JPH09106541A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH09106541A JPH09106541A JP26573395A JP26573395A JPH09106541A JP H09106541 A JPH09106541 A JP H09106541A JP 26573395 A JP26573395 A JP 26573395A JP 26573395 A JP26573395 A JP 26573395A JP H09106541 A JPH09106541 A JP H09106541A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な手段により潤滑剤が表面に強固に付け
られ、長期間にわたって良好な走行性が確保される磁気
記録媒体を提供することである。 【解決手段】 支持体上に磁性膜を設ける成膜工程と、
磁性膜上に潤滑剤を付ける工程と、潤滑剤が付いた磁性
膜に向けてマイクロ波を照射するマイクロ波照射工程と
を具備する磁気記録媒体の製造方法。
られ、長期間にわたって良好な走行性が確保される磁気
記録媒体を提供することである。 【解決手段】 支持体上に磁性膜を設ける成膜工程と、
磁性膜上に潤滑剤を付ける工程と、潤滑剤が付いた磁性
膜に向けてマイクロ波を照射するマイクロ波照射工程と
を具備する磁気記録媒体の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に金属薄膜型の
磁気記録媒体の製造方法に関する。
磁気記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】磁気テープ等の磁気記
録媒体においては、高密度記録化の要請から、非磁性支
持体上に設けられる磁性膜として、バインダ樹脂を用い
た塗布型のものではなく、バインダ樹脂を用いない金属
薄膜型のものが提案されている。すなわち、湿式メッキ
手段、又は真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプ
レーティング等の乾式メッキ手段により磁性膜を構成し
た磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の磁
気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度
記録に適したものである。
録媒体においては、高密度記録化の要請から、非磁性支
持体上に設けられる磁性膜として、バインダ樹脂を用い
た塗布型のものではなく、バインダ樹脂を用いない金属
薄膜型のものが提案されている。すなわち、湿式メッキ
手段、又は真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプ
レーティング等の乾式メッキ手段により磁性膜を構成し
た磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の磁
気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度
記録に適したものである。
【０００３】この金属薄膜型の磁気記録媒体は、走行性
の改善を図る為、表面に潤滑剤が設けられている。しか
し、磁性膜中に潤滑剤を含ませておくことが出来、この
為に潤滑剤が長期間にわたって保持されている塗布型の
磁気記録媒体に比べて、磁性膜中に潤滑剤を含ませてお
くことが出来ない金属薄膜型の磁気記録媒体は、潤滑剤
がなくなり易い。この為、短期間のうちに走行性が低下
する問題が有る。
の改善を図る為、表面に潤滑剤が設けられている。しか
し、磁性膜中に潤滑剤を含ませておくことが出来、この
為に潤滑剤が長期間にわたって保持されている塗布型の
磁気記録媒体に比べて、磁性膜中に潤滑剤を含ませてお
くことが出来ない金属薄膜型の磁気記録媒体は、潤滑剤
がなくなり易い。この為、短期間のうちに走行性が低下
する問題が有る。
【０００４】そこで、本願出願人などにより各種の提案
がなされている。例えば、金属磁性膜上、あるいは金属
磁性膜の上に設けられた保護膜上で気相重合を行わせて
潤滑剤を合成・付着させる方法が提案されている。しか
し、この気相重合の手段は高度な技術や設備を必要とす
る。従って、本発明は、簡単な手段により潤滑剤が表面
