JPH0836729A - 記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH0836729A JPH0836729A JP17108294A JP17108294A JPH0836729A JP H0836729 A JPH0836729 A JP H0836729A JP 17108294 A JP17108294 A JP 17108294A JP 17108294 A JP17108294 A JP 17108294A JP H0836729 A JPH0836729 A JP H0836729A
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- Japan
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- film
- diamond
- magnetic
- carbon film
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 潤滑機能の耐久性に富む保護膜を有する記録
媒体を提供することである。 【構成】 支持体上に設けられた記録膜と、この記録膜
上に設けられたダイヤモンドライクカーボン膜と、この
ダイヤモンドライクカーボン膜に形成された微細凹部に
介在させられてなる潤滑剤とを具備する記録媒体。
媒体を提供することである。 【構成】 支持体上に設けられた記録膜と、この記録膜
上に設けられたダイヤモンドライクカーボン膜と、この
ダイヤモンドライクカーボン膜に形成された微細凹部に
介在させられてなる潤滑剤とを具備する記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ダイヤモンドライクカ
ーボン膜が表面に構成されてなる記録媒体に関するもの
である。
ーボン膜が表面に構成されてなる記録媒体に関するもの
である。
【０００２】
【発明の背景】磁気ディスク等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性膜として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性膜として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
【０００３】すなわち、無電解メッキといった湿式メッ
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性膜を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。ところで、この種の金属薄
膜型磁気記録媒体における金属磁性膜を保護する為に、
従来より各種の保護膜を表面に設けることが提案されて
いる。
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性膜を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。ところで、この種の金属薄
膜型磁気記録媒体における金属磁性膜を保護する為に、
従来より各種の保護膜を表面に設けることが提案されて
いる。
【０００４】例えば、ダイヤモンドライクカーボン膜も
これらの提案の一つである。このダイヤモンドライクカ
ーボン膜を表面に設ける手段としては各種のものが有
り、その一つとしてＣＶＤ（マイクロ波ＥＣＲプラズマ
ＣＶＤ、あるいはマイクロ波ＣＶＤ）手段やスパッタ手
段が有る。すなわち、図２に示す如く、金属磁性膜が支
持体上に設けられた磁気記録媒体１を真空容器２内に配
設された供給側ロール３ａから冷却キャンローラ４を経
て巻取側ロール３ｂに走行させ、そしてＣＶＤ装置５を
作動させ、冷却キャンローラ４に添接されている磁気記
録媒体１の金属磁性膜に対して炭化水素ガスのプラズマ
を吹き付けると、金属磁性膜の表面にダイヤモンドライ
クカーボン膜が形成される。尚、図２中、６はマイクロ
波電源、７はバイアス電源、８はガス導入管である。
これらの提案の一つである。このダイヤモンドライクカ
ーボン膜を表面に設ける手段としては各種のものが有
り、その一つとしてＣＶＤ（マイクロ波ＥＣＲプラズマ
ＣＶＤ、あるいはマイクロ波ＣＶＤ）手段やスパッタ手
段が有る。すなわち、図２に示す如く、金属磁性膜が支
持体上に設けられた磁気記録媒体１を真空容器２内に配
