JPH08501658A - 熱電加熱冷却装置 - Google Patents

熱電加熱冷却装置

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JPH08501658A JP6507811A JP50781194A JPH08501658A JP H08501658 A JPH08501658 A JP H08501658A JP 6507811 A JP6507811 A JP 6507811A JP 50781194 A JP50781194 A JP 50781194A JP H08501658 A JPH08501658 A JP H08501658A
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Abstract

(57)【要約】 熱電加熱冷却室は、プレート状の各ペルティエ素子の積層配列によって調整できる広い温度範囲を有し、低出力の第1の各ぺルティエ素子(1)が内側の発熱/冷却表面を形成し、高出力の第2の各ぺルティエ素子(2)が外側の発熱/冷却表面を形成している。上記各発熱/冷却表面の双方は中間プレート(6)によって分離されている。上記中間プレート(6)は、良好な断熱素材で、特に内部応力の無い鋳物製のアルミニウムからなる。発熱動作中に、低出力の内側の層状各ペルティエ素子(1)の過熱を防止するために、高出力の各ペルティエ素子(2)のカスケード配列に対してバイパスダイオード(10)を並列に接続し、そのバイパスダイオード(10)の極性を、発熱モードにおいて、電気的に並列に接続した各ペルティエ素子(2)を無電流の状態に維持できるように設定、あるいは低出力の各ペルティエ素子(1)の発熱する側が寛容できる温度上限に応じて高出力の各ペルティエ素子(2)に流れる電流を制限するように設定する。

Description

【発明の詳細な説明】 熱電加熱冷却装置 本願発明は、本願クレーム1の前文に基づく熱電加熱冷却装置に関するもので ある。上記装置の一般的なものは、印刷された公開公報(DD-A-0 049 626)に開 示されている。 熱の方向を反転させることもできる各ペルティエモジュールが取り付けられた 冷却装置は、上記各ペルティエモジュールがハウジング内に囲まれるようにして 設置されると、例えば加熱装置としても用いることができる。このような冷却装 置は、圧縮機を用いた冷却装置のような他の冷却方法によって達成できない極め て正確な温度の安定性を電気的に制御できるという大きな利点を有している。 しかしながら、従来のペルティエ素子による加熱/冷却装置は、調整できる温 度範囲が極めて限定されていることと、および/または熱量が運び去られること (to be pumped away)による流出熱量のために消費電力が極めて大きくなるとい う欠点を有している。 板状の各ペルティエ素子(Peltier elements)は、一般にカスケード配列に接続 されて用いられるが、そのようにして用いられたときに過熱に対して上記各ペル ティエ素子を、特に各ペルティエ素子の周辺部を確実に保護できない欠点を有す るものである。このような欠点は、単一平面状のカスケードの各ペルティエ素子 (GB-A-2 241 378に例示)に対しても生じ、ペルティエ素子の複数の各カスケー ドからなるピラミッド状の配列(DD-A-0 049 626とUS-A-48 33 889とに例示)に 対してもさらに顕著に生じる。 上記各公開公報では、上記各欠点に対する解決法が開示されているが、ペルテ ィエ素子からなるカスケード配列の一つのみに対して制限された発熱動作が可能 となっているので、ペルティエ素子の部分的な過熱が容易に発生する。 さらに、このような解決法は下記のような欠点を生じることになる。そのよう な欠点としては、 発熱動作の制限によって、温度上限値への迅速な温度上昇が許容できる範囲外 、または不可能となること、 発熱動作において、より大きな電力が必要となること、 半導体の素材の劣化により急速な消耗が発生する一方、より大きな膨張により 素材に内部応力が発生することを挙げることができる。 本願発明は、相応な断熱性を有し、顕著に大きな温度範囲にて作動し、かつ、 許容できない程度に大きな出力損失となる電力消費を回避しながら、加熱/冷却 動作を行うことが可能な熱電的に作動する加熱/冷却ユニット、特に加熱/冷却 室を提供する目的に基づいている。 