JPH089753B2 - Ｆｅ基非晶質合金の製造方法 - Google Patents
Ｆｅ基非晶質合金の製造方法Info
- Publication number
- JPH089753B2 JPH089753B2 JP3101660A JP10166091A JPH089753B2 JP H089753 B2 JPH089753 B2 JP H089753B2 JP 3101660 A JP3101660 A JP 3101660A JP 10166091 A JP10166091 A JP 10166091A JP H089753 B2 JPH089753 B2 JP H089753B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ribbon
- amorphous alloy
- weight
- based amorphous
- raw material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F1/15308—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals based on Fe/Ni
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】電力トランス、高周波トランス、
リアクトルなどの鉄心に用いられるＦｅ基非晶質合金の
製造方法に関するものである。
リアクトルなどの鉄心に用いられるＦｅ基非晶質合金の
製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】電力トランスには従来よりけい素鋼板が
用いられている。これは、けい素鋼板が低鉄損でかつ安
価なことによるためである。しかし近年における省エネ
ルギーの要請はさらに強く、一層の低鉄損化が求められ
ている。けい素鋼板の低鉄損化に対して板厚を薄くす
る、磁区を制御するなどの方法が開発されているが、鉄
損の低減効果が不十分であるだけでなく、材料コストの
増大を招く欠点をもつ。
用いられている。これは、けい素鋼板が低鉄損でかつ安
価なことによるためである。しかし近年における省エネ
ルギーの要請はさらに強く、一層の低鉄損化が求められ
ている。けい素鋼板の低鉄損化に対して板厚を薄くす
る、磁区を制御するなどの方法が開発されているが、鉄
損の低減効果が不十分であるだけでなく、材料コストの
増大を招く欠点をもつ。
【０００３】電力トランスの鉄心材料として抜本的な低
鉄損特性を有するのが非晶質材料である。非晶質材料の
鉄損はけい素鋼板の約１／３〜１／５であり、これによ
る電力の節減効果は莫大である。非晶質材料の場合、製
造面、特性面で安定した材料を得るために、Ｆｅをはじ
めとする主要元素には高純度の原料が使用されている。
原料としてスクラップ材などを使用した場合、有害な不
純物の混入が避けられない。たとえば、Ａｌを含む原料
を用いると、微量であっても鉄損や透磁率が大幅に劣化
することが知られている。またＴｉについても特開昭５
９−６４１４３号公報に示されるように磁気特性を劣化
させる。これまではこの様な有害な不純物の混入を防ぐ
ために高純度の原料を用いる方向に力が注がれてきた。
しかし現実の問題として高純度の原料を用いることは製
品のコストアップを招くので問題となっていた。
鉄損特性を有するのが非晶質材料である。非晶質材料の
鉄損はけい素鋼板の約１／３〜１／５であり、これによ
る電力の節減効果は莫大である。非晶質材料の場合、製
造面、特性面で安定した材料を得るために、Ｆｅをはじ
めとする主要元素には高純度の原料が使用されている。
原料としてスクラップ材などを使用した場合、有害な不
純物の混入が避けられない。たとえば、Ａｌを含む原料
を用いると、微量であっても鉄損や透磁率が大幅に劣化
することが知られている。またＴｉについても特開昭５
９−６４１４３号公報に示されるように磁気特性を劣化
させる。これまではこの様な有害な不純物の混入を防ぐ
ために高純度の原料を用いる方向に力が注がれてきた。
しかし現実の問題として高純度の原料を用いることは製
