JPH0869964A - ステージ位置計測装置 - Google Patents
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- JPH0869964A JPH0869964A JP22881794A JP22881794A JPH0869964A JP H0869964 A JPH0869964 A JP H0869964A JP 22881794 A JP22881794 A JP 22881794A JP 22881794 A JP22881794 A JP 22881794A JP H0869964 A JPH0869964 A JP H0869964A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
- G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
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- G—PHYSICS
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 計測値の温度揺らぎの発生を抑えて、高い計
測精度を有するステージ位置計測装置を提供すること。 【構成】 本発明においては、チャンバ内に収容された
移動可能なステージと、該ステージの位置を光学的に計
測するための計測手段と、前記チャンバ内の雰囲気を全
体的に空調するための全体空調手段と、前記計測手段の
光路を局部的に空調するための局部空調手段とを備え、
前記光路における空気温度が前記光路の近傍における雰
囲気温度とほぼ一致するように前記局部空調手段を制御
するための制御手段をさらに備えている。
測精度を有するステージ位置計測装置を提供すること。 【構成】 本発明においては、チャンバ内に収容された
移動可能なステージと、該ステージの位置を光学的に計
測するための計測手段と、前記チャンバ内の雰囲気を全
体的に空調するための全体空調手段と、前記計測手段の
光路を局部的に空調するための局部空調手段とを備え、
前記光路における空気温度が前記光路の近傍における雰
囲気温度とほぼ一致するように前記局部空調手段を制御
するための制御手段をさらに備えている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ステージ位置計測装置
に関し、特に、ＩＣや液晶基板、薄膜磁気ヘッド等を製
造するために使用される投影露光装置に設けられ、マス
クまたは恰好基板を載置して一次元または二次元移動す
るステージの位置を光学式測距手段を用いて計測する装
置に関する。
に関し、特に、ＩＣや液晶基板、薄膜磁気ヘッド等を製
造するために使用される投影露光装置に設けられ、マス
クまたは恰好基板を載置して一次元または二次元移動す
るステージの位置を光学式測距手段を用いて計測する装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のステージ位置計測装置では、一次
元または二次元移動するステージがチャンバ内に収容さ
れ、その位置はレーザ干渉計のような光学式測距手段に
よって計測される。また、チャンバ内は全体空調される
とともに、干渉計光路は局部空調されるようになってい
る。具体的には、全体空調機から吹き出される空気温度
と同じ温度の空気を局部空調機からダクト部材を介して
干渉計光路に送風している。
元または二次元移動するステージがチャンバ内に収容さ
れ、その位置はレーザ干渉計のような光学式測距手段に
よって計測される。また、チャンバ内は全体空調される
とともに、干渉計光路は局部空調されるようになってい
る。具体的には、全体空調機から吹き出される空気温度
と同じ温度の空気を局部空調機からダクト部材を介して
干渉計光路に送風している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来のステージ位置計測装置では、干渉計光路に
おける空気温度と光路の近傍における雰囲気温度との間
にはある程度の温度差がある。この温度差は、ステージ
等の熱発生源の影響等により生じるオフセット、すなわ