この目的を達成するための解決法は、一般的な熱電的な加熱または冷却装置に 対して本願クレーム1におけるその特徴点を適用して達成される。 上記解決法の優れた変形例としては、一般的な熱電的な加熱または冷却装置に 対して本願クレーム6の特徴点を適用して達成される。 本願発明のさらに他の優れた各発展形や追加された各構成は、本願の各従属ク レームにより個々に記述されている。 低出力のペルティエ素子のための電流の制限を有利に行うためには、バイパス ダイオードを用いることができる。そのバイパスダイオードは、高出力の各ペル ティエ素子の少なくとも一つを電気的にバイパスするように設けられ、かつ、発 熱動作中に、そのバイパスされたペルティエ素子または各ペルティエ素子が無電 流状態を維持するように上記バイパスダイオードの極性が合わせられている。 そのバイパスダイオードは、カスケードに接続された高出力の各ペルティエ素 子の全てを電気的にバイパスするか、または高出力の各ペルティエ素子の少なく ともいくつかに対し個々に割り当てて用いることができる。 上記の電流制限の手段としては、高出力のペルティエ素子のための電流制御器 を制御する温度センサーを挙げることができる。 高出力の各ペルティエ素子における電流制限のための他の可能な手段としては 、高出力の各ペルティエ素子を、NTCサーミスタによりバイパスすることが挙 げられる。そのNTCサーミスタは、低出力のペルティエ素子の発熱側の温度を 検出することにより、その発熱側が上限温度に達することによって上記NTCサ ーミスタの抵抗値が小さくなり、高出力の各ペルティエ素子の電流値が、低出力 の各ペルティエ素子の過熱が排除できる大きさまで減少するように選択された動 作点にて、高出力の各ペルティエ素子の電流値を制御するものである。 板状の各ペルティエ素子の第1および第2グループは、良好な断熱性を有する 枠状の容器の凹部にそれぞれ装着することができる。 各ペルティエ素子の発熱動作中に、ペルティエ素子のカスケード配列の、特に 各ペルティエ素子の周辺部での温度ピークの過熱を回避するために、本願発明に よれば、高出力の各ペルティエ素子の第2グループの少なくともいくつかは、電 流が制御されるか、バイパスダイオードによって電気的にバイパスされるように 設置されている。上記バイパスダイオードは、発熱動作中に、バイパスされたペ ルティエ素子または各ペルティエ素子が無電流な状態を維持するように上記バイ パスダイオードの極性が合わせられている。 さらに、本願発明の上記の技術的思想に加えるものとして、上記の各ペルティ エ素子の周辺部での温度ピークを低減するために、中間プレートの表面面積を、 各ペルティエ素子の2つの地域での各配列によって占められた表面の全体より大 きく設定することが考えられ、これにより、上記中間プレートが全ての各ペルテ ィエ素子に対してそれらの周辺部にて重なり合っている。 本願発明およびその利点の詳細は、図面を参照した下記の明白な実施例に基づ いき、より正確に説明される。 その図面として、 図1は、本願発明の各ペルティエ素子の2層のカスケード配列の基本的な説明 図であって、冷却時の熱バランスを示すものであり、 図2は、図1に対応する2層のカスケード配列を示し、発熱時の熱バランスの 説明図であり、 図3は、本願発明の特徴点を有する熱電的な加熱/冷却室の基本的な構成図で あり、 図4は、低出力の各ペルティエ素子の過熱を回避するための本願発明の接続形 態を示す構成図であり、 図5は、出力の異なる各ペルティエ素子の2層のカスケード配列の基本的な説 明図であって、上記各ペルティエ素子の一部に対するバイパスダイオードの動作 モードを説明するものであり、 図6ないし図8は、上記各ペルティエ素子の一部に対し、一つまたは複数のバ イパスダイオードを配列および接続するためのいくつかの変形例を示す説明図で あり、 図9は、本願発明の他の実施例における基本的な説明図であって、各ペルティ エ素子の一部がNTCサーミスタによってバイパスされていることを示すもので あり、 図10は、多層のカスケード配列における発熱中において、各ペルティエ素子 の一部に対する電流制限のための他の実施例を示す説明図であり、 図11は、本願発明の第1の明白な実施例に係る、ペルティエを用いた加熱/ 冷却室の断面図であり、 図12および図13は、本願発明に係る、ペルティエを用いた加熱/冷却室の 他の実施例の縦断面図および横断面図である。 