JPH088167A - ステージ原点位置決定方法及び装置並びにステージ位置検出器原点決定方法及び装置 - Google Patents
ステージ原点位置決定方法及び装置並びにステージ位置検出器原点決定方法及び装置Info
- Publication number
- JPH088167A JPH088167A JP14002994A JP14002994A JPH088167A JP H088167 A JPH088167 A JP H088167A JP 14002994 A JP14002994 A JP 14002994A JP 14002994 A JP14002994 A JP 14002994A JP H088167 A JPH088167 A JP H088167A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- origin
- detection
- axis
- position detector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な構成で高精度にステージ位置原点を検
出するステージ位置原点検出方法及び装置並びに簡易な
方法で精度よくステージ位置検出器の原点位置を求める
ステージ位置検出器原点位置検出方法及び装置を提供す
る。 【構成】 一端がステージ１０に接続され、他端に位置
検出器６の検出光の光軸と所定の角度をなす位置検出平
面Ａを有する位置検出軸８に検出光を照射して測定され
た位置検出平面Ａと位置検出器６との距離が所定の距離
となるようにステージ１０を駆動し、所定の距離となっ
た位置をステージ１０の原点位置とする。また、過去の
所定の位置における対象物２４上の特定点６０の位置の
ステージ位置検出器１４、１５上の指示値に基づき、ス
テージ位置検出器１４、１５の原点に含まれるの誤差を
補正し、正しいステージ１０、１１の位置においてステ
ージ位置検出器１４、１５をリセットしてステージ位置
検出器１４、１５の原点を求める。
出するステージ位置原点検出方法及び装置並びに簡易な
方法で精度よくステージ位置検出器の原点位置を求める
ステージ位置検出器原点位置検出方法及び装置を提供す
る。 【構成】 一端がステージ１０に接続され、他端に位置
検出器６の検出光の光軸と所定の角度をなす位置検出平
面Ａを有する位置検出軸８に検出光を照射して測定され
た位置検出平面Ａと位置検出器６との距離が所定の距離
となるようにステージ１０を駆動し、所定の距離となっ
た位置をステージ１０の原点位置とする。また、過去の
所定の位置における対象物２４上の特定点６０の位置の
ステージ位置検出器１４、１５上の指示値に基づき、ス
テージ位置検出器１４、１５の原点に含まれるの誤差を
補正し、正しいステージ１０、１１の位置においてステ
ージ位置検出器１４、１５をリセットしてステージ位置
検出器１４、１５の原点を求める。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ステージ原点位置決定
方法及び装置並びにステージ位置検出器原点決定法及び
装置に関し、より詳細には、微細加工技術を用いて半導
体集積回路等を半導体ウェハ上に制作する際に用いられ
るＸＹステージの原点位置を決定するためのステージ原
点位置決定方法及び装置並びに当該ＸＹステージの位置
を検出するステージ位置検出器の原点決定法及び装置に
関する。
方法及び装置並びにステージ位置検出器原点決定法及び
装置に関し、より詳細には、微細加工技術を用いて半導
体集積回路等を半導体ウェハ上に制作する際に用いられ
るＸＹステージの原点位置を決定するためのステージ原
点位置決定方法及び装置並びに当該ＸＹステージの位置
を検出するステージ位置検出器の原点決定法及び装置に
関する。
【０００２】半導体集積回路等を製作するために用いら
れる電子ビーム露光装置、Ｘ線露光装置、光学ステッパ
等の半導体集積回路製作装置は、半導体集積回路等を製
作する半導体ウェハを固定し、高精度の制御の下に移動
させて電子ビーム露光等を行うためのＸＹステージを備
えている。
れる電子ビーム露光装置、Ｘ線露光装置、光学ステッパ
等の半導体集積回路製作装置は、半導体集積回路等を製
作する半導体ウェハを固定し、高精度の制御の下に移動
させて電子ビーム露光等を行うためのＸＹステージを備
えている。
【０００３】近年においては、半導体集積回路の微細化
に伴い、ＸＹステージ位置（原点位置）の決定に関して
も、高精度化が望まれている。
に伴い、ＸＹステージ位置（原点位置）の決定に関して
も、高精度化が望まれている。
【０００４】
【従来の技術】従来技術のＸＹステージにおける原点位
置決定方法に関して、図９乃至図１２を用いて説明す
る。
置決定方法に関して、図９乃至図１２を用いて説明す
る。
【０００５】なお、図９乃至図１２における説明におい
ては、簡略化のためにＸステージに係わる部分について
のみ説明する。Ｙステージに係わる部分については、Ｘ
ステージに係わる部分と同様の構成及び動作であるの
で、説明は省略する。
ては、簡略化のためにＸステージに係わる部分について
のみ説明する。Ｙステージに係わる部分については、Ｘ
ステージに係わる部分と同様の構成及び動作であるの
で、説明は省略する。
【０００６】図９には、従来技術の原点位置決定装置の
平面図を示す。図９に示す原点位置決定装置１００は、
半導体ウェハ等を固定してＸ軸方向に移動するＸステー
ジ及び半導体ウェハ等を固定してＹ軸方向に移動するＹ
ステージからなる図示しないＸＹステージを内蔵する真
空チャンバ１０２と、ＸステージをＸ軸方向に駆動する
ためのＤＣ（直流）モータ１１７を備えるアクチュエー
タ１０１と、Ｘステージの原点位置を決定する原点位置
決定部１０３により構成されている。
平面図を示す。図９に示す原点位置決定装置１００は、
半導体ウェハ等を固定してＸ軸方向に移動するＸステー
ジ及び半導体ウェハ等を固定してＹ軸方向に移動するＹ
ステージからなる図示しないＸＹステージを内蔵する真
空チャンバ１０２と、ＸステージをＸ軸方向に駆動する
ためのＤＣ（直流）モータ１１７を備えるアクチュエー
タ１０１と、Ｘステージの原点位置を決定する原点位置
決定部１０３により構成されている。
【０００７】原点位置決定部１０３は、一端がＸステー
ジに結合され、Ｘステージの移動とともに移動する駆動
軸１０４と、原点検出光を出射する発光ダイオード１０
５乃至１０７と、出射された原点検出光を受光するフォ
トディテクタ１０８乃至１１０と、Ｘステージの原点位
置を検出するために、それぞれの原点位置に対応して駆
動軸１０４に配置された原点信号検出センサ板１１１並
びにスリット１１２及び１１３と、により構成されてい
る。
ジに結合され、Ｘステージの移動とともに移動する駆動
軸１０４と、原点検出光を出射する発光ダイオード１０
５乃至１０７と、出射された原点検出光を受光するフォ
トディテクタ１０８乃至１１０と、Ｘステージの原点位
置を検出するために、それぞれの原点位置に対応して駆
動軸１０４に配置された原点信号検出センサ板１１１並
びにスリット１１２及び１１３と、により構成されてい
る。
【０００８】図１０には、図９に示す原点位置検出装置
の側面図が示されている。原点信号検出センサ板１１１
とスリット１１２及び１１３は駆動軸１０４に対して図
１０に示すような位置に配置されている。また、スリッ
ト１１２及び１１３には、発光ダイオード１０５又は１
０７の原点検出光が通過させるためのスリットがそれぞ
れに設けられている。
の側面図が示されている。原点信号検出センサ板１１１
とスリット１１２及び１１３は駆動軸１０４に対して図
１０に示すような位置に配置されている。また、スリッ
ト１１２及び１１３には、発光ダイオード１０５又は１
０７の原点検出光が通過させるためのスリットがそれぞ
れに設けられている。
【０００９】図１１には、図９及び図１０における原点
位置検出部１０３の拡大図が示されている。図１１にお
いては、図１１（ａ）が平面図、図１１（ｂ）が側面図
である。駆動軸１０４は、Ｘステージの移動に伴い、図
中水平左右方向に移動する。
位置検出部１０３の拡大図が示されている。図１１にお
いては、図１１（ａ）が平面図、図１１（ｂ）が側面図
である。駆動軸１０４は、Ｘステージの移動に伴い、図
中水平左右方向に移動する。
【００１０】発光ダイオード１０５及び１０７は、同じ
光量の原点検出光１２０及び１２２を出射する。また、
原点信号検出センサ板１１１は、駆動軸１０４上におい
て、Ｘステージが原点位置にあるとき、発光ダイオード
１０６の出射する原点検出光１２１を遮蔽するように配
置されている。
光量の原点検出光１２０及び１２２を出射する。また、
原点信号検出センサ板１１１は、駆動軸１０４上におい
て、Ｘステージが原点位置にあるとき、発光ダイオード
１０６の出射する原点検出光１２１を遮蔽するように配
置されている。
【００１１】さらに、スリット１１２及び１１３は、駆
動軸１０４上において、Ｘステージが原点位置にあると
き、発光ダイオード１０５又は１０７が出射する原点検
出光１２２又は１２０の光スポットが図１１（ｂ）にお
ける１１４及び１１５の位置、すなわち、原点検出光１
２２又は１２０の光量のうち、それぞれ半分の光量に対
応する原点検出光を通過させる位置に配置されている。
動軸１０４上において、Ｘステージが原点位置にあると
き、発光ダイオード１０５又は１０７が出射する原点検
出光１２２又は１２０の光スポットが図１１（ｂ）にお
ける１１４及び１１５の位置、すなわち、原点検出光１
２２又は１２０の光量のうち、それぞれ半分の光量に対
応する原点検出光を通過させる位置に配置されている。
【００１２】次に、原点位置検出部１０３における原点
位置の検出について、その動作を図１１及び図１２に基
づいて説明する。図１１に示す原点位置検出部１０３に
おける原点位置の検出は、フォトディテクタ１０８の出
力Ｔa と、フォトディテクタ１１０の出力Ｔb の差（Ｔ
b −Ｔa）を求めることにより行われる。
位置の検出について、その動作を図１１及び図１２に基
づいて説明する。図１１に示す原点位置検出部１０３に
おける原点位置の検出は、フォトディテクタ１０８の出
力Ｔa と、フォトディテクタ１１０の出力Ｔb の差（Ｔ
b −Ｔa）を求めることにより行われる。
【００１３】図１２には、駆動軸１０４の位置と出力差
（Ｔb −Ｔa ）の関係が示されている。図１２の原点座
標は、駆動軸１０４が接続されたＸステージが原点位置
にあるときの駆動軸の位置に対応している。
（Ｔb −Ｔa ）の関係が示されている。図１２の原点座
標は、駆動軸１０４が接続されたＸステージが原点位置
にあるときの駆動軸の位置に対応している。
【００１４】はじめに、Ｘステージが原点位置にある場
合には、上述のように原点検出光１２２又は１２０の光
量のうち、半分の光量に対応する原点検出光がスリット
１１２及び１１３を通過してフォトディテクタ１０８及
び１１０に到達するので、それぞれの出力差（Ｔb −Ｔ
a ）は０となる（図１２において、原点に対応してい
る。）。
合には、上述のように原点検出光１２２又は１２０の光
量のうち、半分の光量に対応する原点検出光がスリット
１１２及び１１３を通過してフォトディテクタ１０８及
び１１０に到達するので、それぞれの出力差（Ｔb −Ｔ
a ）は０となる（図１２において、原点に対応してい
る。）。
【００１５】ここで、駆動軸１０４がＸステージの移動
に伴い、図１１中右（図１１中ｘの正方向）に移動する
と、スリット１１２を通過する原点検出光１２２の光量
は増加し、スリット１１３を通過する原点検出光１２０
の光量は減少するので、それぞれに対応するフォトディ
テクタの出力差（Ｔb −Ｔa ）は負の値となる。そし
て、原点検出光１２２の全てがスリット１１２を通過す
る駆動軸１０４の位置（図１２におけるｘ1 の位置）で
極大値となる。さらに図１１中右に移動すると、原点検
出光１２２の一部が再びスリット１１２により遮蔽され
るので、出力差（Ｔb −Ｔa ）は増加し始め、原点検出
光１２２及び１２０が、それぞれスリット１１２及び１
１３により共に全て遮蔽される駆動軸１０４の位置（図
１２におけるｘ2 の位置）で０となる。
に伴い、図１１中右（図１１中ｘの正方向）に移動する
と、スリット１１２を通過する原点検出光１２２の光量
は増加し、スリット１１３を通過する原点検出光１２０
の光量は減少するので、それぞれに対応するフォトディ
テクタの出力差（Ｔb −Ｔa ）は負の値となる。そし
て、原点検出光１２２の全てがスリット１１２を通過す
る駆動軸１０４の位置（図１２におけるｘ1 の位置）で
極大値となる。さらに図１１中右に移動すると、原点検
出光１２２の一部が再びスリット１１２により遮蔽され
るので、出力差（Ｔb −Ｔa ）は増加し始め、原点検出
光１２２及び１２０が、それぞれスリット１１２及び１
１３により共に全て遮蔽される駆動軸１０４の位置（図
１２におけるｘ2 の位置）で０となる。
【００１６】これとは逆に、駆動軸１０４がＸステージ
の移動に伴い、図１１中左（図１１中ｘの負方向）に移
動すると、スリット１１３を通過する原点検出光１２０
の光量は増加し、スリット１１２を通過する原点検出光
１２２の光量は減少するので、それぞれに対応するフォ
トディテクタの出力差（Ｔb −Ｔa ）は正の値となる。
そして、原点検出光１２０の全てがスリット１１３を通
過する駆動軸１０４の位置（図１２におけるｘ3 の位
置）で極大値となる。さらに図１０中左に移動すると、
原点検出光１２０の一部が再びスリット１１３により遮
蔽されるので、出力差（Ｔb −Ｔa ）は減少し始め、原
点検出光１２２及び１２０が、それぞれスリット１１２