設された供給側ロール３ａから冷却キャンローラ４を経
て巻取側ロール３ｂに走行させ、そしてＣＶＤ装置５を
作動させ、冷却キャンローラ４に添接されている磁気記
録媒体１の金属磁性膜に対して炭化水素ガスのプラズマ
を吹き付けると、金属磁性膜の表面にダイヤモンドライ
クカーボン膜が形成される。尚、図２中、６はマイクロ
波電源、７はバイアス電源、８はガス導入管である。
【０００５】ところで、このようなＣＶＤ手段を用いて
形成されてなるダイヤモンドライクカーボン膜は、硬質
なものであることから、優れた保護機能を奏するもの
の、滑性機能には劣るものである。すなわち、カーボン
膜は摺動する磁気ヘッドとの摩擦が大きく、この為に走
行性が低下し、再生特性を劣化せしめたり、又、磁気ヘ
ッドや磁気記録媒体の損傷を引き起こすことになる。こ
の為、カーボン膜上に潤滑剤を塗布することが行われて
いる。
形成されてなるダイヤモンドライクカーボン膜は、硬質
なものであることから、優れた保護機能を奏するもの
の、滑性機能には劣るものである。すなわち、カーボン
膜は摺動する磁気ヘッドとの摩擦が大きく、この為に走
行性が低下し、再生特性を劣化せしめたり、又、磁気ヘ
ッドや磁気記録媒体の損傷を引き起こすことになる。こ
の為、カーボン膜上に潤滑剤を塗布することが行われて
いる。
【０００６】しかしながら、塗布されているに過ぎない
潤滑剤は、走行中に少量ではあるが飛散し、僅かずつと
は言え消失し、遂には潤滑機能を喪失してしまう。特
に、摺動する磁気ヘッドによって掻き取られることが多
く、この点からも潤滑機能の喪失スピードは比較的速く
なる。
潤滑剤は、走行中に少量ではあるが飛散し、僅かずつと
は言え消失し、遂には潤滑機能を喪失してしまう。特
に、摺動する磁気ヘッドによって掻き取られることが多
く、この点からも潤滑機能の喪失スピードは比較的速く
なる。
【０００７】
【発明の開示】本発明の目的は、潤滑機能の耐久性に富
む保護膜を有する記録媒体を提供することである。この
本発明の目的は、支持体上に設けられた記録膜と、この
記録膜上に設けられたダイヤモンドライクカーボン膜
と、このダイヤモンドライクカーボン膜に形成された微
細凹部に介在させられてなる潤滑剤とを具備することを
特徴とする記録媒体によって達成される。
む保護膜を有する記録媒体を提供することである。この
本発明の目的は、支持体上に設けられた記録膜と、この
記録膜上に設けられたダイヤモンドライクカーボン膜
と、このダイヤモンドライクカーボン膜に形成された微
細凹部に介在させられてなる潤滑剤とを具備することを
特徴とする記録媒体によって達成される。
【０００８】又、支持体上に記録膜を設ける第１工程
と、記録膜上にダイヤモンドライクカーボン膜を設ける
第２工程と、このダイヤモンドライクカーボン膜を乾式
エッチングする第３工程と、エッチングされたダイヤモ
ンドライクカーボン膜上に潤滑剤を設ける第４工程とを
具備することを特徴とする記録媒体の製造方法によって
達成される。
と、記録膜上にダイヤモンドライクカーボン膜を設ける
第２工程と、このダイヤモンドライクカーボン膜を乾式
エッチングする第３工程と、エッチングされたダイヤモ
ンドライクカーボン膜上に潤滑剤を設ける第４工程とを
具備することを特徴とする記録媒体の製造方法によって
達成される。
【０００９】本発明において、記録膜上に設けられるダ
イヤモンドライクカーボン膜の形成は如何なる手段が用
いられても良いが、ベンゼン等の環状炭化水素を原料ガ
スとしたＣＶＤ（マイクロ波ＥＣＲプラズマＣＶＤ、あ
るいはマイクロ波ＣＶＤ）手段やスパッタ手段を適宜採
用できる。そして、このような手段で形成されるダイヤ
モンドライクカーボン膜は、ダイヤモンド結合を有して
おれば良く、その他にもグラファイト結合を有していて
も良い。又、用いる原料ガス中にＮ元素やＢ元素が含ま
れていて、ダイヤモンドライクカーボン膜にＮ成分やＢ
成分が含まれていても良い。
イヤモンドライクカーボン膜の形成は如何なる手段が用
いられても良いが、ベンゼン等の環状炭化水素を原料ガ
スとしたＣＶＤ（マイクロ波ＥＣＲプラズマＣＶＤ、あ
るいはマイクロ波ＣＶＤ）手段やスパッタ手段を適宜採
用できる。そして、このような手段で形成されるダイヤ
モンドライクカーボン膜は、ダイヤモンド結合を有して
おれば良く、その他にもグラファイト結合を有していて
も良い。又、用いる原料ガス中にＮ元素やＢ元素が含ま
れていて、ダイヤモンドライクカーボン膜にＮ成分やＢ
成分が含まれていても良い。
