方向に且つ感光層側に
大きくなるように変化させることにより、耐久性耐湿性
を改善するとともに画像かぶりを防ぐこと（特開平１−
２２７１６１号公報）等が提案されているが、表面保護
層の剥離抵抗性という点では未だ不十分であることが明
らかとなった。また本発明者らにより、水素を含有する
ダイヤモンド状カーボンもしくは非晶質カーボン構造を
有する表面保護層に、窒素、フッ素、硼素、リン、塩
素、臭素及び沃素などの添加物元素を含有させ、その添
加物元素の炭素に対する含有原子量比が、感光層近傍付
近よりも最表層付近の方が大きいとする発明（特開平７
−１６８３８５号公報）が提案されている。さらに本発
明者らにより、表面保護層を３層構成とし、感光層に近
い第１表面保護層と最表層側にある第３表面保護層が炭
素を主成分とし、それ以外に、水素、酸素を含有する膜
よりなり、且つ前記両層に挟まれる第２表面保護層が炭
素を主成分とし、それ以外に少なくとも水素、酸素及び
窒素を含有する膜とするという発明（特開平７−２４４
３９４号公報）も提案されている。これらの発明は、何
れも表面保護層の剥離抵抗性の向上という点については
満足するものであるが、耐スクラッチ性については未だ
充分ではないことが判明した。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、これらの問
題点を解決する為になされたものであって、その目的
は、感光層上に炭素を主成分とする保護層を有する感光
体の耐剥離性及び耐スクラッチ性を向上させることが可
能な電子写真用感光体を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、導電性
支持体上に少なくとも感光層、水素を含有するダイヤモ
ンド状カーボンもしくは非晶質カーボン構造を有する表
面保護層を順次積層した構成を持つ電子写真用感光体に
おいて、前記表面保護層が窒素、フッ素、硼素、リン、
塩素、臭素及び沃素等から選ばれた少なくとも１種の添
加物元素を含有する膜からなり、その添加物元素の炭素
に対する含有原子量比が表面保護層の感光層近傍付近に
おいて、それ以外の部分よりも少なく、さらに表面保護
層の最表層のヌープ硬度が１０００ｋｇ／ｍｍ²以上で
あることを特徴とする電子写真用感光体が提供される。

【００１０】また、本発明によれば、導電性支持体上に
少なくとも感光層、水素を含有するダイヤモンド状カー
ボンもしくは非晶質カーボン構造を有する表面保護層を
順次積層した構成を持つ電子写真用感光体において、前
記表面保護層がさらに少なくとも窒素を含有する膜から
なり、しかも窒素と炭素の含有原子量比（Ｎ／Ｃ比）が
感光層近傍付近では０．００５以下であるか、もしくは
前記表面保護層がさらに少なくともフッ素を含有する膜
からなり、しかもフッ素と炭素の含有原子量比（Ｆ／Ｃ
比）が感光層近傍付近では０．００１以下であることを
特徴とする電子写真用感光体が提供され、さらに前記表
面保護層の膜厚が１〜３μｍである膜よりなる電子写真
用感光体が提供される。

【００１１】本発明の電子写真用感光体は、導電性支持
体上に少なくとも感光層、水素を含有するダイヤモンド
状カーボンもしくは非晶質カーボン構造を有する表面保
護層を順次積層した構成を持つ電子写真感光体におい
て、前記表面保護層が窒素、フッ素、硼素、リン、塩
素、臭素及び沃素等から選ばれた少なくとも１種の添加
物元素を含有する膜からなり、さらにその添加物元素の
炭素に対する含有原子量比が表面保護層の感光層近傍付
近において、それ以外の部分よりも少ないものとし、表
面保護層の最表層のヌープ硬度が１０００ｋｇ／ｍｍ²
以上であるとしたことから、感光体の保護層の耐剥離性
及び耐スクラッチ性が向上できる。