品のコストアップを招くので問題となっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】磁性に有害なＡｌ、Ｔ
ｉ、Ｚｒを含む低純度の原料を使用するときに生ずる磁
気特性の劣化を抑え、高純度並の磁気特性のすぐれたＦ
ｅ基非晶質合金を製造するための方法を提供することで
ある。
ｉ、Ｚｒを含む低純度の原料を使用するときに生ずる磁
気特性の劣化を抑え、高純度並の磁気特性のすぐれたＦ
ｅ基非晶質合金を製造するための方法を提供することで
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨とするとこ
ろは下記のとおりである。 （１）０．０１重量％以上のＡｌ，Ｔｉ，Ｚｒの少なく
とも１種を不純物として含む低純度の原料を用いる、合
金組成がＦｅ a Ｓｉ b Ｂ c で表示されるＦｅ基非晶質合金
の製造において、該原料に０．１〜１．０重量％のＳｎ
あるいは０．０１〜０．０５重量％のＳのいずれか１種
または２種を添加することを特徴とする非晶質合金の製
造方法。ここで、ａ＝７５〜８２（原子％，以下おな
じ）、ｂ＝３〜１６、ｃ＝７〜１８である。 （２）合金組成がＦｅ a Ｓｉ b Ｂ c で表示される前項１記
載のＦｅ基非晶質合金がＣを０を超え４原子％以下含む
ものである前項１記載の非晶質合金の製造方法。
ろは下記のとおりである。 （１）０．０１重量％以上のＡｌ，Ｔｉ，Ｚｒの少なく
とも１種を不純物として含む低純度の原料を用いる、合
金組成がＦｅ a Ｓｉ b Ｂ c で表示されるＦｅ基非晶質合金
の製造において、該原料に０．１〜１．０重量％のＳｎ
あるいは０．０１〜０．０５重量％のＳのいずれか１種
または２種を添加することを特徴とする非晶質合金の製
造方法。ここで、ａ＝７５〜８２（原子％，以下おな
じ）、ｂ＝３〜１６、ｃ＝７〜１８である。 （２）合金組成がＦｅ a Ｓｉ b Ｂ c で表示される前項１記
載のＦｅ基非晶質合金がＣを０を超え４原子％以下含む
ものである前項１記載の非晶質合金の製造方法。
【０００６】上記主成分はＦｅが７５〜８２原子％、Ｓ
ｉが３〜１６原子％、Ｂが７〜１８原子％であり、ある
いはＦｅが７５〜８２原子％、Ｓｉが３〜１６原子％、
Ｂが７〜１８原子％、Ｃが０を超え４原子％以下であ
り、鉄心材料に要求される飽和磁束密度（Ｂｓ）、鉄
損、透磁率、非晶質形成能、熱的安定性、機械的性質な
どを考慮して選定したものである。副成分として０．１
〜１．０重量％のＳｎあるいは０．０１〜０．０５重量
％のＳの１種または２種を添加することが本発明のポイ
ントである。
ｉが３〜１６原子％、Ｂが７〜１８原子％であり、ある
いはＦｅが７５〜８２原子％、Ｓｉが３〜１６原子％、
Ｂが７〜１８原子％、Ｃが０を超え４原子％以下であ
り、鉄心材料に要求される飽和磁束密度（Ｂｓ）、鉄
損、透磁率、非晶質形成能、熱的安定性、機械的性質な
どを考慮して選定したものである。副成分として０．１
〜１．０重量％のＳｎあるいは０．０１〜０．０５重量
％のＳの１種または２種を添加することが本発明のポイ
ントである。
【０００７】ここでＳｎおよびＳの量を規定した理由を
述べる。まずＳｎであるが、０．１重量％未満では不純
物元素Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒによる特性劣化を抑える効果が
認められない。一方、１．０重量％を超えて添加しても
著しい効果の向上は認められず、むしろ材料の脆化を招
き、機械特性劣化の方向に作用するためである。また、
Ｓの範囲もＳｎと同様である。すなわち０．０１重量％
未満では、不純物元素Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒによる特性劣化
を抑える効果が認められず、０．０５重量％を越えて添
加しても著しい効果の向上は認められない。むしろ材料
の脆化を招き、機械特性を劣化させるためである。ま
た、Ｃは非晶質薄帯の製造性に効果がある元素である。
したがって、本発明において、ＳｎあるいはＳによる効
果はＣの有無にかかわらず得ることができる。
述べる。まずＳｎであるが、０．１重量％未満では不純