に強固に付けられ、長期間にわたって良好な走行性が確
保される磁気記録媒体を提供することを目的とする。
がなされている。例えば、金属磁性膜上、あるいは金属
磁性膜の上に設けられた保護膜上で気相重合を行わせて
潤滑剤を合成・付着させる方法が提案されている。しか
し、この気相重合の手段は高度な技術や設備を必要とす
る。従って、本発明は、簡単な手段により潤滑剤が表面
に強固に付けられ、長期間にわたって良好な走行性が確
保される磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記本発明の目的は、支
持体上に磁性膜を設ける成膜工程と、磁性膜上に潤滑剤
を付ける工程と、潤滑剤が付いた磁性膜に向けてマイク
ロ波を照射するマイクロ波照射工程とを具備することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法によって達成され
る。
持体上に磁性膜を設ける成膜工程と、磁性膜上に潤滑剤
を付ける工程と、潤滑剤が付いた磁性膜に向けてマイク
ロ波を照射するマイクロ波照射工程とを具備することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法によって達成され
る。
【０００６】又、支持体上に磁性膜を設ける磁性膜成膜
工程と、磁性膜上に保護膜を設ける保護膜成膜工程と、
保護膜上に潤滑剤を付ける工程と、潤滑剤が付いた保護
膜に向けてマイクロ波を照射するマイクロ波照射工程と
を具備することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法に
よって達成される。
工程と、磁性膜上に保護膜を設ける保護膜成膜工程と、
保護膜上に潤滑剤を付ける工程と、潤滑剤が付いた保護
膜に向けてマイクロ波を照射するマイクロ波照射工程と
を具備することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法に
よって達成される。
【０００７】尚、潤滑剤はフッ素系の潤滑剤が好まし
い。又、一般的には、金属磁性膜に対して本発明は適用
される。そして、マイクロ波照射工程における条件は、
マイクロ波発生源の出力が４００ｗ〜５ｋｗ、使用周波
数がマイクロ波帯のものであり、更には磁気記録媒体、
特に支持体がマイクロ波の照射によって損傷しないよう
にすることが好ましい。
い。又、一般的には、金属磁性膜に対して本発明は適用
される。そして、マイクロ波照射工程における条件は、
マイクロ波発生源の出力が４００ｗ〜５ｋｗ、使用周波
数がマイクロ波帯のものであり、更には磁気記録媒体、
特に支持体がマイクロ波の照射によって損傷しないよう
にすることが好ましい。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明は、支持体上に磁性膜を設
ける成膜工程と、磁性膜上に潤滑剤を付ける工程と、潤
滑剤が付いた磁性膜に向けてマイクロ波を照射するマイ
クロ波照射工程とを具備する。特に、支持体上に金属磁
性膜を設ける成膜工程と、金属磁性膜上に潤滑剤を付け
る工程と、潤滑剤が付いた金属磁性膜に向けてマイクロ
波を照射するマイクロ波照射工程とを具備する。
ける成膜工程と、磁性膜上に潤滑剤を付ける工程と、潤
滑剤が付いた磁性膜に向けてマイクロ波を照射するマイ
クロ波照射工程とを具備する。特に、支持体上に金属磁
性膜を設ける成膜工程と、金属磁性膜上に潤滑剤を付け
る工程と、潤滑剤が付いた金属磁性膜に向けてマイクロ
波を照射するマイクロ波照射工程とを具備する。
【０００９】そして、磁性膜上に保護膜を有するタイプ
の場合にあっては、支持体上に磁性膜を設ける磁性膜成
膜工程と、磁性膜上に保護膜を設ける保護膜成膜工程
と、保護膜上に潤滑剤を付ける工程と、潤滑剤が付いた
保護膜に向けてマイクロ波を照射するマイクロ波照射工
程とを具備する。特に、支持体上に金属磁性膜を設ける
金属磁性膜成膜工程と、金属磁性膜上に保護膜を設ける
保護膜成膜工程と、保護膜上に潤滑剤を付ける工程と、
潤滑剤が付いた保護膜に向けてマイクロ波を照射するマ
イクロ波照射工程とを具備する。
の場合にあっては、支持体上に磁性膜を設ける磁性膜成
膜工程と、磁性膜上に保護膜を設ける保護膜成膜工程
と、保護膜上に潤滑剤を付ける工程と、潤滑剤が付いた
保護膜に向けてマイクロ波を照射するマイクロ波照射工