及び１１３により共に全て遮蔽される駆動軸１０４の位
置（図１２におけるｘ4 の位置）で０となる。
の移動に伴い、図１１中左（図１１中ｘの負方向）に移
動すると、スリット１１３を通過する原点検出光１２０
の光量は増加し、スリット１１２を通過する原点検出光
１２２の光量は減少するので、それぞれに対応するフォ
トディテクタの出力差（Ｔb −Ｔa ）は正の値となる。
そして、原点検出光１２０の全てがスリット１１３を通
過する駆動軸１０４の位置（図１２におけるｘ3 の位
置）で極大値となる。さらに図１０中左に移動すると、
原点検出光１２０の一部が再びスリット１１３により遮
蔽されるので、出力差（Ｔb −Ｔa ）は減少し始め、原
点検出光１２２及び１２０が、それぞれスリット１１２
及び１１３により共に全て遮蔽される駆動軸１０４の位
置（図１２におけるｘ4 の位置）で０となる。
【００１７】以上の動作の結果、駆動軸１０４の位置と
フォトディクタ１０８及び１１０の出力差（Ｔb −
Ｔa ）の関係は図１２に示すようになる。したがって、
図１２の原点に相当する位置、すなわち、フォトディク
タ１０８及び１１０の出力差（Ｔb −Ｔa ）が０であ
り、かつ、フォトディテクタ１０９の出力が０となる位
置となるように駆動軸１０４を制御すれば、Ｘステージ
を原点位置とすることができる。
フォトディクタ１０８及び１１０の出力差（Ｔb −
Ｔa ）の関係は図１２に示すようになる。したがって、
図１２の原点に相当する位置、すなわち、フォトディク
タ１０８及び１１０の出力差（Ｔb −Ｔa ）が０であ
り、かつ、フォトディテクタ１０９の出力が０となる位
置となるように駆動軸１０４を制御すれば、Ｘステージ
を原点位置とすることができる。
【００１８】なお、図１１に示す原点位置検出部の動作
においては、駆動軸１０４が図１１中ｘ2 又はｘ4 の位
置にあるときにも出力差（Ｔb −Ｔa ）は０となるが、
この場合は、発光ダイオード１０６の原点検出光１２１
が原点信号検出センサ板１１１により遮蔽されないよう
に原点信号検出センサ板１１１が設置されているので、
フォトディテクタ１０９の出力は０とならず、その位置
はＸステージの原点位置とされない。
においては、駆動軸１０４が図１１中ｘ2 又はｘ4 の位
置にあるときにも出力差（Ｔb −Ｔa ）は０となるが、
この場合は、発光ダイオード１０６の原点検出光１２１
が原点信号検出センサ板１１１により遮蔽されないよう
に原点信号検出センサ板１１１が設置されているので、
フォトディテクタ１０９の出力は０とならず、その位置
はＸステージの原点位置とされない。
【００１９】以上の従来技術の原点位置検出部１０３の
動作によれば、簡易な回路で、ＸＹステージの原点を検
出することができる。さらに、従来技術のＸＹステージ
には、上記の原点位置検出部とは別に、ＸＹステージの
移動に伴い、その位置を測定するステージ位置検出器を
備えている。
動作によれば、簡易な回路で、ＸＹステージの原点を検
出することができる。さらに、従来技術のＸＹステージ
には、上記の原点位置検出部とは別に、ＸＹステージの
移動に伴い、その位置を測定するステージ位置検出器を
備えている。
【００２０】このステージ位置検出器には、例えば、レ
ーザ干渉計が用いられる。通常、レーザ干渉計は、ＸＹ
ステージが上記の原点位置検出部の動作により定められ
た原点位置にあるときに、レーザ干渉計の指示値が原点
（０、０）を示すように設定されている。
ーザ干渉計が用いられる。通常、レーザ干渉計は、ＸＹ
ステージが上記の原点位置検出部の動作により定められ
た原点位置にあるときに、レーザ干渉計の指示値が原点
（０、０）を示すように設定されている。
【００２１】レーザ干渉計は、Ｘステージ及びＹステー
ジそれぞれに設けられており、真空チャンバ１０２の外
部に設置されたレーザ光出射器から出射されたレーザ光
を真空チャンバ内に導き、Ｘステージ又はＹステージに
固定的に設置されＸステージ又はＹステージの移動に伴
い移動するミラーにより反射させて反射光を得る。そし
て、その反射光を真空チャンバ１０２外に導き、真空チ
ャンバ１０２の外部に設置された検出部により検出し
て、Ｘステージ又はＹステージの位置を検出する構成と
なっている。
ジそれぞれに設けられており、真空チャンバ１０２の外
部に設置されたレーザ光出射器から出射されたレーザ光
を真空チャンバ内に導き、Ｘステージ又はＹステージに
固定的に設置されＸステージ又はＹステージの移動に伴
い移動するミラーにより反射させて反射光を得る。そし
て、その反射光を真空チャンバ１０２外に導き、真空チ
ャンバ１０２の外部に設置された検出部により検出し
て、Ｘステージ又はＹステージの位置を検出する構成と
なっている。
【００２２】従来技術のステージ位置検出器としてのレ
ーザ干渉計によれば、使用するレーザの波長レベルの精
度で、ステージ位置を検出できるので、高精度の位置検
出が可能である。
ーザ干渉計によれば、使用するレーザの波長レベルの精
度で、ステージ位置を検出できるので、高精度の位置検
出が可能である。
【００２３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術のステージ位置原点検出装置及びステージ位置検出器
には、その構造に起因して、次のような問題点があっ
た。
術のステージ位置原点検出装置及びステージ位置検出器
には、その構造に起因して、次のような問題点があっ
た。
【００２４】すなわち、従来技術のステージ位置原点検
出装置によると、図１２の原点付近におけるフォトディ
テクタの分解能が低く、また、発光ダイオード及びフォ
トディテクタが真空チャンバ１０２と共通の真空中にあ
るので、真空チャンバ１０２内の試料の温度上昇の影響
を受けてその特性が変化し、一定の出力が得られなかっ
た。さらにフォトディテクタの出力の非線形性によりフ
ォトディテクタ１０８及び１１０の出力に差が生じ、ス
テージの原点位置において得られる出力差（Ｔ b −
Ｔa ）が正確に０とならない場合がある。
出装置によると、図１２の原点付近におけるフォトディ
テクタの分解能が低く、また、発光ダイオード及びフォ
トディテクタが真空チャンバ１０２と共通の真空中にあ
るので、真空チャンバ１０２内の試料の温度上昇の影響
を受けてその特性が変化し、一定の出力が得られなかっ
た。さらにフォトディテクタの出力の非線形性によりフ
ォトディテクタ１０８及び１１０の出力に差が生じ、ス
テージの原点位置において得られる出力差（Ｔ b −
Ｔa ）が正確に０とならない場合がある。
【００２５】以上の原因により、従来技術のステージ位
置原点検出装置には、高精度の原点位置決定ができない
という第１の問題点があった。さらに、原点以外の位置
を検出するために上記と同様の検出回路が必要であるた
めに、回路が複雑になるという第２の問題点があった。
置原点検出装置には、高精度の原点位置決定ができない
という第１の問題点があった。さらに、原点以外の位置
を検出するために上記と同様の検出回路が必要であるた
めに、回路が複雑になるという第２の問題点があった。
【００２６】さらにまた、発光ダイオード及びフォトデ
ィテクタ等が真空チャンバ１０２内にあるため、これら
の部材を整備調整するためには、真空を解く必要があ
り、整備調整後再び真空とするための工程が必要とな
り、半導体集積回路の製作工程が複雑且つ長時間化する
という第３の問題点があった。
ィテクタ等が真空チャンバ１０２内にあるため、これら
の部材を整備調整するためには、真空を解く必要があ
り、整備調整後再び真空とするための工程が必要とな
り、半導体集積回路の製作工程が複雑且つ長時間化する
という第３の問題点があった。
【００２７】また、従来技術のステージ位置検出器とし
てのレーザ干渉計によると、ステージが所定の加速度以
上の加速度で急激に移動すると、その位置を測定するこ
とが不可能となる。したがって、ステージが所定の加速
度以上で移動した間の移動距離は測定できず、実際の移
動距離とレーザ干渉計の指示値との間に誤差が生じてし
まう場合があった。
てのレーザ干渉計によると、ステージが所定の加速度以
上の加速度で急激に移動すると、その位置を測定するこ
とが不可能となる。したがって、ステージが所定の加速
度以上で移動した間の移動距離は測定できず、実際の移
動距離とレーザ干渉計の指示値との間に誤差が生じてし
まう場合があった。
【００２８】また、位置測定光であるレーザ光の光路の
一部が真空チャンバ１０２の外部にあるため、レーザ光
の光路を遮蔽する遮蔽物が存在すると、ステージからの
反射光が得られず、位置が測定できない。したがって、
レーザ光が遮蔽されている間にステージが移動すると、
実際の移動距離とレーザ干渉計の指示値との間に誤差が
生じていた。
一部が真空チャンバ１０２の外部にあるため、レーザ光
の光路を遮蔽する遮蔽物が存在すると、ステージからの
反射光が得られず、位置が測定できない。したがって、
レーザ光が遮蔽されている間にステージが移動すると、
実際の移動距離とレーザ干渉計の指示値との間に誤差が
生じていた。
【００２９】以上の原因により、従来技術のステージ位
置検出器では、レーザ干渉計の原点に対応するステージ
位置が実質的に変位するという第４の問題点があった。
上述の従来技術のステージ位置原点検出装置及びステー
ジ位置検出器の第１乃至第４の問題点により、結果的に
ステージの位置及び移動距離が高精度に測定できず、正
確な露光等ができないという問題点があった。
置検出器では、レーザ干渉計の原点に対応するステージ
位置が実質的に変位するという第４の問題点があった。
上述の従来技術のステージ位置原点検出装置及びステー
ジ位置検出器の第１乃至第４の問題点により、結果的に
ステージの位置及び移動距離が高精度に測定できず、正
確な露光等ができないという問題点があった。
【００３０】そこで、本発明は、上記の問題点を鑑みて
なされたもので、その第１の目的は、簡単な構成で、高
精度にステージ原点位置を決定することが可能なステー
ジ位置原点決定方法及び装置を提供することにある。
なされたもので、その第１の目的は、簡単な構成で、高
精度にステージ原点位置を決定することが可能なステー
ジ位置原点決定方法及び装置を提供することにある。
【００３１】第２の目的は、ステージ位置検出器の原点
に対応するステージ位置が変位した場合に、簡易な方法
で精度よくステージ位置検出器の原点に対応するステー
ジ位置を求めることが可能なステージ位置検出器原点決
定方法及び装置を提供することにある。
に対応するステージ位置が変位した場合に、簡易な方法
で精度よくステージ位置検出器の原点に対応するステー
ジ位置を求めることが可能なステージ位置検出器原点決
定方法及び装置を提供することにある。
【００３２】
【課題を解決するための手段】上記第１及び第２の問題
点を解決するために、請求項１に記載の発明は、一端
が、半導体ウェハ等の対象物（２４）を搭載するステー
ジ（１０、１１）に接続され、他端に光学式変位センサ
等の位置検出器（６、７）の検出光（Ｌ）の光軸を含む
ステージ（１０、１１）の移動方向に垂直な平面と検出
光（Ｌ）の光軸に垂直な平面との交線の一部を含み、光
軸と所定の角度をなす位置検出平面（Ａ）を有する位置
検出軸（８）に検出光（Ｌ）を照射して位置検出器
（６、７）と位置検出平面（Ａ）との距離を測定する距
離測定工程と、測定した距離が予め設定された基準距離
となるようにステージ（１０、１１）を移動する距離基
準ステージ移動工程と、測定した距離が予め設定された
基準距離となったときの位置検出軸（８）の位置に対応
するステージ（１０、１１）の位置をステージ（１０、
１１）の原点位置とするステージ原点位置決定工程と、
を有して構成される。
点を解決するために、請求項１に記載の発明は、一端
が、半導体ウェハ等の対象物（２４）を搭載するステー
ジ（１０、１１）に接続され、他端に光学式変位センサ
等の位置検出器（６、７）の検出光（Ｌ）の光軸を含む
ステージ（１０、１１）の移動方向に垂直な平面と検出
光（Ｌ）の光軸に垂直な平面との交線の一部を含み、光
軸と所定の角度をなす位置検出平面（Ａ）を有する位置
検出軸（８）に検出光（Ｌ）を照射して位置検出器
（６、７）と位置検出平面（Ａ）との距離を測定する距
離測定工程と、測定した距離が予め設定された基準距離
となるようにステージ（１０、１１）を移動する距離基
準ステージ移動工程と、測定した距離が予め設定された
基準距離となったときの位置検出軸（８）の位置に対応
するステージ（１０、１１）の位置をステージ（１０、
１１）の原点位置とするステージ原点位置決定工程と、
を有して構成される。
【００３３】請求項２に記載の発明は、上記第４の問題
点を解決するために、所定の仮原点位置において、半導
体ウェハ等の対象物（２４）を搭載するステージ（１
０、１１）の位置を検出するためのレーザ干渉計等のス
テージ位置検出器（１４、１５）をリセットする第１リ
セット工程と、仮原点位置を原点としてステージ（１
０、１１）上に設置された半導体ウェハ等の対象物（２
４）上に設けられた特定点（６０）の座標をステージ位
置検出器（１４、１５）により測定する座標測定工程
と、測定した特定点（６０）の座標から、予め記憶して
いた第１リセット工程以前の特定点（６０）のステージ
位置検出器（１４、１５）により測定した座標を差し引
くことにより差座標を求める減算工程と、ステージ位置
検出器（１４、１５）の指示値に基づいて前記差座標に
対応する位置に前記ステージ（１０、１１）を移動する
座標基準ステージ移動工程と、座標基準ステージ移動工
程終了後のステージ（１０、１１）の位置において、ス
テージ位置検出器（１４、１５）をリセットする第２リ
セット工程と、を有して構成される。