物元素Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒによる特性劣化を抑える効果が
認められない。一方、１．０重量％を超えて添加しても
著しい効果の向上は認められず、むしろ材料の脆化を招
き、機械特性劣化の方向に作用するためである。また、
Ｓの範囲もＳｎと同様である。すなわち０．０１重量％
未満では、不純物元素Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒによる特性劣化
を抑える効果が認められず、０．０５重量％を越えて添
加しても著しい効果の向上は認められない。むしろ材料
の脆化を招き、機械特性を劣化させるためである。ま
た、Ｃは非晶質薄帯の製造性に効果がある元素である。
したがって、本発明において、ＳｎあるいはＳによる効
果はＣの有無にかかわらず得ることができる。
【０００８】次に本発明で用いることができる原料につ
いて述べる。まずＦｅの原料としては、電解鉄や高純鉄
の代わりに、けい素鋼板や自動車用鋼板など一般に使用
される鉄鋼材料や、それらの切りくずや、スクラップな
どを用いることができる。Ｓｉにつていも、けい素鋼板
の切りくずや、フェロシリコンなどを用いることができ
る。またＢについてであるが、従来は高純度化の必要性
から、電解鉄やＡｌなど有害な不純物を含まない高純度
の鉄がフェロボロンの原料として用いられていたが、Ａ
ｌ、Ｔｉ、Ｚｒなど有害とされていた不純物を含む低純
度の鉄を使用することができる。またフェロボロンの製
造において、電気炉法だけでなく、アルミニウムテルミ
ット法を用いることができる。
いて述べる。まずＦｅの原料としては、電解鉄や高純鉄
の代わりに、けい素鋼板や自動車用鋼板など一般に使用
される鉄鋼材料や、それらの切りくずや、スクラップな
どを用いることができる。Ｓｉにつていも、けい素鋼板
の切りくずや、フェロシリコンなどを用いることができ
る。またＢについてであるが、従来は高純度化の必要性
から、電解鉄やＡｌなど有害な不純物を含まない高純度
の鉄がフェロボロンの原料として用いられていたが、Ａ
ｌ、Ｔｉ、Ｚｒなど有害とされていた不純物を含む低純
度の鉄を使用することができる。またフェロボロンの製
造において、電気炉法だけでなく、アルミニウムテルミ
ット法を用いることができる。
【０００９】ここで基本組成に添加するＳｎおよびＳの
作用について述べる。上記のような原料を用いた場合、
母合金には不純物であるＡｌ、Ｔｉ、Ｚｒが含まれ、こ
れらが磁気特性に悪影響を与える。図１はＡｌを含まな
い薄帯とＡｌを含んだ薄帯の表面状態を示したものであ
る。Ａｌを含まない薄帯と比較した場合、Ａｌを含んだ
薄帯の表面にはＡｌが偏析しＳｉの偏析をる妨げている
ことがわかる。Ｓｉの表面への偏析を妨げられることに
よって磁気特性を劣化させる。
作用について述べる。上記のような原料を用いた場合、
母合金には不純物であるＡｌ、Ｔｉ、Ｚｒが含まれ、こ
れらが磁気特性に悪影響を与える。図１はＡｌを含まな
い薄帯とＡｌを含んだ薄帯の表面状態を示したものであ
る。Ａｌを含まない薄帯と比較した場合、Ａｌを含んだ
薄帯の表面にはＡｌが偏析しＳｉの偏析をる妨げている
ことがわかる。Ｓｉの表面への偏析を妨げられることに
よって磁気特性を劣化させる。
【００１０】図２は図１と同じ母合金に対してＳｎを含
まない薄帯とＳｎを含んだ薄帯の表面状態を示したもの
である。ここで注目すべきはＳｉの挙動である。Ｓｎを
添加することによってＡｌが存在するにもかかわらず、
Ｓｉが表面に著しく偏析することである。Ｓｉの表面富
化が結晶化を制御する作用は明らかでないが、Ｓｉが非
晶質形成能向上に有効であることと関係しているものと
推定できる。ＳもＳｎと同様の作用があることを確認し
ている。すなわち、Ｓｉの表面富化によってＡｌ、Ｔ
ｉ、Ｚｒによる特性劣化が抑えられるものである。
まない薄帯とＳｎを含んだ薄帯の表面状態を示したもの
である。ここで注目すべきはＳｉの挙動である。Ｓｎを
添加することによってＡｌが存在するにもかかわらず、
Ｓｉが表面に著しく偏析することである。Ｓｉの表面富
化が結晶化を制御する作用は明らかでないが、Ｓｉが非