【００１２】これらの表面保護層の耐剥離性及び耐スク
ラッチ性向上の推定メカニズムは、次の通りである。表
面保護層に窒素、フッ素、硼素、リン、塩素、臭素及び
沃素等の添加物元素を含有させることにより、表面保護
層を低抵抗化及び透過性の良好な膜とし、画像特性の向
上は図られる。しかし、この膜を単独で感光層表面に製
膜した場合、製膜時に添加物元素を含有させるために用
いるＮＨ₃、Ｎ₂、Ｃ₂Ｆ₆、ＣＨ₃Ｆ、Ｂ₂Ｈ₆、ＰＨ₃、Ｃ
Ｈ₃Ｃｌ、ＣＨ₂Ｃｌ₂、ＣＨＣｌ₃、ＣＣｌ₄、ＣＨ₃Ｂ
ｒ、ＣＨ₃Ｉ、ＮＦ₃、ＢＣｌ₃、ＢＢｒ₃、ＢＦ₃、Ｐ
Ｆ₃、ＰＣｌ₃等の添加物ガスにより、感光層がエッチン
グされダメージを受ける。感光層がダメージを受けた場
合、感光体の残留電位が高くなり、さらに長期的な通紙
により、接着性が低下する。本発明者らの検討によれ
ば、添加物ガスによる感光層へのダメージ防止のため
に、感光層近傍付近に表面保護層を製膜するとき、前記
の添加物ガスの添加量を少なくし、そしてある一定膜厚
で製膜した後、添加物ガスの添加量を増やすことによ
り、画像特性が向上し、感光層のダメージの少ない感光
体を製膜することが可能となることが判明した。さらに
上記表面保護層の最表層にヌープ硬度が１０００ｋｇ／
ｍｍ²以上の膜を製膜することにより、上記特性に加え
て、更に摩耗特性及び耐クラック性を向上させることが
可能となることも知見された。また、上記表面保護層
に、窒素を含有し、感光層近傍付近とそれ以外の層で窒
素と炭素の含有原子量比を規定したり、若しくは表面保
護層に、フッ素を含有し、感光層近傍付近とそれ以外の
層でフッ素と炭素の含有原子量比を規定したり、あるい
は表面保護層の膜厚を規定することにより、より一層上
記特性を向上させることが可能となる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図面に沿って本発明を説明
する。図１は本発明の電子写真用感光体の模式断面図で
あり、導電性支持体１上に感光層２、表面保護層３を順
次設けた構成のものである。図２〜４は各々本発明の他
の電子写真用感光体の構成例を示すものであり、図２は
導電性支持体１上に下引層４を介して感光層２、表面保
護層３を順次設けたものであり、図３は感光層２が電荷
発生層（ＣＧＬ）２ａと電荷輸送層（ＣＴＬ）２ｂより
構成される機能分離型タイプのもの、図４は機能分離型
タイプの感光層２のＣＧＬ、ＣＴＬの積層順序が逆にな
っているものをそれぞれ示したものである。なお、本発
明においては、導電性支持体１上に感光層２と表面保護
層３を少なくとも有していれば、上記のその他の層、及
び感光層のタイプは任意に組み合わされていても構わな
い。

【００１４】本発明において電子写真用感光体に使用さ
れる導電性支持体としては、導電体あるいは導電処理を
した絶縁体、例えばＡｌ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ａｕなどの金属
あるいはそれらの合金の他、ポリエステル、ポリカーボ
ネート、ポリイミド、ガラス等の絶縁性基体上にＡｌ、
Ａｇ、Ａｕ等の金属あるいはＩｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂等の導
電材料の薄膜を形成したもの、導電処理をした紙等が使
用できる。導電性支持体の形状は特に制約はなく板状、
ドラム状あるいはベルト状のいずれのものも使用でき
る。

【００１５】導電性支持体と感光層との間に必要に応じ
設けられる下引層は感光特性の改善、接着性の向上等の
目的で設けられ、その材料としてはＳｉＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、
シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロム
カップリング剤等の無機材料やポリアミド樹脂、アルコ
ール可溶性ポリアミド樹脂、水溶性ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルブチラール、ＰＶＡ等の接着性の良いバ
インダー樹脂等が使用される。その他、前記接着性の良
い樹脂にＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＺｎＳ等を分散したものも
使用できる。下引層の形成方法としては無機材料単独の
場合はスパッタリング、蒸着等の方法が、また、有機材
料を用いた場合は通常の塗布法が採用される。なお、下
引層の厚さは５μｍ以下が適当である。この導電性支持
体に直接あるいは下引層を介して設けられる感光層の種
類は前述したＳｅ系、ＯＰＣ系等のいずれもが、またそ
の構成は単層型、機能分離型のいずれもが適用できる。
これらのうちＯＰＣ系について以下に簡単に説明する。

【００１６】単層型有機感光層の例としては、色素増感
された酸化亜鉛、酸化チタン、硫酸亜鉛等の光導電性粉
体、無定形シリコン粉体、スクアリック塩顔料、フタロ
シアニン顔料、アズレニウム塩顔料、アゾ顔料等を必要
に応じて結着剤樹脂及び／又は後述する電子供与性化合
物と共に塗布形成されたもの、またビリリウム系染料と
ビスフェノールＡ系のポリカーボネートとから形成され
る共晶錯体に電子供与性化合物を添加した組成物を用い
たもの等が挙げられる。結着樹脂としては後述する機能
分離型感光体と同様のものを使用することができる。こ
の単層型感光体の厚さは５〜３０μｍが適当である。

【００１７】一方、機能分離型感光層の例としては電荷
発生層（ＣＧＬ）と電荷輸送層（ＣＴＬ）を積層したも
のが例示される。画像露光により潜像電荷を発生分離さ
せるための電荷発生層（ＣＧＬ）としては、結晶セレ
ン、セレン化ヒ素等の無機光導電性粉体あるいは有機系
染顔料を結着剤樹脂に分散もしくは溶解させたものが用
いられる。