点を解決するために、所定の仮原点位置において、半導
体ウェハ等の対象物（２４）を搭載するステージ（１
０、１１）の位置を検出するためのレーザ干渉計等のス
テージ位置検出器（１４、１５）をリセットする第１リ
セット工程と、仮原点位置を原点としてステージ（１
０、１１）上に設置された半導体ウェハ等の対象物（２
４）上に設けられた特定点（６０）の座標をステージ位
置検出器（１４、１５）により測定する座標測定工程
と、測定した特定点（６０）の座標から、予め記憶して
いた第１リセット工程以前の特定点（６０）のステージ
位置検出器（１４、１５）により測定した座標を差し引
くことにより差座標を求める減算工程と、ステージ位置
検出器（１４、１５）の指示値に基づいて前記差座標に
対応する位置に前記ステージ（１０、１１）を移動する
座標基準ステージ移動工程と、座標基準ステージ移動工
程終了後のステージ（１０、１１）の位置において、ス
テージ位置検出器（１４、１５）をリセットする第２リ
セット工程と、を有して構成される。
【００３４】請求項３に記載の発明は、上記第４の問題
点を解決するために、請求項２に記載のステージ位置検
出器原点決定方法において、請求項１に記載のステージ
原点位置決定方法により決定されるステージ原点位置を
仮原点位置とするように構成される。
点を解決するために、請求項２に記載のステージ位置検
出器原点決定方法において、請求項１に記載のステージ
原点位置決定方法により決定されるステージ原点位置を
仮原点位置とするように構成される。
【００３５】請求項４に記載の発明は、上記第３の問題
点を解決するために、請求項１又は３に記載のステージ
原点位置決定方法又はステージ位置検出器原点決定方法
において、位置検出器（６、７）は、大気中に配置さ
れ、ステージ（１０、１１）及び位置検出軸（８）は真
空中に配置され、検出光（Ｌ）は検出窓（２５）を介し
て照射されるように構成される。
点を解決するために、請求項１又は３に記載のステージ
原点位置決定方法又はステージ位置検出器原点決定方法
において、位置検出器（６、７）は、大気中に配置さ
れ、ステージ（１０、１１）及び位置検出軸（８）は真
空中に配置され、検出光（Ｌ）は検出窓（２５）を介し
て照射されるように構成される。
【００３６】請求項５に記載の発明は、上記第１及び第
２の問題点を解決するために、一端が、半導体ウェハ等
の対象物（２４）を搭載するステージ（１０、１１）に
接続され、他端に光学式変位センサ等の位置検出器
（６、７）の検出光（Ｌ）の光軸を含むステージ（１
０、１１）の移動方向に垂直な平面と検出光（Ｌ）の光
軸に垂直な平面との交線の一部を含み光軸と所定の角度
をなす位置検出平面（Ａ）を有する位置検出軸（８）に
検出光（Ｌ）を照射し、位置検出器（６、７）と位置検
出平面（Ａ）との距離を測定する距離測定手段（１９）
と、測定した距離が予め設定された基準距離となるよう
にステージ（１０、１１）を移動する距離基準ステージ
移動手段（１２、１３、１９）と、測定した距離が予め
設定された基準距離となったときの位置検出軸（８）の
位置に対応するステージ（１０、１１）の位置をステー
ジ（１０、１１）のステージ原点位置とするステージ原
点位置決定手段（１９）と、を備えて構成される。
２の問題点を解決するために、一端が、半導体ウェハ等
の対象物（２４）を搭載するステージ（１０、１１）に
接続され、他端に光学式変位センサ等の位置検出器
（６、７）の検出光（Ｌ）の光軸を含むステージ（１
０、１１）の移動方向に垂直な平面と検出光（Ｌ）の光
軸に垂直な平面との交線の一部を含み光軸と所定の角度
をなす位置検出平面（Ａ）を有する位置検出軸（８）に
検出光（Ｌ）を照射し、位置検出器（６、７）と位置検
出平面（Ａ）との距離を測定する距離測定手段（１９）
と、測定した距離が予め設定された基準距離となるよう
にステージ（１０、１１）を移動する距離基準ステージ
移動手段（１２、１３、１９）と、測定した距離が予め
設定された基準距離となったときの位置検出軸（８）の
位置に対応するステージ（１０、１１）の位置をステー
ジ（１０、１１）のステージ原点位置とするステージ原
点位置決定手段（１９）と、を備えて構成される。
【００３７】請求項６に記載の発明は、上記第４の問題
点を解決するために、所定の仮原点位置において、半導
体ウェハ等の対象物（２４）を搭載するステージ（１
０、１１）の位置を検出するためのレーザ干渉計等のス
テージ位置検出器（１４、１５）をリセットする第１リ
セット（２０）手段と、仮原点位置を原点としてステー
ジ（１０、１１）上に設置された対象物（２４）上に設
けられた特定点（６０）の座標をステージ位置検出器
（１４、１５）により測定する座標測定手段（１９、２
０、２２）と、ステージ位置検出器（１４、１５）によ
り検出された第１リセット手段によるリセット以前の特
定点（６０）の座標を記憶する記憶手段（１９）と、座
標測定手段（２０、２２）により測定された特定点（６
０）の座標から、記憶していた第１リセット手段による
リセット以前の特定点（６０）の座標を差し引くことに
より差座標を求める減算手段（１９）と、ステージ位置
検出器（１４、１５）の指示値に基づいて、差座標に対
応する位置に前記ステージ（１０、１１）を移動する座
標基準ステージ移動手段（１２、１３、１９、２０）
と、座標基準ステージ移動手段（１２、１３、１９、２
０）による移動終了後のステージ（１０、１１）の位置
において、ステージ位置検出器（１４、１５）をリセッ
トする第２リセット手段（２０）と、を備えて構成され
る。
点を解決するために、所定の仮原点位置において、半導
体ウェハ等の対象物（２４）を搭載するステージ（１
０、１１）の位置を検出するためのレーザ干渉計等のス
テージ位置検出器（１４、１５）をリセットする第１リ
セット（２０）手段と、仮原点位置を原点としてステー
ジ（１０、１１）上に設置された対象物（２４）上に設
けられた特定点（６０）の座標をステージ位置検出器
（１４、１５）により測定する座標測定手段（１９、２
０、２２）と、ステージ位置検出器（１４、１５）によ
り検出された第１リセット手段によるリセット以前の特
定点（６０）の座標を記憶する記憶手段（１９）と、座
標測定手段（２０、２２）により測定された特定点（６
０）の座標から、記憶していた第１リセット手段による
リセット以前の特定点（６０）の座標を差し引くことに
より差座標を求める減算手段（１９）と、ステージ位置
検出器（１４、１５）の指示値に基づいて、差座標に対
応する位置に前記ステージ（１０、１１）を移動する座
標基準ステージ移動手段（１２、１３、１９、２０）
と、座標基準ステージ移動手段（１２、１３、１９、２
０）による移動終了後のステージ（１０、１１）の位置
において、ステージ位置検出器（１４、１５）をリセッ
トする第２リセット手段（２０）と、を備えて構成され
る。
【００３８】請求項７に記載の発明は、上記第４の問題
点を解決するために、請求項６に記載のステージ位置検
出器原点決定装置において、請求項５に記載のステージ
原点位置決定装置により決定されるステージ原点位置を
仮原点位置として構成される。
点を解決するために、請求項６に記載のステージ位置検
出器原点決定装置において、請求項５に記載のステージ
原点位置決定装置により決定されるステージ原点位置を
仮原点位置として構成される。
【００３９】請求項８に記載の発明は、上記第３の問題
点を解決するために、請求項５又は７に記載のステージ
原点位置決定装置又はステージ位置検出器原点決定装置
において、位置検出器（６、７）は、大気中に配置さ
れ、ステージ（１０、１１）及び位置検出軸（８）は真
空中に配置され、検出光（Ｌ）は検出窓（２５）を介し
て照射されるように構成される。
点を解決するために、請求項５又は７に記載のステージ
原点位置決定装置又はステージ位置検出器原点決定装置
において、位置検出器（６、７）は、大気中に配置さ
れ、ステージ（１０、１１）及び位置検出軸（８）は真
空中に配置され、検出光（Ｌ）は検出窓（２５）を介し
て照射されるように構成される。
【００４０】
【作用】請求項１に記載の発明によれば、距離測定工程
において、位置検出器（６、７）の検出光（Ｌ）が位置
検出平面（Ａ）に照射され、位置検出器（６、７）と位
置検出平面（Ａ）との距離が測定される。
において、位置検出器（６、７）の検出光（Ｌ）が位置
検出平面（Ａ）に照射され、位置検出器（６、７）と位
置検出平面（Ａ）との距離が測定される。
【００４１】距離基準ステージ移動工程において、測定
した距離が予め設定された基準距離となるようにステー
ジ（１０、１１）が移動される。ステージ原点位置決定
工程において、測定した距離が予め設定された基準距離
となったときの位置検出軸（８）の位置に対応するステ
ージ（１０、１１）の位置がステージ（１０、１１）の
原点位置とされる。
した距離が予め設定された基準距離となるようにステー
ジ（１０、１１）が移動される。ステージ原点位置決定
工程において、測定した距離が予め設定された基準距離
となったときの位置検出軸（８）の位置に対応するステ
ージ（１０、１１）の位置がステージ（１０、１１）の
原点位置とされる。
【００４２】よって、位置検出器（６、７）の出力信号
の波形が位置検出平面（Ａ）の傾きと同じ傾きを有する
波形となり、ステージ（１０、１１）の原点位置近傍で
良好な線形性を有するので、正確なステージ原点位置決
定が可能となる。
の波形が位置検出平面（Ａ）の傾きと同じ傾きを有する
波形となり、ステージ（１０、１１）の原点位置近傍で
良好な線形性を有するので、正確なステージ原点位置決
定が可能となる。
【００４３】請求項２に記載の発明によれば、第１リセ
ット工程において、所定の仮原点位置においてステージ
（１０、１１）の位置を検出するためのステージ位置検
出器（１４、１５）がリセットされる。
ット工程において、所定の仮原点位置においてステージ
（１０、１１）の位置を検出するためのステージ位置検
出器（１４、１５）がリセットされる。
【００４４】座標測定工程において、仮原点位置を原点
としてステージ（１０、１１）上に設置された対象物
（２４）上に設けられた特定点（６０）の座標がステー
ジ位置検出器（１４、１５）により測定される。
としてステージ（１０、１１）上に設置された対象物
（２４）上に設けられた特定点（６０）の座標がステー
ジ位置検出器（１４、１５）により測定される。
【００４５】減算工程において、測定した特定点（６
０）の座標から、予め記憶されていた第１リセット工程
以前の特定点（６０）のステージ位置検出器（１４、１
５）により測定した座標を差し引くことにより差座標が
求められる。
０）の座標から、予め記憶されていた第１リセット工程
以前の特定点（６０）のステージ位置検出器（１４、１
５）により測定した座標を差し引くことにより差座標が
求められる。
【００４６】座標基準ステージ移動工程において、ステ
ージ位置検出器（１４、１５）の指示値に基づいて差座
標に対応する位置に前記ステージ（１０、１１）が移動
される。
ージ位置検出器（１４、１５）の指示値に基づいて差座
標に対応する位置に前記ステージ（１０、１１）が移動
される。
【００４７】第２リセット工程において、座標基準ステ
ージ移動工程終了後のステージ（１０、１１）の位置に
おいて、ステージ位置検出器（１４、１５）がリセット
される。
ージ移動工程終了後のステージ（１０、１１）の位置に
おいて、ステージ位置検出器（１４、１５）がリセット
される。
【００４８】よって、予め記憶されていた第１リセット
工程以前の特定点（６０）のステージ位置検出器（１
４、１５）により測定された座標に基づいてステージ位
置検出器（１４、１５）がリセットされることにより、
ステージ位置検出器（１４、１５）の原点が再設定され
るので、常に同じステージ（１０、１１）の位置をステ
ージ位置検出器（１４、１５）の原点とすることができ
る。
工程以前の特定点（６０）のステージ位置検出器（１
４、１５）により測定された座標に基づいてステージ位
置検出器（１４、１５）がリセットされることにより、
ステージ位置検出器（１４、１５）の原点が再設定され
るので、常に同じステージ（１０、１１）の位置をステ
ージ位置検出器（１４、１５）の原点とすることができ
る。
【００４９】請求項３に記載の発明によれば、請求項１
に記載のステージ原点位置決定方法により決定されるス
テージ原点位置が仮原点位置とされる。よって、ステー
ジ位置検出器（１４、１５）がステージ原点位置付近で
リセットされた後、ステージ位置検出器（１４、１５）
の原点が決定されるので、広範囲にステージ（１０、１
１）を移動させる事なくステージ位置検出器（１４、１
５）の原点決定ができ、ステージ位置検出器（１４、１
５）の原点決定動作が簡略化される。
に記載のステージ原点位置決定方法により決定されるス
テージ原点位置が仮原点位置とされる。よって、ステー
ジ位置検出器（１４、１５）がステージ原点位置付近で
リセットされた後、ステージ位置検出器（１４、１５）
の原点が決定されるので、広範囲にステージ（１０、１
１）を移動させる事なくステージ位置検出器（１４、１
５）の原点決定ができ、ステージ位置検出器（１４、１
５）の原点決定動作が簡略化される。
【００５０】請求項５に記載の発明によれば、距離測定
手段（１９）は、位置検出器（６、７）の検出光（Ｌ）
を位置検出平面（Ａ）に照射し、位置検出器（６、７）
と位置検出平面（Ａ）との距離を測定する。
手段（１９）は、位置検出器（６、７）の検出光（Ｌ）
を位置検出平面（Ａ）に照射し、位置検出器（６、７）
と位置検出平面（Ａ）との距離を測定する。
【００５１】距離基準ステージ移動手段（１２、１３、