よく知られているように、熱は、ペルティエ素子によって極めて容易に輸送す ることができる。原則として、ペルティエ素子は、外部の直流により迅速に作動 する熱結合素子の直列に接続された配列を含む。巧みな面状の配列と所定のイオ ン注入された半導体素材とによって、比較的良好な冷却または発熱効果を達成す ることが可能となる。ここで対象となっているペルティエ素子のタイプの場合、 常に、熱を吸収する一方の面(冷却側)と熱を放出する他方の面(発熱側)とが 存在する。2つの面状の各配列を用い、一方の上に他方を積み重ねた場合、大き な温度範囲という利点は、比較的小さな構造にて達成される。 吸熱動作の場合では、一方の高出力の素子は、温度の所望する違いを発生させ るために、上記素子または上記素子の上方に位置する素子のジュール熱(I2×R )の出力を運び去ることが必要となっている。この理由によって、いくつかの前 例の中から、前述した例(US-A-4 833 889)に記載されているように、ピラミッ ド型の配列がしばしば選択される。 そのようなピラミッド型のカスケード配列の熱バランス、すなわち、発熱動作 または冷却動作中に生じる熱の流れは、まず、図1および図2に基づいて次に説 明される。図1は、冷却動作中の熱の流れを示す。その熱の流れは次のようにな っている。 ペルティエ素子1は、熱源70(温度T1)からの熱量を運び去らなければな らない。よって、Q1=Qqとなる。 ペルティエ素子2は、Qqと共に上記ペルティエ素子1の流出熱量も運び去ら なければならない。よって、Q2=I2・R1+Qqとなる。 最終的には、蓄熱器7は、さらに加えて上記ペルティエ素子2の流出熱量も運 び去らなければならない。よって、結果として、Q3=I2・R1+I2・R2+ Qqとなる。 それらの具体的な関係は、次の仮定を必要とする。それは、Q1≪Q2、また はT1≪T2である。図1のシステムは上記の仮定を満足する範囲にて構成され、 意図された熱の流れが生じるようになっている。 図2は発熱動作中の熱の流れを示す。その熱の流れは次のようになっている。 ペルティエ素子1は、Q2(=I2・R2+Q3)を運び去らなければならない 。 ペルティエ素子2は、熱源70(温度T2)からの熱量、すなわちQ3を運び 去らなければならない。 上記蓄熱器7は、Qq(=I2・R1+I2・R2+Q3)を吸熱する必要があ る。 この場合、次の仮定を必要とする。それは、Q2≫Q3、またはT1≫T2であ る。 ペルティエ素子2に対してより小さな出力のペルティエ素子1が、より大きな 出力の上記ペルティエ2よりも必ず速く消耗することは明らかです。 個々のペルティエ素子が運び去らなければならない熱の流れを、現時点で考慮 するならば、熱の流れが込み入るペルティエ素子1での発熱動作において律速段 階(bottleneck)が存在することは明らかです。 次のことがペルティエ素子1に適用される。 ケース1(図1参照)では、通過する熱、つまり運び去られる熱はQqに等し い。 ケース2(図2参照)では、通過する熱、つまり運び出される熱は(I2×R 2+Q3)に等しい。 発熱動作中に、ペルティエ素子1を対して生じる他の問題点は、高出力のペル ティエ素子2のジュール熱の出力(I2×R2)である。原則として、低出力の ペルティエ素子1(低出力の各ペルティエ素子)の熱を運び去る能力は、さらに 他の問題点として、例えば、上記のジュール熱を同時に運び去るには小さすぎる 。結果として、発熱動作中に熱の流れが込み入る熱の集中が発生する。本願発明 は、このような熱の集中状態を回避しており、その点についてさらに以下後述す る。 熱電的に作動する加熱および冷却室は、図3に基づく断面構成図に示すように 、断熱性を有する覆い部3を有し,その覆い部3は受け板4をその周辺部全辺に てシールした状態にて内蔵している。上記覆い部3は、典型的には、3から30リ ットルの内部空間を内蔵し、その内部空間が、上記覆い部3の優れた断熱効果に よって温度を極めて正確に、かつ安定に冷却されたり、加熱されたりできるもの である。また、上記内部空間はさらに大きな容量であってもよい。 上記受け板4の下部には、比較的、低出力の、かつ、面状の各ペルティエ素子 1の第1の内側の層状配列が設けられている。低出力の各ペルティエ素子1は、 優れた断熱性を有するプレート状の枠の予め形成された凹部に正確に取り付けら れている。それらペルティエ素子は、公知の方法にてカスケード配列となるよう に電気的に互いに接続されている。 