JPH08333682A - 薄膜形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】蒸着装置１は、主チャンバー２と、副チャンバ
ー３と、ゲート１４を開閉する第１のシャッター４と、
ゲート１５を開閉する第２のシャッター５とを有してい
る。主チャンバー２内には、複数の基板１００を保持し
得る基板ホルダー７が回転可能に支持されており、ま
た、膜厚調整用遮蔽板９と、蒸発器６とが設けられてい
る。また、蒸着装置１は、主チャンバー２内の所定位置
と副チャンバー３内との間で基板１００を搬送する第１
の搬送機構２０と、昇降機３１およびクレーン４１を備
え、主チャンバー２内の所定位置と基板ホルダー７上の
基板１００を固定すべき位置との間で基板１００を搬送
する第２の搬送機構２０ａとを有している。 【効果】第１のチャンバーの真空を解除せずに被着物を
交換することができるので、成膜の際の作業効率が向上
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、薄膜形成装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】被着物（例えば、基板、レンズ等）に薄
膜（例えば、反射膜、反射防止膜等の光学薄膜）を形成
する蒸着装置等の薄膜形成装置が知られている。

【０００３】蒸着装置は、チャンバー（蒸着室）を有し
ており、そのチャンバー内には、被着物を取り付けるホ
ルダーと、蒸着源であるターゲットを蒸発させる蒸発器
（ガン）とが設けられている。

【０００４】蒸着の際は、ホルダーに被着物を取り付
け、この後、排気を行って、チャンバー内の気圧が蒸着
可能な所定の気圧（真空）になるようにチャンバー内を
減圧する。そして、蒸発器によりターゲットを蒸発さ
せ、被着物に薄膜を形成（蒸着）する。

【０００５】この場合、続けて別の被着物に薄膜を形成
するには、被着物を交換する必要がある。すなわち、蒸
着後、チャンバーの真空を解除し、一旦、チャンバー内
の気圧を大気圧に戻してから、ホルダー上の被着物を回
収し、ホルダーに別の被着物を取り付け、再び、チャン
バー内を前記所定の気圧まで減圧する。

【０００６】しかし、真空引には時間がかかるので、こ
のような蒸着装置では、続けて別の被着物に薄膜を形成
する場合、被着物の交換に長時間要し、このため作業効
率が悪いという問題がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、被着
物の交換に要する時間を短縮し得る薄膜形成装置を提供
することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（７）の本発明により達成される。

【０００９】（１） 減圧されたチャンバー内で被着物
へ薄膜を形成する薄膜形成装置であって、被着物への薄
膜の形成がなされる気密性のある第１のチャンバーと、
気密性のある第２のチャンバーと、前記第１のチャンバ
ーと前記第２のチャンバーとを連通するゲートと、前記
ゲートを開閉し、該ゲートを気密的に遮蔽し得るシャッ
ター機構と、前記第１のチャンバー内および前記第２の
チャンバー内をそれぞれ減圧する減圧手段と、前記第１
のチャンバー内に設置され、成膜の際、複数の前記被着
物を保持し得る保持手段と、前記第１のチャンバー内に
設置され、成膜の際、前記薄膜の材料を放出する膜材料
放出手段と、前記第１のチャンバーの減圧状態を維持し
たまま、少なくとも前記第２のチャンバー内と前記第１
のチャンバー内の所定位置との間で前記被着物を搬送す
る第１の搬送機構と、前記第１のチャンバー内で昇降す
る機構と、前記保持手段への前記被着物の着脱を行う機
構とを備え、前記第１のチャンバーの減圧状態を維持し
たまま、前記第１のチャンバー内の所定位置と、前記保
持手段が前記被着物を保持する被着物保持位置との間で
前記被着物を搬送する第２の搬送機構とを有することを
特徴とする薄膜形成装置。

【００１０】（２） 前記第１の搬送機構は、少なくと
も前記第２のチャンバー内と前記第１のチャンバー内の
所定位置との間を前記ゲートを通過して移動する移動手
段と、前記移動手段に設けられ、複数の前記被着物を格
納し得る格納部と、前記移動手段に設けられ、前記格納
部から前記被着物を１個ずつ取り出して該被着物を前記
第２の搬送機構に受け渡し、前記第２の搬送機構から前
記被着物を受け取って該被着物を前記格納部に格納する
搬送部とを有する上記（１）に記載の薄膜形成装置。

【００１１】（３） 前記第２の搬送機構は、前記第１
のチャンバー内の底部側の第１の位置と前記第１のチャ
ンバー内の上部側の第２の位置との間で前記被着物を搬
送する第１の搬送手段と、前記第２の位置と前記保持手
段が前記被着物を保持する被着物保持位置との間で前記
被着物を搬送する第２の搬送手段とを有する上記（１）
または（２）に記載の薄膜形成装置。

【００１２】（４） 前記保持手段は、水平面に対して
所定角度傾斜する部分を有するホルダー本体を有してお
り、前記第１の搬送手段は、水平な姿勢と、水平面に対
して前記ホルダー本体の前記傾斜部分と平行になる姿勢
とを採り得るステージを有する昇降機である上記（３）
に記載の薄膜形成装置。

【００１３】（５） 前記ステージは、前記第２の位置
への到達に連動して、前記水平姿勢から前記傾斜姿勢へ
変更するよう構成されている上記（４）に記載の薄膜形
成装置。

【００１４】（６） 前記保持手段は、回転体よりなる
ホルダー本体を有し、前記第２の搬送手段は、前記ホル
ダー本体のほぼ径方向に移動し得るクレーンである上記
（３）に記載の薄膜形成装置。

【００１５】（７） 前記第２の搬送手段は、前記被着
物を着脱可能に支持するチャックを有する上記（３）な
いし（６）のいずれかに記載の薄膜形成装置。

【００１６】

【実施例】以下、本発明の薄膜形成装置を添付図面に示
す好適実施例に基づいて詳細に説明する。

【００１７】図１は、本発明の薄膜形成装置を蒸着装置
に適用した場合における実施例を示す断面図である。同
図に示すように、蒸着装置１は、気密性のある主チャン
バー（第１のチャンバー）２と、気密性のある副チャン
バー（第２のチャンバー）３とを有している。この場
合、主チャンバー２内が蒸着室となっている。なお、主
チャンバー２の底板１０は、水平面と平行になってい
る。

【００１８】主チャンバー２内の図１中上方には、被着
物である基板１００を保持する基板ホルダー（保持手
段）７が回転可能に支持されている。この場合、主チャ
ンバー２の外部（図１中上側）には、基板ホルダー７駆
動用のモータ（回転角度制御モータ）８が設置されてお
り、前記基板ホルダー７の中心部は、このモータ８の回
転軸に接合されている。