【００１８】電荷発生物質としての有機系染顔料として
は、例えば、シーアイピグメントブルー２５｛カラーイ
ンデックス（ＣＩ）２１１８０｝、シーアイピグメント
レッド４１（ＣＩ２１２００）、シーアイアシッドレッ
ド５２（ＣＩ４５１００）、シーアイベーシックレッド
３（ＣＩ４５２１０）、さらにポリフィリン骨格を有す
るフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクア
リック塩顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料（特
開昭５３−９５０３３号公報に記載）、スチリルスチル
ベン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５３−１３８２２９
号公報に記載）、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ
顔料（特開昭５３−１３２５４７号公報に記載）、ジベ
ンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−２
１７２８号公報に記載）、オキサジアゾール骨格を有す
るアゾ顔料（特開昭５４−１２７４２号公報に記載）、
フルオレノン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−２２
８３４号公報に記載）、ビススチルベン骨格を有するア
ゾ顔料（特開昭５４−１７７３３号公報に記載）、ジス
チリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭
５４−２１２９号公報に記載）、ジスチリルカルバゾー
ル骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−１７７３４号公
報に記載）、カルバゾール骨格を有するトリアゾ顔料
（特開昭５７−１９５７６７号公報、同５７−１９５７
６８号公報に記載）等、さらにシーアイピグメントブル
ー１６（ＣＩ７４１００）等のフタロシアニン系顔料、
シーアイバッドブラウン５（ＣＩ７３４１０）、シーア
イバッドダイ（ＣＩ７３０３０）等のインジゴ系顔料、
アルゴスカーレットＢ（バイオレット社製）インダンス
レンスカーレットＲ（バイエル社製）等のペリレン系顔
料等を使用することができる。これらの電荷発生物質は
単独であるいは２種以上併用して用いられる。結着剤樹
脂は、電荷発生物質１００重量部に対して０〜１００重
量部用いるのが適当であり、好ましくは０〜５０重量部
である。

【００１９】これら有機染顔料と併用される結着剤樹脂
としてはポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、エ
ポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルなど縮合
系樹脂並びにポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメ
タクリレート、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビ
ニルブチラール、スチレン−ブタジエン共重合体、スチ
レン−アクリロニトリル共重合体等の重合体および共重
合体等の接着性、絶縁性樹脂が挙げられる。

【００２０】電荷発生層は、電荷発生物質を必要ならば
バインダー樹脂とともに、テトラヒドロフラン、シクロ
ヘキサノン、ジオキサン、ジクロルエタン等の溶媒を用
いてボールミル、アトライター、サンドミルなどにより
分散し、分散液を適当に希釈して塗布することにより形
成できる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビー
ドコート法などを用いて行なうことができる。電荷発生
層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ま
しくは０．１〜２μｍである。

【００２１】また、本発明において、電荷発生物質とし
て結晶セレン又はセレン化ヒ素合金等の粒子を用いる場
合には、電子供与性粘着剤及び／又は電子供与性有機化
合物とが併用される。このような電子供与性物質として
はポリビニルカルバゾールおよびその誘導体（例えばカ
ルバゾール骨格に塩素、臭素などのハロゲン、メチル
基、アミノ基などの置換基を有するもの）、ポリビニル
ピレン、オキサジアゾール、ピラゾリン、ヒドラゾン、
ジアリールメタン、α−フェニルスチルベン、トリフェ
ニルアミン系化合物などの窒素含有化合物およびジアリ
ールメタン系化合物等があるが、特にポリビニルカルバ
ゾールおよびその誘導体が好ましい。またこれらの物質
は混合しても用いられるが、この場合にはポリビニルカ
ルバゾールおよびその誘導体に他の電子供与性有機化合
物を添加しておくことが好ましい。この種の無機系電荷
発生物質の含有量は層全体の３０〜９０重量％が適当で
ある。また無機系電荷発生物質を用いた場合の電荷発生
層の厚さは０．２〜５μｍ程度が適当である。

【００２２】電荷輸送層（ＣＴＬ）は帯電電荷を保持さ
せ、かつ露光により電荷発生層で発生分離した電荷を移
動させて保持していた帯電電荷と結合させることを目的
とする層である。帯電電荷を保持させる目的達成のため
に電気抵抗が高いことが要求され、また保持していた帯
電電荷で高い表面電位を得る目的を達成するためには、
誘電率が小さくかつ電荷移動性が良いことが要求され
る。これらの要件を満足させるための電荷輸送層は、電
荷輸送物質および必要に応じて用いられるバインダー樹
脂より構成される。すなわち、以上の物質を適当な溶剤
に溶解ないし分散してこれを塗布乾燥することにより電
荷輸送層を形成することができる。電荷輸送物質には、
正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。

【００２３】正孔輸送物質としては、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリ
ルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホル
ムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレ
ン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、
オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフ
ェニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリ
ル）アントラセン、１，１−ビス−（４−ジベンジルア
ミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチ
リルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニル
スチルベン誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。