第1の低出力の各ペルティエ素子1の内側の層状体は、中間プレート6によっ て第2の高出力の面状の各ペルティエ素子2から分離されている。上記中間プレ ート6は、特に、内部応力の無いアルミ鋳物から調製される。 上記各ペルティエ素子2は、同様に、優れた断熱性を有するプレート状の枠に より形成される凹部内の対応した位置に正確に取り付けられている。上記の高出 力の各ペルティエ素子2も、カスケード状に電気的に互いに接続され、その上、 第1の各ペルティエ素子1に対してカスケード配列の状態にて接続されている。 大きな断熱性を有する周辺部でのシールが、部材番号5により示されている。 層状構造の第1の各ペルティエ素子1、中間プレート6、第2の各ペルティエ 素子2の下部に、蓄熱器7が取り付けられている。上記蓄熱器7は、流出熱量を 外部に取り出すためのものである。 上記の各ペルティエ素子の一つの層、例えば各ペルティエ素子1の内部の層状 配列は、10以上のペルティエ素子を含むことができる。上記各ペルティエ素子 1・2に対して高温部の発生、特に、各ペルティエ素子1または各ペルティエ素 子2の周辺部領域での高温部の発生を回避するために、それぞれのペルティエ素 子層は共通の中間プレートに対し密に適合させた当接状態になっている。これに より、それぞれの上記素子に対する熱抵抗性は、ほぼ等しくなっている。上記中 間プレート6は、全ての各ペルティエ素子と、それらの周辺部において少なくと も1cmまで重なり合っている。この結果、上記各ペルティエ素子1または各ペル ティエ素子2の周辺部での過熱は効果的に防止される。 本願発明によれば、低出力の各ペルティエ素子1に対する上述のような過熱の 問題は、発熱動作において、より大きなペルティエ素子2のジュール熱を減少さ せる、または全く低減させることによって完全に回避することができる。 本願発明では、発熱動作において所望されるジュール熱のこのような低減は種 々の方法にて実現可能である。すなわち、一つには、単一のまたは複数のバイパ スダイオードによる方法、また、他には、ペルティエ素子2の電流値を制限する 方法を挙げることができる。 図4には、低出力の各ペルティエ素子1と高出力の各ペルティエ素子2とのカ スケード接続のための独自の回路例が示されている。前記受け板4が冷却される と、低出力の各ペルティエ素子1は、熱エネルギーを受け板4から中間プレート 6に輸送する。高出力の各ペルティエ素子2は、それら自身の流出熱量の一部、 および、前述したように低出力の各ペルティエ素子1の流出熱量を運び去る必要 がある。このために、高出力の各ペルティエ素子2は、上記の必要に関し有利と なるように、蓄熱器7に近く配置されたペルティエ素子1に対し、より大きな表 面積を有するようにも形成されている。 発熱中では、熱エネルギーの流れは、前述したように逆方向に進行する。この 場合、各ペルティエ素子1によって中間プレート6上に許容できない熱の集中で ある過熱という危険性が生じる。これは、上記各ペルティエ素子1が、高出力の 各ペルティエ素子2の顕著に大きな流出熱量を外部に輸送して逃がすことができ ないからである。 このような危険性に対して、本願発明の第1の基本的な実施例では、図4に示 すように、パワーダイオード10が各ペルティエ素子2の回路に対して並列にバ イパスとして接続されている。なお、所望する温度範囲や、他の設計事項に応じ て、高出力の各ペルティエ素子2のいくつかに対してバイパスダイオードを並列 に設けても十分の場合がある。このような接続形式では、発熱状態中に、各ペル ティエ素子1のみが作動するという効果が達成される。このことにより、より高 い動作温度にて作動させても安全であるという利点が生じる。 それゆえ、図4および図5に示されるように、最も簡素な方法は、各ペルティ エ素子2に対してパワーダイオード10を並列に、かつ、発熱動作中に、上記ダ イオード10を順方向に作動するように接続する。結果として、各ペルティエ素 子に対する電流が、各ペルティエ素子2を通過しないことになる。 バイパスダイオードを有する発熱動作における熱の流れは、図5から理解でき る。前記の仮定であるT1≫T2の条件下では、次のことが順次起こるようになっ ている。それは、ペルティエ素子1が、熱量Q2を汲み出す必要があり、ペルテ ィエ素子2が何も汲み出す必要がなく、上記蓄熱器7は、熱量Qq=Q2+I2 ・R1を吸熱する必要がある。 