【００１９】図２は、蒸着装置１の基板ホルダー７の構
成例を示す平面図である。同図に示すように、基板ホル
ダー７は、水平面（底板１０）に対して所定角度傾斜し
た傘状の回転体よりなるホルダー本体７１を有してお
り、ホルダー本体７１には、円形状の複数の開口７２が
放射状に設けられている。この開口７２の直径は、基板
１００の直径よりも小さくなっている。

【００２０】図３は、図２中のＡ−Ａ線での断面図であ
る。同図に示すように、基板１００は、円盤状の基板本
体１０１を有しており、基板本体１０１は、環状の位置
規制部材１０２に挿入されている。

【００２１】蒸着の際は、基板１００の位置規制部材１
０２が前記基板ホルダー７の開口７２に挿入され、位置
規制部材１０２の外側面並びに下面が開口７２の内周面
並びに上面に当接し、これにより基板１００の位置が規
制されるとともに、基板１００が基板ホルダー７に着脱
可能に取り付けられる。なお、蒸着により、基板１００
の裏面に薄膜１０３が成膜（形成）される。

【００２２】図１に示すように、主チャンバー２内の底
部（図１中下側）には、蒸着源であるターゲットを蒸発
させる蒸発器（薄膜の材料を放出する膜材料放出手段）
６が設置されている。

【００２３】また、この蒸発器６と基板ホルダー７との
間であって、基板ホルダー７の近傍には、膜厚調整用遮
蔽板９が設けられている。また、主チャンバー２には、
バルブを介して真空ポンプ（減圧手段）が接続されてい
る（いずれも図示せず）。蒸着の際は、この真空ポンプ
により、排気を行って、主チャンバー２内の気圧が蒸着
可能な所定の気圧（例えば、１．０×１０^-4〜１．０×
１０^-5torr程度）になるように、主チャンバー２内を減
圧する。

【００２４】主チャンバー２の側壁１１の下部（図１中
下側）には、主チャンバー２と副チャンバー３とを連通
するゲート１４が設けられている。また、主チャンバー
２と副チャンバー３との間には、前記ゲート１４を開閉
し、そのゲート１４を気密的に遮蔽し得る第１のシャッ
ター（シャッター機構）４が設けられている。

【００２５】また、副チャンバー３の図１中左側には、
ゲート１５と、このゲート１５を開閉し、ゲート１５を
気密的に遮蔽し得る第２のシャッター（シャッター機
構）５とが設けられている。

【００２６】前記第１のシャッター４のみを閉鎖する
と、主チャンバー２のみが気密状態を保持され、前記第
１のシャッター４および第２のシャッター５を閉鎖する
と、主チャンバー２および副チャンバー３がそれぞれ気
密状態を保持される。

【００２７】また、副チャンバー３には、バルブ１３を
介して真空ポンプ１２が接続されている。なお、この真
空ポンプ１２により、後述する予備排気を行って、副チ
ャンバー３内の気圧が主チャンバー２内の気圧と実質的
に同一になるように、副チャンバー３内を減圧する。

【００２８】図１に示すように、蒸着装置１は、副チャ
ンバー３内の所定位置と主チャンバー２内の所定位置と
の間で基板１００を搬送する第１の基板搬送機構（第１
の搬送機構）２０と、主チャンバー２内の所定位置と基
板ホルダー７との間で基板１００を搬送する第２の基板
搬送機構（第２の搬送機構）２０ａとを有している。以
下、これら第１の基板搬送機構２０および第２の基板搬
送機構２０ａをそれぞれ説明する。

【００２９】第１の基板搬送機構２０は、主チャンバー
２内の所定位置と副主チャンバー３内の所定位置との間
に設けられたレール２２と、そのレール２２に沿って、
主チャンバー２内の所定位置と副主チャンバー３内の所
定位置との間を移動し得る移動手段２１とを有してい
る。また、移動手段２１は、移動手段２１駆動用のモー
タ２１３と、このモータからの駆動力によって回転する
車輪２１２とを有している。

【００３０】図４は、第１の基板搬送機構２０および第
２の基板搬送機構２０ａの昇降機３１を示す平面図であ
る。また、図５は、第１の基板搬送機構２０の移動手段
２１を示す平面図である。

【００３１】図４に示すように、第１の基板搬送機構２
０の移動手段２１は、基台２１１を有し、この基台２１
１には、前述した車輪２１２が回転自在に支持されてい
る。

【００３２】また、移動手段２１には、基板ホルダー７
の開口７２の数に対応した複数の基板１００を格納し得
る基板格納部２３と、基板搬送部（搬送部）２４とが設
けられている。この基板搬送部２４により、未蒸着（成
膜前）の基板１００を基板格納部２３から取り出して、
その基板１００を後述する第２の基板搬送機構２０ａの
エレベーター（第１の搬送手段）３１に受け渡し、ま
た、蒸着済（成膜後）の基板１００を昇降機３１から受
け取り、その基板１００を基板格納部２３に格納する。

【００３３】図５に示すように、基板格納部２３は、基
板１００を支持（載置）する基板支持部２３１を複数有
している。この基板支持部２３１は、基板１００の直径
よりも小さい所定間隙を介して基台２１１と水平に設置
された一対の支持板２３２、２３２で構成されている。
なお、基板収納の際、基板１００は、支持板２３２と支
持板２３２の間に配置され、両支持板２３２、２３２に
より支持される。

【００３４】図６は、図５中のＢ−Ｂ線での断面図であ
る。また、図７は、図５中のＣ−Ｃ線での断面図であ
る。図６に示すように、基板格納部２３の各基板支持部
２３１は、基台２１１に対して垂直な方向に、一定の間
隔で設けられている。

【００３５】図７に示すように、基台２１１には、リー
ドスクリュー（外周に螺旋状のねじが形成された回転
軸）２５１が回転自在に支持されている。また、基台２
１１には、ガイドレール２５２が支持されている。ま
た、基台２１１には、基板搬送部２４の垂直方向駆動用
のモータ２５３と、このモータ２５３からの駆動力を前
記リードスクリュー２５１に伝達する図示しない動力伝
達機構が設けられている。

【００３６】図７に示すように、基板搬送部２４の後述
する支持部材２４１は、台部材２５４の中央部に固定さ
れている。この台部材２５４の一端側（図７中左側）に
は、リードスクリュー２５１と噛合するナット（雌ね
じ）２５５が固定されており、他端側（図７中右側）に
は、ガイドレール２５２が挿入される孔部２５６が設け
られている。これらにより、台部材２５４および基板搬
送部２４は、所定の姿勢を保持しつつ、リードスクリュ
ー２５１の回転軸に沿って移動し得るようになってい
る。

【００３７】図８および図９は、それぞれ、基板搬送部
２４を示す側面図および正面図である。図８に示すよう
に、基板搬送部２４は、ステージ２４２と、このステー
ジ２４２を移動可能に支持する支持部材２４１と、基板
搬送部２４の水平方向駆動用のモータ２４３と、ワイヤ
ー２７５および２７６とを有している。