晶質形成能向上に有効であることと関係しているものと
推定できる。ＳもＳｎと同様の作用があることを確認し
ている。すなわち、Ｓｉの表面富化によってＡｌ、Ｔ
ｉ、Ｚｒによる特性劣化が抑えられるものである。
【００１１】次に本発明の実施態様について述べる。ま
ず上述の組成範囲となるように配合した原料あるいは母
合金を溶解し、通常の液体急冷法で非晶質連続薄帯とす
る。たとえば、単ロール法の場合、使用するノズルは単
一スリットノズルまたは多重スリットノズル、あるいは
ラップした多孔ノズルを用いることができる。それぞれ
のノズルの形状の例を図３に示す。ロールの材質はＣ
ｕ、Ｆｅあるいはそれらの合金などでもよい。
ず上述の組成範囲となるように配合した原料あるいは母
合金を溶解し、通常の液体急冷法で非晶質連続薄帯とす
る。たとえば、単ロール法の場合、使用するノズルは単
一スリットノズルまたは多重スリットノズル、あるいは
ラップした多孔ノズルを用いることができる。それぞれ
のノズルの形状の例を図３に示す。ロールの材質はＣ
ｕ、Ｆｅあるいはそれらの合金などでもよい。
【００１２】以上説明した非晶質薄帯の製造法はとくに
限定するものでなく、ベルト法、双ロール法、遠心急冷
法、液中紡糸法、キャビテーション法など他の方法を採
用することもできる。
限定するものでなく、ベルト法、双ロール法、遠心急冷
法、液中紡糸法、キャビテーション法など他の方法を採
用することもできる。
【００１３】
【実施例】以下、実施例に基づいて説明する。 実施例１ 市販の２種類の低純度原料を用いて目標組成（Ｆｅ
80.5 Ｓｉ6.5 Ｂ12Ｃ1 （原子％））の母合金を作製し
た。化学分析の結果、それぞれにＡｌが０．０５重量
％、０．１重量％が含まれていた。この２種類の母合金
にＳｎを０．５重量％添加したものを母合金として、単
ロール急冷法を用いて薄帯に作製した。薄帯の幅は２５
ｍｍ、板厚は約２５μｍであった。作製した薄帯はＸ線
回折法により非晶質であることが確認された。
80.5 Ｓｉ6.5 Ｂ12Ｃ1 （原子％））の母合金を作製し
た。化学分析の結果、それぞれにＡｌが０．０５重量
％、０．１重量％が含まれていた。この２種類の母合金
にＳｎを０．５重量％添加したものを母合金として、単
ロール急冷法を用いて薄帯に作製した。薄帯の幅は２５
ｍｍ、板厚は約２５μｍであった。作製した薄帯はＸ線
回折法により非晶質であることが確認された。
【００１４】この薄帯を長さ１２０ｍｍに切り出した
後、長さ方向に約２０Ｏｅの直流磁界をかけながらＡｒ
気流中でアニールした。アニール条件は保定時間を１時
間とし、温度は３８０℃とした。表１に本発明によって
得られた薄帯の磁気特性を示す。また比較のために同じ
母合金を用い、Ｓｎを添加しないものの特性も表１に示
した。
後、長さ方向に約２０Ｏｅの直流磁界をかけながらＡｒ
気流中でアニールした。アニール条件は保定時間を１時
間とし、温度は３８０℃とした。表１に本発明によって
得られた薄帯の磁気特性を示す。また比較のために同じ
母合金を用い、Ｓｎを添加しないものの特性も表１に示
した。
【００１５】
【表１】
【００１６】表１から明らかなように、Ａｌが微量添加
されたものは高純度の原料によって得られた薄帯と比較
して、鉄損は約３倍に増加し、印加磁界１Ｏｅの時の磁
束密度は約１／３に低下している。一方、本発明によっ
て得られたＳｎの添加された薄帯は、Ａｌが存在してい
るにもかかわらず、すぐれた磁気特性（鉄損
（Ｗ1.3/ 50）＜２００ｍＷ／ｋｇ、磁束密度（Ｂ1 ）＞
１．５Ｔ）を示す。これは高純度の原料によって得られ
た薄帯と同等の特性であることがわかる。ただし、Ｗ
1.3/ 50は磁束密度１．３Ｔ、周波数５０Ｈｚにおける鉄
損、Ｂ1 は磁界１Ｏｅにおける磁束密度である。 実施例２ 実施例１で用いたものと同じ市販の低純度原料を用いて
作製した目標組成Ｆｅ 78Ｓｉ12Ｂ10（原子％）の合金
に、Ｓを０．０２重量％添加したものを薄帯とした後、
同様に磁気特性を測定した。測定試料の採取方法やアニ
ール条件などは実施例１と同じである。実施例１と異な
る点は非晶質薄帯製造に多重スリット法を用いたことで
