JPH0831983A - 部品実装装置及び部品実装方法 - Google Patents

部品実装装置及び部品実装方法

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JPH0831983A
JPH0831983A JP18771194A JP18771194A JPH0831983A JP H0831983 A JPH0831983 A JP H0831983A JP 18771194 A JP18771194 A JP 18771194A JP 18771194 A JP18771194 A JP 18771194A JP H0831983 A JPH0831983 A JP H0831983A
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liquid
substrate
cleaning
sealing resin
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JP18771194A
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Kenji Araki
健次 荒木
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Original Assignee
Sony Corp
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
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    • HELECTRICITY
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    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1515Shape
    • H01L2924/15151Shape the die mounting substrate comprising an aperture, e.g. for underfilling, outgassing, window type wire connections

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  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、部品実装装置及び部品実装方法にお
いて、一定量の実装処理用液体を電子部品の周囲に均一
に短時間で充填し得ると共に、基板と電子部品との間の
液体中に気体が残留することを防止し得るようにする。 【構成】基板(1)上に所定の間隔だけ離間して配され
た電子部品(3)を密着する容器手段(17A)で覆う
と共に、液体充填手段(21)の端部(26及び27)
を電子部品(3)の直下の透孔(4)に挿通し、容器手
段(17A)内の気体(30)を液体(31)で押し出
しつつ液体(31)を充填する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【目次】以下の順序で本発明を説明する。 産業上の利用分野 従来の技術(図10及び図11) 発明が解決しようとする課題(図11) 課題を解決するための手段(図1及び図9) 作用(図1及び図9) 実施例(図1〜図9) 発明の効果
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は部品実装装置及び部品実
装方法に関し、例えばチツプ部品を絶縁基板上に実装す
る際に適用し得る。
【0003】
【従来の技術】従来、チツプ部品として例えば半導体集
積回路を複数形成したウエハから別個のチツプに分離し
ただけのものいわゆるベアチツプが使用されることがあ
る。このベアチツプは、絶縁基板に接続されるとき、洗
浄されて樹脂封止されている。すなわち図10に示すよ
うに、電極を下向きにして絶縁基板1上にバンプ2で接
続されたベアチツプ3を洗浄する際には、絶縁基板1の
ベアチツプ3の実装部分の近傍(例えばベアチツプ3の
中央部の直下)に予め設けた貫通孔(例えば直径0.2〔m
m〕)4を通じて、洗浄液を絶縁基板1の裏側より流入
させる。この後、ベアチツプ3は加熱して乾燥される。
【0004】次に図11に示すように、封止樹脂5をベ
アチツプ3の側面より注入して硬化させる。このとき封
止樹脂5は毛細管現象によつて絶縁基板1とベアチツプ
3との間に流入し、空気は貫通孔4から流出する。これ
によりベアチツプ3は周囲を封止樹脂5で固められる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述の方法
では封止樹脂5を充填する際、絶縁基板1とベアチツプ
3との間に、空気が残留し易い。このためベアチツプ3
の絶縁や防湿特性等がばらつき易いという問題があつ
た。従つて絶縁基板1とベアチツプ3との間に封止樹脂
5が完全に充填されて空気が残らないようにするには、
長い充填時間が必要となつてスループツトが低下すると