【００３８】図９に示すように、ステージ２４２の両側
部には、それぞれ、ガイド溝２４４、２４５が形成され
ている。また、ステージ２４２の図９中上側には、基板
１００が載置される載置台２４６が設けられている。こ
の載置台２４６の直径は、基板１００の位置規制部材１
０２の外径（直径）よりも小さく、かつ、位置規制部材
１０２の内径（直径）よりも大きくなっている。

【００３９】支持部材２４１には、前記ステージ２４２
のガイド溝２４４および２４５にそれぞれ挿入される凸
条２４７および２４８が形成されている。図８に示すよ
うに、凸条２４７および２４８は、図８中左右方向に形
成されており、ステージ２４２は、前記凸条２４７およ
び２４８に沿って、図８中左右方向に移動し得るように
なっている。

【００４０】また、図８および図９に示すように、ステ
ージ２４２には、支持部材２４１に当接するガイドロー
ラー２６１が回転自在に支持されおり、支持部材２４１
には、ステージ２４２に当接するガイドローラー２６２
が回転自在に支持されている。

【００４１】また、図８に示すように、支持部材２４１
には、滑車２７１、２７２、２７３および２７４が回転
自在に支持されている。また、支持部材２４１には、モ
ータ２４３が設置されており、このモータ２４３の回転
軸には図示しないワイヤー巻取部が設けられている。

【００４２】ワイヤー２７５は、滑車２７１および２７
２に巻き掛けられており、その一端はステージ２４２の
図８中右側端部に固定され、他端側は、ワイヤー巻取部
に固定されている。

【００４３】また、ワイヤー２７６は、滑車２７３およ
び２７４に巻き掛けられており、その一端はステージ２
４２の図８中左側端部に固定され、他端側は、ワイヤー
巻取部に固定されている。

【００４４】なお、モータ２４３が所定方向に回転する
と、ワイヤー巻取部にワイヤー２７５が巻き取られ、ワ
イヤー巻取部からワイヤー２７６が送り出されて、ステ
ージ２４２が図８中左側に移動し、モータ２４３が前記
と逆方向に回転すると、ワイヤー巻取部にワイヤー２７
６が巻き取られ、ワイヤー巻取部からワイヤー２７５が
送り出されて、ステージ２４２が図８中右側に移動す
る。

【００４５】次に、第２の基板搬送機構２０ａを説明す
る。図１０は、図１中の点線で示す領域の拡大図であ
る。図１および図１０に示すように、第２の基板搬送機
構２０ａは、主チャンバー２内の図１中底部側の第１の
位置と主チャンバー２内の図１中上部側の第２の位置と
の間で基板１００を搬送する昇降機（第１の搬送手段）
３１と、前記第２の位置と基板ホルダー７上の基板１０
０を固定すべき位置（被着物保持位置）との間で基板１
００を搬送するクレーン（第２の搬送手段）４０とを有
している。

【００４６】図１１は、昇降機３１を示す平面図であ
る。同図に示すように、昇降機３１は、基板１００が載
置されるステージ３１１と、このステージ３１１を支持
する箱状の支持部材３１２とで構成されている。この場
合、ステージ３１１は、支持部材３１２に対し、一対の
ピン３１３、３１３を中心に回転自在に支持されてい
る。

【００４７】ステージ３１１の一端側（図１１中右側）
には、載置台２４６の直径より大きく切り欠かれた切欠
部３１４が設けられている。図１２および図１３は、そ
れぞれ、昇降機３１を示す正面図である。図１１および
図１２に示すように、ステージ３１１の他端側（図１２
中左側）には、一対の突部３１５、３１５が設けられ、
これら突部３１５および３１５の先端には、それぞれガ
イドローラー３１６および３１６が回転自在に支持され
ている。また、図１２に示すように、ステージ３１１の
切欠部３１４の周囲には、基板１００の位置を規制する
一対の凸部３１７、３１７が設けられている。

【００４８】また、図１１に示すように、主チャンバー
２内には、リードスクリュー（外周に螺旋状のねじが形
成された回転軸）３２１が回転自在に支持されており、
また、このリードスクリュー３２１の両側部に、ガイド
軸３２２とガイド軸３２３とが支持されている。

【００４９】図１に示すように、リードスクリュー３２
１、ガイド軸３２２および３２３は、それぞれ、側壁１
１の近傍に配置されており、主チャンバー２の底部から
上部まで、底板１０に対して垂直な方向に設けられてい
る。

【００５０】また、主チャンバー２の外部（底板１０の
裏面）には、昇降機３１の垂直方向駆動用のモータ３３
が設置されており、前記リードスクリュー３２１は、こ
のモータ３３の回転軸に接合されている。

【００５１】図１１に示すように、支持部材３１２に
は、リードスクリュー３２１と噛合するナット（雌ね
じ）３１８が固定されており、また、このナット３１８
の両側部に、ガイド軸３２２および３２３がそれぞれ挿
入される孔部３１９および３２０が設けられている。こ
れらにより、昇降機３１は、所定の姿勢を保持しつつ、
リードスクリュー３２１の回転軸に沿って移動（昇降）
し得るようになっている。

【００５２】図１０および図１１に示すように、ガイド
軸３２２および３２３の図１０中上側端部には、昇降機
３１のガイドローラー３１６に当接し得る板部材（スト
ッパー）３２４が固定されている。

【００５３】また、昇降機３１には、ステージ３１１を
水平に保持する図示しないステージ保持部が設けられて
いる。よって、図１２に示すように、昇降機３１が図１
２中上方に移動して、ガイドローラ３１６が板部材３２
４に当接するまでは、前記ステージ保持部により、ステ
ージ３１１が水平に保持される。

【００５４】また、図１３に示すように、ガイドローラ
３１６が板部材３２４に当接した後に、昇降機３１がさ
らに図１３中上方に移動すると、ステージ３１１は、ピ
ン３１３を中心にして図１３中反時計回りに回転し、傾
斜する。このときのステージ３１１の最大傾斜角度、す
なわち、昇降機３１が図１３中最上部に位置していると
きのステージ３１１の傾斜角度は、後述するクレーン４
１のリードスクリュー４３１、ガイド軸４３２および４
３３の傾斜角度、すなわち、基板ホルダー７の傾斜角度
と等しくなるように設定されている。

【００５５】図１および図１０に示すように、第２の基
板搬送機構２０ａは、クレーン（第２の搬送手段）４１
を有している。図１４は、図１０中のＤ−Ｄ線での断面
図である。また、図１５は、図１０中のＥ−Ｅ線での断
面図である。