ち全体空調機が達成しようとしている全体空調制御温度
と干渉計光路近傍における実際の雰囲気温度とのオフセ
ットに起因している。また、ダクトからの伝熱の影響等
により生じるオフセット、すなわち局部空調機が達成し
ようとしている局部空調制御温度と局部空調用送風口か
ら実際に吹き出される空気温度とのオフセットに起因し
ている。
ような従来のステージ位置計測装置では、干渉計光路に
おける空気温度と光路の近傍における雰囲気温度との間
にはある程度の温度差がある。この温度差は、ステージ
等の熱発生源の影響等により生じるオフセット、すなわ
ち全体空調機が達成しようとしている全体空調制御温度
と干渉計光路近傍における実際の雰囲気温度とのオフセ
ットに起因している。また、ダクトからの伝熱の影響等
により生じるオフセット、すなわち局部空調機が達成し
ようとしている局部空調制御温度と局部空調用送風口か
ら実際に吹き出される空気温度とのオフセットに起因し
ている。
【０００４】このように、干渉計光路の近傍では、温度
差のある２つの流体、すなわち干渉計光路の雰囲気およ
び局部空調用送風口から干渉計光路に吹き出される空気
とが混在する。このため、温度差のある２つの流体の混
合に起因して干渉計計測値に温度揺らぎが発生するとい
う不都合があった。本発明は、前述の課題に鑑みてなさ
れたものであり、計測値の温度揺らぎの発生を抑えて、
高い計測精度を有するステージ位置計測装置を提供する
ことを目的とする。
差のある２つの流体、すなわち干渉計光路の雰囲気およ
び局部空調用送風口から干渉計光路に吹き出される空気
とが混在する。このため、温度差のある２つの流体の混
合に起因して干渉計計測値に温度揺らぎが発生するとい
う不都合があった。本発明は、前述の課題に鑑みてなさ
れたものであり、計測値の温度揺らぎの発生を抑えて、
高い計測精度を有するステージ位置計測装置を提供する
ことを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、チャンバ内に収容された移動可
能なステージと、該ステージの位置を光学的に計測する
ための計測手段と、前記チャンバ内の雰囲気を全体的に
空調するための全体空調手段と、前記計測手段の光路を
局部的に空調するための局部空調手段とを備え、前記光
路における空気温度が前記光路の近傍における雰囲気温
度とほぼ一致するように前記局部空調手段を制御するた
めの制御手段をさらに備えていることを特徴とするステ
ージ位置計測装置を提供する。
に、本発明においては、チャンバ内に収容された移動可
能なステージと、該ステージの位置を光学的に計測する
ための計測手段と、前記チャンバ内の雰囲気を全体的に
空調するための全体空調手段と、前記計測手段の光路を
局部的に空調するための局部空調手段とを備え、前記光
路における空気温度が前記光路の近傍における雰囲気温
度とほぼ一致するように前記局部空調手段を制御するた
めの制御手段をさらに備えていることを特徴とするステ
ージ位置計測装置を提供する。
【０００６】本発明の好ましい態様によれば、前記制御
手段は、前記光路における空気温度を計測するための第
１温度計測手段と、前記光路の近傍における雰囲気温度
を計測するための第２温度計測手段と、前記第１温度計
測手段の計測値が前記第２温度計測手段の計測値とほぼ
一致するように前記局部空調手段から吹き出される空気
の温度を制御するための温度制御手段とを備えている。
手段は、前記光路における空気温度を計測するための第
１温度計測手段と、前記光路の近傍における雰囲気温度
を計測するための第２温度計測手段と、前記第１温度計
測手段の計測値が前記第２温度計測手段の計測値とほぼ
一致するように前記局部空調手段から吹き出される空気
の温度を制御するための温度制御手段とを備えている。
【０００７】
【作用】本発明のステージ位置計測装置では、計測光路
における空気温度が光路の近傍における雰囲気温度とほ
ぼ一致するように局部空調手段を制御する。具体的に
は、光路における空気温度を計測するとともに、光路の
近傍における雰囲気温度を計測し、２つの温度計測値が
ほぼ一致するように局部空調手段から吹き出される空気
の温度を制御する。
における空気温度が光路の近傍における雰囲気温度とほ
ぼ一致するように局部空調手段を制御する。具体的に