ある。具体的には、スリット幅０．４ｍｍのスリット３
枚を１ｍｍ間隔で並べた多重ノズルを用いた。得られた
非晶質薄帯の板厚は６０μｍであった。磁気特性評価の
結果は実施例１と同様に、良好な特性（鉄損（Ｗ1.3/50
＜２００ｍＷ／ｋｇ、磁束密度（Ｂ1 ）＞１．５Ｔ）を
示し、Ｓを添加した場合も高純度原料を用いた薄帯と同
等の特性を示した。
されたものは高純度の原料によって得られた薄帯と比較
して、鉄損は約３倍に増加し、印加磁界１Ｏｅの時の磁
束密度は約１／３に低下している。一方、本発明によっ
て得られたＳｎの添加された薄帯は、Ａｌが存在してい
るにもかかわらず、すぐれた磁気特性（鉄損
（Ｗ1.3/ 50）＜２００ｍＷ／ｋｇ、磁束密度（Ｂ1 ）＞
１．５Ｔ）を示す。これは高純度の原料によって得られ
た薄帯と同等の特性であることがわかる。ただし、Ｗ
1.3/ 50は磁束密度１．３Ｔ、周波数５０Ｈｚにおける鉄
損、Ｂ1 は磁界１Ｏｅにおける磁束密度である。 実施例２ 実施例１で用いたものと同じ市販の低純度原料を用いて
作製した目標組成Ｆｅ 78Ｓｉ12Ｂ10（原子％）の合金
に、Ｓを０．０２重量％添加したものを薄帯とした後、
同様に磁気特性を測定した。測定試料の採取方法やアニ
ール条件などは実施例１と同じである。実施例１と異な
る点は非晶質薄帯製造に多重スリット法を用いたことで
ある。具体的には、スリット幅０．４ｍｍのスリット３
枚を１ｍｍ間隔で並べた多重ノズルを用いた。得られた
非晶質薄帯の板厚は６０μｍであった。磁気特性評価の
結果は実施例１と同様に、良好な特性（鉄損（Ｗ1.3/50
＜２００ｍＷ／ｋｇ、磁束密度（Ｂ1 ）＞１．５Ｔ）を
示し、Ｓを添加した場合も高純度原料を用いた薄帯と同
等の特性を示した。
【００１７】
【発明の効果】本発明のＦｅ基非晶質合金の製造方法
は、低純度の原料が使用できるため材料の低コスト化を
測ることができる。すなわち、微量のＳｎ、あるいはＳ
を微量添加することにより、高価な高純度原料を用いた
ものと同等の特性が得られる。
は、低純度の原料が使用できるため材料の低コスト化を
測ることができる。すなわち、微量のＳｎ、あるいはＳ
を微量添加することにより、高価な高純度原料を用いた
ものと同等の特性が得られる。
【図１】図１の（ａ）、（ｂ）はＧＤＳ（グロー放電発
光分光法）による表面状態の分析結果で、Ａｌを含んだ
薄帯とＡｌを含まない薄帯のＡｌ、Ｓｉ、Ｏ濃度の深さ
方向プロファイルを比較したもので、（ａ）はＡｌ添加
あり、（ｂ）はＡｌ添加なしである。
光分光法）による表面状態の分析結果で、Ａｌを含んだ
薄帯とＡｌを含まない薄帯のＡｌ、Ｓｉ、Ｏ濃度の深さ
方向プロファイルを比較したもので、（ａ）はＡｌ添加
あり、（ｂ）はＡｌ添加なしである。
【図２】図２の（ａ）、（ｂ）はは図１と同じ母合金に
対してＳｎを含んだ薄帯とＳｎを含まない薄帯の、ＧＤ
Ｓで測定した表面状態の分析結果を示したもので、
（ａ）はＳｎ添加あり、（ｂ）はＳｎ添加なしである。
対してＳｎを含んだ薄帯とＳｎを含まない薄帯の、ＧＤ
Ｓで測定した表面状態の分析結果を示したもので、
（ａ）はＳｎ添加あり、（ｂ）はＳｎ添加なしである。
Claims (2)
- 【請求項１】 ０．０１重量％以上のＡｌ，Ｔｉ，Ｚｒ
の少なくとも１種を不純物として含む低純度の原料を用
いる、合金組成がＦｅ a Ｓｉ b Ｂ c で表示されるＦｅ基非
晶質合金の製造において、該原料に０．１〜１．０重量
％のＳｎあるいは０．０１〜０．０５重量％のＳのいず
れか１種または２種を添加することを特徴とする非晶質
合金の製造方法。 ここで、ａ＝７５〜８２（原子％，以下おなじ）、ｂ＝
３〜１６、ｃ＝７〜１８である。 - 【請求項２】 合金組成がＦｅ a Ｓｉ b Ｂ c で表示される
請求項１記載のＦｅ基非晶質合金がＣを０を超え４原子
％以下含むものである請求項１記載の非晶質合金の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3101660A JPH089753B2 (ja) | 1991-05-07 | 1991-05-07 | Ｆｅ基非晶質合金の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3101660A JPH089753B2 (ja) | 1991-05-07 | 1991-05-07 | Ｆｅ基非晶質合金の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04329846A JPH04329846A (ja) | 1992-11-18 |
| JPH089753B2 true JPH089753B2 (ja) | 1996-01-31 |
Family
ID=14306531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3101660A Expired - Lifetime JPH089753B2 (ja) | 1991-05-07 | 1991-05-07 | Ｆｅ基非晶質合金の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH089753B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102618806A (zh) * | 2012-04-06 | 2012-08-01 | 东莞市晶磁科技有限公司 | 一种可提高直流叠加性能非晶带材的制造方法 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05222494A (ja) * | 1992-02-13 | 1993-08-31 | Nippon Steel Corp | 磁束密度の大きなトランス鉄心用非晶質合金薄帯 |
| US5871593A (en) * | 1992-12-23 | 1999-02-16 | Alliedsignal Inc. | Amorphous Fe-B-Si-C alloys having soft magnetic characteristics useful in low frequency applications |
| JP3389972B2 (ja) * | 1993-06-18 | 2003-03-24 | 日立金属株式会社 | Ｂ−ｈループの非対称性を改善したナノ結晶合金薄帯ならびに磁心およびナノ結晶合金薄帯の製造方法 |
| CN100478482C (zh) * | 2002-04-05 | 2009-04-15 | 新日本制铁株式会社 | 软磁特性优异的Fe基非晶质合金薄带、用其制造的铁心及用于它们的急冷凝固薄带制造用母合金 |
| US7282103B2 (en) | 2002-04-05 | 2007-10-16 | Nippon Steel Corporation | Iron-base amorphous alloy thin strip excellent in soft magnetic properties, iron core manufactured by using said thin strip, and mother alloy for producing rapidly cooled and solidified thin strip |
| KR100544664B1 (ko) * | 2003-12-24 | 2006-01-23 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 연속 판재 제조용 철계 벌크 비정질 합금 |
| CN102337485B (zh) * | 2011-09-20 | 2013-12-25 | 安泰科技股份有限公司 | 用于非晶合金钢水净化的净化剂 |