程とを具備する。特に、支持体上に金属磁性膜を設ける
金属磁性膜成膜工程と、金属磁性膜上に保護膜を設ける
保護膜成膜工程と、保護膜上に潤滑剤を付ける工程と、
潤滑剤が付いた保護膜に向けてマイクロ波を照射するマ
イクロ波照射工程とを具備する。
【００１０】尚、潤滑剤はフッ素系の潤滑剤が好まし
い。例えば、-(C(R)F-CF2-O)p - （但し、ＲはＦ，ＣＦ
3 ，ＣＨ3 などの基）、特にHOOC-CF2(O-C2F4)p (OCF2)
q -OCF2-COOH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2COOH と言っ
たようなカルボキシル基変性パーフロオロポリエーテ
ル、HOCH2-CF2(O-C2F4) p (OCF2) q -OCF2-CH2OH，HO-
(C2H4-O) m -CH2-(O-C2F4) p (OCF2) q -OCH2-(OCH2C
H2)n -OH ，F-(CF2CF2CF2O)n-CF2CF2CH2OHと言ったよう
なアルコール変性パーフロオロポリエーテル、又、分子
の一方に、又は、一部にアルキル基などの飽和炭化水素
基、あるいは不飽和炭化水素基、若しくは芳香族炭化水
素基、その他の官能基が付いたもの等が挙げられる。中
でも、極性基を有するフッ素系の潤滑剤が好ましい。分
子量は３００〜５００００、特に５００〜５０００程度
のものが好ましい。具体的には、モンテカチーニ社のＦ
ＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣやＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ Ｄ
ＯＬ、ダイキン工業社のデムナムＳＡ等がある。
い。例えば、-(C(R)F-CF2-O)p - （但し、ＲはＦ，ＣＦ
3 ，ＣＨ3 などの基）、特にHOOC-CF2(O-C2F4)p (OCF2)
q -OCF2-COOH ，F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2COOH と言っ
たようなカルボキシル基変性パーフロオロポリエーテ
ル、HOCH2-CF2(O-C2F4) p (OCF2) q -OCF2-CH2OH，HO-
(C2H4-O) m -CH2-(O-C2F4) p (OCF2) q -OCH2-(OCH2C
H2)n -OH ，F-(CF2CF2CF2O)n-CF2CF2CH2OHと言ったよう
なアルコール変性パーフロオロポリエーテル、又、分子
の一方に、又は、一部にアルキル基などの飽和炭化水素
基、あるいは不飽和炭化水素基、若しくは芳香族炭化水
素基、その他の官能基が付いたもの等が挙げられる。中
でも、極性基を有するフッ素系の潤滑剤が好ましい。分
子量は３００〜５００００、特に５００〜５０００程度
のものが好ましい。具体的には、モンテカチーニ社のＦ
ＯＭＢＬＩＮ Ｚ ＤＩＡＣやＦＯＭＢＬＩＮ Ｚ Ｄ
ＯＬ、ダイキン工業社のデムナムＳＡ等がある。
【００１１】本発明が有効な理由は次のように考えられ
る。金属磁性膜あるいは保護膜上に付けられた潤滑剤分
子に対してマイクロ波が照射されると、誘電加熱の原理
により潤滑剤分子の極性基には振動などの運動が励起さ
れ、活性に富むものとなる。従って、金属磁性膜あるい
は保護膜との間での物理的あるいは化学的結合が高ま
り、表面から剥がれ難いものとなる。このことは、潤滑
剤は極性基を有するフッ素系の潤滑剤が好ましいことと
も一致する。
る。金属磁性膜あるいは保護膜上に付けられた潤滑剤分
子に対してマイクロ波が照射されると、誘電加熱の原理
により潤滑剤分子の極性基には振動などの運動が励起さ
れ、活性に富むものとなる。従って、金属磁性膜あるい
は保護膜との間での物理的あるいは化学的結合が高ま
り、表面から剥がれ難いものとなる。このことは、潤滑
剤は極性基を有するフッ素系の潤滑剤が好ましいことと
も一致する。
【００１２】そして、全ての潤滑剤分子が表面に強固に
付いていなくても、この潤滑剤分子は強固に付いた潤滑
剤分子に絡み、間接的に強固にくっついたものとなるか
ら、このようなものも表面からなくなり難い。しかも、
このマイクロ波照射による手段は、気相重合の場合のよ
うな高度な技術や設備を必要とせず、しかも短時間のう
ちに処理でき、極めて効率的である。
付いていなくても、この潤滑剤分子は強固に付いた潤滑