【００１０】ダイヤモンドライクカーボン膜が形成され
た後、この表面層に微細なホールを形成する為にプラズ
マエッチング、プラズマエッチングの一種であるリアク
ティブイオンエッチング、あるいはイオンビームエッチ
ングが行われる。例えば、反応ガスとして酸素や水素を
用い、ガス圧１００〜１０００ｍＴｏｒｒ、高周波電力
１００〜１０００Ｗ（１３．５６ＭＨｚ）のエッチング
条件でプラズマエッチングを行うことにより、ダイヤモ
ンドライクカーボン膜の表層部に直径が約１〜３ｎｍ、
深さが約１〜５ｎｍの微細なホールが面密度約１０〜３
００個／μｍ2で形成されるようになる。
た後、この表面層に微細なホールを形成する為にプラズ
マエッチング、プラズマエッチングの一種であるリアク
ティブイオンエッチング、あるいはイオンビームエッチ
ングが行われる。例えば、反応ガスとして酸素や水素を
用い、ガス圧１００〜１０００ｍＴｏｒｒ、高周波電力
１００〜１０００Ｗ（１３．５６ＭＨｚ）のエッチング
条件でプラズマエッチングを行うことにより、ダイヤモ
ンドライクカーボン膜の表層部に直径が約１〜３ｎｍ、
深さが約１〜５ｎｍの微細なホールが面密度約１０〜３
００個／μｍ2で形成されるようになる。
【００１１】このようにしてプラズマエッチングが行わ
れたダイヤモンドライクカーボン膜に対して潤滑剤、特
にフッ素系の潤滑剤を塗布することにより、ダイヤモン
ドライクカーボン膜に形成された微細ホール（凹部）に
潤滑剤が介在させられる。尚、潤滑剤を塗布した後、超
音波振動を作用させたり、ロール等による圧力を作用さ
せたりすることが好ましい。すなわち、このようにする
ことによって、潤滑剤を確実にダイヤモンドライクカー
ボン膜の微細ホール中に介在せしめる（染み込ませる）
ことが出来る。
れたダイヤモンドライクカーボン膜に対して潤滑剤、特
にフッ素系の潤滑剤を塗布することにより、ダイヤモン
ドライクカーボン膜に形成された微細ホール（凹部）に
潤滑剤が介在させられる。尚、潤滑剤を塗布した後、超
音波振動を作用させたり、ロール等による圧力を作用さ
せたりすることが好ましい。すなわち、このようにする
ことによって、潤滑剤を確実にダイヤモンドライクカー
ボン膜の微細ホール中に介在せしめる（染み込ませる）
ことが出来る。
【００１２】用いることが出来る潤滑剤としては、例え
ば分子量２０００〜５０００のパーフルオロポリエーテ
ル、例えば-(C(R)F-CF2-O)p - （但し、ＲはＦ，Ｃ
Ｆ3 ，ＣＨ3 などの基）、特にHOOC-CF2(O-C2F4)p (OCF
2) q -OCF2-COOH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2COOH とい
ったようなカルボキシル基変性パーフロオロポリエーテ
ル、HOCH2-CF2(O-C2F4) p (OCF2) q -OCF2-CH2OH，HO-
(C2H4-O) m -CH2-(O-C2F4) p (OCF2) q -OCH2-(OCH2CH2)
n -OH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2CH2OHといったような
アルコール変性パーフロオロポリエーテル等が挙げられ
る。具体的には、モンテカチーニ社のＦＯＭＢＬＩＮ
Ｚ ＤＩＡＣやＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＯＬ等がある。
ば分子量２０００〜５０００のパーフルオロポリエーテ
ル、例えば-(C(R)F-CF2-O)p - （但し、ＲはＦ，Ｃ
Ｆ3 ，ＣＨ3 などの基）、特にHOOC-CF2(O-C2F4)p (OCF
2) q -OCF2-COOH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2COOH とい
ったようなカルボキシル基変性パーフロオロポリエーテ
ル、HOCH2-CF2(O-C2F4) p (OCF2) q -OCF2-CH2OH，HO-
(C2H4-O) m -CH2-(O-C2F4) p (OCF2) q -OCH2-(OCH2CH2)
n -OH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2CH2OHといったような
アルコール変性パーフロオロポリエーテル等が挙げられ
る。具体的には、モンテカチーニ社のＦＯＭＢＬＩＮ
Ｚ ＤＩＡＣやＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＯＬ等がある。
