JPH08321197A - 半導体メモリ素子 - Google Patents

半導体メモリ素子

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JPH08321197A
JPH08321197A JP1865696A JP1865696A JPH08321197A JP H08321197 A JPH08321197 A JP H08321197A JP 1865696 A JP1865696 A JP 1865696A JP 1865696 A JP1865696 A JP 1865696A JP H08321197 A JPH08321197 A JP H08321197A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ヒューズROM部における漏れ電流の発生等
を防止することで消費電力の少ない半導体メモリ素子を
提供すること。 【解決手段】 初期状態における外部電源の印加を検出
してこの電源電圧に応じた電源印加信号を出力する外部
電源検出回路10と、この電源印加信号を入力してこれ
に応じた制御信号を出力するゲート制御回路20と、こ
の制御信号によりオン・オフを行うスイッチとヒューズ
とが電源VCCとこれより電源VSS間に直列接続さ
れ、このヒューズが切断されているか否かをノードN2
より出力するROMセル30と、ROMセル30の出力
状態をラッチするラッチ回路40とを有する。ゲート制
御回路20は、電源印加信号の遷移を監視し、外部電源
の電源電圧が安定状態になった後にスイッチを制御して
データのラッチが行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体メモリ素子、
より具体的にはヒューズによるプログラマブルROMセ
ルを備えた半導体メモリ素子に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体メモリ素子には、たとえば特開平
5−242691号公報または特開平7−7139号公
報に記載されているように、セルの一部にヒューズを入
れ、このヒューズを溶断することにより情報の記録を行
うプログラマブルROMがある。図5はこのような従来
のヒューズROMを備えた半導体メモリ素子のヒューズ
ROM部を示したものである。
【0003】図5において、ヒューズFUSE1は、抵
抗成分により形成され、たとえばウェーハ状態でレーザ
ーカッティングマシーンを用いて開放させるようになっ
ている。ヒューズFUSE1は、一端が供給電源VCC
に接続されるとともに、他端が接地電源VSSに接続さ
れたNMOSトランジスタM1と反転素子INV1の入
力端子とに接続されている。反転素子INV1は、出力
端子がNMOSトランジスタM1のゲートとヒューズR
OMの出力端子OUTとに接続されている。
【0004】このように反転素子INV1の出力端子が
NMOSトランジスタM1のゲートに接続されることに
より、たとえばヒューズFUSE1が接続されている場
合にはノードN1が供給電源VCCレベルにラッチさ
れ、ヒューズFUSE1が切断された場合にはノードN
1が接地電源VSSレベルにラッチされる。したがっ
て、ヒューズFUSE1が接続されている場合には、ノ
ードN1がハイレベルとなり、出力OUTは“0”状態
となる。一方、ヒューズFUSE1を開放させた場合に
はノードN1はトランジスタM1を通じてローレベルに
ディスチャージされ、出力OUTを“1”状態に保持す
る。すなわち、ヒューズFUSE1が切断されたか否か
により、出力端子のヒューズが切断されたら“1”が出
力され、切断されていなければ“0”が出力される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこのよう
な従来技術における半導体メモリ素子におけるヒューズ
ROMは、チップに電源が供給されればヒューズFUS
E1の状態をラッチするが、パワー印加の瞬間にはヒュ
ーズFUSE1が接続されていてもノードN1の電位が
反転素子INV1よりローレベルが出力される程十分高
くならず、チップ状態が不安定になる。このため、チッ
プ状態が不安定のこの間にヒューズFUSE1とトラン
ジスタM1とを通じて流れる電流I1が相当量流れ、そ
の不安定の状態を長く持ち続けるという欠点があった。
特に、メモリ容量の大きいメモリ素子には余分メモリブ
ロックのためのこのようなヒューズROMの数が相当量
形成されているので、不安定な電流I1の総和が数十m