【００５６】図１４に示すように、クレーン４１は、無
底のケーシング４２と、このケーシング４２に設けら
れ、基板１００を着脱可能に支持する基板支持機構（支
持機構）とによって構成されている。

【００５７】また、主チャンバー２内には、リードスク
リュー（外周に螺旋状のねじが形成された回転軸）４３
１が回転自在に支持されており、また、このリードスク
リュー４３１の両側部に、断面６角形のガイド軸４３２
とガイド軸４３３とがそれぞれ回転自在に支持されてい
る。

【００５８】図１に示すように、リードスクリュー４３
１、ガイド軸４３２および４３３は、それぞれ、基板ホ
ルダー７の図１中上側近傍に配置されており、第１の基
板搬送手段３０のリードスクリュー３２１、ガイド軸３
２２および３２３の図１中上側端部近傍から基板ホルダ
ー７の回転中心近傍まで、基板ホルダー７のホルダー本
体７１の径方向（基板ホルダー７のホルダー本体７１に
対して平行）に設けられている。

【００５９】なお、前記ホルダー本体７１の径方向と
は、ホルダー本体７１の外周端７１１から内周端７１２
へ向う基板ホルダー７の回転中心を通る線に沿った方向
をいう。

【００６０】主チャンバー２の外部（図１中上側）に
は、クレーン４１の後述するチャック４６１、４６３の
幅方向駆動用のモータ４４２が設置されており、また、
これと同様に、主チャンバー２の外部（図１中上側）に
は、クレーン４１の横方向（図１中左右方向）駆動用の
図示しないモータと、クレーン４１のチャック４６１、
４６３の上下方向駆動用の図示しないモータとが設置さ
れている。この場合、ガイド軸４３２は、図示しないユ
ニバーサルジョイントを介して、モータ４４２の回転軸
に連結されており、これと同様に、リードスクリュー４
３１およびガイド軸４３３は、それぞれ、ユニバーサル
ジョイントを介して、前記クレーン４１の横方向駆動用
のモータの回転軸およびチャック４６１、４６３の上下
方向駆動用のモータの回転軸に連結されている。

【００６１】図１４に示すように、ケーシング４２に
は、リードスクリュー４３１と噛合するナット（雌ね
じ）４５１が固定されている。また、ケーシング４２に
は、このナット４５１の両側部に、ガイド軸４３２およ
び４３３の回転力を伝達し得るように、ガイド軸４３２
および４３３がそれぞれ挿入される断面６角形の孔部を
有するかさ歯車４５２および４５３が設けられている。
この場合、かさ歯車４５２および４５３は、それぞれ、
ガイド軸４３２および４３３に沿って摺動し得るように
なっている。

【００６２】これらにより、クレーン４１は、基板ホル
ダー７のホルダー本体７１の対向面と平行な姿勢を保持
しつつ、リードスクリュー４３１の回転軸に沿って移動
し得るようになっている。

【００６３】次に、クレーン４１の基板支持機構を説明
する。図１４および図１５に示すように、基板支持機構
は、一対のチャック４６１、４６３と、互いに平行に配
置された一対の回転軸４７１、４７２と、一対の長方形
の枠部材４８１、４８２とを有している。

【００６４】図１４に示すように、回転軸４７１の一端
側には、ねじ部４７３が形成されており、他端側には、
ねじ部４７３と逆方向にねじ山が切ってあるねじ部４７
４が形成されている。また、回転軸４７２の一端側に
は、ねじ部４７３と同方向にねじ山が切ってあるねじ部
４７５が形成されており、他端側には、ねじ部４７５と
逆方向にねじ山が切ってあるねじ部４７６が形成されて
いる。

【００６５】チャック４６１には、ねじ部４７３と噛合
するナット（雌ねじ）４６５と、ねじ部４７５と噛合す
るナット４６７とが固定されており、チャック４６３に
は、ねじ部４７４と噛合するナット４６７と、ねじ部４
７６と噛合するナット４６８とが固定されている。ま
た、これらチャック４６１および４６３の先端（図１４
中下端）には、それぞれ、ほぼＬ字状の支持部４６２お
よび４６４が設けられている。

【００６６】枠部材４８１には、図１４中左右方向に延
びる４つの長穴４８３、４８４、４８５および４８６が
形成されており、枠部材４８１の図１４中右側の辺４８
７には、ラックギヤ４８８が形成されている。

【００６７】また、チャック４６１には、長穴４８３に
挿入されるピン４９１と、長穴４８４に挿入されるピン
４９２とが突設されており、基板支持部材４６２には、
長穴４８５に挿入されるピン４９３と、長穴４８６に挿
入されるピン４９４とが突設されている。

【００６８】図１５に示すように、枠部材４８２は、チ
ャック４６１および４６２を介して、枠部材４８１と反
対側に配置されている。なお、枠部材４８２は、前記枠
部材４８１と対称になっており、その構成は、ラックギ
ヤ４８８が形成されていない他は、枠部材４８１と同様
であるので説明を省略する。

【００６９】図１４および図１５に示すように、ケーシ
ング４２の側板４２１には、枠部材４８２の移動方向を
規制する図１４中上下方向に延びる４つの長穴４２３、
４２４、４２５および４２６が形成されており、これと
同様に、ケーシング４２の側板４２２にも、枠部材４８
１の移動方向を規制する図１５中上下方向に延びる図示
しない４つの長穴が形成されている。

【００７０】図１４に示すように、枠部材４８１には、
前記ケーシング４２の側板４２２に形成されている図示
しない長穴に挿入されるピン５１１、５１２、５１３お
よび５１４が突設されており、これと同様に、枠部材４
８２には、ケーシング４２の側板４２１に形成されてい
る長穴４２３〜４２６に挿入される図示しない４つのピ
ンが突設されている。

【００７１】ケーシング４２には、かさ歯車４５３と噛
合するかさ歯車５２１が支持されており、そのかさ歯車
５２１の回転軸５２２には、ラックギヤ４８８と噛合す
るピニオンギヤ５２３が嵌入されている。

【００７２】また、ケーシング４２には、かさ歯車４５
２と噛合するかさ歯車５２４が支持されており、そのか
さ歯車５２４の回転軸５２５には、ウォームギア５２６
が嵌入されている。この場合、ウォームギア５２６は、
回転軸５２５からの回転力を伝達でき、かつ、回転軸５
２５に沿って摺動し得るようになっている。

【００７３】図１６は、ウォームギア５２６およびその
近傍を示す平面図である。図１４および図１６に示すよ
うに、回転軸４７１には、ウォームギア５２６と噛合す
るヘリカルギヤ４７８が嵌入されている。

【００７４】また、図１４に示すように、回転軸４７１
には、スプロケット５３１が嵌入されており、回転軸４
７２には、前記スプロケット５３１と対応する位置に、
スプロケット５３２が嵌入されている。そして、スプロ
ケット５３１からの駆動力がスプロケット５３２に伝達
されるように、スプロケット５３１とスプロケット５３
２には、チェーン５３３が巻き掛けられている。