１９）は、測定した距離が予め設定された基準距離とな
るようにステージ（１０、１１）を移動する。ステージ
原点位置決定手段（１９）は、測定した距離が予め設定
された基準距離となったときの位置検出軸（８）の位置
に対応するステージ（１０、１１）の位置をステージ
（１０、１１）のステージ原点位置とする。
１９）は、測定した距離が予め設定された基準距離とな
るようにステージ（１０、１１）を移動する。ステージ
原点位置決定手段（１９）は、測定した距離が予め設定
された基準距離となったときの位置検出軸（８）の位置
に対応するステージ（１０、１１）の位置をステージ
（１０、１１）のステージ原点位置とする。
【００５２】よって、位置検出器（６、７）の出力信号
の波形が位置検出平面（Ａ）の傾きと同じ傾きを有する
波形となり、ステージ（１０、１１）の原点位置近傍で
良好な線形性を有するので、正確なステージ原点位置決
定が可能となる。
の波形が位置検出平面（Ａ）の傾きと同じ傾きを有する
波形となり、ステージ（１０、１１）の原点位置近傍で
良好な線形性を有するので、正確なステージ原点位置決
定が可能となる。
【００５３】請求項６に記載の発明によれば、第１リセ
ット手段（２０）は、所定の仮原点位置においてステー
ジ（１０、１１）の位置を検出するためのステージ位置
検出器（１４、１５）をリセットする。
ット手段（２０）は、所定の仮原点位置においてステー
ジ（１０、１１）の位置を検出するためのステージ位置
検出器（１４、１５）をリセットする。
【００５４】座標測定手段（１９、２０、２２）は、仮
原点位置を原点としてステージ（１０、１１）上に設置
された対象物（２４）上に設けられた特定点（６０）の
座標をステージ位置検出器（１４、１５）により測定す
る。
原点位置を原点としてステージ（１０、１１）上に設置
された対象物（２４）上に設けられた特定点（６０）の
座標をステージ位置検出器（１４、１５）により測定す
る。
【００５５】記憶手段（１９）は、ステージ位置検出器
（１４、１５）により検出された第１リセット手段によ
るリセット以前の特定点（６０）の座標を記憶する。減
算手段（１９）は、座標測定手段（２０、２２）により
測定された特定点（６０）の座標から、記憶していた第
１リセット手段によるリセット以前の特定点（６０）の
座標を差し引くことにより差座標を求める。
（１４、１５）により検出された第１リセット手段によ
るリセット以前の特定点（６０）の座標を記憶する。減
算手段（１９）は、座標測定手段（２０、２２）により
測定された特定点（６０）の座標から、記憶していた第
１リセット手段によるリセット以前の特定点（６０）の
座標を差し引くことにより差座標を求める。
【００５６】座標基準ステージ移動手段（１２、１３、
１９、２０）は、ステージ位置検出器（１４、１５）の
指示値に基づいて、差座標に対応する位置にステージ
（１０、１１）を移動する。
１９、２０）は、ステージ位置検出器（１４、１５）の
指示値に基づいて、差座標に対応する位置にステージ
（１０、１１）を移動する。
【００５７】第２リセット手段（２０）は、座標基準ス
テージ移動手段（１２、１３、１９、２０）による移動
終了後のステージ（１０、１１）の位置において、ステ
ージ位置検出器（１４、１５）をリセットする。
テージ移動手段（１２、１３、１９、２０）による移動
終了後のステージ（１０、１１）の位置において、ステ
ージ位置検出器（１４、１５）をリセットする。
【００５８】よって、記憶していた第１リセット手段に
よるリセット以前の特定点（６０）のステージ位置検出
器（１４、１５）により測定された座標に基づいてステ
ージ位置検出器（１４、１５）がリセットされることに
よりステージ位置検出器（１４、１５）の原点が再設定
されるので、常に同じステージ（１０、１１）の位置を
ステージ位置検出器（１４、１５）の原点とすることが
できる。
よるリセット以前の特定点（６０）のステージ位置検出
器（１４、１５）により測定された座標に基づいてステ
ージ位置検出器（１４、１５）がリセットされることに
よりステージ位置検出器（１４、１５）の原点が再設定
されるので、常に同じステージ（１０、１１）の位置を
ステージ位置検出器（１４、１５）の原点とすることが
できる。
【００５９】請求項７に記載の発明によれば、請求項５
に記載のステージ原点位置決定装置により決定されるス
テージ原点位置が仮原点位置とされる。よって、ステー
ジ位置検出器（１４、１５）がステージ（１０、１１）
の原点位置付近でリセットされた後、ステージ位置検出
器（１４、１５）の原点が決定されるので、広範囲にス
テージ（１０、１１）を移動させる事なくステージ位置
検出器（１４、１５）の原点決定ができ、ステージ位置
検出器（１４、１５）の原点決定動作が簡略化される。
に記載のステージ原点位置決定装置により決定されるス
テージ原点位置が仮原点位置とされる。よって、ステー
ジ位置検出器（１４、１５）がステージ（１０、１１）
の原点位置付近でリセットされた後、ステージ位置検出
器（１４、１５）の原点が決定されるので、広範囲にス
テージ（１０、１１）を移動させる事なくステージ位置
検出器（１４、１５）の原点決定ができ、ステージ位置
検出器（１４、１５）の原点決定動作が簡略化される。
【００６０】請求項４又は８に記載の発明によれば、位
置検出器（６、７）が、大気中に配置され、ステージ
（１０、１１）及び位置検出軸（８）が真空中に配置さ
れ、検出光（Ｌ）が検出窓（２５）を介して照射され
る。
置検出器（６、７）が、大気中に配置され、ステージ
（１０、１１）及び位置検出軸（８）が真空中に配置さ
れ、検出光（Ｌ）が検出窓（２５）を介して照射され
る。
【００６１】よって、対象物（２４）が配置されている
試料室（１）内の真空度を落とすこと無く位置検出器
（６、７）の調整整備が可能となる。
試料室（１）内の真空度を落とすこと無く位置検出器
（６、７）の調整整備が可能となる。
【００６２】
【実施例】次に本発明に好適な実施例について図１乃至
図８を用いて説明する。以下の実施例は、本発明を、半
導体ウェハ上に半導体集積回路等を製作する際に、当該
半導体ウェハを固定し、移動しつつ電子ビーム露光を行
うためのＸＹステージを含む電子ビーム露光装置に適用
したものである。 （Ｉ）本発明の実施例に係わる装置の全体構成 はじめに、本発明に係わる電子ビーム露光装置の全体構
成について、図１を用いて説明する。
図８を用いて説明する。以下の実施例は、本発明を、半
導体ウェハ上に半導体集積回路等を製作する際に、当該
半導体ウェハを固定し、移動しつつ電子ビーム露光を行
うためのＸＹステージを含む電子ビーム露光装置に適用
したものである。 （Ｉ）本発明の実施例に係わる装置の全体構成 はじめに、本発明に係わる電子ビーム露光装置の全体構
成について、図１を用いて説明する。
【００６３】図１に示すように、本発明に係わる電子ビ
ーム露光装置は、半導体ウェハ２４を搭載するＸステー
ジ１０及びＹステージ１１等を含む真空チャンバ１と、
Ｘステージ１０を移動させるためのＸ軸ＤＣモータ１２
を含むＸ軸アクチュエータ２と、Ｘステージ１０の原点
位置を検出するための光学式Ｘ軸変位センサ６を含むＸ
軸原点位置検出部４と、Ｙステージ１１を移動させるた
めの光学式Ｙ軸ＤＣモータ１３を含むＹ軸アクチュエー
タ３と、Ｙステージ１１の原点位置を検出するためのＹ
軸変位センサ７を含むＹ軸原点位置検出部５と、移動に
伴うＸステージ１０の位置を検出するＸ軸レーザ干渉計
１４と、Ｘ軸レーザ干渉計１４用レーザを発振するレー
ザ発振器及び反射されたレーザ光を検出する検出器並び
にそれらを制御する制御器等からなるＸ軸レーザ干渉計
制御部１４ａと、移動に伴うＹステージ１１の位置を検
出するＹ軸レーザ干渉計１５と、Ｙ軸レーザ干渉計１５
用レーザを発振するレーザ発振器及び反射されたレーザ
光を検出する検出器並びにそれらを制御する制御器等か
らなるＹ軸レーザ干渉計制御部１５ａと、Ｘ軸変位セン
サ６及びＹ軸変位センサ７により検出したＸステージ１
０及びＹステージ１１の原点位置並びにＸ軸レーザ干渉
計１４及びＹ軸レーザ干渉計１５により検出したＸステ
ージ１０及びＹステージ１１の位置に基づいてＸステー
ジ１０及びＹステージ１１を所定の位置に移動するため
に装置全体の制御を行うステージ駆動制御部１９と、Ｘ
軸レーザ干渉計制御部１４ａ及びＹ軸レーザ干渉計制御
部１５ａを介してＸ軸レーザ干渉計１４及びＹ軸レーザ
干渉計１５をリセットするためのリセット手段及びＸス
テージ１０及びＹステージ１１を手動移動するためのジ
ョイスティック等の移動手段を備えた操作部２０と、電
子ビーム露光のための電子ビーム１８を出射する電子ビ
ーム出射部２１と、半導体ウェハ２４により反射された
電子ビーム１８を検出し電子ビーム１８が照射された付
近の半導体ウェハ２４の表面の状態を映像化する走査電
子顕微鏡（以下、ＳＥＭ(Scanning Electron Microscop
e)という。）２２と、ＳＥＭの表示部２３と、により構
成されている。
ーム露光装置は、半導体ウェハ２４を搭載するＸステー
ジ１０及びＹステージ１１等を含む真空チャンバ１と、
Ｘステージ１０を移動させるためのＸ軸ＤＣモータ１２
を含むＸ軸アクチュエータ２と、Ｘステージ１０の原点
位置を検出するための光学式Ｘ軸変位センサ６を含むＸ
軸原点位置検出部４と、Ｙステージ１１を移動させるた
めの光学式Ｙ軸ＤＣモータ１３を含むＹ軸アクチュエー
タ３と、Ｙステージ１１の原点位置を検出するためのＹ
軸変位センサ７を含むＹ軸原点位置検出部５と、移動に
伴うＸステージ１０の位置を検出するＸ軸レーザ干渉計
１４と、Ｘ軸レーザ干渉計１４用レーザを発振するレー
ザ発振器及び反射されたレーザ光を検出する検出器並び
にそれらを制御する制御器等からなるＸ軸レーザ干渉計
制御部１４ａと、移動に伴うＹステージ１１の位置を検
出するＹ軸レーザ干渉計１５と、Ｙ軸レーザ干渉計１５
用レーザを発振するレーザ発振器及び反射されたレーザ
光を検出する検出器並びにそれらを制御する制御器等か
らなるＹ軸レーザ干渉計制御部１５ａと、Ｘ軸変位セン
サ６及びＹ軸変位センサ７により検出したＸステージ１
０及びＹステージ１１の原点位置並びにＸ軸レーザ干渉
計１４及びＹ軸レーザ干渉計１５により検出したＸステ
ージ１０及びＹステージ１１の位置に基づいてＸステー
ジ１０及びＹステージ１１を所定の位置に移動するため
に装置全体の制御を行うステージ駆動制御部１９と、Ｘ
軸レーザ干渉計制御部１４ａ及びＹ軸レーザ干渉計制御
部１５ａを介してＸ軸レーザ干渉計１４及びＹ軸レーザ
干渉計１５をリセットするためのリセット手段及びＸス
テージ１０及びＹステージ１１を手動移動するためのジ
ョイスティック等の移動手段を備えた操作部２０と、電
子ビーム露光のための電子ビーム１８を出射する電子ビ
ーム出射部２１と、半導体ウェハ２４により反射された
電子ビーム１８を検出し電子ビーム１８が照射された付
近の半導体ウェハ２４の表面の状態を映像化する走査電
子顕微鏡（以下、ＳＥＭ(Scanning Electron Microscop
e)という。）２２と、ＳＥＭの表示部２３と、により構
成されている。
【００６４】真空チャンバ１に含まれるＸステージ１０
は、Ｘステージ１０の位置を検出するＸ軸レーザ干渉計
１４のレーザ光を反射するための、Ｘステージ１０とと
もに移動するＸ軸ミラー１６を備えている。また、Ｙ軸
ステージ１１も同様に、Ｙ軸軸レーザ干渉計１５のレー
ザ光を反射するためのＹ軸ミラー１７を備えている。
は、Ｘステージ１０の位置を検出するＸ軸レーザ干渉計
１４のレーザ光を反射するための、Ｘステージ１０とと
もに移動するＸ軸ミラー１６を備えている。また、Ｙ軸
ステージ１１も同様に、Ｙ軸軸レーザ干渉計１５のレー
ザ光を反射するためのＹ軸ミラー１７を備えている。
【００６５】Ｘ軸レーザ干渉計１４は、Ｘ軸ミラー１６
により反射されたレーザ光を検出することによりＸ軸レ
ーザ干渉計１４からＸ軸ミラー１６までの距離を測定
し、それに基づいて、Ｘステージ１０の位置を検出し、
Ｘ軸レーザ干渉計制御部１４ａを介してステージ駆動制
御部１９に出力する。また、Ｙ軸レーザ干渉計１５につ
いても同様にして、Ｙ軸ミラー１７により反射されたレ
ーザ光を検出することによりＹステージ１１の位置を検
出し、Ｙ軸レーザ干渉計制御部１５ａを介してステージ
駆動制御部１９に出力する。
により反射されたレーザ光を検出することによりＸ軸レ
ーザ干渉計１４からＸ軸ミラー１６までの距離を測定
し、それに基づいて、Ｘステージ１０の位置を検出し、
Ｘ軸レーザ干渉計制御部１４ａを介してステージ駆動制
御部１９に出力する。また、Ｙ軸レーザ干渉計１５につ
いても同様にして、Ｙ軸ミラー１７により反射されたレ
ーザ光を検出することによりＹステージ１１の位置を検
出し、Ｙ軸レーザ干渉計制御部１５ａを介してステージ
駆動制御部１９に出力する。
【００６６】レーザ干渉計については従来技術のものが
使用されるので、細部の説明は省略する。また、半導体
ウェハ２４上には、所定の位置に、特定点６０として特
定のパターン（例えば、「＋」のパターン）が予め形成
されている。 （II）第１実施例 次に、請求項１、３、４、５、７、８に記載の発明に対
応する第１の実施例について図２乃至図６を用いて説明
する。
使用されるので、細部の説明は省略する。また、半導体
ウェハ２４上には、所定の位置に、特定点６０として特
定のパターン（例えば、「＋」のパターン）が予め形成
されている。 （II）第１実施例 次に、請求項１、３、４、５、７、８に記載の発明に対
応する第１の実施例について図２乃至図６を用いて説明
する。
【００６７】なお、以下の説明においては、Ｘステージ
についてのみ述べるが、Ｙステージに関しても全く同様