Aまでになる。
【0006】また、レーザーカッティングマシーンを用
いてヒューズFUSE1を切断したときにヒューズFU
SE1が完全に開放されずに接続状態にあれば、漏れ電
流がノードN1に印加され続けられ、チップ全体から発
生する漏れ電流の相当部分を占めることになる。また、
この場合には、出力OUTより開放されたヒューズFU
SE1の状態が出力されずに、ヒューズFUSE1が接
続されている状態が出力され、この状態でラッチされる
ことがあった。
【0007】このように従来技術における半導体メモリ
素子は、動作待機状態の素子消費電力が増大するととも
に、ヒューズが完全に開放されなかった場合にはプログ
ラムした状態を正確に出力できずメモリ素子の信頼性が
低下するという問題点があった。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は上述の課題を解
決するために、ヒューズを用いたプログラミング部を有
する半導体メモリ素子は、初期状態における外部電源の
印加を検出してこの電源電圧に応じた電源印加信号を出
力する外部電源検出回路と、外部電源検出回路の電源印
加信号を入力してこれに応じた制御信号を出力するゲー
ト制御回路とを有する。このメモリ素子はまた、ゲート
制御回路の制御信号によりオン・オフを行うスイッチと
ヒューズとが第1の電源とこれより低電位の第2の電源
間に直列接続され、このヒューズが切断されているか否
かを出力ノードより出力するROMセルと、ROMセル
の出力ノ−ドに接続され、この状態をラッチするラッチ
回路とを有する。上記ゲート制御回路は、電源印加信号
の遷移を監視することにより、外部電源の電源電圧が安
定状態を維持する前にROMセルのスイッチを制御して
出力ノードを第2の電源に接続し、外部電源の電源電圧
が安定したことを検出すると任意のタイミンングで出力
ノードと第2の電源間の接続を解除するとともに、出力
ノードがヒューズを介して第1の電源に接続されるよう
スイッチを制御する。
【0009】
【発明の実施の形態】次に添付図面を参照して本発明に
よる半導体メモリ素子の実施の形態を詳細に説明する。
【0010】図1は本発明によるヒューズROMを用い
たプログラミング部を有する半導体メモリ素子の実施の
形態を示すブロック図である。図1に示す半導体メモリ
素子では、初期状態における外部電源の印加を検出し、
この電圧が安定したときにプログラマブルROMセルの
ヒューズが切断されている否かを所定のタイミングで検
出することにより、漏れ電流を防止するとともに、ヒュ
ーズの状態を正確に出力できる信頼性の高い半導体メモ
リ素子を実現している。
【0011】外部電源検出回路10は、供給電源VCC
と接地電源VSSとに接続され、初期状態における供給
電源VCCより供給された電圧が安定したかどうかを検
出する。すなわち、外部電源検出回路10は供給電源V
CCから供給される電圧が所定のレベルに達するまでこ
の電圧の遷移に応じて上昇する電源印加信号PWRUP
を出力し、この供給電圧が所定のレベルになると電源印
加信号PWRUPをローレベルする。
【0012】ゲート制御回路20は、電源印加信号PW
RUPを入力し、この信号PWRUPよりヒューズイネ
ーブルバー信号FENBとヒューズプリディスチャージ
信号FPRの2つの制御信号を出力する。ヒューズイネ
ーブルバー信号FENBは、電源印加信号PWRUPの
上昇に合わせて電位が上昇し、この信号PWRUPの立
ち下がりにより所定のタイミング期間t1だけロ−レベ
ルとなるパルスを出力する。また、ヒューズプリディス
チャージ信号FPRは、電源印加信号PWRUPの上昇
に合わせて電位が上昇し、この信号PWRUPの立ち下
がりによりローレベルになる。
【0013】プログラマブルROMセル30は、供給電
源VCCと接地電源VSSとの間に、ヒューズFUSE
2と、PMOSトランジスタMP1と、NMOSトラン
ジスタMN1とが直列接続されている。なお、ヒューズ
FUSE2とMOSトランジスタの順序は変えることが
でき、たとえばヒューズFUSE2がPMOSトランジ
スタMP1とノードN2間に接続されていてもよい。P
MOSトランジスタMP1は、供給電源VCCとノード
N2間を導通/非導通にするスイッチであり、ヒューズ
イネーブルバー信号FENBを制御信号としてゲートに
入力する。また、NMOSトランジスタMN1は、接地
電源VSSとノードN2間を導通/非導通にするスイッ
チであり、ヒューズプリディスチャージ信号FPRを制
御信号としてゲートに入力する。
【0014】ラッチ回路40は、プログラマブルROM
セル30のノードN2に接続され、このノードN2に現
れたデータをラッチする回路である。ラッチ回路40
は、供給電源VCCと接地電源VSSとの間に相異なる
二つの導電型のMOSトランジスタMP2,MN2が直
列に接続されている。すなわち、PMOSトランジスタ
MP2は一端が供給電源VCCに他端がノードN2と接
続されたノードN6に接続され、NMOSトランジスタ
MN2は一端がノードN6に他端が接地電源VSSに接
続されている。ノードN6にはまた、反転素子INV2
の入力端子が接続されている。
【0015】反転素子INV2は、その出力端子がラッ
チ回路40の出力端子OUT2に接続されるとともにト
ランジスタMP2とMN2のゲートに接続されている。
このような接続により、反転素子INV2の出力OUT
が出力ノードN4からPMOSトランジスタMP2とN
MOSトランジスタMN2のゲートに印加され各トラン
ジスタのゲートを制御する。したがって、このゲート制
御信号に応じて各MOSトランジスタMP2、MN2の
うち一つがオン状態になると、ヒューズの状態が変化し
てノードN2の状態が変わらない限り同一状態にラッチ
される。
【0016】図2は図1の動作を説明するために各信号
波形図のタイミングダイアグラムを示したものである。
以下、図2の波形図を参照して図1に示した実施の形態
の動作を説明する。波形VCCは、外部電源が図1に示
した回路に印加された初期状態の電圧の遷移を示してい
る。このように電源が回路に印加されれば供給電源VC
Cの電圧が次第に増加され所定のレベルVCCとなり、
以後この安定状態を維持する。
【0017】外部電源検出回路10は、この供給電源V
CCの電圧が所定のレベルVCCに達したことを検出す
ると、それまで波形VCCと同様の波形であった電源印
加信号PWRUPの電圧をローレベルに変化させる。ゲ
ート制御回路20は、電源印加信号PWRUPのローレ
ベルへの立ち下がりを検出すると、図2に示すように、
ヒューズイネーブルバー信号FENBを短時間t1の間
だけローレベルにするとともに、ヒューズプリディスチ
ャージ信号FPRをローレベルにする。これら信号FE
NBおよびFPRにより、PMOSトランジスタMP1
およびNMOSトランジスタMN1が制御されること
で、ラッチ回路40で短時間t1の間にヒューズFUS
E2の状態がラッチされ、出力ノードOUT2を通じて
同一な状態を出力する。
【0018】すなわち、半導体メモリ素子のチップへの
電源の供給が始まると、外部電源検出回路10が作動さ
れ、この期間を示す電源印加信号PWRUPがイネーブ
ル状態となる。この信号PWRUPは内部電源が安定す
る前に内部回路が動作して、漏れ電流が発生することを
防ぐために外部入力をその間遮断する役割を果たす。電
源印加信号PWRUPの電位の上昇に伴い、NMOSト
ランジスタMN1のゲートに印加されるヒューズプリデ
ィスチャージ信号FPRが上昇して、このトランジスタ
MN1のスレッショルドレベルを越すと、ノードN2と
接地電源VSS間が導通し、このノードN2のディスチ
ャージが行われる。電源印加信号PWRUPの電位がさ
らに上昇して内部電源が安定する所定の電位に達する
と、PWRUP信号がディスエーブルされ、ローレベル
になる。この時、ゲート制御部20は、ヒューズプリデ
ィスチャージ信号FPRをディスエーブルさせ、ローア
クティブショートパルスをヒューズイネーブルバー信号
FENBとして出力する。これにより、ノードN2を接
地電源VSSレベルにプリディスチャージさせたNMO
SトランジスタMN1がターンオフ(非導通状態)し、
PMOSトランジスタMP1がショートパルス区間の間
ターンオン(導通状態)する。PMOSトランジスタM
P1のターンオンにより、ヒューズFUSE2が開放さ
れた場合にはノードN2のレベルが接地電源VSSにな
り、ヒューズFUSE2が接続されている場合にはノー
ドN2のレベルが供給電源VCCに引き上げられる。
【0019】ラッチ回路40は初期には第1ノードN2
のレベルを接地電源VSSに保たせた後プログラマブル
ROMセルを構成するヒューズFUSE2が開放されず
連結された場合、供給電源VCCレベルに引き上げられ
る。すなわち、ラッチ回路40は初期にはノードN2が
“0”レベルになるため、出力OUT2はハイレベルに
なっている。ヒューズFUSE2が連結されていれば、
FENB信号がローアクティブされる間PMOSトラン
ジスタMP1を通じてNMOSトランジスタMN2の電