【００７５】このような構成により、図１４に示すよう
に、チャック４６１、４６２、枠部材４８１、４８２、
回転軸４７１、４７２、スプロケット５３１、５３２、
チェーン５３３およびウォームギア５２６は、一体的
に、ケーシング４２に対して図１４中上下方向に移動し
得るようになっており、チャック４６１および４６２
は、ケーシング４２に対して、図１４中左右方向（チャ
ック４６１とチャック４６３とが接近する方向または離
間する方向）に移動し得るようになっている。

【００７６】図１７は、蒸着装置１の回路構成例を示す
ブロック図である。同図に示すように、蒸着装置１は、
制御手段６０を有しており、この制御手段６０は、図示
しないインターフェースを介して、第１のシャッター４
の駆動用のモータ５４１、第２のシャッター５の駆動用
のモータ５４２、クレーン４１の横方向（図１中左右方
向）駆動用のモータ４４１、クレーン４１のチャック４
６１、４６３の上下方向駆動用のモータ４４３、モータ
８、モータ２１３、モータ２５３、モータ２４３、モー
タ３３およびモータ４４２と、それぞれ通信し得るよう
になっている。

【００７７】制御手段６０は、通常、マイクロコンピュ
ータで構成されており、前記各モータの駆動制御を行
う。なお、第１の基板搬送機構２０および第２の基板搬
送機構２０ａの各位置制御は、それぞれ、従来公知のモ
ータ回転角度によるオープンループ制御により行ってい
る。

【００７８】次に、蒸着装置１の第１の基板搬送機構２
０および第２の基板搬送機構２０ａの主な作用をそれぞ
れ説明する。

【００７９】［第１の基板搬送機構２０］ 図１に示すように、モータ２１３が駆動すると、移動手
段２１の車輪２１２が回転し、これにより、移動手段２
１は、レール２２に沿って、主チャンバー２と副チャン
バー３との間を移動する。

【００８０】また、図７に示すように、モータ２５３が
駆動すると、リードスクリュー２５１が回転し、これに
より、ナット２５５がリードスクリュー２５１に沿って
図７中上下方向に移動し、このナット２５５とともに、
台部材２５４および基板搬送部２４は、リードスクリュ
ー２５１およびガイドレールに沿って、姿勢を保持した
まま図７中上下方向に移動する。

【００８１】また、図８に示すように、モータ２４３が
図８中反時計回りに回転すると、ワイヤー２７６が滑車
２７３および２７７を介して、モータ２４３の回転軸に
設けられている図示しないワイヤー巻取部に巻き取られ
る。これにより、ステージ２４２は、ワイヤー２７６に
引っ張られ、支持部材２４１に形成されている凸条２４
７および２４８に沿って図８中右側に移動する。この場
合、ワイヤー２７５は、ワイヤー巻取部から送り出され
る。

【００８２】モータ２４３が図８中時計回りに回転する
と、前記と反対に、ワイヤー２７５が滑車２７１および
２７２を介して、ワイヤー巻取部に巻き取られる。これ
により、ステージ２４２は、ワイヤー２７５に引っ張ら
れ、支持部材２４１に形成されている凸条２４７および
２４８に沿って図８中左側に移動する。この場合、ワイ
ヤー２７６は、ワイヤー巻取部から送り出される。

【００８３】［第２の基板搬送機構２０ａ］ まず、第２の基板搬送機構２０ａの昇降機３１について
説明する。図１および図１１に示すように、モータ３３
が駆動すると、リードスクリュー３２１が回転し、これ
により、ナット３１８がリードスクリュー３２１に沿っ
て図１中上下方向に移動し、このナット３１８ととも
に、昇降機３１は、リードスクリュー３２１、ガイド軸
３２２および３２３に沿って、姿勢を保持したまま図１
中上下方向に移動する。

【００８４】図１２に示すように、昇降機３１が図１２
中上方に移動する際は、ガイドローラ３１６が板部材３
２４に当接するまでは、昇降機３１に設けられている図
示しないステージ保持部により、ステージ３１１は水平
（水平な姿勢）に保持されている。そして、図１３に示
すように、ガイドローラ３１６が板部材３２４に当接し
た後、昇降機３１がさらに図１３中上方に移動すると、
ステージ３１１は、ピン３１３を中心にして図１３中反
時計回りに回転して、傾斜し、昇降機３１が図１３中最
上部に位置すると、ステージ３１１は、基板ホルダー７
のホルダー本体７１と水平になる姿勢に保持される。こ
のように、昇降機３１のステージ３１１は、昇降機３１
の第２の位置（図１３中上部）への到達に連動して、水
平姿勢から傾斜姿勢へ変更する。なお、ステージ３１１
が傾斜しているときには、基板１００は、凸部３１７に
よって保持されている。

【００８５】また、この状態から、昇降機３１が図１３
中下方に移動すると、ステージ３１１は、ピン３１３を
中心にして図１３中時計回りに回転し、水平に近づいて
いく。そして、図１２に示すように、ステージ３１１が
水平になると、図示しないステージ保持部により、その
姿勢（水平な姿勢）が保持される。

【００８６】次に、第２の基板搬送機構２０ａのクレー
ン４１について説明する。図１および図１４に示すよう
に、モータ４４１が駆動すると、リードスクリュー４３
１が回転し、これにより、ナット４５１がリードスクリ
ュー４３１に沿って図１中左右方向に移動し、このナッ
ト４５１とともに、クレーン４１は、リードスクリュー
４３１、ガイド軸４３２および４３３に沿って、姿勢を
保持したまま図１中左右方向に移動する。

【００８７】また、図１４に示すように、モータ４４２
が駆動すると、ガイド軸４３２が回転し、これにより、
かさ歯車４５２が回転し、このかさ歯車４５２と噛合し
ているかさ歯車５２４が回転する。そして、かさ歯車５
２４の回転軸５２５に嵌入しているウォームギヤ５２６
が回転し、図１６に示すように、このウォームギヤ５２
６と噛合しているヘリカルギヤ４７８が回転し、このヘ
リカルギヤ４７８とともに、回転軸４７１が回転する。
この場合、図１４に示すように、スプロケット５３１か
らの駆動力がチェーン５３３によりスプロケット５３２
へ伝達されて、回転軸４７２が回転する。