剤分子に絡み、間接的に強固にくっついたものとなるか
ら、このようなものも表面からなくなり難い。しかも、
このマイクロ波照射による手段は、気相重合の場合のよ
うな高度な技術や設備を必要とせず、しかも短時間のう
ちに処理でき、極めて効率的である。
【００１３】本発明における磁気記録媒体の支持体は、
磁性を有するものでも非磁性のものでも良いが、一般的
には非磁性のものである。例えば、ＰＥＴ等のポリエス
テル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリ
カーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹
脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった
高分子材料が用いられる。尚、支持体面上には、必要に
応じて磁性層（磁性薄膜）の密着性を向上させる為のア
ンダーコート層が設けられている。すなわち、表面の粗
さを適度に粗すことにより、斜め蒸着法により構成され
る磁性薄膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表
面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善する為、
例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５
〜０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダーコー
ト層が構成されている。
磁性を有するものでも非磁性のものでも良いが、一般的
には非磁性のものである。例えば、ＰＥＴ等のポリエス
テル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリ
カーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹
脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった
高分子材料が用いられる。尚、支持体面上には、必要に
応じて磁性層（磁性薄膜）の密着性を向上させる為のア
ンダーコート層が設けられている。すなわち、表面の粗
さを適度に粗すことにより、斜め蒸着法により構成され
る磁性薄膜の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表
面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善する為、
例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが０．００５
〜０．１μｍの塗膜を設けることによってアンダーコー
ト層が構成されている。
【００１４】支持体上に斜め蒸着などの乾式メッキ手段
で構成される金属磁性膜の材料としては、例えばＦｅ，
Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐ
ｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ
−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金等が挙
げられる。尚、金属磁性膜としては、前記材料の酸化
物、窒化物（例えば、Ｆｅ−Ｎ，Ｆｅ−Ｎ−Ｏ）や炭化
物（例えば、Ｆｅ−Ｃ，Ｆｅ−Ｃ−Ｏ）等も挙げられ
る。そして、例えば真空槽内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ
程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒｒの真空度に排気した
後、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱などにより
ルツボ内の磁性金属を蒸発させ、ＰＥＴフィルム等の支
持体に対して４００〜２００００Å、例えば１８００Å
厚さ磁性金属を斜め蒸着させることによって金属薄膜型
の磁気記録媒体が製造される。尚、この磁性金属粒子の
斜め蒸着に際して、酸素ガス供給ノズルから微量の酸素
が吹き込まれている。これによって、金属磁性膜には磁