| JP2016003366A (ja) * | 2014-06-17 | 2016-01-12 | Ｎｅｃトーキン株式会社 | 軟磁性合金粉末並びにそれを用いた圧粉磁芯及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-05-07 JP JP3101660A patent/JPH089753B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102618806A (zh) * | 2012-04-06 | 2012-08-01 | 东莞市晶磁科技有限公司 | 一种可提高直流叠加性能非晶带材的制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04329846A (ja) | 1992-11-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6346691B2 (ja) | 表面の突起を低減させた強磁性アモルファス合金リボン、それらのキャスティング方法および用途 | |
| KR102377214B1 (ko) | 나노결정 자기 합금 및 이의 열처리 방법 | |
| US8968489B2 (en) | Ferromagnetic amorphous alloy ribbon with reduced surface defects and application thereof | |
| JPS6034620B2 (ja) | 鉄損が極めて低く熱的安定性とよい非晶質合金 | |
| JP2009108415A (ja) | アモルファス合金組成物 | |
| KR20090113314A (ko) | Ｆｅ 기재의 연자성 합금, 비정질 합금의 얇은 리본, 및 자성 부품 | |
| JP4268621B2 (ja) | 軟磁気特性に優れた急冷凝固薄帯 | |
| JPH089753B2 (ja) | Ｆｅ基非晶質合金の製造方法 | |
| JP6077445B2 (ja) | 強磁性アモルファス合金リボンおよびそれらの製造 | |
| JP2550449B2 (ja) | 磁束密度の大きなトランス鉄心用非晶質合金薄帯 | |
| JP3434844B2 (ja) | 低鉄損・高磁束密度非晶質合金 | |
| JPH06228717A (ja) | 電磁ステンレス鋼 | |
| JPS5834162A (ja) | 良好な耐磁気時効性を有する非晶質合金及びその薄帯の製造法 | |
| JPH05291019A (ja) | Ｆｅ基非晶質合金の製造方法 | |
| JP3389972B2 (ja) | Ｂ−ｈループの非対称性を改善したナノ結晶合金薄帯ならびに磁心およびナノ結晶合金薄帯の製造方法 | |
| JPH1046301A (ja) | Ｆｅ基磁性合金薄帯ならびに磁心 | |
| JP2812574B2 (ja) | 低周波トランス | |
| JPH11293427A (ja) | 軟磁気特性に優れたトランス用鉄基アモルファス合金 | |
| JPH0137467B2 (ja) | ||
| JPH05222494A (ja) | 磁束密度の大きなトランス鉄心用非晶質合金薄帯 | |
| JPH07113151A (ja) | 鉄系アモルファス合金 | |
| JPH10321429A (ja) | 軟磁気特性に優れた安価な鉄基非晶質合金 | |
| JPH05132744A (ja) | 高飽和磁束密度非晶質合金薄帯および非晶質合金鉄心の製造方法 | |
| JPH10317091A (ja) | 鉄系非晶質合金薄帯の製造方法 | |
| JPH08273917A (ja) | 非晶質磁性合金 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960716 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090131 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100131 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110131 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120131 Year of fee payment: 16 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120131 Year of fee payment: 16 |