【００８８】図１４に示すように、回転軸４７１が回転
すると、回転軸４７１の両端のねじ部４７３および４７
４とそれぞれ噛合しているナット４６５および４６７
が、それぞれ回転軸４７に沿って図１４中左右方向に、
互いに逆の方向に移動する。また、回転軸４７２が回転
すると、回転軸４７２の両端のねじ部４７５および４７
６とそれぞれ噛合しているナット４６６および４６８
が、それぞれ回転軸４７に沿って図１４中左右方向に、
互いに逆の方向に移動する。これにより、チャック４６
１および４６３は、それぞれ、ケーシング４２に対し
て、図１４中左右方向に、互いに逆の方向に移動する。
すなわち、チャック４６１および４６３は、それぞれ、
チャック４６１とチャック４６３とが接近する方向また
は離間する方向に移動する。

【００８９】また、図１４に示すように、モータ４４３
が駆動すると、ガイド軸４３３が回転し、これにより、
かさ歯車４５３が回転し、このかさ歯車４５３と噛合し
ているかさ歯車５２１が回転する。そして、かさ歯車５
２１の回転軸５２２に嵌入しているピニオンギヤ５２３
が回転し、ラックギヤ４８８とピニオンギヤ５２３とに
より、ピニオンギヤ５２３の回転運動が枠部材４８１の
直線運動に変換され、枠部材４８１は、ケーシング４２
に対して、図示しない長穴に沿って図１４中上下方向に
移動する。この場合、枠部材４８１とともに、チャック
４６１、４６３、枠部材４８２、回転軸４７１、４７
２、スプロケット５３１、５３２、チェーン５３３およ
びウォームギア５２６は、一体的に、ケーシング４２に
対して図１４中上下方向に移動する。

【００９０】次に、蒸着の際に、蒸着装置１の外部（大
気側）にある未蒸着の基板群を、主チャンバー２内の基
板ホルダー７に取り付ける手順を説明する。図１に示す
ように、第１のシャッター４が開放され、第２のシャッ
ター５が閉鎖されており、主チャンバー２および副チャ
ンバー３内がそれぞれ蒸着可能な所定の気圧（真空）に
なっている状態から説明を開始する。

【００９１】まず、蒸着装置１の外部にある基板移動手
段２１の基板格納部２３に、未蒸着の基板１００を所定
枚数格納する。次いで、モータ５４１を駆動して第１の
シャッター４を閉鎖し、この後、副チャンバー３内を大
気圧にする。

【００９２】次いで、モータ５４２を駆動して第２のシ
ャッター５を開放し、基板１００が格納された基板移動
手段２１を副チャンバー３内の所定の位置にセットす
る。次いで、モータ５４２を駆動して第２のシャッター
５を閉鎖し、この後、真空ポンプ１２により、副チャン
バー３内の気圧が主チャンバー２内の気圧と同一になる
ように予備排気を行う。

【００９３】次いで、モータ５４１を駆動して第１のシ
ャッター４を開放する。次いで、モータ２１３を駆動し
て基板移動手段２１を副チャンバー３内の所定の位置か
ら主チャンバー２内の所定の位置へ移動させる。

【００９４】次いで、モータ３３を駆動して昇降機３１
を図１中下側に下限まで移動させる。次いで、基板搬送
部２４の載置台２４６に、基板格納部２３に格納されて
いる基板１００を１枚載置させる。この動作は、下記の
通りである。

【００９５】図１８および図１９は、それぞれ基板搬送
部２４を示す側面図である。図１８に示すように、モー
タ２５３を駆動して基板搬送部２４を所定の高さまで移
動させ、モータ２４３を駆動して基板搬送部２４のステ
ージ２４２を図１８中左側に移動させて、基板支持部２
３１によって支持されている基板１００の真下に載置台
２４６を位置させる。そして、図１９に示すように、モ
ータ２５３を駆動して基板搬送部２４を図１９中上側に
移動させ、図５に示すように、支持板２３２と支持板２
３２との間から、ステージ２４２を上昇させて基板１０
０をすくい上げ、これにより、図６に示すように、基板
１００を載置台２４６に載置する。

【００９６】次いで、基板搬送部２４から基板１００を
受け取り易い位置に、モータ３３を駆動して昇降機３１
を移動させる。すなわち、昇降機３１を図６中上側に移
動させ、昇降機３１のステージ３１１の高さと載置台２
４６の高さとが同じになった所で、昇降機３１を停止さ
せる。

【００９７】次いで、図６に示すように、基板搬送部２
４のステージ２４２を図６中右側に移動させ、昇降機３
１のステージ３１１の位置まで基板１００を搬送する。
図２０は、基板搬送部２４および昇降機３１を示す正面
図である。同図に示すように、載置台２４６がステージ
３１１の切欠部３１４に入り込むことにより、基板１０
０は、ステージ３１１の図２０中真上に配置される。

【００９８】次いで、モータ３３を駆動して昇降機３１
を図２０中上側に移動させ、ステージ３１１により、基
板搬送部２４から基板１００を受け取る。次いで、図６
に示すように、前記と同様にして、再び、モータ２５３
を駆動して基板搬送部２４を図６中上下方向に移動さ
せ、モータ２４３を駆動して基板搬送部２４のステージ
２４２を図６中左右方向に移動させて、基板搬送部２４
の載置台２４６に、基板格納部２３に格納されている他
の基板１００を１枚載置させる。

【００９９】次いで、図１０に示すように、モータ３３
を駆動して昇降機３１を図１０中上側に上限まで移動さ
せる。次いで、図１４に示すように、モータ４４２およ
び４４３をそれぞれ駆動して、クレーン４１のチャック
４６１および４６３を、チャック４６１とチャック４６
３とが離間する方向に限界まで移動させ、かつ、チャッ
ク４６１および４６３を、図１４中上側に上限まで移動
させる。以下、「チャック４６１とチャック４６３とが
離間する方向」を単に、「広幅方向」という。

【０１００】次いで、図１０に示すように、モータ４４
１を駆動してクレーン４１をガイド軸４３２に沿って図
１０中左右方向に移動させ、クレーン４１のチャック４
６１および４６３を、昇降機３１のステージ３１１に支
持されている基板１００の真上に位置させる。

【０１０１】次いで、モータ４４３を駆動してチャック
４６１および４６３を図１０中下側に移動させ、チャッ
ク４６１および４６３を、これらの支持部４６２および
４６４が基板１００を挟持し得る位置に位置させる。

【０１０２】次いで、図１４に示すように、モータ４４
２を駆動してチャック４６１および４６３を、チャック
４６１とチャック４６３とが接近する方向に移動させ、
支持部４６２および４６４により基板１００を挟持す
る。以下、「チャック４６１とチャック４６３とが接近
する方向」を単に、「狭幅方向」という。

【０１０３】次いで、モータ４４３を駆動してチャック
４６１および４６３を図１４中上側に移動させ、基板１
００を昇降機３１のステージ３１１から持ち上げる。次
いで、基板ホルダー７の開口７２の列がクレーン４１の
軌道（リードスクリュー４３１）の真下になるように、
モータ８を駆動して基板ホルダー７を回転させる。