であるので、Ｙステージに関しての細部の説明は省略す
る。はじめに、第１実施例に係わる原点位置検出部につ
いて図２を用いて説明する。
についてのみ述べるが、Ｙステージに関しても全く同様
であるので、Ｙステージに関しての細部の説明は省略す
る。はじめに、第１実施例に係わる原点位置検出部につ
いて図２を用いて説明する。
【００６８】図２は、図１におけるＸ軸原点位置検出部
４の断面図を示しており、図１におけるＹ軸原点位置検
出部５も同様の構成となっている。図２に示すように、
Ｘ軸原点位置検出部４は、一端が図示しないＸステージ
１０に接続され、他端が後述の光学式Ｘ軸変位センサ６
の検出光Ｌの光軸を含むＸステージ１０の移動方向に垂
直な平面と検出光Ｌの光軸に垂直な平面との交線の一部
を含み、検出光Ｌの光軸と所定の角度をなす位置検出平
面ＡとなっているＸ軸位置検出軸８と、Ｘ軸位置検出軸
８を支持するＸ軸位置検出軸支持板９と、検出光Ｌを出
射して位置検出平面Ａまでの距離を測定し、距離信号Ｓ
を出力する光学式Ｘ軸変位センサ６と、光学式Ｘ軸変位
センサ６の検出光Ｌが通過する透明な検出窓２５により
構成されている。さらに、Ｘ軸原点位置検出部４の内部
は、真空チャンバ１と同じ真空度となっており、光学式
Ｘ軸変位センサ６のみが大気中に設置されている。
４の断面図を示しており、図１におけるＹ軸原点位置検
出部５も同様の構成となっている。図２に示すように、
Ｘ軸原点位置検出部４は、一端が図示しないＸステージ
１０に接続され、他端が後述の光学式Ｘ軸変位センサ６
の検出光Ｌの光軸を含むＸステージ１０の移動方向に垂
直な平面と検出光Ｌの光軸に垂直な平面との交線の一部
を含み、検出光Ｌの光軸と所定の角度をなす位置検出平
面ＡとなっているＸ軸位置検出軸８と、Ｘ軸位置検出軸
８を支持するＸ軸位置検出軸支持板９と、検出光Ｌを出
射して位置検出平面Ａまでの距離を測定し、距離信号Ｓ
を出力する光学式Ｘ軸変位センサ６と、光学式Ｘ軸変位
センサ６の検出光Ｌが通過する透明な検出窓２５により
構成されている。さらに、Ｘ軸原点位置検出部４の内部
は、真空チャンバ１と同じ真空度となっており、光学式
Ｘ軸変位センサ６のみが大気中に設置されている。
【００６９】図２において、Ｘ軸位置検出軸８は、Ｘ軸
ＤＣモータ１２により駆動されるＸステージ１０の移動
に伴い、図中水平方向を左右に移動する。これにより、
検出光Ｌは、検出光Ｌに対して所定の角度をなす斜平面
である位置検出面Ａ上を移動することとなる。したがっ
て、Ｘステージ１０の移動する距離に対応して位置検出
面ＡからＸ軸変位センサ６までの距離が線形に変化する
こととなり、Ｘステージ１０の移動する距離に対応した
距離信号Ｓが得られる。
ＤＣモータ１２により駆動されるＸステージ１０の移動
に伴い、図中水平方向を左右に移動する。これにより、
検出光Ｌは、検出光Ｌに対して所定の角度をなす斜平面
である位置検出面Ａ上を移動することとなる。したがっ
て、Ｘステージ１０の移動する距離に対応して位置検出
面ＡからＸ軸変位センサ６までの距離が線形に変化する
こととなり、Ｘステージ１０の移動する距離に対応した
距離信号Ｓが得られる。
【００７０】このＸ軸位置検出軸８の動作について図３
及び図４を用いて詳説する。図３において、図３（ａ）
は、位置検出面Ａの斜面上に検出光Ｌが照射されている
状態を示している。この場合には、Ｘ軸位置検出軸８の
移動にともない、検出光Ｌにより測定される距離が変化
し、Ｘ軸位置検出軸８の移動に対応した距離信号Ｓa が
得られることとなる。ここで、符号ＰはＸステージ１０
が原点位置にあるときに検出光Ｌが照射される点であ
り、点Ｐの位置に検出光Ｌが照射されているときの測定
長Ｒp は予め設定されている。
及び図４を用いて詳説する。図３において、図３（ａ）
は、位置検出面Ａの斜面上に検出光Ｌが照射されている
状態を示している。この場合には、Ｘ軸位置検出軸８の
移動にともない、検出光Ｌにより測定される距離が変化
し、Ｘ軸位置検出軸８の移動に対応した距離信号Ｓa が
得られることとなる。ここで、符号ＰはＸステージ１０
が原点位置にあるときに検出光Ｌが照射される点であ
り、点Ｐの位置に検出光Ｌが照射されているときの測定
長Ｒp は予め設定されている。
【００７１】Ｘ軸位置検出軸８が、図３（ａ）に示す位
置からＸステージ１０の移動にともない図中右方向に移
動を継続すると、図３（ｂ）に示すＸ軸位置検出軸８の
上面に検出光Ｌが照射されることとなる。この場合に
は、Ｘ軸位置検出軸８の上面が平面であるため、Ｘ軸位
置検出軸８と光学式Ｘ軸変位センサ６の距離は一定とな
り、一定の値の距離信号Ｓb が出力されることとなる。
置からＸステージ１０の移動にともない図中右方向に移
動を継続すると、図３（ｂ）に示すＸ軸位置検出軸８の
上面に検出光Ｌが照射されることとなる。この場合に
は、Ｘ軸位置検出軸８の上面が平面であるため、Ｘ軸位
置検出軸８と光学式Ｘ軸変位センサ６の距離は一定とな
り、一定の値の距離信号Ｓb が出力されることとなる。
【００７２】Ｘ軸位置検出軸８が、図３（ａ）に示す位
置からＸステージ１０の移動にともない図中左方向に移
動すると、図３（ｃ）に示すＸ軸位置検出軸支持板９の
上面に検出光Ｌが照射されることとなる。この場合に
は、Ｘ軸位置検出軸支持板９の上面が平面であるため、
Ｘ軸位置検出軸支持板９と光学式Ｘ軸変位センサ６の距
離は一定となり、一定の値の距離信号Ｓc が出力される
こととなる。
置からＸステージ１０の移動にともない図中左方向に移
動すると、図３（ｃ）に示すＸ軸位置検出軸支持板９の
上面に検出光Ｌが照射されることとなる。この場合に
は、Ｘ軸位置検出軸支持板９の上面が平面であるため、
Ｘ軸位置検出軸支持板９と光学式Ｘ軸変位センサ６の距
離は一定となり、一定の値の距離信号Ｓc が出力される
こととなる。
【００７３】以上の距離信号Ｓa 乃至Ｓc とＸ軸位置検
出軸８の移動距離との関係をグラフ化したものを図４に
示す。図４においては、検出光Ｌが図３に示す点Ｐに照
射されているときのＸ軸位置検出軸８の位置を原点と
し、Ｘ軸位置検出軸８が右方向に移動した場合の位置を
ｘの正方向としている。また、距離信号Ｓは、測定長Ｒ
P に対応する距離信号Ｓp を原点とし、それより短い測
定長に対応する距離信号Ｓを負、長い測定長に対応する
距離信号Ｓを正としている。
出軸８の移動距離との関係をグラフ化したものを図４に
示す。図４においては、検出光Ｌが図３に示す点Ｐに照
射されているときのＸ軸位置検出軸８の位置を原点と
し、Ｘ軸位置検出軸８が右方向に移動した場合の位置を
ｘの正方向としている。また、距離信号Ｓは、測定長Ｒ
P に対応する距離信号Ｓp を原点とし、それより短い測
定長に対応する距離信号Ｓを負、長い測定長に対応する
距離信号Ｓを正としている。
【００７４】図４に示すように、検出光Ｌが位置検出面
Ａに照射されている間の距離信号Ｓa は、位置検出平面
Ａが検出光Ｌ及びＸ軸位置検出軸８の移動方向に対して
斜面をなす平面であるため、単調減少の直線となってお
り、この部分のグラフの傾きは、位置検出平面Ａと検出
光Ｌのなす角度により決まる。
Ａに照射されている間の距離信号Ｓa は、位置検出平面
Ａが検出光Ｌ及びＸ軸位置検出軸８の移動方向に対して
斜面をなす平面であるため、単調減少の直線となってお
り、この部分のグラフの傾きは、位置検出平面Ａと検出
光Ｌのなす角度により決まる。
【００７５】また、検出光Ｌが位置検出面Ａ以外の面に
照射されてている間の距離信号Ｓb及びＳc は検出距離
が一定であるため、その間の距離信号Ｓb 及びＳc の値
は変化していない。
照射されてている間の距離信号Ｓb及びＳc は検出距離
が一定であるため、その間の距離信号Ｓb 及びＳc の値
は変化していない。
【００７６】以上のＸ軸原点位置検出部４の動作によれ
ば、図４よりわかるように、Ｘステージ１０の原点位置
付近で線形性のよい距離信号Ｓが得られることとなる。
次に、本実施例におけるステージ原点位置の決定につい
て図５及び図６を用いて説明する。
ば、図４よりわかるように、Ｘステージ１０の原点位置
付近で線形性のよい距離信号Ｓが得られることとなる。
次に、本実施例におけるステージ原点位置の決定につい
て図５及び図６を用いて説明する。
【００７７】図５は、本実施例におけるステージ原点位
置の決定に関するフローチャートを示している。図５に
示す処理は、主としてステージ駆動制御部１９に含まれ
るＣＰＵ等により実行される。
置の決定に関するフローチャートを示している。図５に
示す処理は、主としてステージ駆動制御部１９に含まれ
るＣＰＵ等により実行される。
【００７８】図５に示すように、はじめにステップＳ１
において、Ｘステージが所定の範囲内にあるか否かが判
定される。この判定は、上述の距離信号Ｓが所定の上限
値Ｓ u 及び下限値ＳL で決定される所定の範囲内である
かを判定することによりなされる。この判定を行うため
の回路の詳細については後述する。ステップＳ１におい
て、所定の範囲内であった場合には（ステップＳ１；Ｙ
ＥＳ）、次にＸステージ１０を原点位置に移動するため
のＸ軸ＤＣモータ１２への出力信号の出力値が計算され
（ステップＳ２）、その結果がＸ軸ＤＣモータ１２へ出
力される。この計算は、現在のＸステージ１０の位置
（位置検出軸８の位置）に対応する距離信号Ｓと、Ｘス
テージが原点にあった場合の検出光Ｌの測定距離Ｒp に
対応する距離信号ＳP との差に基づいて、比例積分微分
制御（以下、ＰＩＤ(Proportional plus Integral plus
Derivative)制御という。）により実行される。ＰＩＤ
制御によれば、半導体集積回路の製作に適した高い精度
の原点位置決定が可能である。
において、Ｘステージが所定の範囲内にあるか否かが判
定される。この判定は、上述の距離信号Ｓが所定の上限
値Ｓ u 及び下限値ＳL で決定される所定の範囲内である
かを判定することによりなされる。この判定を行うため
の回路の詳細については後述する。ステップＳ１におい
て、所定の範囲内であった場合には（ステップＳ１；Ｙ
ＥＳ）、次にＸステージ１０を原点位置に移動するため
のＸ軸ＤＣモータ１２への出力信号の出力値が計算され
（ステップＳ２）、その結果がＸ軸ＤＣモータ１２へ出
力される。この計算は、現在のＸステージ１０の位置
（位置検出軸８の位置）に対応する距離信号Ｓと、Ｘス
テージが原点にあった場合の検出光Ｌの測定距離Ｒp に
対応する距離信号ＳP との差に基づいて、比例積分微分
制御（以下、ＰＩＤ(Proportional plus Integral plus
Derivative)制御という。）により実行される。ＰＩＤ
制御によれば、半導体集積回路の製作に適した高い精度
の原点位置決定が可能である。
【００７９】次に、ステップＳ３において、Ｘステージ
１０の位置が原点位置になったか否かが判定される。こ
の判定は、現在のＸステージ１０の位置（位置検出軸８
の位置）に対応する距離信号Ｓと距離信号Ｓp とが等し
いか否かを判定することにより実行される。
１０の位置が原点位置になったか否かが判定される。こ
の判定は、現在のＸステージ１０の位置（位置検出軸８
の位置）に対応する距離信号Ｓと距離信号Ｓp とが等し
いか否かを判定することにより実行される。
【００８０】Ｘステージ１０の位置が原点位置でない場
合には（ステップＳ３；ＮＯ）、再度原点位置決定を実
行すべくステップＳ１に戻る。原点位置であった場合に
は（ステップＳ３；ＹＥＳ）、処理を終了する。
合には（ステップＳ３；ＮＯ）、再度原点位置決定を実
行すべくステップＳ１に戻る。原点位置であった場合に
は（ステップＳ３；ＹＥＳ）、処理を終了する。
【００８１】ステップＳ１において、所定の範囲内にな
かった場合には（ステップＳ１；ＮＯ）、Ｘステージ１
０を移動すべくＸ軸ＤＣモータ１２に出力する出力値が
計算される（ステップＳ４）。ステップＳ４において、
Ｕはモータへの出力値を示し、ｋはＤＣモータの特性等
により決定される所定のゲインを示し、ｅは現在のＸス
テージ１０の位置（位置検出軸８の位置）に対応する距
離信号Ｓと距離信号Ｓ p との差に基づき算出した原点位
置からのずれ量である。
かった場合には（ステップＳ１；ＮＯ）、Ｘステージ１
０を移動すべくＸ軸ＤＣモータ１２に出力する出力値が
計算される（ステップＳ４）。ステップＳ４において、
Ｕはモータへの出力値を示し、ｋはＤＣモータの特性等
により決定される所定のゲインを示し、ｅは現在のＸス
テージ１０の位置（位置検出軸８の位置）に対応する距
離信号Ｓと距離信号Ｓ p との差に基づき算出した原点位
置からのずれ量である。
【００８２】Ｘ軸ＤＣモータ１２への出力値Ｕが計算さ
れたならば、次にＸステージの位置がマイナス位置、す
なわち、距離信号Ｓの所定の上限値Ｓu より高い距離信
号Ｓに対応する位置（例えば、図３（ｃ）に示す位置）
であるか否かが判定される（ステップＳ５）。この判定
は、図４に示す距離信号Ｓの正負を判定することにより
実行される。
れたならば、次にＸステージの位置がマイナス位置、す
なわち、距離信号Ｓの所定の上限値Ｓu より高い距離信
号Ｓに対応する位置（例えば、図３（ｃ）に示す位置）
であるか否かが判定される（ステップＳ５）。この判定
は、図４に示す距離信号Ｓの正負を判定することにより
実行される。
【００８３】Ｘステージ１０の位置がマイナス位置の時
は（ステップＳ５；ＹＥＳ）、Ｘステージ１０を正方向
に移動するべくステップＳ４において算出されたＸ軸Ｄ
Ｃモータ１２への出力値Ｕの符号が反転されたのち（ス
テップＳ６）、Ｘ軸ＤＣモータ１２へ出力される（ステ
ップＳ７）。
は（ステップＳ５；ＹＥＳ）、Ｘステージ１０を正方向
に移動するべくステップＳ４において算出されたＸ軸Ｄ