気コラムが形成される。そして、このようにして得られ
た金属磁性膜の磁気特性は、磁気コラムの間が酸化膜に
よって磁気分離されていることから、磁気特性が優れた
ものである。尚、スパッタ等の手段を用いても良い。
で構成される金属磁性膜の材料としては、例えばＦｅ，
Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｐ
ｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ
−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ合
金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金等が挙
げられる。尚、金属磁性膜としては、前記材料の酸化
物、窒化物（例えば、Ｆｅ−Ｎ，Ｆｅ−Ｎ−Ｏ）や炭化
物（例えば、Ｆｅ−Ｃ，Ｆｅ−Ｃ−Ｏ）等も挙げられ
る。そして、例えば真空槽内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ
程度、例えば２×１０-5Ｔｏｒｒの真空度に排気した
後、抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム加熱などにより
ルツボ内の磁性金属を蒸発させ、ＰＥＴフィルム等の支
持体に対して４００〜２００００Å、例えば１８００Å
厚さ磁性金属を斜め蒸着させることによって金属薄膜型
の磁気記録媒体が製造される。尚、この磁性金属粒子の
斜め蒸着に際して、酸素ガス供給ノズルから微量の酸素
が吹き込まれている。これによって、金属磁性膜には磁
気コラムが形成される。そして、このようにして得られ
た金属磁性膜の磁気特性は、磁気コラムの間が酸化膜に
よって磁気分離されていることから、磁気特性が優れた
ものである。尚、スパッタ等の手段を用いても良い。
【００１５】金属磁性膜上には、通常、保護膜が設けら
れる。すなわち、金属磁性膜は耐久性に劣ることから、
これを保護する為の保護膜が設けられる。例えば、ダイ
ヤモンドライクカーボン等のカーボン、炭化ホウ素、窒
化珪素、酸化珪素などからなる５０〜２００Å程度の厚
さの保護膜が設けられる。磁性膜（更には保護膜）が成
膜され、そして巻取側ロールに巻き取られる前段階で、
金属磁性膜（保護膜が設けられた場合には、保護膜）上
には超音波噴霧などの各種の手段で潤滑剤、特にフッ素
系潤滑剤が１０〜７０Å程度の厚さ塗布される。尚、潤
滑剤を設ける手段として、浸漬やロールコータ等の一般
的な手段でも良い。
れる。すなわち、金属磁性膜は耐久性に劣ることから、
これを保護する為の保護膜が設けられる。例えば、ダイ
ヤモンドライクカーボン等のカーボン、炭化ホウ素、窒
化珪素、酸化珪素などからなる５０〜２００Å程度の厚
さの保護膜が設けられる。磁性膜（更には保護膜）が成
膜され、そして巻取側ロールに巻き取られる前段階で、
金属磁性膜（保護膜が設けられた場合には、保護膜）上
には超音波噴霧などの各種の手段で潤滑剤、特にフッ素
系潤滑剤が１０〜７０Å程度の厚さ塗布される。尚、潤
滑剤を設ける手段として、浸漬やロールコータ等の一般
的な手段でも良い。
【００１６】潤滑剤が表面に付けられた後、この潤滑剤
に対してマイクロ波が照射される。若しくは潤滑剤を付
けながら、表面に付いた潤滑剤に対してマイクロ波が照
射される。マイクロ波照射工程における条件は、マイク
ロ波発生源の出力が４００ｗ〜５ｋｗ、使用周波数がマ
イクロ波帯（例えば、２．４５ＧＨｚ，５．８ＧＨｚ，
２２．１２５ＧＨｚ）のものである。そして、１０秒程
度照射される。例えば、出力１ｋｗ、使用周波数２．４
５ＧＨｚのマイクロ波が１０秒程度照射される。
に対してマイクロ波が照射される。若しくは潤滑剤を付
けながら、表面に付いた潤滑剤に対してマイクロ波が照
射される。マイクロ波照射工程における条件は、マイク
ロ波発生源の出力が４００ｗ〜５ｋｗ、使用周波数がマ
イクロ波帯（例えば、２．４５ＧＨｚ，５．８ＧＨｚ，
２２．１２５ＧＨｚ）のものである。そして、１０秒程
度照射される。例えば、出力１ｋｗ、使用周波数２．４
５ＧＨｚのマイクロ波が１０秒程度照射される。
【００１７】又、適宜な段階で、例えばカーボンブラッ
クをバインダ樹脂中に分散させてなるバックコート用の
塗料をダイレクトグラビア法により磁性膜とは反対側の