流シンク(current sink)能力より大電流を流して第1ノ
ードN2の状態をハイレベルに逆転させる。これによ
り、出力OUT2はローレベルとなる。その後、ヒュー
ズイネーブルバー信号FENBのショートパルスが終わ
って、PMOSトランジスタMP1がターンオフされて
も、出力OUT2のローレベルがPMOSトランジスタ
MP2のゲートに入力されるため、ノードN6と供給電
源VCCとが接続されてこのノードN6の電位がハイレ
ベルを維持する。
【0020】一方、ヒューズFUSE2が開放された場
合、PMOSトランジスタMP1がターンオンされても
電流ソースパス(current sourcepath)がないため、ノー
ドN2は接地電源VSSレベルのロー状態となり、出力
OUT2がハイ状態となる。ハイ状態の出力OUT2
は、ラッチ部のNMOSトランジスタMN2のゲートに
入力されてこれをターンオンさせるので、ノードN2は
接地電源VSSと接続されて反転素子INV2の入力は
ロー状態を維持する。
【0021】図3は本発明によるヒューズROMを用い
たプログラミング部を有する半導体メモリ素子の他の実
施の形態を示すブロック図である。この実施の形態で
は、ラッチ回路40のPMOSトランジスタMP2の一
端が、供給電源VCCと接続される代わりにヒューズF
USE2とPMOSトランジスタMP1との間のノード
N8に接続されている点が図1の実施の形態と異なる。
【0022】すなわち、この実施の形態では、PMOS
トランジスタMP2がノードN8に接続され、ヒューズ
FUSE2を介して供給電源VCCに接続されるように
構成される。それ以外の外部電源検出回路10、ゲート
制御回路20、プログラマブルROMセル30およびラ
ッチ回路40の構成は図1の実施の形態に示した回路と
同一である。また、図3の実施の形態では、ゲート制御
回路20でプログラマブルROMセル30のNMOSト
ランジスタMN2に、図4に示すヒューズイネーブル信
号FENを印加するように回路を構成した。
【0023】この実施の形態では、ヒューズFUSE2
が接続された場合、ラッチ回路40のPMOSトランジ
スタMP2に、ヒューズFUSE2を通じて供給電源V
CCが供給し続けられる。また、ヒューズFUSE2が
開放された場合、ラッチ回路40のPMOSトランジス
タMP2はターンオフされ動作しないので、図2の回路
と同様に動作する。
【0024】図4は図3に示した他の実施の形態の動作
を説明する波形図のタイミングダイアグラムであって、
図2で説明した図1の回路図と基本的に同様な動作を行
う。ただし、ヒューズイネーブルバー信号FENBがシ
ョートパルスに印加される時間t1の間、NMOSトラ
ンジスタMN2のゲートに印加されるヒューズイネーブ
ル信号FEN(ヒューズプリディスチャージ信号FPR
と実質的に同一な機能を果たす)が、ディスイネーブル
されるタイミングに余裕をもたせることが出来る。すな
わち、ヒューズイネーブル信号FENは、電源印加信号
PWRUPの立ち下がりのタイミングでローレベルにな
るのではなく、この信号PWRUPの立ち下がりから多
少余裕をもったタイミングで立ち下がる。
【0025】なお、図4の波形図では図3に示した実施
の形態を例に、NMOSトランジスタMN2の動作タイ
ミングに多少余裕をもたせるとしたが、図1に示した実
施の形態にも同様に適用することが可能である。
【0026】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明によ
れば、ヒューズが完全に切れなくて有限の抵抗値があっ
ても、出力ノードの状態のサンプリングが終わった後は
接地電源への電流経路が形成されないので漏れ電流が生
じない。また、ヒューズが完全に切れなくて有限の抵抗
値があっても、出力ノードのサンプリングを所定の短期
間のタイミングで行うので、ヒューズの状態を過ってラ
ッチするのを防止し、信頼性の高い半導体メモリ素子を
提供できる。さらに、ヒューズ状態のサンプリングが内
部電源が全部安定化された後に行われるので、初期化が
不安定な状態で行われることが無く、その影響を最小限
にすることが可能となる。そして、サンプリングを初期
にのみ実行するので不必要な電力損失を最小化すること
ができるため、低電力素子の実現が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による半導体メモリ素子の実施の形態を
示すブロック図。
【図2】図1に示した実施の形態の動作を説明するため