【００１３】磁気記録媒体を構成する支持体は、非磁性
のものであり、例えばポリエチレンテレフタレート等の
ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォ
ン、ポリカーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン
系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂と
いった高分子材料、ガラスやセラミック等の無機系材
料、アルミニウム合金などの金属材料が用いられる。
尚、支持体面上には磁性膜の密着性を向上させる為のア
ンダーコート層が設けられている。すなわち、表面の粗
さを適度に粗すことにより乾式メッキにより構成される
磁性膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の
表面粗さを適度なものとして走行性を改善する為、例え
ばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜
０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダーコート
層が構成されている。
のものであり、例えばポリエチレンテレフタレート等の
ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォ
ン、ポリカーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン
系の樹脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂と
いった高分子材料、ガラスやセラミック等の無機系材
料、アルミニウム合金などの金属材料が用いられる。
尚、支持体面上には磁性膜の密着性を向上させる為のア
ンダーコート層が設けられている。すなわち、表面の粗
さを適度に粗すことにより乾式メッキにより構成される
磁性膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の
表面粗さを適度なものとして走行性を改善する為、例え
ばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５〜
０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダーコート
層が構成されている。
【００１４】アンダーコート層の上に、例えば斜め蒸着
手段によって金属薄膜型の磁性膜（記録膜）が設けられ
る。例えば、１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空雰囲気
下において磁性金属を抵抗加熱、高周波加熱、電子ビー
ム加熱などにより蒸発させ、金属磁性粒子を支持体面上
に堆積（蒸着）させることにより、金属磁性膜が形成さ
れる。金属磁性膜の材料として、例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎ
ｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合
金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、あるいはこれ
らにＡｌ等の金属を含有させたもの等が用いられる。
尚、金属磁性膜の形成は、上記した蒸着法による他、直
流スパッタ法、交流スパッタ法、高周波スパッタ法、直
流マグネトロンスパッタ法、高周波マグネトロンスパッ
タ法、イオンビームスパッタ法などの各種の手段を採用
できる。
手段によって金属薄膜型の磁性膜（記録膜）が設けられ
る。例えば、１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空雰囲気
下において磁性金属を抵抗加熱、高周波加熱、電子ビー
ム加熱などにより蒸発させ、金属磁性粒子を支持体面上
に堆積（蒸着）させることにより、金属磁性膜が形成さ
れる。金属磁性膜の材料として、例えばＦｅ，Ｃｏ，Ｎ
ｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐｔ合金、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｎｉ合