は、光路における空気温度を計測するとともに、光路の
近傍における雰囲気温度を計測し、２つの温度計測値が
ほぼ一致するように局部空調手段から吹き出される空気
の温度を制御する。
【０００８】したがって、主として全体空調機に依存す
る光路近傍の雰囲気温度と、局部空調機に依存する光路
における空気温度との温度差が極めて小さくなる。その
結果、温度差のある２つの流体の混合に起因する位置計
測値の温度揺らぎを抑え、ステージの位置を高精度に計
測することが可能になる。
る光路近傍の雰囲気温度と、局部空調機に依存する光路
における空気温度との温度差が極めて小さくなる。その
結果、温度差のある２つの流体の混合に起因する位置計
測値の温度揺らぎを抑え、ステージの位置を高精度に計
測することが可能になる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を、添付図面に基づい
て説明する。図１は、本発明の実施例にかかるステージ
位置計測装置の構成を概略的に説明する図である。図示
の装置は、マスク（不図示）に形成されたパターンを投
影光学系（不図示）を介してウエハＷ上に結像投影する
投影露光装置の部分図であり、チャンバ１６内に収容さ
れたステージ８を示している。ウエハＷを載置したステ
ージ８は、モータ、ボールネジ等で構成されるアクチュ
エータ１７によってＸ方向に、モータ、ボールネジ等で
構成されるアクチュエータ１８によってＹ方向にそれぞ
れ駆動されるようになっている。すなわち、ステージ８
はＸＹ平面内において二次元的に移動可能である。
て説明する。図１は、本発明の実施例にかかるステージ
位置計測装置の構成を概略的に説明する図である。図示
の装置は、マスク（不図示）に形成されたパターンを投
影光学系（不図示）を介してウエハＷ上に結像投影する
投影露光装置の部分図であり、チャンバ１６内に収容さ
れたステージ８を示している。ウエハＷを載置したステ
ージ８は、モータ、ボールネジ等で構成されるアクチュ
エータ１７によってＸ方向に、モータ、ボールネジ等で
構成されるアクチュエータ１８によってＹ方向にそれぞ
れ駆動されるようになっている。すなわち、ステージ８
はＸＹ平面内において二次元的に移動可能である。
【００１０】また、ステージ８には、ＸＺ平面とほぼ平
行な反射面を有する反射鏡１９、およびＹＺ平面とほぼ
平行な反射面を有する反射鏡２０が設けられている。そ
して、反射鏡１９および２０にそれぞれ対向するよう
に、レーザ干渉計２および３が設けられている。
行な反射面を有する反射鏡１９、およびＹＺ平面とほぼ
平行な反射面を有する反射鏡２０が設けられている。そ
して、反射鏡１９および２０にそれぞれ対向するよう
に、レーザ干渉計２および３が設けられている。
【００１１】したがって、レーザ干渉計２から射出され
た干渉測長用レーザビームは、Ｙ方向光路１０に沿って
反射鏡１９に入射する。反射鏡１９で反射されたレーザ
ビームは、光路１０に沿ってレーザ干渉計２に戻るよう
になっている。一方、レーザ干渉計３から射出された干
渉測長用レーザビームは、Ｘ方向光路１１に沿って反射
鏡２０に入射する。反射鏡２０で反射されたレーザビー
ムは、光路１１に沿ってレーザ干渉計３に戻るようにな
っている。
た干渉測長用レーザビームは、Ｙ方向光路１０に沿って
反射鏡１９に入射する。反射鏡１９で反射されたレーザ
ビームは、光路１０に沿ってレーザ干渉計２に戻るよう
になっている。一方、レーザ干渉計３から射出された干
渉測長用レーザビームは、Ｘ方向光路１１に沿って反射
鏡２０に入射する。反射鏡２０で反射されたレーザビー
ムは、光路１１に沿ってレーザ干渉計３に戻るようにな
っている。
【００１２】こうして、レーザ干渉計２によってステー
ジ８のＹ方向移動量が、レーザ干渉計３によってステー
ジ８のＸ方向移動量がそれぞれ計測される。換言すれ
ば、レーザ干渉計２および３により、ステージ８のＸＹ
平面内の位置を計測することができるようになってい
る。レーザ干渉計の詳細な構成、計測方法については、
たとえば特開平３−１０１０５号公報に開示されてい
る。
ジ８のＹ方向移動量が、レーザ干渉計３によってステー
ジ８のＸ方向移動量がそれぞれ計測される。換言すれ
ば、レーザ干渉計２および３により、ステージ８のＸＹ