Ｃモータ１２への出力値Ｕの符号が反転されたのち（ス
テップＳ６）、Ｘ軸ＤＣモータ１２へ出力される（ステ
ップＳ７）。
【００８４】Ｘステージ１０の位置がマイナス位置でな
かった場合には（ステップＳ５；ＮＯ）、Ｘステージを
負方向に移動するべくステップＳ４において算出された
Ｘ軸ＤＣモータ１２への出力値ＵがそのままＸ軸ＤＣモ
ータ１２へ出力される（ステップＳ７）。その後、再度
原点位置決定を実行すべくステップＳ１に戻る。
かった場合には（ステップＳ５；ＮＯ）、Ｘステージを
負方向に移動するべくステップＳ４において算出された
Ｘ軸ＤＣモータ１２への出力値ＵがそのままＸ軸ＤＣモ
ータ１２へ出力される（ステップＳ７）。その後、再度
原点位置決定を実行すべくステップＳ１に戻る。
【００８５】次に、ステップＳ１においてＸステージ１
０が所定の範囲内にあるか否かを判定するためのＸ軸位
置検出軸８の位置検出回路について、図６を用いて説明
する。
０が所定の範囲内にあるか否かを判定するためのＸ軸位
置検出軸８の位置検出回路について、図６を用いて説明
する。
【００８６】図６に示すように、位置検出回路Ｃは、距
離信号Ｓを増幅するためのアンプ３０と、増幅された信
号をＡ／Ｄ変換するためのＡ／Ｄ変換器３１と、Ａ／Ｄ
変換されたディジタル信号をサンプリングするための論
理回路３２及びレジスタ３３と、回路全体を制御するＣ
ＰＵ３４と、距離信号Ｓの上限値Ｓu 及び下限値ＳLを
設定するための上限値設定器３７及び下限値設定器３８
と、上限値Ｓu と距離信号Ｓを比較する比較器３５と、
下限値ＳL と距離信号Ｓを比較する比較器３６と、比較
器３５及び３６の出力に基づいて、距離信号Ｓの値が上
限値Ｓu 以上であることを示す信号Ｓ+ 及び距離信号Ｓ
の値が下限値ＳL 以下であることを示す信号Ｓ- 並びに
距離信号Ｓが上限値Ｓu と下限値ＳL との間であること
を示す信号Ｓ0 を出力する論理回路３９により構成され
ている。これらの回路は、ステージ駆動制御部１９内に
含まれている。
離信号Ｓを増幅するためのアンプ３０と、増幅された信
号をＡ／Ｄ変換するためのＡ／Ｄ変換器３１と、Ａ／Ｄ
変換されたディジタル信号をサンプリングするための論
理回路３２及びレジスタ３３と、回路全体を制御するＣ
ＰＵ３４と、距離信号Ｓの上限値Ｓu 及び下限値ＳLを
設定するための上限値設定器３７及び下限値設定器３８
と、上限値Ｓu と距離信号Ｓを比較する比較器３５と、
下限値ＳL と距離信号Ｓを比較する比較器３６と、比較
器３５及び３６の出力に基づいて、距離信号Ｓの値が上
限値Ｓu 以上であることを示す信号Ｓ+ 及び距離信号Ｓ
の値が下限値ＳL 以下であることを示す信号Ｓ- 並びに
距離信号Ｓが上限値Ｓu と下限値ＳL との間であること
を示す信号Ｓ0 を出力する論理回路３９により構成され
ている。これらの回路は、ステージ駆動制御部１９内に
含まれている。
【００８７】ステップＳ１においては、位置検出回路Ｃ
の出力信号が信号Ｓ+ 又は信号Ｓ-である場合には、Ｘ
ステージ１０が所定の範囲内にない（ステップＳ１；Ｎ
Ｏ）とされ、位置検出回路Ｃの出力信号が信号Ｓ0 であ
る場合には、Ｘステージ１０が所定の範囲内にある（ス
テップＳ１；ＹＥＳ）とされる。
の出力信号が信号Ｓ+ 又は信号Ｓ-である場合には、Ｘ
ステージ１０が所定の範囲内にない（ステップＳ１；Ｎ
Ｏ）とされ、位置検出回路Ｃの出力信号が信号Ｓ0 であ
る場合には、Ｘステージ１０が所定の範囲内にある（ス
テップＳ１；ＹＥＳ）とされる。
【００８８】以上の第１実施例によれば、Ｘステージ１
０の移動に対応して、その原点付近で良好な線形性を示
す距離信号Ｓa が得られ、これに基づいてＰＩＤ制御に
より高い精度でＸステージ１０の原点位置を決定するこ
とができる。
０の移動に対応して、その原点付近で良好な線形性を示
す距離信号Ｓa が得られ、これに基づいてＰＩＤ制御に
より高い精度でＸステージ１０の原点位置を決定するこ
とができる。
【００８９】さらに、変位センサ６及び７が大気中に配
置されているので、真空チャンバ１内の真空度を落とす
こと無く変位センサ６及び７の調整整備が可能である。 （III ）第２実施例 次に、請求項２、３、６、７に記載の発明に対応する第
２の実施例について図７及び図８を用いて説明する。
置されているので、真空チャンバ１内の真空度を落とす
こと無く変位センサ６及び７の調整整備が可能である。 （III ）第２実施例 次に、請求項２、３、６、７に記載の発明に対応する第
２の実施例について図７及び図８を用いて説明する。
【００９０】本実施例は、請求項２、３、６、７に記載
の発明を、図１に示すレーザ干渉計１４及び１５の原点
に対応するステージ１０及び１１の位置決定に適用した
例である。
の発明を、図１に示すレーザ干渉計１４及び１５の原点
に対応するステージ１０及び１１の位置決定に適用した
例である。
【００９１】本実施例においては、初期設定時（例え
ば、半導体ウェハ２４のステージ上への設置時）におけ
るＸステージ１０及びＹステージ１１の原点位置におい
てレーザ干渉計１４及び１５をリセットすることにより
決定したレーザ干渉計１４及び１５の原点が、その後に
Ｘステージ１０又はＹステージ１１がレーザ干渉計１４
又は１５の許容範囲を越える加速度で移動した場合や、
レーザ干渉計の光路を障害物が遮蔽した場合に生じるレ
ーザエラーによりずれた（指示値に誤差が含まれた）場
合であっても、半導体ウェハ上に設定した特定点を基準
として、元のＸステージ１０及びＹステージ１１の原点
位置に対応するレーザ干渉計１４及び１５の原点に復帰
される。
ば、半導体ウェハ２４のステージ上への設置時）におけ
るＸステージ１０及びＹステージ１１の原点位置におい
てレーザ干渉計１４及び１５をリセットすることにより
決定したレーザ干渉計１４及び１５の原点が、その後に
Ｘステージ１０又はＹステージ１１がレーザ干渉計１４
又は１５の許容範囲を越える加速度で移動した場合や、
レーザ干渉計の光路を障害物が遮蔽した場合に生じるレ
ーザエラーによりずれた（指示値に誤差が含まれた）場
合であっても、半導体ウェハ上に設定した特定点を基準
として、元のＸステージ１０及びＹステージ１１の原点
位置に対応するレーザ干渉計１４及び１５の原点に復帰
される。
【００９２】以下の説明において、図７はレーザ干渉計
１４及び１５の原点決定のための処理の流れを示すフロ
ーチャートであり、図８は、図７に示すフローチャート
に基づく実際のＸステージ１０及びＹステージ１１の動
作及び対応するレーザ干渉計１４及び１５の指示値の変
化を示している。また、図８における座標軸は、初期設
定時において決定したレーザ干渉計１４及び１５の原点
Ｏを基準としている。さらに、図８においては、特定点
６０は初期設定時にレーザ干渉計１４及び１５により測
定した位置が指示値（１０００、１０００）の位置にあ
るものとする。この位置における指示値は、ＳＥＭ２２
の出力に基づいて、特定点６０が表示部２３のＳＥＭ画
面の中心位置に位置するようにＸステージ１０及びＹス
テージ１１を駆動し、その時のレーザ干渉計１４及び１
５の指示を読むことにより得られ、ステージ駆動制御部
１９に含まれる記憶手段である記憶部に記憶されてい
る。
１４及び１５の原点決定のための処理の流れを示すフロ
ーチャートであり、図８は、図７に示すフローチャート
に基づく実際のＸステージ１０及びＹステージ１１の動
作及び対応するレーザ干渉計１４及び１５の指示値の変
化を示している。また、図８における座標軸は、初期設
定時において決定したレーザ干渉計１４及び１５の原点
Ｏを基準としている。さらに、図８においては、特定点
６０は初期設定時にレーザ干渉計１４及び１５により測
定した位置が指示値（１０００、１０００）の位置にあ
るものとする。この位置における指示値は、ＳＥＭ２２
の出力に基づいて、特定点６０が表示部２３のＳＥＭ画
面の中心位置に位置するようにＸステージ１０及びＹス
テージ１１を駆動し、その時のレーザ干渉計１４及び１
５の指示を読むことにより得られ、ステージ駆動制御部
１９に含まれる記憶手段である記憶部に記憶されてい
る。
【００９３】図７に示すフローチャートにおいて、はじ
めに、第１実施例において説明した方法によりＸステー
ジ１０及びＹステージ１１の原点位置が決定される（ス
テップＳ１）。
めに、第１実施例において説明した方法によりＸステー
ジ１０及びＹステージ１１の原点位置が決定される（ス
テップＳ１）。
【００９４】今、図８において、ステップＳ１において
決定したＸステージ１０及びＹステージ１１の原点位置
が符号Ｑの位置であったとする。次に、ステップＳ１で
決定した原点位置において、レーザ干渉計１４及び１５
をリセットする（ステップＳ２）。このリセットは操作
部２０により、レーザ干渉計制御部１４ａ及び１５ａを
介して行われる。これにより、レーザ干渉計１４及び１
５の指示値は図８における符号５０で示すように（０、
０）となる。このリセットした位置は、レーザ干渉計１
４及び１５の仮原点位置である。
決定したＸステージ１０及びＹステージ１１の原点位置
が符号Ｑの位置であったとする。次に、ステップＳ１で
決定した原点位置において、レーザ干渉計１４及び１５
をリセットする（ステップＳ２）。このリセットは操作
部２０により、レーザ干渉計制御部１４ａ及び１５ａを
介して行われる。これにより、レーザ干渉計１４及び１
５の指示値は図８における符号５０で示すように（０、
０）となる。このリセットした位置は、レーザ干渉計１
４及び１５の仮原点位置である。
【００９５】ステップＳ２において、レーザ干渉計１４
及び１５の仮原点位置が決定されたならば、次に、レー
ザ干渉計１４及び１５の指示値に基づいて、その指示値
が特定点６０の初期設定時の位置における指示値（この
場合には（１０００、１０００））と同じ値となるよう
にＸステージ１０及びＹステージ１１を移動する（ステ
ップＳ３）。この移動は、操作部２０に含まれるジョイ
スティック等の手段によりステージ駆動制御部１９を介
して実行される。
及び１５の仮原点位置が決定されたならば、次に、レー
ザ干渉計１４及び１５の指示値に基づいて、その指示値
が特定点６０の初期設定時の位置における指示値（この
場合には（１０００、１０００））と同じ値となるよう
にＸステージ１０及びＹステージ１１を移動する（ステ
ップＳ３）。この移動は、操作部２０に含まれるジョイ
スティック等の手段によりステージ駆動制御部１９を介
して実行される。
【００９６】ステップＳ３における移動後のＳＥＭ画面
を図８中符号４０で示す。このＳＥＭ画面４０において
は、そのときのレーザ干渉計１４及び１５の指示値は
（１０００、１０００）となっているにもかかわらず、
ステップＳ２においてリセットした指示値の中に、上述
のレーザエラーによる原点の誤差、及び変位センサ６及
び７の分解能とレーザ干渉計１４及び１５の精度の差に
よる誤差が含まれているため、特定点６０の位置はＳＥ
Ｍ画面４０の中心より当該誤差分だけずれた位置（図８
においては、画面中央左下の位置）となっている。
を図８中符号４０で示す。このＳＥＭ画面４０において
は、そのときのレーザ干渉計１４及び１５の指示値は
（１０００、１０００）となっているにもかかわらず、
ステップＳ２においてリセットした指示値の中に、上述
のレーザエラーによる原点の誤差、及び変位センサ６及
び７の分解能とレーザ干渉計１４及び１５の精度の差に
よる誤差が含まれているため、特定点６０の位置はＳＥ
Ｍ画面４０の中心より当該誤差分だけずれた位置（図８
においては、画面中央左下の位置）となっている。
【００９７】次に、ステップＳ４において、ＳＥＭ画面
上で確認しつつ、特定点６０がＳＥＭ画面の中央に位置
するようにＸステージ１０及びＹステージ１１が移動さ
れる。この移動も、ステップＳ３における移動と同様
に、ステージ駆動制御部１９を介して操作部２０のジョ
イスティック等により実行される。ステップＳ４におけ
る移動後のＳＥＭ画面を図８中符号４１で示す。
上で確認しつつ、特定点６０がＳＥＭ画面の中央に位置
するようにＸステージ１０及びＹステージ１１が移動さ
れる。この移動も、ステップＳ３における移動と同様
に、ステージ駆動制御部１９を介して操作部２０のジョ
イスティック等により実行される。ステップＳ４におけ
る移動後のＳＥＭ画面を図８中符号４１で示す。
【００９８】また、移動後のレーザ干渉計１４及び１５
の指示値は、例えば（９００、８００）であったとする
（図８中符号５２）。次に、ステップＳ５において、ス
テップＳ４における移動後のレーザ干渉計１４及び１５
の指示値（９００、８００）から、初期設定時に特定点
６０がＳＥＭ画面中央に位置したときの指示値（１００
０、１０００）を差し引いて、指示値差が求められる。
この処理は、ステージ駆動制御装置１９に含まれる減算
部により行われる。この処理により、図８における点Ｑ
の位置と、原点Ｏの位置との誤差（差座標）が求められ
ることとなる。
の指示値は、例えば（９００、８００）であったとする
（図８中符号５２）。次に、ステップＳ５において、ス
テップＳ４における移動後のレーザ干渉計１４及び１５
の指示値（９００、８００）から、初期設定時に特定点
６０がＳＥＭ画面中央に位置したときの指示値（１００
０、１０００）を差し引いて、指示値差が求められる。
この処理は、ステージ駆動制御装置１９に含まれる減算
部により行われる。この処理により、図８における点Ｑ
の位置と、原点Ｏの位置との誤差（差座標）が求められ
ることとなる。
【００９９】ステップＳ５において指示値差が求められ
たら、次に、ステップＳ６において、レーザ干渉計１４
及び１５の指示値がステップＳ５において求めた指示値
差を示すようにＸステージ１０及びＹステージ１１が移