このことから、ジュール熱I2・R1と、ペルティエ素子1の有用な運び去る 熱量Q2とのみが、蓄熱器7に流入することになる。 このような状態の上記各ペルティエ素子1は、正常な許容できる動作状態で作 動する。 上記のバイパスダイオード10の設置位置は、次の各適用に応じて種々に選択 することができる。 a)電源において(図6参照) b)個々の各ペルティエ素子2の外部において(図7参照) c)個々の、ま たは全てのペルティエ素子2に内蔵された状態において(図8参照) a) (図6参照)では、明らかなように、より高い耐電圧のバイパスダイオ ー ド10が単一にて用いられ、上記バイパスダイオード10を接続するための配線 が長くなるが、各ペルティエ素子2にて生じる温度の影響と無関係となるという 利点がある。 b)(図7参照)では、明らかなように、対応したカスケード配列にて用いら れる各ペルティエ素子と同様に多数のバイパスダイオード10が必要となる。上 記各バイパスダイオード10は、それぞれ関係のある各ペルティエ素子の温度の 影響を受けるが、各ペルティエ素子2の配列と電源との間の配線の引回し長さが 小さいという特徴がある。 c)(図8参照)では、内蔵されたバイパスダイオード10の設置形式は、配 線の引回し長さを最小化できるという技術的に大きな利点を発揮できる解決方法 である。この設置形式では、ダイオード10は、より高い温度であっても確実に 作動するように選択されることから、そのような設置形式でも何ら不都合は生じ ない。 上記バイパスダイオード10のペルティエ素子への一体化は、上記ペルティエ 素子の作製時に行うことができ、発熱目的にも用いられるカスケード形式(ピラ ミッド形式)にて各ペルティエ素子の配列を形成する場合に特に適している。 本願発明の他の基本的な変形例を次に説明すると、図9および図10に示すよ うに、上記変形例では、高出力の各ペルティエ素子2が、低出力の各ペルティエ 素子1の発熱側の温度として機能するように上記各ペルティエ素子2への電流が 規制、または設定される。 上記変形例の場合では、バイパスダイオードによる前述の解決法の欠点が生じ る可能性が回避される。そのような欠点とは、過剰な温度上昇により低出力の各 ペルティエ素子1にとって危険な状態となる前に、高出力の各ペルティエ素子2 が、もはや低出力の各ペルティエ素子1と協動的に動作しなくなるということで ある。例えば、温度T1を急速に上昇させようとした場合、各ペルティエ素子2 をできるうる限り長い間良好に作動させることがもちろん必要となる。 このような要求を満足する第1の可能な方法は、各ペルティエ素子1の発熱側 の温度T3として機能する各ペルティエ素子2のための電流を、発熱中における 許容できる最大温度値を越えないように制限することである。このようような動 作モードは図10に示されている。 温度センサー16は、各ペルティエ素子1の発熱側の温度T3を測定し、電流 制限器18を制御する。上記電流制限器18は、明らかなように、各ペルティエ 素子2を通る電流値12を、つまり温度T3を予め設定した上限温度Tlimit( T3<Tlimit)より常に下回るように設定する調整素子17を有している。 2つのグループを形成する各ペルティエ素子1・2をそれぞれ作動させるには 、2つの電源が必要となる。しかしながら、上記の必要の代わりに、2つの互い に異なる仕様の各ペルティエ素子をそれらの最適な動作点にて個々に作動させる ことが可能となる。 前述のような要求を満足する第2のより簡素な可能な方法としては、図9の基 本的な構成図に示すように、単一の電源を用いるものが考えられる。この場合、 NTCサーミスタ25が、各ペルティエ素子1の発熱側の温度T3を確実に測定 し得るように設置されている。上記NTCサーミスタ25の動作点は、温度T3 が前記の上限温度に近づくと、NTCサーミスタ25の抵抗値が小さくなり、各 ペルティエ素子2に流れる電流を、もはや各ペルティエ素子1の過熱状態を招か ない大きさまで小さくするように設定されている。 次に、本願発明に係る熱電加熱冷却室の他の実施例を図11に示す。この熱電 加熱冷却室では、図3に示した各部材と同様のものについては、それらを再度説 明することを省く。内部を観察するための観察窓8が覆い部3の上部に設けられ ている。 各ペルティエ素子1・2のそれぞれに対する個々のプレート状の枠を部材番号 12・11にてそれぞれ示す。各ペルティエ素子1・2に印加される電流値を正 確に制御することを可能とするために、熱電加熱冷却室の内部の実際温度が較正 された温度センサー9によって検出される。蓄熱器7の下部には、各脚部(図示 せず)の間に2つの水平な回転ファン14が流出熱量の適切な除去を保証するた め必要に応じて設けられている。 本願発明に係る熱電加熱冷却室のさらに他の実施例を図12および図13に示 す。この実施例では、図12および図13に示すように、空気流、または必要に 応じ回転ファン14による強制空気流によって蓄熱器7を冷却する代わりに、水 冷手段15または低容量の冷媒冷却手段が用いられている。 上記各実施例の構成を互いに許容できる範囲にて適合させた中間プレート6、 および、低出力の各ペルティエ素子1と高出力の各ペルティエ素子2との独自の 配列の重なり合う領域を有する層状の配列を有する本願発明の熱電加熱冷却装置 は、極めて広い温度範囲、例えば、空冷では−15℃から95℃まで、または水冷で は−40℃から+95℃までの広い温度範囲にて作動させることができる。このよう な広い温度範囲は、今まのところ、上記のような形式の従来の冷却/加熱装置で は達成されていない。
【手続補正書】特許法第184条の8 【提出日】1994年9月19日 【補正内容】 請求の範囲 1.電気的な加熱冷却装置は、上記装置が取り付けられた基体に設けられた複数 の各ペルティエ素子(1,2)が、一方の後方に他のものが配置されるカスケー ド配列にて接続され、かつ、発熱または冷却領域に分配されるように配列されて おり、上記装置の外面に熱伝達手段7が設けられ、上記各ペルティエ素子(1, 2)では、出力段階の互いに異なる2つに分けられた各グループが、互いに平行 な2つの層状に配列され、低出力の各ペルティエ素子(1)が、第1の内側の発 熱または冷却領域に、高出力の各ペルティエ素子(2)が、第2の外側の発熱ま たは冷却領域になるように配され、高出力の上記各ペルティエ素子(2)が上記 熱伝達手段7によって覆われているものであって、 上記加熱冷却装置は、断熱性を有する加熱/冷却室に設置され、上記高出力の 各ペルティエ素子(2)の少なくともいくつかが、バイパスダイオード(10) によって電気的にバイパスされ、かつ、上記バイパスダイオード(10)によっ て電気的にバイパスされたペルティエ素子(2)を、発熱動作中、無電流の状態 に維持するように上記バイパスダイオード(10)の極性が合わされていること を特徴としている。 2.熱電加熱冷却装置は、請求項1記載の熱電加熱冷却装置であって、上記バイ パスダイオード(10)が、カスケードに接続された高出力の各ペルティエ素子 (2)の全てを電気的にバイパスしていることを特徴としている。 3.熱電加熱冷却装置は、請求項1記載の熱電加熱冷却装置であって、上記高出 力の各ペルティエ素子(2)の少なくともいくつかが、それらに個々に割り当て られたバイパスダイオード(10)によって電気的にバイパスされていることを 特徴としている。 4.熱電加熱冷却装置は、請求項3記載の熱電加熱冷却装置であって、上記各バ イパスダイオード(10)がそれぞれに割り当てられた各ペルティエ素子に対し それぞれ一体化されていることを特徴としている。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.電気的な加熱冷却装置は、複数の各ペルティエ素子(1,2)を有する基盤 領域に取り付けられ、上記各ペルティエ素子は、一方の後方に他方が接続された カスケード配列を発熱または冷却領域に分布するように配列されて有し、上記熱 電加熱冷却装置の外面に熱伝達手段7が設けられ、上記各ペルティエ素子(1, 2)では、互いに異なる出力の2つのグループに分けられ、互いに平行な2つの 層状に配列され、低出力の各ペルティエ素子(1)が、第1の内側の発熱または 冷却領域に、高出力の各ペルティエ素子(2)が、第2の外側の発熱または冷却 領域になるように配され、高出力の上記各ペルティエ素子(2)が上記熱伝達手 段7によって覆われているものであって、 低出力の各ペルティエ素子(1)の許容できない温度上昇を、上記熱電加熱冷 却装置の温度範囲内の全てにおいて回避されるように、低出力の各ペルティエ素 子(1)の発熱側の温度(T2)として機能する高出力の各ペルティエ素子(2 )に流れる電流を制限する手段(10;25;16−18)が設けられているこ とを特徴としている。 2.