【００２４】電子輸送物質としては、例えば、クロルア
ニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシ
アノキノンジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フ
ルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フル
オレン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、
２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−
トリニトロ−４Ｈ−インデノ（１，２−ｂ）チオフェノ
ン−４−オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフ
ェノン−５，５−ジオキサイドなどの電子受容物質が挙
げられる。これらの電荷輸送物質は、単独又は２種以上
混合して用いられる。

【００２５】また、必要に応じて用いられるバインダー
樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニト
リル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレ
ン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化
ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレート樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹
脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−
ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノー
ル樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性樹脂又は熱硬化性
樹脂が挙げられる。溶剤としては、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、トルエン、モノクロルベンゼン、ジク
ロルエタン、塩化メチレンなどが用いられる。

【００２６】電荷輸送層の厚さは５〜１００μｍ程度が
適当である。また電荷輸送層中に可塑剤やレベリング剤
を添加してもよい。可塑剤としては、ジブチルフタレー
ト、ジオクチルフタレートなど一般の樹脂の可塑剤とし
て使用されているものがそのまま使用でき、その使用量
は、バインダー樹脂に対して０〜３０重量％程度が適当
である。レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオ
イル、メチルフェニルシリコーンオイルなどのシリコー
ンオイル類が使用され、その使用量はバインダー樹脂に
対して０〜１重量％程度が適当である。これらのＣＧＬ
とＣＴＬは支持体上に支持体側からＣＧＬ、ＣＴＬの順
に積層しても、ＣＴＬ、ＣＧＬの順に積層してもかまわ
ない。

【００２７】本発明において感光体の表面に設けられる
保護層とは、水素を含有するダイヤモンド状カーボンも
しくは非晶質カーボン構造を有し、窒素、フッ素、硼
素、リン、塩素、臭素及び沃素等から選ばれた少なくと
も１種の添加物元素を有し、表面保護層の最表層のヌー
プ硬度が１０００ｋｇ／ｍｍ²以上である高硬度薄膜よ
り構成される。

【００２８】上記高硬度薄膜とは、好ましくはＳＰ³軌
道を有するダイヤモンドと類似のＣ−Ｃ結合を有してお
り、膜厚が１〜３μｍであることが望ましい。この膜厚
の範囲では、感光体表面の耐スクラッチ性、光透過性、
感度などの静電特性がより向上する。感光体近傍付近の
上記含有元素は、他の部分よりも少ないことが好ましい
が、全く含有しないことが最も望ましい。また窒素を含
有する場合は、窒素と炭素の含有原子量比（Ｎ／Ｃ比）
を、感光層近傍付近では０．００５以下の膜であること
が望ましく、またフッ素を含有する場合は、フッ素と炭
素の含有原子量比（Ｆ／Ｃ比）を、感光層近傍では０．
００１以下の膜であることが望ましい。なおＳＰ²軌道
を有するグラファイトと類似の構造を持つ膜でも構わな
いし、更に非晶質性のものでも構わない。更に積層構成
ではなく、添加物元素の炭素に対する含有原子量比の濃
度勾配がついた明確な界面のない単層構成でも構わな
い。

【００２９】表面保護層を作製するときには、炭化水素
ガス（メタン、エタン、エチレン、アセチレン等）を主
材料として、Ｈ₂、Ａｒ等のキャリアガスを用いる。さ
らに添加物元素を供給するガスとしては減圧下で気化で
きるもの、加熱することにより気化できるものであれば
構わない。例えば窒素を供給するガスとしてＮＨ₃、Ｎ₂
等を用い、フッ素を供給するガスとしてＣ₂Ｆ₆、ＣＨ₃
Ｆ等を用い、硼素を供給するガスとしてはＢ₂Ｈ₆等を用
い、リンを供給するガスとしてはＰＨ₃等を用い、塩素
を供給するガスとしてはＣＨ₃Ｃｌ、ＣＨ₂Ｃｌ₂、ＣＨ
Ｃｌ₃、ＣＣｌ₄等を用い、臭素を供給するガスとしては
ＣＨ₃Ｂｒ等を用い、沃素を供給するガスとしてはＣＨ₃
Ｉ等が用いることができる。また添加物元素を複数供給
するガスとしては、ＮＦ₃、ＢＣｌ₃、ＢＢｒ₃、ＢＦ₃、
ＰＦ₃、ＰＣｌ₃等を用いる。上記のようなガスを用い、
プラズマＣＶＤ法、グロー放電分解法、光ＣＶＤ法など
やグラファイト等をターゲットとしたスパッタリング法
等により形成される。特にその製膜法は限定されるもの
ではないが、保護層として良好な特性を有する炭素を主
成分とする膜を形成する方法として、プラズマＣＶＤ法
でありながらスパッタ効果を伴わせつつ製膜させる方法
（特開昭５８−４９６０９号公報）等が知られている。