動される。本実施例の場合は、指示値差は（−１００、
−２００）であるので、レーザ干渉計１４及び１５の指
示値が（−１００、−２００）となるように移動され
る。この移動はステップＳ３及びＳ４と同様の手段によ
り実行される。この移動により、Ｘステージ１０及びＹ
ステージ１１は、初期設定時において、レーザ干渉計１
４及び１５をリセットした位置と同一の位置（図８にお
ける原点Ｏ）となる。
たら、次に、ステップＳ６において、レーザ干渉計１４
及び１５の指示値がステップＳ５において求めた指示値
差を示すようにＸステージ１０及びＹステージ１１が移
動される。本実施例の場合は、指示値差は（−１００、
−２００）であるので、レーザ干渉計１４及び１５の指
示値が（−１００、−２００）となるように移動され
る。この移動はステップＳ３及びＳ４と同様の手段によ
り実行される。この移動により、Ｘステージ１０及びＹ
ステージ１１は、初期設定時において、レーザ干渉計１
４及び１５をリセットした位置と同一の位置（図８にお
ける原点Ｏ）となる。
【０１００】ステップＳ６の移動が終了したならば、そ
のＸステージ１０及びＹステージ１１の位置で、図８中
符号５４で示すようにレーザ干渉計１４及び１５をリセ
ットする（ステップＳ７）。これによりレーザ干渉計１
４及び１５の原点位置の誤差を解消し、初期設定時と同
じＸステージ１０及びＹステージ１１の位置でレーザ干
渉計１４及び１５の指示値を（０、０）とすることがで
きる。
のＸステージ１０及びＹステージ１１の位置で、図８中
符号５４で示すようにレーザ干渉計１４及び１５をリセ
ットする（ステップＳ７）。これによりレーザ干渉計１
４及び１５の原点位置の誤差を解消し、初期設定時と同
じＸステージ１０及びＹステージ１１の位置でレーザ干
渉計１４及び１５の指示値を（０、０）とすることがで
きる。
【０１０１】なお、以上の説明における特定点６０の初
期設定時の位置については、ＳＥＭ画面中央に限られる
ものではなく、後に初期設定時と同様の条件の下で位置
合わせが可能な位置であればどこでも良い。
期設定時の位置については、ＳＥＭ画面中央に限られる
ものではなく、後に初期設定時と同様の条件の下で位置
合わせが可能な位置であればどこでも良い。
【０１０２】また、正しい原点に基づくレーザ干渉計１
４及び１５による特定点６０の位置測定の時期は、初期
設定時に限られるものではなく、レーザエラー等の誤差
が発生する以前の過去の位置であれば、どの時点の位置
であっても良い。
４及び１５による特定点６０の位置測定の時期は、初期
設定時に限られるものではなく、レーザエラー等の誤差
が発生する以前の過去の位置であれば、どの時点の位置
であっても良い。
【０１０３】以上の第２実施例によれば、レーザ干渉計
１４及び１５の原点に誤差を含まない状態での半導体ウ
ェハ上の特定点６０の位置の指示値に基づいて、レーザ
エラー等の誤差が解消されるので、常に同じＸステージ
１０及びＹステージ１１の位置においてレーザ干渉計１
４及び１５をリセットし、その原点を決定することがで
きる。
１４及び１５の原点に誤差を含まない状態での半導体ウ
ェハ上の特定点６０の位置の指示値に基づいて、レーザ
エラー等の誤差が解消されるので、常に同じＸステージ
１０及びＹステージ１１の位置においてレーザ干渉計１
４及び１５をリセットし、その原点を決定することがで
きる。
【０１０４】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１又は５に
記載の発明によれば、位置検出軸の位置検出平面と位置
検出器との距離が測定され、測定された距離に基づいて
ステージが移動され、測定された距離が予め設定された
基準距離となったとき、その位置がステージの原点位置
とされるので、位置検出器の出力信号の波形は位置検出
平面の傾きと同じ傾きを有する波形となり、ステージの
原点位置近傍で良好な線形性を有することとなるので、
正確なステージ原点位置決定が可能となる。
記載の発明によれば、位置検出軸の位置検出平面と位置
検出器との距離が測定され、測定された距離に基づいて
ステージが移動され、測定された距離が予め設定された
基準距離となったとき、その位置がステージの原点位置
とされるので、位置検出器の出力信号の波形は位置検出
平面の傾きと同じ傾きを有する波形となり、ステージの
原点位置近傍で良好な線形性を有することとなるので、
正確なステージ原点位置決定が可能となる。
【０１０５】請求項２又は６に記載の発明によれば、第
１のリセット以前の特定点のステージ位置検出器により
測定された座標に基づいてステージ位置検出器がリセッ
トされることにより、ステージ位置検出器の原点が設定
されるので、常に同じステージの位置をステージ位置検
出器の原点とすることができる。
１のリセット以前の特定点のステージ位置検出器により
測定された座標に基づいてステージ位置検出器がリセッ
トされることにより、ステージ位置検出器の原点が設定
されるので、常に同じステージの位置をステージ位置検
出器の原点とすることができる。
【０１０６】請求項３又は７に記載の発明によれば、ス
テージの原点位置が仮原点位置とされるので、ステージ
位置検出器がステージの原点位置付近でリセットされた
後、ステージ位置検出器の原点が決定されることとな
り、広範囲にステージを移動させる事なくステージ位置
検出器の原点決定ができ、ステージ位置検出器の原点決
定動作が簡略化される。
テージの原点位置が仮原点位置とされるので、ステージ
位置検出器がステージの原点位置付近でリセットされた
後、ステージ位置検出器の原点が決定されることとな
り、広範囲にステージを移動させる事なくステージ位置
検出器の原点決定ができ、ステージ位置検出器の原点決
定動作が簡略化される。
【０１０７】請求項４又は８に記載の発明によれば、位
置検出器が大気中に配置されているので、対象物が配置
されている試料室内の真空度を落とすこと無く位置検出
器の調整整備が可能となる。
置検出器が大気中に配置されているので、対象物が配置
されている試料室内の真空度を落とすこと無く位置検出
器の調整整備が可能となる。
【図１】本発明に係わるＸＹステージを含む電子ビーム
露光装置の全体構成を示す図である。
露光装置の全体構成を示す図である。
【図２】本発明の第１実施例における原点位置検出部の
部分断面を示す図である。
部分断面を示す図である。
【図３】本発明の第１実施例における変位センサの位置
検出を説明する図である。
検出を説明する図である。
【図４】本発明の第１実施例における距離信号Ｓの出力
波形を示す図である。
波形を示す図である。
【図５】本発明の第１実施例の変位センサの出力に基づ
く原点位置決定の動作を示すフローチャートである。
く原点位置決定の動作を示すフローチャートである。
【図６】本発明の第１実施例における位置検出回路Ｃの
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図７】本発明の第２実施例に係わるステージ位置検出
器の原点決定方法の動作を示すフローチャートである。
器の原点決定方法の動作を示すフローチャートである。
【図８】本発明の第２実施例に係わるステージ位置検出
器の原点決定を説明する図である。
器の原点決定を説明する図である。
【図９】従来技術の原点位置決定装置の平面を示す図で
ある。
ある。
【図１０】従来技術の原点位置決定装置の側面を示す図
である。
である。
【図１１】従来技術の原点位置決定装置における原点位
置検出部の拡大図を示す図である。
置検出部の拡大図を示す図である。
【図１２】従来技術の原点位置決定装置における原点位
置検出部の出力信号の波形を示す図である。
置検出部の出力信号の波形を示す図である。
１…真空チャンバ ２…Ｘ軸アクチュエータ ３…Ｙ軸アクチュエータ ４…Ｘ軸原点位置検出部 ５…Ｙ軸原点位置検出部 ６…Ｘ軸変位センサ ７…Ｙ軸変位センサ ８…Ｘ軸位置検出軸 ９…Ｘ軸位置検出軸支持板 １０…Ｘステージ １１…Ｙステージ １２…Ｘ軸ＤＣモータ １３…Ｙ軸ＤＣモータ １４…Ｘ軸レーザ干渉計 １４ａ…Ｘ軸レーザ干渉計制御部 １５…Ｙ軸レーザ干渉計 １５ａ…Ｙ軸レーザ干渉計制御部 １６…Ｘ軸ミラー １７…Ｙ軸ミラー １８…電子ビーム １９…ステージ駆動制御部 ２０…捜査部 ２１…電子ビーム出射部 ２２…ＳＥＭ ２３…表示部 ２４…半導体ウェハ ２５…検出窓 ３０…アンプ ３１…Ａ／Ｄ変換器 ３２…論理回路 ３３…レジスタ ３４…ＣＰＵ ３５、３６…比較器 ３７…上限値設定器 ３８…下限値設定器 ３９…論理回路 ４０、４１…ＳＥＭ画面 ５０〜５４…レーザ干渉計の指示値 ６０…特定点 １００…原点位置決定装置（従来技術） １０１…アクチュエータ １０２…真空チャンバ １０３…原点位置検出部 １０４…駆動軸 １０５〜１０７…発光ダイオード １０８〜１１０…フォトディテクタ １１１…原点信号検出センサ板 １１２、１１３…スリット １１４〜１１６…光スポット １１７…ＤＣモータ １２０〜１２２…発光ダイオード出力光 Ａ…位置検出面 Ｌ…検出光 Ｐ…Ｘステージ１０の原点位置に対応する点 Ｓ、Ｓa 、Ｓb 、Ｓc 、Ｓ+ 、Ｓ- 、Ｓo …距離信号 Ｑ…仮原点位置 Ｏ…原点 Ｒp …測定長 ＴA 、ＴB …信号
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 9/00 Ｈ Ｇ０５Ｄ 3/12 Ｘ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｇ
Claims (8)
- 【請求項１】 一端がステージ（１０、１１）に接続さ
れ、他端に位置検出器（６、７）の検出光（Ｌ）の光軸
を含む前記ステージ（１０、１１）の移動方向に垂直な
平面と前記検出光（Ｌ）の光軸に垂直な平面との交線の
一部を含み前記光軸と所定の角度をなす位置検出平面
（Ａ）を有する位置検出軸（８）に前記検出光（Ｌ）を
照射し、前記位置検出器（６、７）と前記位置検出平面
（Ａ）との距離を測定する距離測定工程と、 前記測定した距離が予め設定された基準距離となるよう
に前記ステージ（１０、１１）を移動する距離基準ステ
ージ移動工程と、 前記測定した距離が予め設定された基準距離となったと
きの位置検出軸（８）の位置に対応する前記ステージ
（１０、１１）の位置を前記ステージ（１０、１１）の
ステージ原点位置とするステージ原点位置決定工程と、 を有することを特徴とするステージ原点位置決定方法。 - 【請求項２】 所定の仮原点位置においてステージ（１
０、１１）の位置を検出するためのステージ位置検出器
（１４、１５）をリセットする第１リセット工程と、 前記仮原点位置を原点として前記ステージ（１０、１
１）上に設置された対象物（２４）上に設けられた特定
点（６０）の座標を、前記ステージ位置検出器（１４、
１５）により測定する座標測定工程と、 前記測定した特定点（６０）の座標から、予め記憶して
いた前記第１リセット工程以前の前記特定点（６０）の
前記ステージ位置検出器（１４、１５）により測定した
座標を差し引くことにより差座標を求める減算工程と、 前記ステージ位置検出器（１４、１５）の指示に基づい
て、前記差座標に対応する位置に前記ステージ（１０、
１１）を移動する座標基準ステージ移動工程と、 前記座標基準ステージ移動工程終了後の前記ステージ
（１０、１１）の位置において、前記ステージ位置検出
器（１４、１５）をリセットする第２リセット工程と、 を有することを特徴とするステージ位置検出器原点決定
方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載のステージ位置検出器原
点決定方法において、 請求項１に記載のステージ原点位置決定方法により決定
されるステージ原点位置を前記仮原点位置とすることを
特徴とするステージ位置検出器原点決定方法。 - 【請求項４】 請求項１又は３に記載のステージ原点位
置決定方法又はステージ位置検出器原点決定方法におい
て、 前記位置検出器（６、７）は、大気中に配置され、前記
ステージ（１０、１１）及び前記位置検出軸（８）は真
空中に配置され、前記検出光（Ｌ）は検出窓（２５）を
介して照射されることを特徴とするステージ原点位置決
定方法又はステージ位置検出器原点決定方法。 - 【請求項５】 一端がステージ（１０、１１）に接続さ
れ、他端に位置検出器（６、７）の検出光（Ｌ）の光軸
を含む前記ステージ（１０、１１）の移動方向に垂直な
平面と前記検出光（Ｌ）の光軸に垂直な平面との交線の
一部を含み前記光軸と所定の角度をなす位置検出平面
（Ａ）を有する位置検出軸（８）に前記検出光（Ｌ）を
照射し、前記位置検出器（６、７）と前記位置検出平面
（Ａ）との距離を測定する距離測定手段（１９）と、 前記測定した距離が予め設定された基準距離となるよう
に前記ステージ（１０、１１）を移動する距離基準ステ
ージ移動手段（１２、１３、１９）と、 前記測定した距離が予め設定された基準距離となったと
きの位置検出軸（８）の位置に対応する前記ステージ
（１０、１１）の位置を前記ステージ（１０、１１）の
ステージ原点位置とするステージ原点位置決定手段（１
９）と、 を備えることを特徴とするステージ原点位置決定装置。 - 【請求項６】 所定の仮原点位置においてステージ（１
０、１１）の位置を検出するためのステージ位置検出器
（１４、１５）をリセットする第１リセット手段（２
０）と、 前記仮原点位置を原点として前記ステージ（１０、１
１）上に設置された対象物（２４）上に設けられた特定
点（６０）の座標を前記ステージ位置検出器（１４、１
５）により測定する座標測定手段（１９、２０、２２）
と、 前記ステージ位置検出器（１４、１５）により検出され
た前記第１リセット手段によるリセット以前の前記特定