熱電加熱冷却装置は、請求項1記載の熱電加熱冷却装置であって、電流制限 手段が、高出力の各ペルティエ素子(2)の少なくとも一つを電気的にバイパス するバイパスダイオード(10)を発熱動作中に関連する上記ペルティエ素子( 2)に電流が流れないように極性が合わされて含むことを特徴としている。 3.熱電加熱冷却装置は、請求項2記載の熱電加熱冷却装置であって、上記バイ パスダイオード(10)が、高出力の各ペルティエ素子(2)の全てを電気的に バイパスしていることを特徴としている。 4.熱電加熱冷却装置は、請求項2記載の熱電加熱冷却装置であって、上記高出 力の各ペルティエ素子(2)の少なくともいくつかが、それらに個々に割り当て られたバイパスダイオード(10)によって電気的にバイパスされていることを 特徴としている。 5.熱電加熱冷却装置は、請求項4記載の熱電加熱冷却装置であって、上記各バ イパスダイオード(10)がそれぞれ割り当てられた各ペルティエ素子にそれぞ れ一体化されていることを特徴としている。 6.電気的な加熱冷却装置は、複数の各ペルティエ素子(1,2)を有する基盤 領域に取り付けられ、上記各ペルティエ素子は、一方の後方に他方が接続された カスケード配列を、発熱または冷却領域に分配されるように配列されて有し、上 記熱電加熱冷却装置の外面に熱伝達手段7が設けられ、上記各ペルティエ素子( 1,2)では、出力段階の互いに異なる2つに分けられた各グループが、互いに 平行な2つの層状に配列され、低出力の各ペルティエ素子(1)が、第1の内側 の発熱または冷却領域に、高出力の各ペルティエ素子(2)が、第2の外側の発 熱または冷却領域になるように配され、高出力の上記各ペルティエ素子(2)が 上記熱伝達手段7によって覆われているものであって、 上記加熱冷却装置は、断熱性を有する加熱/冷却室に設置され、上記高出力の 各ペルティエ素子(2)の少なくともいくつかが、発熱動作中に関連する上記ペ ルティエ素子(2)に電流が流れないように極性が合わされたバイパスダイオー ド(10)によってバイパスされていることを特徴としている。 7.熱電加熱冷却装置は、請求項1または6記載の熱電加熱冷却装置であって、 板状の上記各ペルティエ素子(1,2)の2つのグループが、断熱性を有するプ レート状の枠(11,12)の各凹部にそれぞれ取り付けられていることを特徴 としている。 8.熱電加熱冷却装置は、請求項1または6記載の熱電加熱冷却装置であって、 上記各ペルティエ素子(1,2)における互いに異なる出力を有する2つのグル ープが、熱良導体であり、かつ、機械的な内部応力が無い素材からなる中間プレ ート(6)によって互いに分離されていることを特徴としている。 9.熱電加熱冷却装置は、請求項8記載の熱電加熱冷却装置であって、上記中間 プレート(6)の表面積が、上記中間プレート(6)が全ての各ペルティエ素子 (1,2)とそれらの周辺部にて重なり合うように、上記2つのグループの各ペ ルティエ素子(1,2)の面状の配列によって占められる合計面積より大きくな のようになっていることを特徴としている。 10.熱電加熱冷却装置は、請求項7記載の熱電加熱冷却装置であって、蓄熱器 が、熱伝達手段(7)として、上記高出力の各ペルティエ素子(2)のグループ のためのプレート状の枠(11)の外側に全体を覆うように設けられていること を特徴としている。 11.熱電加熱冷却装置は、請求項1記載の熱電加熱冷却装置であって、上記電 流制限手段(16−18)が、高出力の各ペルティエ素子(2)に流れる電流の ための電流制御器または電流制限器(17,18)を制御し、低出力の各ペルテ ィエ素子(1)の発熱側の温度(T3)を検出する温度センサー(16)を有す ることを特徴としている。 12.熱電加熱冷却装置は、請求項1記載の熱電加熱冷却装置であって、カスケ ードに接続された上記高出力の各ペルティエ素子(2)の少なくともいくつかが 、NTCサーミスタ(25)によって電気的にバイパスされており、上記NTC サーミスタ(25)は、低出力の各ペルティエ素子(1)の発熱側の温度と、温 度が上限に近づくと、上記NTCサーミスタの抵抗が小さくなって、高出力の各 ペルティエ素子(2)に流れる電流が、低出力の各ペルティエ素子(1)の過熱 を排除できる大きさまでに減少させるように選択された動作点とを検出するもの であることを特徴としている。
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