平面内の位置を計測することができるようになってい
る。レーザ干渉計の詳細な構成、計測方法については、
たとえば特開平３−１０１０５号公報に開示されてい
る。
【００１３】図示の装置はまた、チャンバ１６内を全体
的に空調するために所定温度の空気をチャンバ１６内に
送給する送風口１を備えている。送風口１は、ダクト部
材（不図示）を介して全体空調用送風機（不図示）に接
続されている。送風口１からチャンバ１６内に送給され
る空気の温度は、送風口１の近傍に位置決めされた温度
センサ９によって計測される。そして、温度センサ９で
計測される温度が所定温度と一致するように送風機（不
図示）が適宜制御される。
的に空調するために所定温度の空気をチャンバ１６内に
送給する送風口１を備えている。送風口１は、ダクト部
材（不図示）を介して全体空調用送風機（不図示）に接
続されている。送風口１からチャンバ１６内に送給され
る空気の温度は、送風口１の近傍に位置決めされた温度
センサ９によって計測される。そして、温度センサ９で
計測される温度が所定温度と一致するように送風機（不
図示）が適宜制御される。
【００１４】図示の装置はさらに、光路１０を空調する
ために所定温度の空気を送給する送風口４および光路１
１を空調するために所定温度の空気を送給する送風口５
を備えている。送風口４は、ダクト部材７ｂを介して送
風機６ｂに接続されている。一方、送風口５は、ダクト
部材７ａを介して送風機６ａに接続されている。送風口
４から光路１０に送給される空気の温度は、送風口４の
吹き出し口の近傍に位置決めされた温度センサ１４によ
って計測される。一方、送風口５から光路１１に送給さ
れる空気の温度は、送風口５の吹き出し口の近傍に位置
決めされた温度センサ１５によって計測される。図１で
は、送風口４、５は干渉計の光路と交差する方向に空気
を吹き出しているが、干渉計の光路に沿って空気を吹き
出すようにしてもよい。
ために所定温度の空気を送給する送風口４および光路１
１を空調するために所定温度の空気を送給する送風口５
を備えている。送風口４は、ダクト部材７ｂを介して送
風機６ｂに接続されている。一方、送風口５は、ダクト
部材７ａを介して送風機６ａに接続されている。送風口
４から光路１０に送給される空気の温度は、送風口４の
吹き出し口の近傍に位置決めされた温度センサ１４によ
って計測される。一方、送風口５から光路１１に送給さ
れる空気の温度は、送風口５の吹き出し口の近傍に位置
決めされた温度センサ１５によって計測される。図１で
は、送風口４、５は干渉計の光路と交差する方向に空気
を吹き出しているが、干渉計の光路に沿って空気を吹き
出すようにしてもよい。
【００１５】さらに、光路１０の雰囲気温度を計測する
ために温度センサ１２が、光路１１の雰囲気温度を計測
するために温度センサ１３がそれぞれ設けられている。
温度センサ１２および１３は、光路１０および１１に近
くて送風口４および５から吹き出される空気の影響を受
けにくい位置として、たとえば送風口４および５の吹き
出し口とは反対側に図示のようにそれぞれ配置されてい
る。なお、送風機６ａおよび送風機６ｂは、制御装置２
１によって制御されるようになっている。
ために温度センサ１２が、光路１１の雰囲気温度を計測
するために温度センサ１３がそれぞれ設けられている。
温度センサ１２および１３は、光路１０および１１に近
くて送風口４および５から吹き出される空気の影響を受
けにくい位置として、たとえば送風口４および５の吹き
出し口とは反対側に図示のようにそれぞれ配置されてい
る。なお、送風機６ａおよび送風機６ｂは、制御装置２
１によって制御されるようになっている。
【００１６】以上のように構成された本実施例のステー
ジ位置計測装置の動作について説明する。上述したよう
に、送風口１から送給される所定温度の空気により、チ
ャンバ１６内は全体空調される。しかしながら、チャン
バ１６内にはステージ８等の熱発生源があるため、チャ
ンバ１６内の空気は上記所定温度よりもある程度高い温
度分布を呈する。そこで、光路１０および１１の雰囲気
温度を温度センサ１２および１３によって計測し、計測
値を温度情報ａおよびｂとしてそれぞれ制御装置２１に
出力する。
ジ位置計測装置の動作について説明する。上述したよう
に、送風口１から送給される所定温度の空気により、チ
ャンバ１６内は全体空調される。しかしながら、チャン
バ１６内にはステージ８等の熱発生源があるため、チャ
ンバ１６内の空気は上記所定温度よりもある程度高い温
度分布を呈する。そこで、光路１０および１１の雰囲気
温度を温度センサ１２および１３によって計測し、計測
値を温度情報ａおよびｂとしてそれぞれ制御装置２１に
出力する。
【００１７】一方、送風口４および５から送給される空
気により、光路１０および１１がそれぞれ局部的に空調
されている。なお、ダクト部材７ａおよび７ｂからの伝
熱等の影響により、送風機６ａおよび６ｂから送出する
空気の温度と、送風口４および５から光路１０および１
１に実際に吹き出される空気の温度とにある程度温度差
が生じてしまう。そこで、送風口４および５から送給さ
れる空気の温度を温度センサ１４および１５によって計
測し、計測値を温度情報ｃおよびｄとしてそれぞれ制御
装置２１に出力する。
気により、光路１０および１１がそれぞれ局部的に空調
されている。なお、ダクト部材７ａおよび７ｂからの伝
熱等の影響により、送風機６ａおよび６ｂから送出する
空気の温度と、送風口４および５から光路１０および１
１に実際に吹き出される空気の温度とにある程度温度差
が生じてしまう。そこで、送風口４および５から送給さ
れる空気の温度を温度センサ１４および１５によって計
測し、計測値を温度情報ｃおよびｄとしてそれぞれ制御
装置２１に出力する。
【００１８】制御装置２１では、光路１０の雰囲気温度
と光路１０に吹き出される空気温度とがほぼ一致するよ
うに、すなわち温度情報ａと温度情報ｃとがほぼ一致す
るように、送風機６ａを制御する。また、光路１１の雰
囲気温度と光路１１に吹き出される空気温度とがほぼ一
致するように、すなわち温度情報ｂと温度情報ｄとがほ
ぼ一致するように、送風機６ｂを制御する。
と光路１０に吹き出される空気温度とがほぼ一致するよ
うに、すなわち温度情報ａと温度情報ｃとがほぼ一致す
るように、送風機６ａを制御する。また、光路１１の雰
囲気温度と光路１１に吹き出される空気温度とがほぼ一
致するように、すなわち温度情報ｂと温度情報ｄとがほ
ぼ一致するように、送風機６ｂを制御する。
【００１９】こうして、光路１０および１１における空
気温度が、光路１０および１１の近傍における雰囲気温
度とほぼ一致し、光路１０および１１の近傍において温
度差のある２つの流体の混合が実質的に回避される。そ
の結果、温度差のある２つの流体の混合に起因する位置
計測値の揺らぎ（計測誤差）を抑え、ステージの位置を
高精度に計測することが可能になる。
気温度が、光路１０および１１の近傍における雰囲気温
度とほぼ一致し、光路１０および１１の近傍において温
度差のある２つの流体の混合が実質的に回避される。そ
の結果、温度差のある２つの流体の混合に起因する位置
計測値の揺らぎ（計測誤差）を抑え、ステージの位置を
高精度に計測することが可能になる。
【００２０】なお、上述の実施例では送風機６ａおよび
送風機６ｂをそれぞれ独立して制御しているが、光路１
０の雰囲気温度と光路１１の雰囲気温度との差があまり
ないような系では、対応する温度情報ａおよびｂの平均
温度に基づいて、送風機６ａおよび送風機６ｂを一括制
御してもよいし、あるいは１つの送風機を用いて２つの
光路１０および１１を共通に局部空調するようにしても
よい。また、上述の実施例では局部空調用送風口の背後
に１つの雰囲気温度計測用温度センサを位置決めしてい
るが、局部空調用送風口の両側に２つの温度センサを配
置してその平均値をとるようにしてもよい。
送風機６ｂをそれぞれ独立して制御しているが、光路１
０の雰囲気温度と光路１１の雰囲気温度との差があまり
ないような系では、対応する温度情報ａおよびｂの平均
温度に基づいて、送風機６ａおよび送風機６ｂを一括制
御してもよいし、あるいは１つの送風機を用いて２つの
光路１０および１１を共通に局部空調するようにしても
よい。また、上述の実施例では局部空調用送風口の背後
に１つの雰囲気温度計測用温度センサを位置決めしてい
るが、局部空調用送風口の両側に２つの温度センサを配
置してその平均値をとるようにしてもよい。
【００２１】また、以上の実施例では、光路１０、１１
に対して交差する方向から空気を吹き付けたが、光路１
０、１１に沿って空気を吹き付けるようにしてもよい。
また、本実施例のように、干渉計の光路１０、１１の雰
囲気温度と光路１０、１１の近傍における温度との差を
なくするように送風機を制御することは、たとえば投影
露光装置のマスクステージ側にも適用することができ、
またマスクステージ側とウエハステージ側との両方に適
用可能である。
に対して交差する方向から空気を吹き付けたが、光路１
０、１１に沿って空気を吹き付けるようにしてもよい。
また、本実施例のように、干渉計の光路１０、１１の雰
囲気温度と光路１０、１１の近傍における温度との差を
なくするように送風機を制御することは、たとえば投影
露光装置のマスクステージ側にも適用することができ、
またマスクステージ側とウエハステージ側との両方に適
用可能である。
【００２２】また、この種の投影露光装置には、特開昭
６０−１６８１１２号公報に開示されているように、ス
テージ上に載置されたウエハに対して斜めから光を照射
し、反射光の位置を検出することによりウエハの高さ位
置（投影光学系の光軸方向の位置）を検出する焦点検出
系が設けられている。そして、上述の実施例ではステー
ジ面に平行な面内位置の計測について本発明を適用した
例を示したが、このような斜入射光方式による焦点検出
系にも本発明を適用することができ、焦点検出系におい
ても温度差のある２つの流体の混合に起因する位置計測
誤差を低減することができる。
６０−１６８１１２号公報に開示されているように、ス
テージ上に載置されたウエハに対して斜めから光を照射
し、反射光の位置を検出することによりウエハの高さ位
置（投影光学系の光軸方向の位置）を検出する焦点検出
系が設けられている。そして、上述の実施例ではステー
ジ面に平行な面内位置の計測について本発明を適用した
例を示したが、このような斜入射光方式による焦点検出
系にも本発明を適用することができ、焦点検出系におい
ても温度差のある２つの流体の混合に起因する位置計測
誤差を低減することができる。
【００２３】
【効果】以上説明したように、本発明によれば、温度差
のある２つの流体の混合に起因する位置計測値の揺らぎ
を抑え、ステージの位置を高精度に計測することが可能
なステージ位置計測装置を実現することができる。
のある２つの流体の混合に起因する位置計測値の揺らぎ
を抑え、ステージの位置を高精度に計測することが可能
なステージ位置計測装置を実現することができる。
【図１】本発明の実施例にかかるステージ位置計測装置
の構成を概略的に説明する図である。
の構成を概略的に説明する図である。
１ 全体空調用送風口 ２、３ 干渉計 ４、５ 局部空調用送風口 ６ａ、６ｂ 局部空調用送風機 ７ａ、７ｂ ダクト部材 ８ ステージ ９ 全体空調用温度センサ １０、１１ 干渉計光路 １２、１３ 雰囲気計測用温度センサ １４、１５ 局部空調用温度センサ １６ チャンバ １７、１８ アクチュエータ １９、２０ 反射鏡 ２１ 制御装置
Claims (3)
- 【請求項１】 チャンバ内に収容された移動可能なステ
ージと、該ステージの位置を光学的に計測するための計
測手段と、前記チャンバ内の雰囲気を全体的に空調する
ための全体空調手段と、前記計測手段の光路を局部的に
空調するための局部空調手段とを備え、 前記光路における空気温度が前記光路の近傍における雰
囲気温度とほぼ一致するように前記局部空調手段を制御
するための制御手段をさらに備えていることを特徴とす
るステージ位置計測装置。 - 【請求項２】 前記制御手段は、前記光路における空気
温度を計測するための第１温度計測手段と、前記光路の
近傍における雰囲気温度を計測するための第２温度計測
手段と、前記第１温度計測手段の計測値が前記第２温度
計測手段の計測値とほぼ一致するように前記局部空調手
段から吹き出される空気の温度を制御するための温度制
御手段とを備えていることを特徴とする請求項１に記載
のステージ位置計測装置。 - 【請求項３】 前記第２温度計測手段は、前記光路の近
傍であって前記局部空調手段の送風口に対向しない位置
に設けられていることを特徴とする請求項２に記載のス
テージ位置計測装置。
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