【０１０４】次いで、図１に示すように、モータ４４１
を駆動してクレーン４１をガイド軸４３２に沿って図１
中右側に移動させ、基板ホルダー７の最外周側の開口７
２の図１中上側に基板１００を搬送する。

【０１０５】次いで、モータ４４３を駆動してチャック
４６１および４６３を図１中下側に移動させ、基板１０
０の位置規制部材１０２を基板ホルダー７の開口７２に
挿入させる。

【０１０６】次いで、モータ４４２を駆動してチャック
４６１および４６３を広幅方向に移動させ、基板１００
を基板ホルダー７に取り付ける。次いで、モータ４４３
を駆動してチャック４６１および４６３を図１中上側に
移動させる。

【０１０７】次いで、前記と同様にして、基板ホルダー
７の同じ列の中央の開口７２および最内周側の開口７２
にも、順次、基板格納部２３から基板１００を搬送して
取り付ける。

【０１０８】次いで、前記基板が取り付けられた開口７
２の列に隣接する開口７２の列がクレーン４１の軌道の
真下になるように、モータ８を駆動して基板ホルダー７
を回転させ、前記と同様にして、基板ホルダー７の最外
周側の開口７２、中央の開口７２および最内周側の開口
７２に、順次、基板格納部２３から基板１００を搬送し
て取り付ける。

【０１０９】以下、前記と同様にして、基板移動手段２
１の基板格納部２３に格納されている未蒸着の基板１０
０を基板ホルダー７のすべての開口７２に取り付ける。
基板ホルダー７への基板１００の取り付けが完了した
後、蒸発器６を作動し、その蒸発器６からターゲットを
蒸発させて蒸着を行い、基板１００に所定の薄膜を形成
する。

【０１１０】そして、前記基板ホルダー７への基板１０
０の取り付けと逆の手順により、蒸着済の基板群を、主
チャンバー２内の基板ホルダー７から蒸着装置１の外部
に搬送する。

【０１１１】このように、本実施例の蒸着装置１は、主
チャンバー２と副チャンバー３とを有しており、主チャ
ンバー２の真空を解除せずに、または、真空度を目標値
までわずかに向上させるだけで、蒸着装置１の外部等に
ある未蒸着の基板１００を主チャンバー２内の基板ホル
ダー７に取り付けることができ、また、基板ホルダー７
に取り付けられている蒸着済の基板１００を蒸着装置１
の外部等に搬送することができるので、基板１００の交
換に要する時間を短縮することができる。これにより、
多数の基板に連続的に蒸着を行う場合、作業効率を向上
させることができる。

【０１１２】また、蒸着装置１は、複数の基板を取り付
けることができる基板ホルダー７を有しており、一度
に、複数の基板に蒸着することができるので、蒸着の際
の作業効率が向上する。

【０１１３】また、蒸着装置１は、蒸着装置１の外部か
ら主チャンバー２内に複数の基板を同時に搬送すること
ができる移動手段２１を有しているので、装置の外部か
ら主チャンバー内に基板１００を１枚ずつしか搬送でき
ない蒸着装置に比べて、副チャンバー３の真空を解除す
る回数を減少させることができ、これにより、蒸着の際
の作業効率が向上する。

【０１１４】また、蒸着装置１は、基板１００を着脱可
能に支持するチャック４６１および４６２を備えたクレ
ーン４１を有しているので、このクレーン４１により、
未蒸着の基板１００を確実に基板ホルダー７に取り付け
ることができる。そして、蒸着後は、基板ホルダー７に
取り付けられている蒸着済の基板１００を確実に回収す
ることができる。

【０１１５】以上、本発明の薄膜形成装置を、図示の構
成例に基づいて説明したが、本発明はこれに限定される
ものではない。例えば、前記実施例では、被着物は、基
板であったが、本発明では基板に限らず、この他、例え
ば、レンズ等であってもよい。

【０１１６】また、本発明では、被着物に形成する薄膜
は、特に限定されない。なお、薄膜としては、例えば、
反射膜、反射防止膜等の光学薄膜等が挙げられるが、光
学部品には限らない。

【０１１７】また、本発明の薄膜形成装置は、蒸着装置
に限らず、この他、例えば、スパッタリング装置、イオ
ンプレーティング装置、ＣＶＤ装置およびＰＶＤ装置
等、各種薄膜形成装置に適用される。

【０１１８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の薄膜形成
装置によれば、第１のチャンバーと、第２のチャンバー
と、シャッター機構とを有しており、第１のチャンバー
の真空を解除せずに、薄膜形成装置の外部にある成膜前
の被着物を第１のチャンバー内の保持手段に取り付ける
ことができ、また、保持手段に取り付けられている成膜
後の被着物を薄膜形成装置の外部に搬送することができ
るので、被着物の交換に要する時間を短縮することがで
きる。これにより、多数の被着物に連続的に成膜する場
合、作業効率を向上させることができる。

【０１１９】また、本発明の薄膜形成装置は、複数の被
着物を取り付けることができる保持手段を有しており、
複数の被着物に対して同時に成膜することができるの
で、成膜の際の作業効率が向上する。

【０１２０】また、第１の搬送機構が、複数の被着物を
格納し得る格納部を有する場合には、第２のチャンバー
と第１のチャンバーとの間で複数の被着物を同時に搬送
することができるので、装置の外部から第１のチャンバ
ー内に被着物を１つずつしか搬送できない薄膜形成装置
に比べて、第２のチャンバーの真空を解除する回数を減
少させることができ、これにより、成膜の際の作業効率
が向上する。

【０１２１】また、第２の搬送機構の第２の搬送手段
が、被着物を着脱可能に支持するチャックを有する場合
には、この第２の搬送手段により、成膜前の被着物を確
実に保持手段に取り付けることができる。そして、成膜
後は、保持手段に取り付けられている成膜された被着物
を確実に回収することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の薄膜形成装置を蒸着装置に適用した場
合における実施例を示す断面図である。