金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合金、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、あるいはこれ
らにＡｌ等の金属を含有させたもの等が用いられる。
尚、金属磁性膜の形成は、上記した蒸着法による他、直
流スパッタ法、交流スパッタ法、高周波スパッタ法、直
流マグネトロンスパッタ法、高周波マグネトロンスパッ
タ法、イオンビームスパッタ法などの各種の手段を採用
できる。
【００１５】そして、上記のように構成させた本発明に
あっては、潤滑剤が表面からなくなり難く、従って潤滑
機能が長期間にわたって保証され、走行特性が良く、記
録再生特性に優れた特長が奏される。特に、潤滑機能を
長期間にわたって保証する為に介在させる潤滑剤の量を
多くするにもかかわらず、ホールの体積分だけその厚さ
を従来の場合よりも薄く出来、スペーシングロスをそれ
だけ少なく出来る。従って、記録・再生特性も良いもの
となる。
あっては、潤滑剤が表面からなくなり難く、従って潤滑
機能が長期間にわたって保証され、走行特性が良く、記
録再生特性に優れた特長が奏される。特に、潤滑機能を
長期間にわたって保証する為に介在させる潤滑剤の量を
多くするにもかかわらず、ホールの体積分だけその厚さ
を従来の場合よりも薄く出来、スペーシングロスをそれ
だけ少なく出来る。従って、記録・再生特性も良いもの
となる。
【００１６】以下、具体的な実施例を挙げて本発明を説
明する。
明する。
【００１７】
〔実施例１〕図１は、本発明になる記録媒体（磁気記録
媒体）を示す概略図である。先ず、通常の斜め蒸着装置
を用いて１０μｍ厚さのＰＥＴフィルム１１にＣｏ粒子
を堆積（電子線加熱による斜め蒸着）させ、２０００Å
厚さのＣｏ磁性膜１２が設けられる。
媒体）を示す概略図である。先ず、通常の斜め蒸着装置
を用いて１０μｍ厚さのＰＥＴフィルム１１にＣｏ粒子
を堆積（電子線加熱による斜め蒸着）させ、２０００Å
厚さのＣｏ磁性膜１２が設けられる。
【００１８】この後、これを図２に示されるようなＣＶ
Ｄ装置に装填し、Ｃｏ磁性膜１２面上にダイヤモンドラ
イクカーボン膜１３を１００Å厚さ設けた。尚、このダ
イヤモンドライクカーボン膜１３の形成時の条件は次の
通りである。マイクロ波出力は１．０ｋＷ、マイクロ波
周波数は２．４５ＧＨｚ、ＥＣＲ磁場は８７５Ｇ、反応
ガスはベンゼンと二酸化炭素（Ｃ6 Ｈ6 の流量が１０ｓ
ｃｃｍ、ＣＯ2 の流量が１０ｓｃｃｍ、Ａｒの流量が４
０ｓｃｃｍ）、成膜時の真空度は５ｍＴｏｒｒである。
Ｄ装置に装填し、Ｃｏ磁性膜１２面上にダイヤモンドラ
イクカーボン膜１３を１００Å厚さ設けた。尚、このダ
イヤモンドライクカーボン膜１３の形成時の条件は次の
通りである。マイクロ波出力は１．０ｋＷ、マイクロ波
周波数は２．４５ＧＨｚ、ＥＣＲ磁場は８７５Ｇ、反応
ガスはベンゼンと二酸化炭素（Ｃ6 Ｈ6 の流量が１０ｓ
ｃｃｍ、ＣＯ2 の流量が１０ｓｃｃｍ、Ａｒの流量が４
０ｓｃｃｍ）、成膜時の真空度は５ｍＴｏｒｒである。
【００１９】この後、プラズマエッチングにより３時間
かけてダイヤモンドライクカーボン膜１３をエッチング
した。尚、このプラズマエッチングの条件は次の通りで
ある。マイクロ波出力は１．０ｋＷ、マイクロ波周波数
は２．４５ＧＨｚ、ＥＣＲ磁場は８７５Ｇ、エッチング
ガスは水素（Ｈ2 の流量が１００ｓｃｃｍ）、エッチン
グ時の真空度は５ｍＴｏｒｒである。このプラズマエッ
チングにより、直径が約１．２〜１．４ｎｍ、深さが約
１．０〜１．５ｎｍの微細なホール１４が面密度約１０
０〜１５０／μｍ2 の割合で形成されていた。
かけてダイヤモンドライクカーボン膜１３をエッチング
した。尚、このプラズマエッチングの条件は次の通りで
ある。マイクロ波出力は１．０ｋＷ、マイクロ波周波数
は２．４５ＧＨｚ、ＥＣＲ磁場は８７５Ｇ、エッチング
ガスは水素（Ｈ2 の流量が１００ｓｃｃｍ）、エッチン
グ時の真空度は５ｍＴｏｒｒである。このプラズマエッ
チングにより、直径が約１．２〜１．４ｎｍ、深さが約
１．０〜１．５ｎｍの微細なホール１４が面密度約１０
０〜１５０／μｍ2 の割合で形成されていた。
【００２０】そして、表面にフッ素系潤滑剤（ＦＯＭＢ
ＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ）を塗布し、この後５０ｋＨｚの
超音波振動を３０分間作用させた。 〔実施例２〕実施例１において、エッチングガスとして