点（６０）の座標を記憶する記憶手段（１９）と、 前記座標測定手段（２０、２２）により測定された特定
点（６０）の座標から、前記記憶していた前記第１リセ
ット手段によるリセット以前の前記特定点（６０）の座
標を差し引くことにより差座標を求める減算手段（１
９）と、 前記ステージ位置検出器（１４、１５）の指示値に基づ
いて、前記差座標に対応する位置に前記ステージ（１
０、１１）を移動する座標基準ステージ移動手段（１
２、１３、１９、２０）と、 前記座標基準ステージ移動手段（１２、１３、１９、２
０）による移動終了後の前記ステージ（１０、１１）の
位置において、前記ステージ位置検出器（１４、１５）
をリセットする第２リセット手段（２０）と、 を備えることを特徴とするステージ位置検出器原点決定
装置。 - 【請求項７】 請求項６に記載のステージ位置検出器原
点決定装置において、 請求項５に記載のステージ原点位置決定装置により決定
されるステージ原点位置を前記仮原点位置とすることを
特徴とするステージ位置検出器原点決定装置。 - 【請求項８】 請求項５又は７に記載のステージ原点位
置決定装置又はステージ位置検出器原点決定装置におい
て、 前記位置検出器（６、７）は、大気中に配置され、前記
ステージ（１０、１１）及び前記位置検出軸（８）は真
空中に配置され、前記検出光（Ｌ）は検出窓（２５）を
介して照射されることを特徴とするステージ原点位置決
定装置又はステージ位置検出器原点決定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14002994A JP3318440B2 (ja) | 1994-06-22 | 1994-06-22 | ステージ原点位置決定方法及び装置並びにステージ位置検出器原点決定方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14002994A JP3318440B2 (ja) | 1994-06-22 | 1994-06-22 | ステージ原点位置決定方法及び装置並びにステージ位置検出器原点決定方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH088167A true JPH088167A (ja) | 1996-01-12 |
| JP3318440B2 JP3318440B2 (ja) | 2002-08-26 |
Family
ID=15259304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14002994A Expired - Fee Related JP3318440B2 (ja) | 1994-06-22 | 1994-06-22 | ステージ原点位置決定方法及び装置並びにステージ位置検出器原点決定方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3318440B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006210858A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-08-10 | Nikon Corp | 位置調整装置の制御方法、位置調整装置、及び露光装置 |
| WO2009119676A1 (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-01 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | ペースト塗布装置及びペースト塗布方法 |
| JP2010040945A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-18 | Sinfonia Technology Co Ltd | 真空処理装置 |
| JP2016017750A (ja) * | 2014-07-04 | 2016-02-01 | 株式会社Ihi | 膜厚計測装置と方法 |
| KR101627966B1 (ko) * | 2015-03-31 | 2016-06-07 | 현대위아 주식회사 | 공작기계의 좌표계 원점 설정 장치 및 방법 |
| CN116500063A (zh) * | 2023-06-27 | 2023-07-28 | 深圳市德斯戈智能科技有限公司 | 一种可自动对位的晶圆缺陷检测装置及其系统 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62150721A (ja) * | 1985-12-24 | 1987-07-04 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 投影型露光装置 |
| JPH0310105A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-17 | Nikon Corp | 位置測定方法、位置測定装置、位置決め方法、位置決め装置、および露光装置 |
| JPH04171163A (ja) * | 1990-11-02 | 1992-06-18 | Canon Inc | 複数部材の離間距離測定方法及びその方法を用いて製造される記録ヘッド |
| JPH05283313A (ja) * | 1992-04-01 | 1993-10-29 | Nikon Corp | ステージの位置計測装置 |
-
1994
- 1994-06-22 JP JP14002994A patent/JP3318440B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62150721A (ja) * | 1985-12-24 | 1987-07-04 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 投影型露光装置 |
| JPH0310105A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-17 | Nikon Corp | 位置測定方法、位置測定装置、位置決め方法、位置決め装置、および露光装置 |
| JPH04171163A (ja) * | 1990-11-02 | 1992-06-18 | Canon Inc | 複数部材の離間距離測定方法及びその方法を用いて製造される記録ヘッド |
| JPH05283313A (ja) * | 1992-04-01 | 1993-10-29 | Nikon Corp | ステージの位置計測装置 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006210858A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-08-10 | Nikon Corp | 位置調整装置の制御方法、位置調整装置、及び露光装置 |
| WO2009119676A1 (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-01 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | ペースト塗布装置及びペースト塗布方法 |
| JP2010040945A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-02-18 | Sinfonia Technology Co Ltd | 真空処理装置 |
| JP2016017750A (ja) * | 2014-07-04 | 2016-02-01 | 株式会社Ihi | 膜厚計測装置と方法 |
| KR101627966B1 (ko) * | 2015-03-31 | 2016-06-07 | 현대위아 주식회사 | 공작기계의 좌표계 원점 설정 장치 및 방법 |
| CN116500063A (zh) * | 2023-06-27 | 2023-07-28 | 深圳市德斯戈智能科技有限公司 | 一种可自动对位的晶圆缺陷检测装置及其系统 |
| CN116500063B (zh) * | 2023-06-27 | 2023-08-29 | 深圳市德斯戈智能科技有限公司 | 一种可自动对位的晶圆缺陷检测装置及其系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3318440B2 (ja) | 2002-08-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2979431B2 (ja) | レーザビームを偏向させるための制御装置を較正するための方法および装置 | |
| KR100790666B1 (ko) | 전자빔의 빔 드리프트 보정 방법 및 전자빔의 묘화 방법 | |
| JP2788139B2 (ja) | 電子線描画装置 | |
| US5047647A (en) | Electron beam lithography apparatus | |
| JP2000252203A (ja) | アライメントマーク及びアライメント方法 | |
| JPS6211110A (ja) | 間隔測定装置 | |
| JP3318440B2 (ja) | ステージ原点位置決定方法及び装置並びにステージ位置検出器原点決定方法及び装置 | |
| US11342156B2 (en) | Charged particle beam apparatus, sample alignment method of charged particle beam apparatus | |
| JP3036081B2 (ja) | 電子線描画装置及び方法、及びその試料面高さ測定装置 | |
| JP5209526B2 (ja) | 露光設定を決定するための方法、リソグラフィ露光装置、コンピュータプログラムおよびデータキャリア | |
| JPH0565001B2 (ja) | ||
| US5972772A (en) | Electron beam drawing process | |
| JP3260513B2 (ja) | 荷電ビーム描画装置 | |
| JP3969640B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置およびそれを用いた描画方法 | |
| US6337486B2 (en) | Electron beam drawing process and electron beam drawing apparatus | |
| US6127683A (en) | Electron beam drawing apparatus | |
| JP5129535B2 (ja) | フォトマスク高さ測定方法及び高さ測定装置を有する電子線描画装置 | |
| JP2536059B2 (ja) | 物体の表面状態測定装置及び表面の高さ測定装置 | |
| US20050112853A1 (en) | System and method for non-destructive implantation characterization of quiescent material | |
| JPH063115A (ja) | 試料高さ計測装置 | |
| JPH0221553A (ja) | 電子線測長装置 | |
| JPH0547646A (ja) | 電子線描画方法 | |
| JPH0982264A (ja) | パターン検査装置および走査型電子顕微鏡 | |
| KR100253265B1 (ko) | 반도체 노광장비의 렌즈배율변화 보정방법 및 그 장치 | |
| JP4299920B2 (ja) | 露光装置及び露光ビーム校正方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20020604 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090614 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090614 Year of fee payment: 7 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090614 Year of fee payment: 7 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100614 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110614 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110614 Year of fee payment: 9 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110614 Year of fee payment: 9 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110614 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120614 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |