JP2639459B2 - モジューラ半導体ウェーハ移送及び処理装置 - Google Patents

モジューラ半導体ウェーハ移送及び処理装置

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体ウェーハ処理装置のためのモジューラ
装置に関する。
従来の技術 従来技術の半導体ウェーハ処理装置では、概して１つ
の機能のみ、すなわちスパッタコーティング、エッチン
グ、化学蒸着等のみが果されるか、又は限定された複数
の機能が果たされる。ウェーハのカセットは別の処理の
ため、操作者によって１つの装置から別の装置運ばれ
る。このことはウェーハの移動の間、ウェーハを塵とガ
スにさらし、各装置において真空ポンピングのための時
間を必要とする。
発明の目的 本発明の目的は異なる処置のための広範囲のモジュー
ラユニットが単一に真空環境の周囲に組み立てられるウ
ェーハ処理装置を提供することである。
本発明の更に別の目的は異なる処理の間を隔離するよ
うな装置を提供することである。
更に、本発明の目的は真空環境中にウェーハのカセッ
トの全てをロード（load）し、又、アンロードすること
である。
更に、本発明の目的は処理ステップ間にウェーハを移
動させ、並べるために装置内にロボットハンドリングア
ーム（robot handling arms）を提供することである。
発明の概要 ウェーハ処理装置は全てのカセットを真空環境中にロ
ードするための複数のロードロックによって提供され
る。ウェーハハンドリングモジュール（wafer handling
modules）はウェーハが通る装置の回転を越こすロボッ
トアームを有している。様々な処理モジュールがウェー
ハハンドリングモジュールの側面に取り付けられてい
る。
本発明の前記及び他の操作上の特性は、１つの好適実
施例及び非限定的例としての別の実施例を図示した添付
図面を参照して後記の詳細な説明を読むことにより、よ
り明らかとなろう。
図面の簡単な説明 第１図は本発明に従って１つの実施例の部分略示平面
図である。
第２図は第１図に示された装置の部分斜視図である。
第３図は本発明に従った装置の第２の実施例の部分的
略平面図である。
第４図は本発明に従ってゲートバルブモジュールの部
分切り欠き側面図である。
第５図は第４図のゲートバルブモジュールの部分切り
欠き平面図である。
第６図は本発明に従ったウェーハ移送アームの略示平
面図であり、前記アームは点線で第２位置にも示されて
いる。
第７図は第６図のアームの部分断面図である。
第7A図は理論的カムプロフィルから実際のカムプロフ
ィルを得るためのフローチャートである。
第7B図は実際のカムの一実施例で、ウェーハホルダー
の中心によって描かれる経路をともに示したものであ
る。
第８図は本発明に従ってロードロックモジュールの特
に好適な実施例の略示平面図である。
第９図は第８図のウェーハハンドリングアーム及びア
ライナ（aligner）の斜視図である。
第10図は本発明に従ったスパッタモジュールの実施例
の略示線図である。
第11図は本発明に従ったスパッタモジュールの部分断
面の平面図である。
第12図は第11図のモジュールの部分断面の斜視図であ
る。
第13図は第11図及び第12図のモジュールの運転機構の
断面図で、第15図における線13−13に沿って見たもので
ある。
第14図は第11図のモジュールの運転機構の断面で、線
14−14の沿って見たものである。
第15図は第11図のモジュールの断面図で線15−15に沿
って見たものである。
第16図は移送アームからウェーハを受けるための機構
の断面図であり、第12図の線16−16に沿って見たもので
ある。
好適実施例の詳細な説明 図面を参照すると、それらの様々な図の全てに物品を
示す参照番号を付けられており、第１図には本発明のモ
ジューラ半導体ウェーハ移送及び処理装置１の１つの実
施例の部分略示平面図で示されている。モジューラ半導
体処理装置１はウェーハハンドラー及びロードロックモ
ジュール400、ゲートバルブモジュール100a−100f、移
送モジュール200a及び200b、処理モジュール300a−300
d、及び移送モジュール200aと200bとの間に接続された
通過モジュール500を有している。
ウエーハハンドラー及びロードロックモジュール400
は概して平面図では矩形であり、領域407はロードロッ
クチェンバ406の外部にあり、モジュール400の範囲内は
大気圧となっている。制御された低気圧環境が装置のこ
の部分にもたらされる。工程において、処理されるべき
選択されたウェーハウェーハハンドラー405によって、
ウェーハハンドラー及びロードロックモジュール400内
の選択された１つのセミスタンダード又は同等のウェー
ハカセット402−403からロードされる。前記ウェーハハ
ンドラー405は選択されたウェーハをそのカセットから
ウェーハアライナ及びフラットファインダ408に移送
し、又、ウェーハアライナ408からロードロックチェン
バ406へ移送する。ウェーハは処理修正ウェーハのため
に備えられたカセット404からロードされてもよい。カ
セット401は保管カセットでウェーハが処理後に他のカ
セットの１つ又は薄いフィルムモニタ409に置かれる前
に冷却されることを可能にする。ウェーハカセット401
−404は水平面に対して小さな角度、例えば７度、傾斜
しており、カセット401−404内のウェーハの平坦図はこ
の小さな角度と同じ角度だけ沿直線からずれており、ウ
ェーハはそれらのカセット内に置かれるときカセット内
のウェーハ保持スロットに関して既知の方向にあるよう
に傾けられる。選択されたウェーハのカセットからロー
ドロックチェンバ406中への移送の間、ウェーハは初め
にウェーハハンドラー405によってウェーハ表面を沿直
方向に維持されながらウェーハアライナ408に移され
る。選択されたウェーハは次にウェーハの平坦図が水平
になるように回転されてロードロック406内に置かれ
る。その時、該ロードロックは大気にさらされている。
ウェーハの平坦面はウェーハが移動アーム201aによって
ゲードバルブモジュール100aから移動モジュール200aへ
移送される間、水平に維持される。前記移動アーム201a
は移動モジュール200a及びゲートバルブモジュール100a
の入出ポート210を通じてロードロックチェンバ406内の
ウェーハを引き出す。
移動モジュール200aは４つのポート210、211、212及
び213を有する。ポート210、211及び212は各々、ゲート
バルブモジュール100a、100b及び100cによって制御され
る。ポート211とそのゲートバルブモジュール100bは移
動モジュール200aのチェンバ215を処理モジュール300a
のチェンバ301aに接続している。同様に、ポート212及
びそのゲートバルブモジュール100cは移動モジュール20
0aのチェンバ215を処理モジュール300bのチェンバ301b
に接続している。移動モジュール200aの内部チェンバ21
5は在来のポンピング機構（第１図には図示せず）によ
って、大気圧よりも低い、選択された圧力に維持され
る。チェンバ215が排気される速度を高めるために、チ
ェンバ215はアーム201aに関してチェンバ215の容積を最
小化する大きさにされる。
ロードロックチェンバ406からウェーハを除いた後、
移動アーム201aは移動チェンバ215中に引っ込み、ゲー
トバルブ100aは閉じられる。移動アーム201aはウェーハ
を選択された処理ポート211又は212或いは移動ポート21
3にもたらすために選択された角度だけ回転する。選択
されたウェーハが処理ポート、例えばポート211の所に
もたらされると、ゲートバルブモジュール、例えばモジ
ュール100bは選択されたウェーハがロードロック406か
ら移動モジュール200aのチェンバ215内へ移される間は
閉じられているが、制御システム（図示せず）によって
開かれる。アーム201aは次に処理ポート、例えばポート
211及び対応するゲートバルブモジュール例えばモジュ
ール100bを通って、対応する処理モジュール、例えば30
0aの対応する処理チェンバ、例えば301a内に伸びる。ウ
ェーハは次に、第１図には示されていない手段により取
りはずされる。
処理モジュール301a及び301bは同じものでもよく、そ
のときそこでは同じ操作が行われる。或いはまた、それ
らのモジュールは異なる操作が行われる異なったもので
もよい。どちらの場合もポート211及び212そしてゲート
バルブモジュール100b及び100を介して、各々移動モジ
ュール200aをウェーハハンドラー及びロードロック400
に接続する入出ポート210及びバルブ100aとともに移動
モジュール200aに接続された２つの処理モジュール300a
及び300bの提供は、ウェーハの非連続処理及び、連続処
理装置の比較して増大した処理能力を可能にする。ウェ
ーハをウェーハカセットから移して選ばれた処理モジュ
ール内にオフロードするのに必要な時間は、典型的に、
処理モジュール内のウェーハの処理に必要な時間よりも
ずっと少ない。従って、第１のウェーハが入力カセット
から処理モジュール300a及び300bの選択された１つのも
のに移されるとき、処理チェンバ300aにおける初期の処
理の間に、第２のウェーハがロードロックチェンバ406
から処理モジュール300bに移されてもよい。移動アーム
201aは次に、処理モジュール300a内のウェーハの処理の
完了を待つためにポート211へと回転し戻ってもよい。
このように、時間の大部分の間は処理モジュール300a及
び300bにおいて同時に処理が行われている。主処理ステ
ーションがスパッタデポジションに用いられていると
き、もし望むならば、処理モジュール300bはスパッタエ
ッチングクリーニング又は、例えば化学蒸着のようなス
パッタリング以外の処理による金属フィルムのデポジシ
ョンのための前処理モジュールであってもよい。ウェー
ハは次に、装置１内の残りのチェンバ内で処理されても
よい。
移動モジュール200a内の第２の入出ポート213の提供
は付加された処理モジュール300c及び300dへの接続を可
能にする。移動モジュール200aは通過モジュール500を
介して同一移動モジュール200b（対応する部分は同じ数
字で示されている。）通過モジュール500は移動モジュ
ール200aの入出ポート213を移動モジュール200bの入出
ポート210に接続し、それによって、単一の真空チェン
バを形成する。アーム201aによって運ばれるウェーハを
処理チェンバ300c及び300dの１つに移すことを望むとき
は、ウェーハは通過モジュール500内の平坦アライナー5
01におろされる。次にウェーハは移動モジュール200bの
アーム201bに載せられ、アーム201bによって処理モジュ
ール300cから300eのうちの運ばれた１つの中へ対応する
ゲートバルブモジュール100dから100fを通して移され
る。ウェーハの処理が完了すると、ウェーハは処理モジ
ュールからロードロックチェンバ406に戻され、そこか
ら移動アーム201aによって、又は移動アーム201b、通過
チェンバ501及び移動アーム201aによって運ばれたカセ
ット（401−404）に戻される。処理モジュール300eが任
意のものであり、モジュールを付加することが可能であ
ることを示すために点線で示されている。
第１図に示された装置はゲートバルブ100fと処理モジ
ュール300eを通過モジュール500と同一の通過モジュー
ルを移動モジュール200bに接続することによて、移動モ
ジュール200bと同一の移動モジュール（図示せず）であ
って、対応する複数の処理チェンバに接続されたものと
置き替えることによって直線的に延長することができ
る。
第１図に示された装置は通過モジュール501と同一の
通過モジュールを移動モジュール200bに接続することに
よって、処理モジュール300dを対応する複数の処理チェ
ンバに接続された移動モジュール200bと同一の移動モジ
ュール（図示せず）と置き替えることによって、非直線
的に延長してもよい。もし望むならば、補足の処理モジ
ュールがウェーハハンドラー及びロードロックモジュー
ル400と同一の第２のウェーハハンドラー及びロードロ
ックモジュールに置き替えられてもよい。
第１図に示された処理装置の構造は非連続処理、すな
わち、ロードロック406内のどのウェーハも他の如何な
る処理チェンバも通ることなく選ばれた処理チェンバに
移され、また、如何なるウェーハもどの中間処理チェン
バを通ることなく他の選ばれたどの処理チェンバ又はロ
ードロックチェンバ406へも移される。装置１内に移動
アーム、ケードバルブ、平坦アライナ及びロードロック
チェンバの動作は主制御回路（図示せず）によって制御
される。主制御回路は典型的には、与えられた処理チェ
ンバのどれもが直接には他のどの処理チェンバにも通じ
ないようにゲートバルブが整列されるように動作され
る。従って、この装置は完全な機能上の分離をもたら
す。
装置１によって与えられた非連続処理は、ある特定の
処理モジュールが働いていないとき、残りの処理モジュ
ールの連続した操作を可能にする。非連続処理はまた装
置の残りの部分が操作を続けている間、交替処理モジュ
ールの実行、又は指摘されたあらゆる処理モジュールの
チェンバの実行をも可能にする。例えば、もし、モジュ
ール300cの動作をチェックしたいのならば、カセット40
4内に収容されたモニターウェーハが処理チェンバ300c
に移され、処理を受け、そして、カセット404に戻され
てもよい。チェンバ300c内の処理の間、装置１の残りの
部分は生産ウェーハの加工を続ける。
第２図は第１図に示された半導体ウェーハ移送及び処
理装置の部分斜視図である。特に、移動モジュール200a
のハウジングは概して円筒形状であり、円形の頂上部29
8、円形の底部296及び内筒壁297を有し、該円筒壁は頂
上部298と底部296をつないでいる。ハウジングは、例え
ばステンレス鋼といった、真空材に適したどのようなも
のから作られてもよい。
各移動チェンバの管接続口はハウジングの延長部分に
よって形成されており、そこには内部チェンバ215から
ハウジングの外部へ伸びる水平スロットを形成する。例
えば、第２図に示されているように、管接続口210（第
１図参照）はハウジング延長部299aによって形成され
る。
第３図は本発明のウェーハ移送及び処理装置の第２の
実施例の部分略示平面図である。ウェーハ移送及び処理
装置２は入口ウェーハハンドラー及びロードロックモジ
ュール40a、出口ウェーハハンドラー及びロードロック
モジュール40b、移動モジュール20a及び20b、ゲートバ
ルブモジュール10a−10h及び30gを有している。ウェー
ハハンドラー及びロードロックモジュール40aは第１図
に示されたウェーハハンドラー及びロードロックモジュ
ールと同じものである。移動モジュール20aは移動モジ
ュール20aの内側23aとモジュール20aの外側を通じるた
めの管接続口21a−21dを有する。管接続口21a−21dはゲ
ートバルブモジュール10a−10dによって開閉される。移
動モジュール20aは平坦アライナ50aを介して同様の移動
モジュール20bに接続され、従って、第３図には示され
ていない従来のポンピング手段によって排気される単一
の真空チェンバを形成する。平坦アライナ50aはウェー
ハを所望の回転方向に置くためのどのような適切な手段
によって置き替えられてもよい。移動モジュール23bは
４つの管接続口21e−21hを有し、それらは各々ゲートバ
ルブモジュール10e−10hによって開閉される。反応イオ
ンエッチモジュール30cの内部31cは管接続口21c及び21h
を介してそれぞれ移動モジュール20aの内部チェンバ23a
及び移動モジュール20bの内部チェンバ23bに接続されて
おり、管接続口は各々ゲートバルブモジュール10c及び1
0hによって制御される。同様にスパッタモジュール30b
の内部チェンバ31bは管接続口21b及び21eを介して移動
モジュール20a及び20bの内部チェンバ23a及び23bと通
じ、前記管接続口は各々ゲートバルブモジュール10b及
び10eによって制御される。ケードバルブモジュール10g
によって制御される管接続口21gは移動モジュール20bの
内部チェンバ23bを化学蒸着モジュール30gの内部チェン
バ31gに接続している。管接続口21fはゲートバルブモジ
ュール10fによって制御され、移動モジュール20bの内部
チェンバ23bを急速なましモジュール30fの内部チェンバ
31fに接続している。
主制御器60は各処理チェンバ制御器Ｐ及び入口モジュ
ール40aと出口モジュール40bとオペレータ制御パネルに
標準通信バス61を介して通じている。
操作において、選ばれたウェーハはウェーハハンドラ
ー（第３図には図示せず）によって、入口モジュール40
a内の選ばれたウェーハカセット（第３図には図示せ
ず）から平坦ファインダー50bに運ばれ、次に、ロード
ロックチェンバ46aに運ばれる。該ロードロックチェン
バは第１図のロードロックチャンバ40bと同じものであ
る。移動モジュール20aの移動アーム201cは管接続口21d
を介してロードロックチェンバ46aに伸び、前記管接続
口21dはゲートバルブモジュール10dによって開閉され
る。選ばれたウェーハは次に移送アーム201cに載せら
れ、次に該アームは移動モジュール20aの内部チェンバ2
3a内に引っ込む。アーム201cは次に、選ばれたウェーハ
を管接続口21c又は21b或いは平坦ファインダー50aに置
くために選ばれた角度で回転する。平坦ファインダー50
aに移されたウェーハは移送アーム201d又は移送アーム2
01cのどちらに載せられてもよい。平坦ファインダー50a
から移送アーム201dに載せられたウェーハは、次に、移
送アーム201によってチェンバ23d内に込められ、適切な
角度に回転されられて選ばれた管接続口21g又は21fに置
かれる。選ばれた管接続口を制御するケードバルブモジ
ュールはその時管接続口を開き、移送アーム201dは選ば
れた処理モジュールの内部チェンバ中に伸び、そこでウ
ェーハは第３図には示されていない手段によって下され
る。ウェーハ又は円形対称基板にフラットオリエンテー
ション（flat orientation）が必要とされないときは、
ウェーハ又は基板は移送ポートアーム201cから処理チェ
ンバ31c又は処理チェンバ31bに各々ゲートバルブ10c及
び10bを介して移され、そこからゲートバルブ10h及び10
eを介して、各々、平坦ファインダー50aを迂回して直接
移送アーム201dに移すこともできる。ウェーハの処理が
完了すると、ウェーハは、ウェーハが置かれる処理モジ
ュールを供給する移送アームに載せられ、出口ポート21
aに戻される。処理モジュール30b又は30c内のウェーハ
に対しては、これは処理チェンバから移送アーム201cを
引っ込めることで完了し、移送アーム201cの適切な回転
が続き、次に、ケートバルブモジュール10aによって制
御される管接続口21aを通ってロードロックチェンバ46b
中に伸ばされる。処理モジュール30g又は30fについて
は、ウェーハは初めに移送アーム201dに移され、そこか
ら平坦ファインダー50aを介してアーム201cに移送され
る。
半円弧25は、第３図に示された装置は移動モジュール
20bと同じ第３の移動モジュールを半円弧25に置かれた
ファンダーを連結することによって延長されてもよいこ
とを示している。
第３図の実施例に示されたモジュールは交換可能であ
り、装置が所等のモジュールのあらゆる組合せに構成さ
れることを可能にしている。第３図に示された装置はい
くぶん柔軟性があり、移送アーム201dは４つの処理管接
続口をサービス（service）し、移動アーム201cは２つ
の処理管接続口をサービスし、どちらも入口及び出口モ
ジュールである。もし望むならば、入口モジュール41a
は入口及び出口モジュールの両方として利用してもよ
く、また、出口モジュール41bは処理モジュールよって
置き替えられてもよい。同様に、もし望むならば、どの
ような処理モジュールも出口モジュール又は入口モジュ
ールによって置き替えられてもよい。
第４図及び第５図は各々、ゲートバルブモジュール10
0の１つの実施例の部分略示断面図と部分切り欠き断面
図である。ゲートバルブモジュール100は管接続口P1P2
との間の通路を制御する。管接続口P1は第１チェンバの
ハウジングの延長部分299xによって形成され、前記チェ
ンバは処理チェンバ又は移動チェンバ又はロードロック
チェンバであり、延長部分は第６図のウェーハ移送アー
ム201がそこを通ることができるような大きさの概して
矩形のスロットを形成している。移動モジュール200aの
ハウジンウのこのような延長部（299a）は第２図の斜視
図に示されている。同様に、管接続口P2が第２チェンバ
のハウジングの延長部分299y（第４図には示されていな
い）によって形成される。
管接続口P1及びP2を形成するハウジング延長部299x及
び299yは第１の複数のネジS1と第２の複数のネジS2によ
ってバルブボディー102に取り付けられ、各々、フラン
ジ295及び296を介して運転される。バルブボディー102
はステンレス鋼又は他の適切な材料で作られてよい。エ
ラストマーＯリング103及び105が各々、フランジ295と2
96との間にあり、ボディー102は真空シールをもたら
す。バルブボディー102はバルブゲート125が第４図の点
線によって示された位置に下げられるとき、管接続口P1
からP2へ伸びる水平スロット160を有している。スロッ
ト160は第５図の側面に示され、第６図に示された管接
続口P1からP2へ伸びるウェーハ移送アーム201の延びに
適応する大きさにされている。第５図の点線Ａはスロッ
ト160の中央平面を示す。バルグゲート125が最も縮んだ
位置にあるときは、それはスロット160中には伸びな
い。この位置は第４図の点線によって示されている。ゲ
ート125が最も伸びた位置にあるとき、ノッチ104aに取
り付けられたエラストマーＯリング104が管接続口P1とP
2との間の真空シールを形成する。エラストマーストリ
ップ106及び107は各々ノッチ106a及び107aに取り付けら
れているが、真空密閉機能は果さない。逆に、バルブゲ
ート125が最も伸びた位置にあるとき、エラストマーＯ
リング104、ボディー102とバルブゲート125との間の接
触によってゲート125に与えられる回転モーメントと反
対の回転モーメントがゲート125に与えらるように、ス
トリップ106と107はボディー102とゲート125との間に接
触をもたらす。バルブゲート125は２つの台形125aと125
bの接合管の断面形である。台形125aの縁E1はポイント1
09からポイント108へ伸び、水平とほぼ45゜の鋭角αを
形成している。実質的に、より大きな角度は、バルブゲ
ート125が最も伸びたときエラストマーＯリング104がボ
ディー102と密閉嵌合することがむずかしいので、望ま
しくない。台形125bの縁E2は水平と角度βをなす。第４
図に示された実施例では角度αは角度βに等しいが、こ
れは重要なことではない。
ゲートバルブモジュール100の新規な特徴はバルブゲ
ート125の断面非対称性である。Ｏリング104のみが真空
密閉機能を有するので、台形125bは実質的に台形125aよ
りも幅が狭い、すなわち、ライン・セグメント126の長
さはライン・セグメント127の長さよりも短い。１つの
実施例では、ライン・セグメント126とライン・セグメ
ント127との間の違いはほぼ１インチ（2.54cm）であ
る。このように、管接続口P1とP2との間の距離は、２つ
のＯリングを使用し、台形125bが台形125aと一致する従
来技術のバルブモジュールと比較して実質的に減少す
る。
ベアリング110及び111はバルブゲート125がボディー1
02のスロット144内で鉛直方向に移動するとき、バルブ
ゲート125のガイドの役をする。バルブゲート125はシャ
フト132上に取り付けられており、ネジを刻まれたシャ
フト132の延長部分133によってバルブゲート125中にね
じ込まれている。バルブボディー102はねじ（図示せ
ず）によってハウジング138に取り付けらている。金属
ベローズ130はねじ55によってフランジ134のそばでボデ
ィー102に取り付けられている。ステンレス鋼シャフト1
40はステンレス鋼シャフト132よりも大きな直径を有し
ている。フランジ134とバルブゲートボディー102との間
のエラストマーＯリング134aは管接続口P1及びP2に接続
されたチェンバ（図示せず）とバルブモジュール100の
外部との間の真空密閉をもたらす。シャフト132は同心
にしっかりとシャフト140上の取り付けられている。シ
ャフト140はハウジング138によって形成された円筒空胴
141内を鉛直方何に移動し、従って、バルブゲート125を
スロット144内で鉛直に移動させる、第５図は示されて
いるようにシャフト132はシャフト132の長手方向軸線12
8が長さＬのゲートバルブ125の中間点に位置するように
置かれている。シャフト132はまた、第４図に示された
断面の平面に垂直な軸線のまわりのモーメントと、貫通
軸線128及びバルブボディー25の下方表面のモーメント
の和がゼロになるように置かれている。これらのモーメ
ントはバルブボディー102が最も伸びたときにＯリンク1
04及びエラストマーストリップ106及び107に作用する力
によって引き起される。ハウジング138はネジ56によっ
て空気シリンダー150に取り付けられている。シャフト1
40は在来のエアードライブ・ピストン機構150によって
鉛直方向に動かされる。
第６図はウェーハ移送アーム機構201の平面図であ
り、第７図は部分切り欠き側面図である。
アーム機構201は第１図の移動モジュール200aに使用
された移動アーム201a又は第３図のモジュール20のアー
ム201の１つの実施例である。アーム機構201はカム24
2、第１リジッドアーム252、プーリー254、第２リジッ
ドアーム256及びウェーハホルダー280を有している。
第６図に略示されているウェーハホルダー280はアー
ム256の一端にしっかりと取り着けられている。アーム2
56の他端部はシャフト272によってアーム252の一端に回
転可能に取り付けられている。シャフト272はアーム252
の一端（252b）を貫通しており、一端はアーム256に固
着されて、他端プーリー254の中央に固着されている。
第７図に示されるように、シャフト272はベアリング275
に対して軸線273に関して回転する。従って、アーム256
はプーリー254とともに回転する。アーム252の他端（25
2a）はシャフト232上にしっかりと取り付けられる。該
シャフトは二重シャフト同心フィードスルー（feedthro
ugh）224（第７図）である。真空フィードスルー224、
例えばフェロフルーイディック（ferrojluidic）フィー
ドスルーは、ウェーハアーム機構201のハウジング220の
内部とハウジング220の外部との間の真空シールを与え
る。真空フィードスルー224はフランジ222によってハウ
ジング220に取り付けらている。このようなフェロフレ
ーイディック・フィードスルーは当業者には周知であ
り、例えばFerrofluidic,Inc.によって製造されたフェ
ロフルーイディック・フィードスルーはここに記載した
運転機構を実行するのに使用されてもよい。フェロフル
ーイディック・フィードスルー224の外側シャフト238は
カム242に固着されている。内側シャフト232及び外側シ
ャフト238のどちらも一対のモータ230及び231（図示せ
ず）によって、シャフト232及びシャフト238の長手方向
の軸線250に関して独立に回転可能である。軸250はアー
ム201を有する真空チェンバ215の床に対して垂直で、そ
の中心部を通っている。
ベルト243はカム242の周囲部分及びプーリー254の周
囲部分に接触している。ベルト243はカム242の周囲と点
242fでカム242に据えられており、プーリーの周囲の点2
54fでプーリー254に据えられている。ベルト243は、例
えば、ステンレス鋼の歯なしベルト又は金属ケーブルで
もよい。
第６図は管接続口P1を通り最も伸びた移送アーム機構
201を示している。この実施例ではアーム201が管接続口
P1を通り、最も伸びているとき、軸線250と軸線273を通
るアーム252の中線である軸線Ｍと軸線250を通る管接続
口P1の中線Ａとの間の角度θは、ほぼ30゜である。別の
実施例では30゜の代わりに別の角度が選ばれてもよい、
操作において、アーム201はカム242を固定して、軸線25
0のまわりに反時計回りにアーム252を回転することで管
接続口P1を通して引っ込められる。これは、フェロフル
ーイディック・フィードスルー224の外側シャフト238を
固定したままで内側シャフトを回転することによって達
成される。カム242はアーム252が反時計回りに回ると
き、ステンレス鋼ケーブル243がカム242に巻き付け或い
は離れるような形状をしており、それによって、ウェー
ハホルダー280が中線Ａに沿って概して直線の経路をア
ームが最も伸びた位置から点線で示した位置280′のよ
うな真空チェンバ215内に引っ込んだ位置へ移動する。
一度ウェーハ移動アーム201がチェンバー215内に引っ
込められると、アーム252及びカム242は、内側シャフト
232と外側シャフト238の双方を前記アーム252とカム242
を回転する選ばれた角度と同じ角度だけ各々回転するこ
とによって回転され、それ故、アーム機構201は第２の
選択された管接続口を通って伸びる適切に位置に置かれ
る。第６図の管接続口P1からP4は90゜離れており、それ
故、この実施例のシャフト232と238はウェーハ移送アー
ム201を別の管接続口に伸びる位置にいするために、90
゜の倍数の角度だけ回転される。
重要なことは、ステンレス鋼ケーブル243がカム242に
巻き付き或いは離れてウェーハ移送アーム201が選ばれ
た管接続口を通って伸縮するとき、カム242とケーブル2
42との間にすべり摩擦も回転摩擦もないことである。従
って、この設計は真空チェンバ215内の清浄環境を維持
することにとくに適している。
カム242はウェーハホルダー280が軸線Ａに沿ってほぼ
直線的に伸縮することを確実にするためには、特別な形
状でなければならない。もし、動きが直線であるなら
ば、第６図の平面の管接続口軸線Ａと軸線Ｍとの間の角
度θ及びウェーハホルダー280の中心に接続されたアー
ム軸線Ｎと通過軸線273とが作る角度θを作り出す基本
平面形状は式 φ＝90゜−θ＋cos-1［（d/f）sinθ］ に関係し、ここでｄは軸線250から軸線273へのアーム25
2の長さで、ｆは軸線273からウェーハホルダー280の中
心までの軸線Ｎの長さである。
表１はθ、φ、３゜の角θの一定の増分に対する角φ
の差分（減分）△φ、φの減分を対応するθの増分で割
った割合、及び、ストローク（ｄ＝10インチ（25.4c
m）、ｆ＝14インチ（35.6cm）の場合のウェーハハンド
ラー280の中央のＸ座標）を示している。
カム242は２つの段階に設計されている。第１に、角
φに減分△φを対応する角θの増分△θで割った割合が
各θについて計算される。これらの割合は、次に理論的
なカムプロファイルを設計するのに使用される。もしｒ
がプーリー254の半径を示すならば、各角θ（０≦θ＜1
80゜）について、（△φ／△θ）ｒの長さを有する線分
は一端が原点に置かれ、その原点からθ−90゜の角度で
伸びている。これらの線分（半径）と端部を通るスムー
ズな曲線は理論的カムプロファイルの一部を形成する。
理論的カムプロファイルの残りの部分（180゜≦θ360
゜）はカムプロファイルが原点に関して対称であること
を要求することによって形成されるが、それは、ケーブ
ル243がカムの一方の側から離れるとき、カム242のもう
一方の側に巻き付かなければならないからである。
次に、カム242はプーリー242に巻き付き、又、離れる
スムーズなステンレスベルトによって、プーリー254を
駆動するので、上記プロファイルに対する変更は、この
物質的運動システムが考慮されねばならない。繰り返し
の多いフィード・フォーワード（feed forward）修正プ
ロセスが第7a図のフローチャートに記載されているよう
に用いられる。発見的に、プログラムは選択された角度
θ０及び対応する理論カム半径R0をもって開始し、次
に、初期半径R0と選択された正整数Ｎ及び選択された△
θについての角度θ０＋△θ、θ０＋２△θ、………、
θ０＋Ｎ（△θ）に対応する続いた理論半径R1、R2、…
……Ｎとの間の“干渉”をチェックする。“干渉”はフ
ローチャート内に現われる不均一によって限定される。
干渉が見つかるときはいつも、理論半径R0が0.001減少
し、プロセスは“干渉”がなくなるように初期半径が減
少されるまで繰り返される。この減少された値▲Ｒ★ ０
▼はその時、実際のカムの初期半径（角θ０対する）で
ある。この全プロセスが次の理論半径R1、その他につい
て繰り返される。減少された半径▲Ｒ★ ０▼、▲Ｒ★ １
▼………はこれらの半径の最後の点までスムーズな曲線
を通すことにより、実際のカムプロファイルの対応する
部分を限定する。半径が減少される定数0.001と最大許
容誤差と第7A図のフローチャート内の試験不均等性にお
いて0.002は、正確な探求の度合に依存する別の小さな
定数によって置き替えられてもよい。第7b図はｒ＝１、
ｄ＝10、ｆ＝14の場合の実際のカムプロファイルと経路
Ｐに沿うウェーハホルダーの中央の点の動きを示してお
り、Ｎ＝７、ζθ＝３゜でカムプロファイル242の有効
な部分を限定するために上記プロセスを使用するもので
ある。上記の形状において、カムプロファイルの有効部
分は25゜乃至129゜のθの値に対して現れる。カムプロ
ファイルの有効部分とは、ステンレス鋼ベルト243が巻
き付け、又、離れるプロファイルの部分である。実際の
カムは原点について対称に形成されているが、左半面の
巻き取り及び離れの様子は明瞭であるので示していな
い。カムの非有効部分は、例えば縮尺して第7b図に示さ
れているようにカム242の有効プロファイルに干渉しな
い如何なる方法で限定されてもよい。固定点242fはベル
トが接触するカムプロファイルの非有効部分のどのよう
な点に選ばれてもよい。固定ポイント254fはプーリー25
4の誘導された回転がベルト243上の固定点にプーリー25
4の回転を止めさせることのないように選択される。も
し望むならば、ベルトはカム242のプロファイルの非有
効領域内の第１固定点から伸び、プーリー254を回っ
て、カム242のプロファイルの非有効部分の第２固定点
に戻ってもよい。
上記実施例のプーリー254は円形である。しかし、直
線運動を提供するカム242の形状を限定するための同様
なプロセスが、非円形カム（プーリー）に交替される円
形プーリー254に用いられてもよい。
特に好適なウェーハハンドラー及びロードロックモジ
ュール400（第１図）の別の実施例では、高速処理とウ
ェーハガス放出を促進するために、３つ又はそれ以上の
ウェーハのカセットを分離したロードロックの真空中に
供給する。第８図に示されているように、カセット40
2、404及び406は各々、ロードロックチェンバ408、410
及び412内に示されている。カセットはドア414、416及
び418を通してクリーンルーム（cleanroom）から供給さ
れる。これらのロードロクチェンバは適切なポンピング
手段（図示せず）によって、ベローからポンプされる。
適切な真空レベルが得られるならば、ウェーハがカセッ
トからウェーハハンドリングチェンバ426に移されるよ
うに、バルブ420、422又は424（略示）が開けられても
よい。チェンバ426内にはハンドリングアーム運転機構4
28がトラック430に取り付けられている。ハンドリング
アーム運転機構428はロードロックチェンバ408、410、4
12の各々と並ぶようにトラック30の沿って動かされても
よい。２ピースアーム432がハンドリングアーム運転機
構428上に取り付けられ、それによって運転される。ア
ーム432はカセットからウェーハを取り上げ又はウェー
ハをカセットに戻すためにバルブ420、422、424のどの
１つにも接触できるように用いられている。カセットが
載っているテーブルの下のエレベータ（図示せず）は、
アームが各カセット内の異なるウェーハに届くようにカ
セットを昇降するために用いられている。アーム432は
ウェーハを積載テーブル434に移すために用いることも
できる。前記テーブル434からは本装置の別のウェーハ
ハンドリングデバイスによってウェーハが取り上げられ
る。アーム432によって取り上げられた熱いウェーハ
は、カセットに戻される前に冷却できるように保管カセ
ット436又は438に移されることも可能である。
本発明の重要な特徴の１つは、ハンドリングアーム運
転機構428に組み入れられた同心のウェーハ方向決めデ
バイスである。テーブル436はシャフト（図示せず）に
載っており、該シャフトはハンドリングアーム運転機構
428をハンドリングアーム432に接続するシャフトと同心
である。この配置の様子は第９図に示されている。ウェ
ーハはアーム432によってテーブル436上に置かれてい
る。テーブル436はウェーハの端部が発光器438と光検知
器440との間を通るように回転させられる。光ビームを
通過するウェーハの端部の回転は、光強度変化情報を回
転角度の関数として与え、それは中央コンピュータがウ
ェーハの重心及び平面の位置を計算するこを可能とす
る。コンピュータはウェーハをテーブ434上にセットす
るために平面を整列させ、情報を真の中央に蓄積する。
ロードロックモジュールのこの実施例の詳細は同日に出
願された同時係属出願であって、Richard J.Hertelその
他による“ウェーハ移送装置”に記載されており、その
開示は参考として本明細書に組み入れられている。
ウェーハ通過モジュール500は上記の平坦アライナー5
01に記録された回転平坦アライメントと同じものを使用
することも可能である。回転可能テーブル436はウェー
ハをモジュール500に入れる。発光器438と光検知器440
はウェーハに整列させることが可能なように、前記のよ
うに光強度情報を提供するために用いられる。
第10図はスパッタモジュール350の１つの実施例の略
示線図である。スパッタモジュール350は、前処理真空
チェンバ301、ウェーハハンドラーアーム340、処理チェ
ンバ301とスパッタチェンバ302との間に真空シールをも
たらすバルブ338、スパッタ源304、ヒーター315及びマ
ッチボックス（match box）316を有する。操作におい
て、ウェーハは移動チェンバ200内のウェーハ移送アー
ム機構（第10図には図示せず。第６及び７図参照）か
ら、第11〜14図及び第16図により詳しく示されているウ
ェーハハンドラーアーム340へのゲートバルブモジュー
ル100tmに移される。ゲートバルブモジュール100tmは第
４及び５図に示されたゲートバルブモジュール100と同
じである。チェンバ200内の移送アーム機構からウェー
ハハンドラーアーム340へのウェーハの移動が完了する
とバルブ100tmは制御機構（図示せず）を介して閉じら
れる。このような仕方で、処理チェンバ302内の環境は
移動チェンバ200内の環境から分離される。次にウェー
ハハンドラーアーム340はウェーハＷの平坦面が鉛直と
５゜の角度をなすように、処理チェンバ301内で水平方
向のウェーハＷを95゜回す。この回転は第２図に斜視図
で示されている。ウェーハハンドラーアーム340は次
に、それに載せられたウェーハＷとともにバルブ開口部
338を通って処理チェンバ302中に入り、次に、ウェーハ
の平坦面が鉛直になり、ウェーハＷの背面部がヒーター
315に載るようにウェーハＷとともに５゜回転する。ヒ
ーター315は当業者には周知であり、例えば、Varian As
sociates,Inc.によって作られた部品番号第682530号で
よい。マッチボックス316はRF加熱源（図示せず）とヒ
ーター・グロー放電との間にインピーダンストランスフ
ァ（impedance transfer）を提供する。ウェーハを選ば
れた温度にして、スパッタ源304が制御装置を介して励
起される。ガスライン309は選択された圧力でバルブ310
にアルゴンガスを供給する。ニードルバルブ311はバル
ブ310からスパッタチェンバ302へのアルゴンの流れを制
御する。ニードルバルブ312はウェーハＷの背面とヒー
ター315との間に形成された空胴へのアルゴンの流れを
制御する。スイッチ308は、チェンバ302内の圧力が大気
圧以下、又は大気圧と等しい選ばれたレベル以上に上が
ると、スパッタ源304及びスパッタモジュールに関連す
る他の全ての電気装置へのパワーを断じるバックアップ
安全スイッチとして働く圧力起動スイッチである。イン
ターロックスイッチ306は第10図のアクセスドア（図示
せず）が開かれるとき、スパッタ源304へのパワーを断
じる安全スイッチである。同様に、インターロックスイ
ッチ314は、冷却液がなくなるとヒーター315へのパワー
を断じる安全スイッチである。ゲージ318と319はチェン
バ301内の圧力を測定する。粗ゲージ318は大気圧と10-3
トルとの範囲内で圧力を測定する。イオンゲージ319
は、ほぼ10-3トル以下の圧力を測定する。インターロッ
クスイッチ317は、チェンバ301が大気圧のとき、バルブ
338が開くのを防ぐためにパワーを断じる安全スイッチ
である。
キャパシタンス圧力計320はチェンバ301内の圧力を検
知する圧力測定装置であり、バルブ313によってチェン
バ301から分離されてもよい。チェンバ301の排気に使用
されるポンピング装置は周知であり、荒引きポンプ323
を有し、該ポンプはバルブ326を介して選択された圧力
のほぼ10-2トルにチェンバ301及び302内の圧力を減少す
る。また、高真空ポンプ322、例えばクライオンポンプ
を有し、バルブ326が閉じられた時、バルブ324を介して
更にチェンバ301及び302を排気する。バルブ324は、チ
ェンバ301が大気に通じられるたとき、ポンプ322を保護
するために閉じられている。チェンバ301及び302はポン
ピング装置フォアラインのトラップ（図示せず）によっ
て保護されている。バルブ325はポンピングを開始する
ために、ポンプ322を排気するのに使用される。
第16図は第６及び７図に示されたウェーハ移送アーム
機構201からスパッタモジュール処理チェンバ301内のウ
ェーハアーム340のウェーハを移す装置の断面図であ
る。ウェーハは、アーム201のウェーハホルダー280によ
って運ばれるウェーハＷが上記第１テーブル500に適す
るように、管接続口Ｐを通って伸びるアーム機構201
（第16図には図示せず、第６図参照）によってチェンバ
301中に移送される。テーブル500はしっかりとシャフト
501に固定され、該シャフトは空気シリンダ502によって
運転されるので、前記テーブルは両矢印518で示される
ように鉛直方向に直線的に動くことが可能である。シャ
フト501はフランジ397を通って、真空チェンバ301内に
入る。ベローズ522はハウジング396のフランジに取り付
けられたフランジ398に溶接されており、ベローズ522と
シャフト501との間のエラストマーＯリング520が、チェ
ンバ301と外部環境との間で真空シールを作っている。
テーブル500はウェーハホルダー280の円形開口（第６図
参照）を通して持ち上げられるような大きさにされてお
り、従って、ウェーハホルダー280からウェーハを除く
と、第６及び７図に関して説明されるようにチェンバ30
1からウェーハホルダーは引っ込められる。この時点で
ウェーハＷは第16図に示されているようにテーブル500
上に載っている。ウェーハＷの端は、クリップでウェー
ハの端部を止めることになるテーブル500の貝がら状領
域（図示せず）内のテーブル500の周辺部を越えて伸び
ていることに注意されたい。ウェーハアーム機構340は
（以下に説明するように）ウェーハホルダープレート34
1の円計開口（第11図）がウェーハＷの中央になるよう
に回転させられる。円形セラミックスリング511がウェ
ーハプレート341のリム510の下に取り付けられている。
複数のフレキシブル・ウェーハクリップがほぼ等間隔で
セラミックリング511にしっかりと取り付けられてい
る。２つのこのようなクリップ512a及び512bが第16図に
示されている。各フレキシブル・ウェーハクリップに合
うプロング（prong）が第２テーブル514にしっかりと取
り付けられている。クリップ512aと512bに合うプロング
514aと514bが第16図に示されている。テーブル514はし
っかりとシャフト503に固定され、該シャフトは空気シ
リンダ504によって運転されるので、前記テーブルは両
矢印516で示されるように鉛直方向に直線的に動くこと
が可能である。シャフト503もチェンバ301のハウジング
396を通る。ベローズ523がハウジング396のフランジ398
に取り付けられており、ベローズ523とシャフト503の間
のエラストマーＯリング521がチェンバ301と外部環境と
の間に真空シールを作っている。ウェーハＷがテーブル
500に移されると、テーブル514は次に、テーブル514に
取り付けられた各プロングがその対応するフレキシブル
・ウェーハクリップと嵌合し、それによってクリップを
聞くように持ち上げられる。テーブル500は次に、ウェ
ーハＷが開いたクリップと一致するように持ち上げられ
る。テーブル514は次に下げられ、クリップを閉じてウ
ェーハＷの端部に嵌合させる。第16図は点線位置Ｗ′で
ウェーハＷの端部に嵌合している。クリップ512a及び51
2bを示している。次に、テーブル500も下げられる。こ
れでアーム201からアーム340へのウェーハの移動完了す
る。
ウェーハプレート341のアーム延長部345及び346（第1
1図）は、該アーム延長部345と346との間に伸びるシャ
フト365に固定されている。これは第13図に拡大して図
示されている。シャフト365はギアボックス360を貫通し
ている。ギアボックス360はドライシャフト367の回転を
シャフト365のカップリングするために直角ギヤ機構361
を有している。ドライブシャフト367はそれに固定され
た回転プーリー368によって回転させられ、適切な機
構、例えば、ハウジング370内の第１モータM1、に取り
付けられたベルトによって駆動される。モータM1はシャ
フト367を駆動し、次に、直角ギア機構361を介してシャ
フト365上にウェーハアーム340を水平から95゜回転させ
（第12図の同様）、そのときウェーハアーム板341のリ
ム510に取り付けられたセラミックスリング511に留めら
れたウェーハＷとともに回転させる。
シャフト367は二重シャフト同心フィードスルー388
（フェロフルーイディック・シールを有してもよい）の
内側シャフトである。シャフト367は真空チェンバ301か
らハウジング396を通って外部プーリー368に通じてい
る。エラストマーＯリング373は真空はチェンバ301とチ
ェンバ301の外部の環境との間に真空シールを提供す
る。フェロフルーイディック・フィードスルー388の外
側シャフト378は内側シャフト367と同心であり、ハウジ
ング396を通って、そこに固定されたプーリー369に伸び
る。外側シャフト378はハウジング370内のモータM2に取
り付けられた適切な手段、例えばベルトによってプーリ
ー369を回転することによって回転させられる。フェロ
フルーイディックハウジング374と外部シャフト378との
間のエラストマーＯリング372は、チェンバ301と該チェ
ンバの外部環境との間に真空シールを作る。ハウジング
374はフランジ375に溶接されている。フランジ396aはフ
ランジ375にボルト締めされている。Ｏリング371はチェ
ンバ301（フランジ396aを介する）とフィードスルー388
との間に真空シールを作る。
ウェーハアーム340が第12図のように水平からほぼ95
゜回転させられると、次に、矩形開口338を通してスパ
ッタチェンバ302内へ回転させられる。この回転はモー
タM2を用いて外側シャフト378を回転することで完成さ
れる。チェンバ301内のシャフト378の端部はギアボック
スハウジングに固定されている。シャフト378が反時計
回りに回転すると、、ギアボックス360、シャフト365及
びウェーハアーム340は第12図のように全て反時計回り
に回転する。ほぼ90゜の回転をするとウェーハＷはヒー
ター315の前に置かれる。再び内側シャフト367を回転す
ることによって、ウェーハアーム板341に固定されたセ
ラミックリング511に取り付けられたウェーハＷの背面
部がヒーター315と接触するようにウェーハＷはほぼ５
゜だけ回転させられる。ウェーハアーム340がヒーター3
15に関して適切な位置にあると、ヒーター315の近くに
あるピン（図示せず）か第11図に示されたウェーハホル
ダープレート341からの突出部にある位置合わせ開口に
嵌合する。
ウェーハホルダープレート341は１つの取り外し可能
な板／シールド又は第15図の断面図のように２つのステ
ンレス鋼層341a及び341bであってもよい。上方の層341a
は２つの螺子（図示せず）によって、取り外し可能に下
方層に取り付けられている。上方層341aはスパッタデポ
ジションから下方層341bを保護し、セラミックリング51
1の周囲と端部シールド上に集まるスパッタデポジショ
ンを減じることの助けとなる。層341aは、その上にスパ
ッタデポジションが望ましくないレベルに集まったとき
はいつでも取り替えることができる。スパッタ源304は
当業者には明らかであり、例えば、スパッタ源304はVar
ian CONMAGTMでよく、それ故、ここに記載しない。スパ
ッタ源304はソースターゲット及びシールドに近づける
ように回転してヒンジ304a（第11図）を開く。
ウェーハハンドラーアーム340が前処理チェンバ301内
にあるとき、前処理チェンバ301は矩形ドア351によって
スパッタチェンバ302と分離して真空にされてもよい。
矩形ドア351はブレース353によってシャフト391に取り
付けられている。シャフト391はドア351が矩形開口338
の前にあり、僅かに矩形開口338かスパッタチェンバ302
に移されるように、クランクアームを介してアクチュエ
ータ380によって回転させられる。第15図に示されてい
るように、ドア351は開口338よりも大きくなっている。
ドア351はシャフト390とともにスライド可能であり、Ｏ
リング352が開口338の周囲のチェンバハウジングに密閉
嵌合するように直線的に移動させられる。最後にシャフ
ト355は端部355aがドア351に嵌合し、ドア351を軸線Ｃ
に沿って開口338に向うように軸線Ｃに沿って移動させ
られる。ハウジング381内にあるシャフト355を駆動する
ための装置が第14図に、より詳細に示されている。シャ
フト355はシャフト355に取り付けられた在来の空力ピス
トンによって、軸線Ｃに沿ってどちらかの方向に移動さ
せられる。シャフト355が一部分だけ開口338に向けて伸
ばされるとき、Ｏリング383はチェンバ301と外気との間
に動的真空シールをもたらす。しかし、シャフト355が
完全に伸ばされてドア351がその密閉位置から回転さ
れ、第15図に示すような静止位置にあるとき、シャフト
355の環状延長部355bは静的真空シールがハウジング381
と環状延長部355bとの間に作られるように、エラストマ
ーＯリング385に嵌合する。この新規な静的シールはチ
ェンバ301と外気との間に、より確実な真空分離を提供
する。
本発明のモジューラウェーハ移送及び処理装置が、半
導体ウェーハ或いは基板の処理への応用に関して主に記
載されたが、本発明の装置は多くの別のウェーハ又はデ
ィスク状被加工物の処理に同様な有益性があることが理
解されるであろう。どちらも他のこのような被加工物が
その端部が平坦である必要はなく、輪郭が完全に円い被
加工物も同様に処理できる。とりわけ、本発明の装置は
ウェーハ又はディスクに似た如何なる磁気或いは光記憶
媒体にも有益である。
本発明は前記の好適実施例及びそれに代わるものに限
定されず、本発明の範囲を離れずになされる構成要素の
機構的及び電気的に同等な改善を含む変更態様及び改良
にも限定されず、その特徴は以下の請求の範囲に要約さ
れている。

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】ウェーハ移送および処理装置であって、 ａ）第１の複数の管接続口と第２の複数の管接続口を有
    する移送真空チェンバーであって、前記第１及び第２の
    複数の管接続口の各々が前記移送真空チェンバの内側と
    外側に通じているところの移送真空チェンバ、 ｂ）前記第１及び第２の複数の管接続口のそれぞれを開
    閉するためのバルブ手段、 ｃ）前記管接続口の一つの前記バルブ手段の外側に接続
    されたウェーハ処理チェンバ、及び前記第１及び第２の
    複数の管接続口の別の一つで、その管接続口のための前
    記バルブ手段の外側に配置されたウェーハ処理チェン
    バ、 ｄ）ウェーハを前記第１の複数の管接続口の選択され
    た、いずれか一つのものから前記ウェーハ処理チェンバ
    内に移送し、次ぎに、前記第１の複数の管接続口の選択
    された、いずれか他方のものに移すための前記移送真空
    チェンバ内の第１移送手段、 ｅ）ウェーハを前記第２の複数の管接続口の選択され
    た、いずれか一つのものから前記ウェーハ処理チェンバ
    内に移送し、次ぎに、前記第２の複数の管接続口の選択
    された、いずれか他方のものに移すための前記移送真空
    チェンバ内の第２移送手段、 ｆ）ウェーハが前記第１の複数の管接続口の選択され
    た、いずれか一つのものから前記第２の複数の管接続口
    の選択された、いずれか他方のものへ移動可能となるよ
    うに、ウェーハを前記第１移送手段から前記第２移送手
    段に移すための、前記第１移送手段及び前記第２移送手
    段と連動する前記移送真空チェンバ内の移動手段、 とから成るところの装置。
  2. 【請求項２】請求項１に記載された装置であって、 前記移送手段が、ウェーハが前記第２の複数の管接続口
    の選択された、いずれか一つのものから前記第１の複数
    の管接続口の選択された、いずれか他方のものに移送可
    能となるように、ウェーハを前記第２移送手段から第１
    移送手段へ移すための手段を有するところの装置。
  3. 【請求項３】請求の範囲第１項に記載された装置であっ
    て、 前記移動手段が、ウェーハを所望の回転方向に位置決め
    するための手段を有するところの装置。
  4. 【請求項４】請求の範囲第１項に記載された装置であっ
    て、 前記第１移送手段が前記移送真空チェンバの内側から、
    前記第１の複数の管接続口の選択された、いずれか一つ
    のものを通して前記移送真空チェンバの外側に伸びるこ
    とが可能であるところの装置。
  5. 【請求項５】請求の範囲第１項に記載された装置であっ
    て、 前記第１移送手段が前記移送真空チェンバの第１部分に
    置かれ、前記第２移送手段が前記移送真空チェンバの第
    ２部分に置かれ、前記移送真空チェンバの前記第１及び
    第２部分が各々、前記第１及び第２移送手段に関して、
    前記移送真空チェンバの前記第１及び第２部分の総本積
    が最小化されるような大きさにされているところの装
    置。
  6. 【請求項６】請求の範囲第１項に記載された装置であっ
    て、 前記移動手段が前記第１及び第２移送手段の間に位置す
    るところの装置。
  7. 【請求項７】請求の範囲第１項に記載された装置であっ
    て、 前記第１の複数の管接続口の二つが90゜離して置かれる
    ところの装置。
  8. 【請求項８】請求の範囲第１項に記載された装置であっ
    て、 前記第１の複数の管接続口が少なくとも三つの管接続口
    を有するところの装置。
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