【００３０】プラズマＣＶＤ法を利用した炭素を主成分
とする保護層の製膜法では、支持体を特に加熱する必要
がなく、約１５０℃以下の低温で被膜を形成できるた
め、耐熱性の低い有機系感熱層上に保護層を形成する際
にも、何ら支障がないというメリットがある。この炭素
を主成分とする保護層の膜厚は製膜時間の制御等により
調節できる。表面保護層の膜組成を分析する方法として
は、ＸＰＳ、ＡＥＳ、ＳＩＭＳ等の測定法を用いる。

【００３１】

【実施例】以下本発明を実施例により説明するが、これ
により本発明の態様が限定されるものではない。部は何
れも重量基準である。

【００３２】（実施例１）アルミニウム製シリンダー状
支持体（外径８０ｍｍφ、長さ３４０ｍｍ）に下記組成
比の混合物をボールミルで１２時間分散し、調製した下
引層形成液を乾燥後の膜厚が約２μｍになるように浸漬
法で塗工し、下引層を形成した。ＴｉＯ₂（石原産業社製：タイペーク）１部ポリアミド樹脂（東レ社製：ＣＭ８０００）１部メタノール２５部

【００３３】この下引層上に下記構造のトリスアゾ顔料
を含む電荷発生層塗工液を浸漬塗工し、１２０℃で１０
分間乾燥させ、膜厚約０．１５μｍのＣＧＬを形成し
た。

【化１】３０部ポリエステル樹脂（東洋紡社製：バイロン２００）１２部シクロヘキサノン３６０部［上記混合物をボールミルで７２時間分散した後、さら
にシクロヘキサノン：メチルエチルケトン＝１：１（重
量比）の混合溶媒５００部で希釈調製する。］

【００３４】ついで、このＣＧＬ上に下記組成の電荷輸
送層塗工液を乾燥後の膜厚が約３０μｍになるように浸
漬塗工して有機感光層を作成した。

【化２】１０部ポリカーボネート（帝人化成社製：パンライトＣ−１４００）１０部テトラヒドロフラン８０部シリコーンオイル（信越シリコーン社製：ＫＦ５０）０．００１部

【００３５】このようにして作製した有機感光体を図５
〜図７に示すようなプラズマＣＶＤ装置にセットし、炭
素又は炭素を主成分とする薄膜よりなる保護層を形成し
た。ここで図５中１０７はプラズマＣＶＤ装置の真空槽
であり、ゲート弁１０９によりロード／アンロード用予
備室１１７と仕切られている。真空槽１０７内は排気系
１２０（圧力調整バルブ１２１、ターボ分子ポンプ１２
２、ロータリーポンプ１２３よりなる）により真空排気
され、また一定圧力に保たれるようになっている。真空
槽１０７内には反応槽１５０が設けられている。反応槽
は図６、図７に示すような枠状構造体１０２（電極側よ
り見て四角又は六角形状を有している）と、この両端の
開口部を覆うようにしたフード１０８、１１８、さらに
このフード１０８、１１８に配設された一対の同一形状
を有する第一及び第二の電極１０３、１１３（アルミニ
ウム等の金属メッシュを用いている）より構成されてい
る。１３０は反応槽１５０内へ導入するガスラインを示
しており、各種材料ガス容器が接続されており、それぞ
れ流量計１２９を経てノズル１２５より反応槽１５０の
中へ導入される。枠状構造体１０２中には、前記感光層
を形成した支持体１０１（１０１−１、１０１−２…１
０１−ｎ）が図６、図７のように配置される。なお、そ
れぞれの支持体は、後述するように第三の電極として配
置される。電極１０３、１１３にはそれぞれ第一の交番
電圧を印加するための一対の電源１１５（１１５−１、
１１５−２）が用意されている。第一の交番電圧の周波
数は１〜１００ＭＨｚである。これらの電源はそれぞれ
マッチングトランス１１６−１、１１６−２とつなが
る。このマッチングトランスでの位相は位相調整器１２
６により調整し、互いに１８０°または０°ずれて供給
できる。すなわち対称型または同相型の出力を有してい
る。マッチングトランスの一端１０４及び他端１１４は
それぞれ第一及び第二の電極１０３、１１３に連結され
ている。またトランスの出力側中点１０５は接地レベル
に保持されている。更にこの中点１０５と第三の電極す
なわち支持体１０１（１０１−１、１０１−２…１０１
−ｎ）またはそれらに電気的に連結するホルダ１０２の
間に第二の交番電圧を印加するための電源１１７が配設
されている。この第二の交番電圧の周波数は１〜５００
ＫＨｚである。この第一及び第二の電極に印加する第一
の交番電圧の出力は１３．５６ＭＨｚの周波数の場合
０．１〜１ＫＷであり、第三の電極すなわち支持体に印
加する第二の交番電圧の出力は１５０ＫＨｚの周波数の
場合約１００Ｗである。