の各信号波形図のタイミングダイアグラム。
【図3】本発明による半導体メモリ素子の他の実施の形
態を示すブロック図。
【図4】図3に示した実施の形態の動作を説明するため
の各信号の波形図のタイミングダイアグラム。
【図5】従来技術のヒューズROMを有する半導体素子
の回路図。
【符号の説明】
10 外部電源検出回路 20 ヒューズ制御回路 30 プログラマブルROMセル 40 ラッチ回路

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ヒューズを用いたプログラミング部を有
    する半導体メモリ素子において、 初期状態における外部電源の印加を検出し、この電源電
    圧に応じた電源印加信号を出力する外部電源検出回路
    と、 前記外部電源検出回路の電源印加信号を入力し、これに
    応じた制御信号を出力するゲート制御回路と、 前記ゲート制御回路の制御信号によりオン・オフを行う
    スイッチと前記ヒューズとが第1の電源とこれより低電
    位の第2の電源間に直列接続され、このヒューズが切断
    されているか否かを出力ノードより出力するROMセル
    と、 前記ROMセルの出力ノ−ドに接続され、この状態をラ
    ッチするラッチ回路とを有し、 前記ゲート制御回路は、前記電源印加信号の遷移を監視
    することにより、前記外部電源の電源電圧が安定状態を
    維持する前に前記ROMセルのスイッチを制御して前記
    出力ノードを第2の電源に接続し、前記外部電源の電源
    電圧が安定したことを検出すると任意のタイミングで前
    記出力ノードと前記第2の電源間の接続を解除するとと
    もに、前記出力ノードがヒューズを介して第1の電源に
    接続されるよう前記スイッチを制御することを特徴とす
    る半導体メモリ素子。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の半導体メモリ素子にお
    いて、前記ROMセルは、 前記出力ノードと前記第1の電源間に前記ヒューズと直
    列接続された第1のスイッチと、 前記出力ノードと第2の電源間に接続された第2のスイ
    ッチとを有し、 前記ゲート制御回路は、前記外部電源の電源電圧が安定
    状態を維持する前に前記第2のスイッチをオン状態にし
    て前記出力ノードと前記第2の電源間を導通状態にし、
    前記外部電源の電源電圧が安定したことを検出すると前
    記第2のスイッチを任意のタイミングで非導通状態にす
    るとともに第1のスイッチを所定の期間オン状態にし、
    前記ヒューズを介して前記第1の電源と前記出力ノード
    とを前記所定の期間導通状態にすることを特徴とする半
    導体メモリ素子。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の半導体メモリ素子にお
    いて、前記第1のスイッチは第1導電型のトランジスタ
    であり、前記第2のスイッチは第2導電型トランジスタ
    であることを特徴とする半導体メモリ素子。
  4. 【請求項4】 請求項1に記載の半導体メモリ素子にお
    いて、前記ラッチ回路は、 一端が第1の電源に接続され、他端が前記ROMセルの
    出力ノードに接続された第1導電型トランジスタと、 一端が第2の電源に接続され、他端が前記ROMセルの
    出力ノードに接続された第2導電型トランジスタと、 入力端子が前記ROMセルの出力ノードに接続され、出
    力端子が当該ラッチ回路の出力ノードに接続されるとと
    もに前記第1導電型および第2導電型のMOSトランジ
    スタのゲートにそれぞれ接続されるインバータとを有す
    ることを特徴とする半導体メモリ素子。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の半導体メモリ素子にお
    いて、前記第1導電型トランジスタは、前記ROMセル
    のヒューズを介して第1の電源に接続されることを特徴
    とする半導体メモリ素子。
  6. 【請求項6】 請求項3または4に記載の半導体メモリ
    素子において、前記第1導電型トランジスタはPMOS
    トランジスタであり、前記第2導電型トランジスタはN
    MOSトランジスタであることを特徴とする半導体メモ
    リ素子。
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