【図２】本発明における基板ホルダーの構成例を示す平
面図である。

【図３】図２中のＡ−Ａ線での断面図である。

【図４】本発明における第１の基板搬送機構および第２
の基板搬送機構の昇降機を示す平面図である。

【図５】本発明における第１の基板搬送機構の移動手段
を示す平面図である

【図６】図５中のＢ−Ｂ線での断面図である。

【図７】図５中のＣ−Ｃ線での断面図である。

【図８】本発明における第１の基板搬送機構の基板搬送
部を示す側面図である。

【図９】本発明における第１の基板搬送機構の基板搬送
部を示す正面図である。

【図１０】図１中の点線で示す領域の拡大図である。

【図１１】本発明における第２の基板搬送機構の昇降機
を示す平面図である。

【図１２】本発明における第２の基板搬送機構の昇降機
を示す正面図である。

【図１３】本発明における第２の基板搬送機構の昇降機
を示す正面図である。

【図１４】図１０中のＤ−Ｄ線での断面図である。

【図１５】図１０中のＥ−Ｅ線での断面図である。

【図１６】本発明におけるウォームギヤおよびその近傍
を示す平面図である。

【図１７】本発明における回路構成例を示すブロック図
である。

【図１８】本発明における第１の基板搬送機構の基板搬
送部を示す側面図である。

【図１９】本発明における第１の基板搬送機構の基板搬
送部を示す側面図である。

【図２０】本発明における第１の基板搬送機構の基板搬
送部および第２の基板搬送機構のの昇降機を示す正面図
である。

【符号の説明】

１ 蒸着装置 ２ 主チャンバー ３ 副チャンバー ４ 第１のシャッター ５ 第２のシャッター ６ 蒸発器 ７ 基板ホルダー ７１ ホルダー本体 ７１１ 外周端 ７１２ 内周端 ７２ 開口 ８ モータ ９ 膜厚調整用遮蔽板 １０ 底板 １１ 側壁 １２ 真空ポンプ １３ バルブ １４、１５ ゲート ２０ 第１の基板搬送機構 ２０ａ 第２の基板搬送機構 ２１ 移動手段 ２１１ 基台 ２１２ 車輪 ２１３ モータ ２２ レール ２３ 基板格納部 ２３１ 基板支持部 ２３２ 支持板 ２４ 基板搬送部 ２４１ 支持部材 ２４２ ステージ ２４３ モータ ２４４、２４５ ガイド溝 ２４６ 載設台 ２４７、２４８ 凸条 ２５１ リードスクリュー ２５２ ガイドレール ２５３ モータ ２５４ 台部材 ２５５ ナット ２５６ 孔部 ２６１、２６２ ガイドローラー ２７１〜２７４ 滑車 ２７５、２７６ ワイヤー ３１ 昇降機 ３１１ ステージ ３１２ 支持部材 ３１３ ピン ３１４ 切欠部 ３１５ 突部 ３１６ ガイドローラー ３１７ 凸部 ３１８ ナット ３１９、３２０ 孔部 ３２１ リードスクリュー ３２２、３２３ ガイド軸 ３２４ 板部材 ３３ モータ ４１ クレーン ４２ ケーシング ４２１、４２２ 側板 ４２３〜４２６ 長穴 ４３１ リードスクリュー ４３２、４３３ ガイド軸 ４４１〜４４３ モータ ４５１ ナット ４５２、４５３ かさ歯車 ４６１ チャック ４６２ 支持部 ４６３ チャック ４６４ 支持部 ４６５〜４６８ ナット ４７１、４７２ 回転軸 ４７３〜４７６ ねじ部 ４７８ ヘリカルギヤ ４８１、４８２ 枠部材 ４８３〜４８６ 長穴 ４８７ 辺 ４８８ ラックギヤ ４９１〜４９４ ピン ５１１〜５１４ ピン ５２１ かさ歯車 ５２２ 回転軸 ５２３ ピニオンギヤ ５２４ かさ歯車 ５２５ 回転軸 ５２６ ウォームギヤ ５３１、５３２ スプロケット ５３３ チェーン ５４１、５４２ モータ ６０ 制御手段 １００ 基板 １０１ 基板本体 １０２ 位置規制部材 １０３ 薄膜

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 減圧されたチャンバー内で被着物へ薄膜
   を形成する薄膜形成装置であって、 被着物への薄膜の形成がなされる気密性のある第１のチ
   ャンバーと、 気密性のある第２のチャンバーと、 前記第１のチャンバーと前記第２のチャンバーとを連通
   するゲートと、 前記ゲートを開閉し、該ゲートを気密的に遮蔽し得るシ
   ャッター機構と、 前記第１のチャンバー内および前記第２のチャンバー内
   をそれぞれ減圧する減圧手段と、 前記第１のチャンバー内に設置され、成膜の際、複数の
   前記被着物を保持し得る保持手段と、 前記第１のチャンバー内に設置され、成膜の際、前記薄
   膜の材料を放出する膜材料放出手段と、 前記第１のチャンバーの減圧状態を維持したまま、少な
   くとも前記第２のチャンバー内と前記第１のチャンバー
   内の所定位置との間で前記被着物を搬送する第１の搬送
   機構と、 前記第１のチャンバー内で昇降する機構と、前記保持手
   段への前記被着物の着脱を行う機構とを備え、前記第１
   のチャンバーの減圧状態を維持したまま、前記第１のチ
   ャンバー内の所定位置と、前記保持手段が前記被着物を
   保持する被着物保持位置との間で前記被着物を搬送する
   第２の搬送機構とを有することを特徴とする薄膜形成装
   置。
2. 【請求項２】 前記第１の搬送機構は、少なくとも前記
   第２のチャンバー内と前記第１のチャンバー内の所定位
   置との間を前記ゲートを通過して移動する移動手段と、 前記移動手段に設けられ、複数の前記被着物を格納し得
   る格納部と、 前記移動手段に設けられ、前記格納部から前記被着物を
   １個ずつ取り出して該被着物を前記第２の搬送機構に受
   け渡し、前記第２の搬送機構から前記被着物を受け取っ
   て該被着物を前記格納部に格納する搬送部とを有する請
   求項１に記載の薄膜形成装置。
3. 【請求項３】 前記第２の搬送機構は、前記第１のチャ
   ンバー内の底部側の第１の位置と前記第１のチャンバー
   内の上部側の第２の位置との間で前記被着物を搬送する
   第１の搬送手段と、 前記第２の位置と前記保持手段が前記被着物を保持する
   被着物保持位置との間で前記被着物を搬送する第２の搬
   送手段とを有する請求項１または２に記載の薄膜形成装
   置。
4. 【請求項４】 前記保持手段は、水平面に対して所定角
   度傾斜する部分を有するホルダー本体を有しており、 前記第１の搬送手段は、水平な姿勢と、水平面に対して
   前記ホルダー本体の前記傾斜部分と平行になる姿勢とを
   採り得るステージを有する昇降機である請求項３に記載
   の薄膜形成装置。
5. 【請求項５】 前記ステージは、前記第２の位置への到
   達に連動して、前記水平姿勢から前記傾斜姿勢へ変更す
   るよう構成されている請求項４に記載の薄膜形成装置。
6. 【請求項６】 前記保持手段は、回転体よりなるホルダ
   ー本体を有し、 前記第２の搬送手段は、前記ホルダー本体のほぼ径方向
   に移動し得るクレーンである請求項３に記載の薄膜形成
   装置。
7. 【請求項７】 前記第２の搬送手段は、前記被着物を着
   脱可能に支持するチャックを有する請求項３ないし６の
   いずれかに記載の薄膜形成装置。