【００３６】保護層を２層構成とし、感光層に接してい
る側から順に第１表面保護層、第２表面保護層とした。
第１表面保護層は、水素を含む非晶質炭素膜である。そ
の製膜条件は以下の通りである。ＣＨ₄流量：２００ｓｃｃｍ反応圧力：０．０１ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −１００Ｖ膜厚：０．１５μｍこの膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素及び水素を含有することが判明し、窒素
は含有していないことが判明した。

【００３７】第２表面保護層は、水素を含む非晶質炭素
膜であって、更に窒素を含有する膜からなる。その製膜
条件は以下の通りである。ＣＨ₄流量：９０ｓｃｃｍＨ₂流量：２１０ｓｃｃｍＮ₂流量：４５ｓｃｃｍ反応圧力：０．０２ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −３５Ｖ膜厚：４μｍヌープ硬度：１２００ｋｇ／ｍｍ² Ｎ／Ｃ比：０．１５この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素、水素及び窒素を含有していることが判
明した。

【００３８】このようにして作成した感光体を初期及び
市販デジタル複写機イマジオ４２０Ｖ［（株）リコー
製］を用いて５０万枚の通紙試験を行った後、感光体表
面の保護層の剥離状況、スクラッチ状況などの評価を行
った。評価結果を表１に示す。

【００３９】（実施例２）第１表面保護層の製膜条件を
下記に示す条件とした以外は、すべて実施例１と同様に
して感光体を作成し、評価を行った。ＣＨ₄流量：２００ｓｃｃｍＮ₂流量：２０ｓｃｃｍ反応圧力：０．０１ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −２００Ｖ膜厚：０．１２μｍＮ／Ｃ比：０．００８この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素、水素及び窒素を含有することが判明し
た。評価結果を表１に示す。

【００４０】（実施例３）第２表面保護層の製膜条件を
下記に示す条件とした以外は、すべて実施例１と同様に
して感光体を作成し、評価を行った。ＣＨ₄流量：１００ｓｃｃｍＨ₂流量：２００ｓｃｃｍＣ₂Ｆ₆流量：５０ｓｃｃｍ反応圧力：０．０１ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −４０Ｖヌープ硬度：１１００ｋｇ／ｍｍ² Ｆ／Ｃ比：０．０５この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、水素及びフッ素を含有していることが判明し
た。評価結果を表１に示す。

【００４１】（実施例４）第２表面保護層の製膜条件を
下記に示す条件とした以外は、すべて実施例１と同様に
して感光体を作成し、評価を行った。ＣＨ₄流量：９０ｓｃｃｍＨ₂流量：２００ｓｃｃｍＢ₂Ｈ₆流量：４０ｓｃｃｍ反応圧力：０．０１ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −３０Ｖ膜厚：０．１５μｍヌープ硬度：１０５０ｋｇ／ｍｍ² この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素、水素及び硼素を含有していることが判
明した。評価結果を表１に示す。

【００４２】（実施例５）第１表面保護層の製膜条件を
下記に示す条件とした以外は、すべて実施例１と同様に
して感光体を作成し、評価を行った。ＣＨ₄流量：２００ｓｃｃｍＮ₂流量：５ｓｃｃｍ反応圧力：０．０１ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −２００Ｖ膜厚：０．１２μｍＮ／Ｃ比：０．００２この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素、水素及び窒素を含有していることが判
明した。評価結果を表１に示す。

【００４３】（実施例６）第２表面保護層の膜厚を０．
８μｍにすること以外は全て実施例１と同様にして感光
体を作製し、評価を行った。

【００４４】（実施例７）第２表面保護層の膜厚を１．
８μｍにすること以外は全て実施例１と同様にして感光
体を作成し、評価を行った。

【００４５】（実施例８）保護層を３層構成とし、感光
層に接している側から順に第１表面保護層、第２表面保
護層、第３表面保護層とした。各保護層の製膜条件を下
記に示す条件としたこと以外は、全く実施例１と同様に
して感光体を作成し、評価を行った。

【００４６】（第１表面保護層）Ｃ₂Ｈ₄流量：２００ｓｃｃｍ反応圧力：０．０１ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −２００Ｖ膜厚：０．１２μｍこの膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素、水素を含有していることが判明した。

【００４７】（第２表面保護層）Ｃ₂Ｈ₄流量：９０ｓｃｃｍＨ₂流量：２１０ｓｃｃｍＮＦ₃流量：４５ｓｃｃｍ反応圧力：０．０２ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −２０Ｖ膜厚：１．９μｍこの膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素、水素、窒素及びフッ素を含有している
ことが判明した。

【００４８】（第３表面保護層）Ｃ₂Ｈ₄流量：９０ｓｃｃｍＨ₂流量：２１０ｓｃｃｍＮＦ₃流量：４５ｓｃｃｍ反応圧力：０．０２ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −１００Ｖ膜厚：０．２μｍヌープ硬度：１３００ｋｇ／ｍｍ² この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素、水素、窒素及びフッ素を含有している
ことが判明した。評価結果を表１に示す。

【００４９】（実施例９）第１表面保護層と第２表面保
護層の製膜条件を下記に示す条件としたこと以外は、す
べて実施例１と同様にして感光体を作成し、評価を行っ
た。（第１表面保護層）ＣＨ₄流量：２５０ｓｃｃｍＣ₂Ｆ₆量：２０ｓｃｃｍ反応圧力：０．０１ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −２００Ｖ膜厚：０．１２μｍＦ／Ｃ比：０．００２この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素、水素及びフッ素を含有していることが
判明した。

【００５０】（第２表面保護層）ＣＨ₄流量：１００ｓｃｃｍＨ₂流量：２００ｓｃｃｍＣ₂Ｆ₆流量：５０ｓｃｃｍ反応圧力：０．０２ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −５０Ｖ膜厚：４μｍヌープ硬度：１２００ｋｇ／ｍｍ² Ｆ／Ｃ比：０．０５この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、水素及びフッ素を含有していることが判明し
た。評価結果を表１に示す。

【００５１】（実施例１０）第１表面保護層の製膜条件
を下記に示す条件としたこと以外は、すべて実施例９と
同様にして感光体を作成し、評価を行った。（第１表面保護層）ＣＨ₄流量：２５０ｓｃｃｍＣ₂Ｆ₆量：５ｓｃｃｍ反応圧力：０．０１ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −２００Ｖ膜厚：０．１２μｍＦ／Ｃ比：０．０００５この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素、水素及びフッ素を含有していることが
判明した。評価結果を表１に示す。

【００５２】（比較例１）保護層に第２表面保護層を設
けず、第１表面保護層の膜厚を４μｍにすること以外
は、すべて実施例１と同様にして感光体を作成し、評価
を行った。評価結果を表１に示す。

【００５３】（比較例２）保護層に第１表面保護層を設
けないこと以外は、すべて実施例１と同様にして感光体
を作成し、評価を行った。評価結果を表１に示す。

【００５４】（比較例３）第１表面保護層と第２表面保
護層の製膜条件を下記に示す条件とした以外は、すべて
実施例１と同様にして感光体を作成し、評価を行った。（第１表面保護層）ＣＨ₄流量：９０ｓｃｃｍＨ₂流量：２１０ｓｃｃｍＮ₂流量：４５ｓｃｃｍ反応圧力：０．０２ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −３５Ｖ膜厚：０．１４μｍＮ／Ｃ比：０．１５この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素、水素及び窒素を含有することが判明し
た。

【００５５】（第２表面保護層）ＣＨ₄流量：２００ｓｃｃｍ反応圧力：０．０１ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −１００Ｖ膜厚：４μｍヌープ硬度：２０００ｋｇ／ｍｍ² この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素及び水素を含有していることが判明し、
窒素は含有していないことが判明した。評価結果を表１
に示す。

【００５６】（比較例４）第１表面保護層と第２表面保
護層の製膜条件を下記に示す条件とした以外は、すべて
実施例１と同様にして感光体を作成し、評価を行った。（第１表面保護層）ＣＨ₄流量：２００ｓｃｃｍ反応圧力：０．０１ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −１００Ｖ膜厚：０．１５μｍこの膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素及び水素を含有することが判明し、窒素
は含有していないことが判明した。

【００５７】（第２表面保護層）ＣＨ₄流量：９０ｓｃｃｍＨ₂流量：２１０ｓｃｃｍＮ₂流量：４５ｓｃｃｍ反応圧力：０．０３ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −５Ｖ膜厚：４μｍヌープ硬度：５００ｋｇ／ｍｍ² Ｎ／Ｃ比：０．１５この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素、水素及び窒素を含有していることが判
明した。

【００５８】（比較例５）第２表面保護層の製膜条件を
下記に示す条件とした以外は、すべて実施例１と同様に
して感光体を作成し、評価を行った。ＣＨ₄流量：１００ｓｃｃｍＨ₂流量：２００ｓｃｃｍＣ₂Ｆ₆流量：５０ｓｃｃｍ反応圧力：０．０２ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −２５Ｖ膜厚：４μｍヌープ硬度：９００ｋｇ／ｍｍ² この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、水素及びフッ素を含有していることが判明し
た。評価結果を表１に示す。

【００５９】（比較例６）第２表面保護層の製膜条件を
下記に示す条件としたこと以外は、すべて実施例１と同
様にして感光体を作成し、評価を行った。ＣＨ₄流量：９０ｓｃｃｍＨ₂流量：２００ｓｃｃｍＢ₂Ｈ₆流量：４０ｓｃｃｍ反応圧力：０．０３ｔｏｒｒ第一の交番電圧出力：１００Ｗ１３．５６ＭＨｚバイアス電圧（直流分）： −２０Ｖ膜厚：４μｍヌープ硬度：８５０ｋｇ／ｍｍ² この膜の組成分析（ＸＰＳ法）を行った結果、膜の組成
が、炭素、酸素、水素及び硼素を含有していることが判
明した。評価結果を表１に示す。

【００６０】

【表１】

【００６１】

【発明の効果】請求項１の電子写真用感光体は、導電性
支持体上に少なくとも感光層、水素を含有するダイヤモ
ンド状カーボンもしくは非晶質カーボン構造を有する表
面保護層を順次積層した構成を持つ電子写真用感光体に
おいて、前記表面保護層が窒素、フッ素、硼素、リン、
塩素、臭素及び沃素等から選ばれた少なくとも１種の添
加物元素を含有する膜からなり、その添加物元素の炭素
に対する含有原子量比が表面保護層の感光層近傍付近に
おいて、それ以外の部分よりも少なく、さらに表面保護
層の最表層のヌープ硬度が１０００ｋｇ／ｍｍ²以上で
あるとしたことから、水素を含有するダイヤモンド状カ
ーボンもしくは非晶質カーボンの保護層を有する感光体
の耐剥離性及び耐スクラッチ性を向上させ、且つ長期的
な安定した画像形成を行うことが可能となる。

【００６２】請求項２の電子写真用感光体は、前記表面
保護層が窒素を含有し、表面保護層の感光層近傍付近の
窒素と炭素の含有原子量の比（Ｎ／Ｃ比）が０．００５
以下である膜としたことから、添加物元素に窒素を含有
する表面保護層を有する感光体の感度及び耐剥離性の向
上が可能となる。

【００６３】請求項３の電子写真用感光体は、前記表面
保護層がフッ素を含有し、表面保護層の感光層近傍付近
のフッ素と炭素の含有原子量の比（Ｆ／Ｃ比）が０．０
０１以下である膜としたことから、添加物元素にフッ素
を含有する表面保護層を有する感光体の感度及び耐剥離
性の向上が可能となる。

【００６４】請求項４の電子写真用感光体は、前記表面
保護層の膜厚が１〜３μｍである膜としたことから、感
光体表面の耐スクラッチ性を維持しながら、感光体の感
度が更に向上するという効果が加わる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の画像形成装置で使用する電子写真用感
光体の断面の模式図。

【図２】本発明の画像形成装置で使用する電子写真用感
光体の断面の模式図。

【図３】本発明の画像形成装置で使用する電子写真用感
光体の断面の模式図。

【図４】本発明の画像形成装置で使用する電子写真用感
光体の断面の模式図。

【図５】炭素又は炭素を主成分とする薄膜よりなる保護
層を形成する際に用いるプラズマＣＶＤ装置の具体例の
説明図。

【図６】上記プラズマＣＶＤ装置の枠状構造体１０２の
平面図。

【図７】上記プラズマＣＶＤ装置の枠状構造体１０２の
平面図。

【符号の説明】

図１〜４について１導電性支持体２感光層２ａ電荷発生層（ＣＧＬ）２ｂ電荷輸送層（ＣＴＬ）３保護層４下引層図５〜７について１０１−０〜１０１−ｎ支持体１０２枠状構造体１０３、１１３電極１０４、１１４マッチングトランスの端部１０５トランス出力側中点１０７真空槽１０８、１１８フード１０９ゲート弁１１５電源１１６−１、１１６−２マッチングトランス１１７電源１２０排気系統１２１調整バルブ１２２ターボ分子ポンプ１２３ロータリーポンプ１２５ガス導入ノズル１２６位相調整器１３０〜１３４ガスライン１４０交番電源系１５０反応槽

フロントページの続き (72)発明者永目宏東京都大田区中馬込１丁目３番６号株式会社リコー内 (72)発明者山▲崎▼ 舜平神奈川県厚木市長谷398 株式会社半導体エネルギー研究所内 (72)発明者林茂則神奈川県厚木市長谷398 株式会社半導体エネルギー研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性支持体上に少なくとも感光層、水
素を含有するダイヤモンド状カーボンもしくは非晶質カ
ーボン構造を有する表面保護層を順次積層した構成を持
つ電子写真用感光体において、前記表面保護層が窒素、
フッ素、硼素、リン、塩素、臭素及び沃素等から選ばれ
た少なくとも１種の添加物元素を含有する膜からなり、
その添加物元素の炭素に対する含有原子量比が表面保護
層の感光層近傍付近において、それ以外の部分よりも少
なく、さらに表面保護層の最表層のヌープ硬度が１００
０ｋｇ／ｍｍ²以上であることを特徴とする電子写真用
感光体。
【請求項２】前記表面保護層が窒素を含有し、表面保
護層の感光層近傍付近の窒素と炭素の含有原子量の比
（Ｎ／Ｃ比）が０．００５以下である膜よりなる請求項
１に記載の電子写真用感光体。
【請求項３】前記表面保護層がフッ素を含有し、表面
保護層の感光層近傍付近のフッ素と炭素の含有原子量の
比（Ｆ／Ｃ比）が０．００１以下である膜よりなる請求
項１に記載の電子写真用感光体。
【請求項４】前記表面保護層の膜厚が１〜３μｍであ
る膜よりなる請求項１、２又は３に記載の電子写真用感
光体。