支持体に塗布し、バックコート膜を設ける。尚、バック
コート膜は金属薄膜型のものでも良い。そして、８ｍｍ
幅にスリットし、磁気テープを得る。
クをバインダ樹脂中に分散させてなるバックコート用の
塗料をダイレクトグラビア法により磁性膜とは反対側の
支持体に塗布し、バックコート膜を設ける。尚、バック
コート膜は金属薄膜型のものでも良い。そして、８ｍｍ
幅にスリットし、磁気テープを得る。
【００１８】
【実施例１】真空度２×１０-4Ｔｏｒｒ、酸素ガス供給
量が２０ｓｃｃｍの真空槽中において、１０μｍ厚のＰ
ＥＴフィルム上にＣｏ磁性膜を１６００Å厚さ斜め蒸着
手段により成膜した。又、Ｃｕ−Ａｌ系のバックコート
膜を２０００Å厚さ設けた。
量が２０ｓｃｃｍの真空槽中において、１０μｍ厚のＰ
ＥＴフィルム上にＣｏ磁性膜を１６００Å厚さ斜め蒸着
手段により成膜した。又、Ｃｕ−Ａｌ系のバックコート
膜を２０００Å厚さ設けた。
【００１９】この成膜後、１ｍ／ｍｉｎの速度で走行す
るＣｏ磁性膜に向けて超音波噴霧装置により、パーフル
オロポリエーテル（ＦＯＭＢＬＩＮ ＺＤＯＬ モンテ
カチーニ社製）をフッ素系不活性液体（フロリナート
ＦＣ−７７ 住友３Ｍ社製）に０．０５ｗｔ％となるよ
う希釈した溶液を真空雰囲気下で噴霧し、潤滑剤を１０
Å〜２０Å厚さ付けた。
るＣｏ磁性膜に向けて超音波噴霧装置により、パーフル
オロポリエーテル（ＦＯＭＢＬＩＮ ＺＤＯＬ モンテ
カチーニ社製）をフッ素系不活性液体（フロリナート
ＦＣ−７７ 住友３Ｍ社製）に０．０５ｗｔ％となるよ
う希釈した溶液を真空雰囲気下で噴霧し、潤滑剤を１０
Å〜２０Å厚さ付けた。
【００２０】この後、マイクロ波（マイクロ波パワー５
００Ｗ、周波数２．４５ＧＨｚ）を照射した。そして、
８ｍｍ幅にスリットして磁気テープを得た。
００Ｗ、周波数２．４５ＧＨｚ）を照射した。そして、
８ｍｍ幅にスリットして磁気テープを得た。
【００２１】
【実施例２】実施例１において、周波数が２２．１２５
ＧＨｚのマイクロ波を照射した以外は実施例１に準じて
行い、磁気テープを得た。
ＧＨｚのマイクロ波を照射した以外は実施例１に準じて
行い、磁気テープを得た。
【００２２】
【実施例３】実施例１において、潤滑剤の膜を付ける前
に、ＥＣＲマイクロ波プラズマＣＶＤにより１５０Å厚
さのダイヤモンドライクカーボン膜をＣｏ磁性膜上に設
け、このダイヤモンドライクカーボン膜上に超音波噴霧
により潤滑剤を付けた以外は実施例１に準じて行い、磁
気テープを得た。
に、ＥＣＲマイクロ波プラズマＣＶＤにより１５０Å厚
さのダイヤモンドライクカーボン膜をＣｏ磁性膜上に設
け、このダイヤモンドライクカーボン膜上に超音波噴霧
により潤滑剤を付けた以外は実施例１に準じて行い、磁
気テープを得た。
【００２３】
【実施例４】実施例３において、周波数が２２．１２５
ＧＨｚのマイクロ波を照射した以外は実施例３に準じて
行い、磁気テープを得た。
ＧＨｚのマイクロ波を照射した以外は実施例３に準じて
行い、磁気テープを得た。
【００２４】
【比較例１】実施例１において、マイクロ波照射を省略
した以外は実施例１に準じて行い、磁気テープを得た。
した以外は実施例１に準じて行い、磁気テープを得た。
【００２５】
【比較例２】実施例１において、マイクロ波照射の代わ
りに超音波噴霧後に７０℃に加熱した以外は実施例１に
準じて行い、磁気テープを得た。
りに超音波噴霧後に７０℃に加熱した以外は実施例１に
準じて行い、磁気テープを得た。
【００２６】
【比較例３】実施例３において、マイクロ波照射を省略
した以外は実施例１に準じて行い、磁気テープを得た。
した以外は実施例１に準じて行い、磁気テープを得た。
【００２７】
【比較例４】実施例３において、マイクロ波照射の代わ
りに超音波噴霧後に７０℃に加熱した以外は実施例１に
準じて行い、磁気テープを得た。
りに超音波噴霧後に７０℃に加熱した以外は実施例１に
準じて行い、磁気テープを得た。
【００２８】
【特性】上記各例で得た８ｍｍＶＴＲ用磁気テープにつ
いて、摩擦係数、１００回の繰り返し走行後における摩
擦係数、ジッター、及びドロップアウトを調べたので、