酸素を用いた他は同様に行った。 〔比較例１〕実施例１において、プラズマエッチングを
行わなかった他は同様に行った。
ＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣ）を塗布し、この後５０ｋＨｚの
超音波振動を３０分間作用させた。 〔実施例２〕実施例１において、エッチングガスとして
酸素を用いた他は同様に行った。 〔比較例１〕実施例１において、プラズマエッチングを
行わなかった他は同様に行った。
【００２１】〔特性〕上記各例で得られた磁気テープの
スチル耐久性を調べたので、その結果を表１に示す。 表 １ スチル耐久性 実施例１ １時間以上 実施例２ １時間以上 比較例１ ４０分 ＊スチル耐久性は、ソニー製８ｍｍＶＴＲデッキ（ＥＶ
−Ｓ９００）を用い、４０℃、５％ＲＨの環境下で、初
期再生出力から３ｄＢ低下するまでの時間これによれ
ば、本発明になるものは、長時間にわたるスチル耐久性
に優れた結果を示しており、走行性は良く、記録・再生
特性に優れたものとなり、又、ヘッドや記録媒体に損傷
が引き起こされ難く、耐久性に富むものである。
スチル耐久性を調べたので、その結果を表１に示す。 表 １ スチル耐久性 実施例１ １時間以上 実施例２ １時間以上 比較例１ ４０分 ＊スチル耐久性は、ソニー製８ｍｍＶＴＲデッキ（ＥＶ
−Ｓ９００）を用い、４０℃、５％ＲＨの環境下で、初
期再生出力から３ｄＢ低下するまでの時間これによれ
ば、本発明になるものは、長時間にわたるスチル耐久性
に優れた結果を示しており、走行性は良く、記録・再生
特性に優れたものとなり、又、ヘッドや記録媒体に損傷
が引き起こされ難く、耐久性に富むものである。
【００２２】
【効果】本発明によれば、長時間にわたって走行性が良
く、記録・再生特性に優れたものとなり、又、ヘッドや
記録媒体に損傷が引き起こされ難く、耐久性に富むもの
となる。
く、記録・再生特性に優れたものとなり、又、ヘッドや
記録媒体に損傷が引き起こされ難く、耐久性に富むもの
となる。
【図１】本発明になる記録媒体の概略図
【図２】ダイヤモンドライクカーボン成膜装置の概略図
１１ ＰＥＴフィルム １２ Ｃｏ磁性膜 １３ ダイヤモンドライクカーボン膜 １４ 微細ホール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 水野谷 博英 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内 (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 支持体上に設けられた記録膜と、この記
録膜上に設けられたダイヤモンドライクカーボン膜と、
このダイヤモンドライクカーボン膜に形成された微細凹
部に介在させられてなる潤滑剤とを具備することを特徴
とする記録媒体。 - 【請求項２】 支持体上に記録膜を設ける第１工程と、
記録膜上にダイヤモンドライクカーボン膜を設ける第２
工程と、このダイヤモンドライクカーボン膜を乾式エッ
チングする第３工程と、エッチングされたダイヤモンド
ライクカーボン膜上に潤滑剤を設ける第４工程とを具備
することを特徴とする記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17108294A JPH0836729A (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17108294A JPH0836729A (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0836729A true JPH0836729A (ja) | 1996-02-06 |
Family
ID=15916678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17108294A Pending JPH0836729A (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0836729A (ja) |
-
1994
- 1994-07-22 JP JP17108294A patent/JPH0836729A/ja active Pending
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