その結果を下記の表−１に示す。 表−１ 摩擦係数 ジッター ドロップアウト 初期 繰り返し後 実施例１ ０．２１ ０．２４ ４５ｎｓ ８個 実施例２ ０．２２ ０．２４ ４５ｎｓ ８個 実施例３ ０．２１ ０．２３ ４６ｎｓ ８個 実施例４ ０．２１ ０．２２ ４６ｎｓ ７個 比較例１ ０．２２ ０．２９ ５２ｎｓ ２０個 比較例２ ０．２１ ０．２７ ４６ｎｓ １５個 比較例３ ０．２２ ０．３０ ５２ｎｓ １９個 比較例４ ０．２１ ０．２８ ４６ｎｓ １８個 ＊ジッターは、市販の８ｍｍＶＴＲにジッタメータを接続して測定。
いて、摩擦係数、１００回の繰り返し走行後における摩
擦係数、ジッター、及びドロップアウトを調べたので、
その結果を下記の表−１に示す。 表−１ 摩擦係数 ジッター ドロップアウト 初期 繰り返し後 実施例１ ０．２１ ０．２４ ４５ｎｓ ８個 実施例２ ０．２２ ０．２４ ４５ｎｓ ８個 実施例３ ０．２１ ０．２３ ４６ｎｓ ８個 実施例４ ０．２１ ０．２２ ４６ｎｓ ７個 比較例１ ０．２２ ０．２９ ５２ｎｓ ２０個 比較例２ ０．２１ ０．２７ ４６ｎｓ １５個 比較例３ ０．２２ ０．３０ ５２ｎｓ １９個 比較例４ ０．２１ ０．２８ ４６ｎｓ １８個 ＊ジッターは、市販の８ｍｍＶＴＲにジッタメータを接続して測定。
【００２９】＊ドロップアウトは、１分間に１６μｓ以
上の出力低下（１６ｄＢ以上）が起きる回数で表示。 これによれば、本発明によって得られたものは、繰り返
し走行によっても潤滑剤がなくなり難く、従って走行性
に優れており、ジッター値は小さく、かつ、ドロップア
ウトも起き難い。
上の出力低下（１６ｄＢ以上）が起きる回数で表示。 これによれば、本発明によって得られたものは、繰り返
し走行によっても潤滑剤がなくなり難く、従って走行性
に優れており、ジッター値は小さく、かつ、ドロップア
ウトも起き難い。
【００３０】
【効果】本発明によれば、潤滑剤がなくなり難く、走行
性に優れており、ジッター値は小さく、かつ、ドロップ
アウトも起き難いものが得られる。
性に優れており、ジッター値は小さく、かつ、ドロップ
アウトも起き難いものが得られる。
Claims (5)
- 【請求項１】 支持体上に磁性膜を設ける成膜工程と、 磁性膜上に潤滑剤を付ける工程と、 潤滑剤が付いた磁性膜に向けてマイクロ波を照射するマ
イクロ波照射工程とを具備することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 支持体上に磁性膜を設ける磁性膜成膜工
程と、 磁性膜上に保護膜を設ける保護膜成膜工程と、 保護膜上に潤滑剤を付ける工程と、 潤滑剤が付いた保護膜に向けてマイクロ波を照射するマ
イクロ波照射工程とを具備することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 潤滑剤がフッ素系の潤滑剤であることを
特徴とする請求項１又は請求項２の磁気記録媒体の製造
方法。 - 【請求項４】 磁性膜が金属磁性膜であることを特徴と
する請求項１又は請求項２の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項５】 マイクロ波照射工程は、マイクロ波発生
源の出力が４００ｗ〜５ｋｗ、使用周波数がマイクロ波
帯のものであることを特徴とする請求項１又は請求項２
の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26573395A JPH09106541A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26573395A JPH09106541A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09106541A true JPH09106541A (ja) | 1997-04-22 |
Family
ID=17421248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26573395A Pending JPH09106541A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09106541A (ja) |
-
1995
- 1995-10-13 JP JP26573395A patent/JPH09106541A/ja active Pending
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