いう欠点があつた。
【0006】また上述の方法では、封止樹脂5をベアチ
ツプ3の周囲へ均一に付着させることが困難であるた
め、実際上、必要以上の封止樹脂5が付着されることに
なる。従つて封止樹脂5を十分かつ必要最小限で定量塗
布することが容易でないという問題もあつた。
【0007】さらに洗浄工程と樹脂封止工程とが別個の
装置に分かれて実施されていた。このため洗浄工程が終
了した絶縁基板1を洗浄装置から取り出して樹脂封止装
置へ搬送することになる。従つて搬送する時間や絶縁基
板1のベアチツプ3を樹脂の充填位置に位置合わせする
等の時間が必要であり、これによつてもスループツトが
低下するという欠点があつた。
【0008】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、一定量の実装処理用液体を電子部品の周囲に均一に
短時間で充填し得ると共に、基板と電子部品との間の液
体中に気体が残留することを防止し得る部品実装装置及
び部品実装方法を提案しようとするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、基板(1)上の所定の位置に穿設
された透孔(4)上に所定の間隔だけ離間して電子部品
(3)を配し、電子部品(3)を液体(29及び31)
で処理して実装する部品実装装置(13)において、端
面を基板(1)に密着させて、電子部品(3)を覆う空
間部を形成する容器手段(17A)と、端部(26及び
27)を透孔(4)に挿通して、液体(29及び31)
を基板(1)と電子部品(3)との所定の間隔から容器
手段(17A)内に充填する液体充填手段(20及び2
1)とを設ける。
【0010】また本発明においては、基板(1)上の所
定の位置に穿設された透孔(4)上に所定の間隔だけ離
間して電子部品(3)を配し、電子部品(3)を液体
(29及び31)で処理して実装する部品実装方法にお
いて、電子部品(3)を覆い得る空間部が形成された容
器手段(17A)の端面を基板(1)に密着させて、容
器手段(17A)で電子部品(3)を覆い、液体充填手
段(20及び21)の端部(26及び27)を透孔
(4)に挿通して、液体(29及び31)を基板(1)
と電子部品(3)との所定の間隔から容器手段(17
A)内に充填する。
【0011】
【作用】基板(1)上に所定の間隔だけ離間して配され
た電子部品(3)を密着する容器手段(17A)で覆う
と共に、液体充填手段(21)の端部(26及び27)
を電子部品(3)の直下の透孔(4)に挿通し、容器手
段(17A)内の気体(30)を液体(31)で押し出
しつつ液体(31)を充填することにより、一定量の実
装処理用液体(31)を電子部品(3)の周囲に均一に
短時間で充填し得ると共に、基板(1)と電子部品
(3)との間の液体(31)中に気体(30)が残留す
ることを防止し得る。
【0012】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
【0013】図1において、6は全体として半導体集積
回路のベアチツプ3の自動洗浄封止装置を示し、ベアチ
ツプ3を自動的に洗浄し、同一位置で封止樹脂をベアチ
ツプ3の周囲に充填して絶縁基板1に封着する。
【0014】自動洗浄封止装置6は、ほぼ箱形状の筐体
7を有しており、この筐体7内の底部には洗浄液及び封
止樹脂供給ポンプ8と、洗浄液排出ポンプ9とが配され
ている。筐体7内の中央には、絶縁基板1を左右に搬送
する基板搬送部10が配されている。筐体7内の基板搬
送部10の上方には、ツール駆動ロボツト11及び窒素
ガス供給器12が配されている。ツール駆動ロボツト1
1にはツール部13が配されている。
【0015】基板搬送部10は、ベアチツプ3を接続さ
れた絶縁基板1を基板供給装置(図示せず)から供給さ
れ、絶縁基板1を処理中、中央に停止させると共に、処
理された絶縁基板1を次の工程へ搬出する。基板搬送部
10は、基板固定台昇降装置14の上部に基板固定台1
5が載置されている。基板固定台15の上部の手前側と
奥側とには、ほぼコ字形状の基板通過レール16が凹部
を互いに対向させて配されている。基板通過レール16
は、絶縁基板1を搬送する際、絶縁基板1の両端をこの
凹部で支えて搬送する。
【0016】ツール部13は、ツール駆動ロボツト11
の上下方向(以下Z方向という)に移動する軸を有する
Z軸ユニツト11Aの下部に装着されている。ツール部
13は、洗浄及び封止樹脂塗布ツール17と、Z軸ユニ
ツト11Aの筐体後面に接続されて奥側に延び、基板搬
送部10を上下に挟む略コ字形状に形成された吸引ダク
ト18と、吸引ダクト18の下部の手前側に装着された
ノズル用ターンテーブル19と、ターンテーブル19上
に回転自在に植立された円筒形状の洗浄液用ノズル20
及び封止樹脂用ノズル21とでなる。
【0017】洗浄及び封止樹脂塗布ツール17は、Z軸
ユニツト11AによつてZ方向に駆動されると共に、ツ
ール駆動ロボツト11のX軸ユニツト11B及びY軸ユ
ニツト11Cによつて左右及び前後方向(以下それぞれ
X方向及びY方向という)にそれぞれ駆動される。吸引
ダクト18は、ターンテーブル19の支持枠を兼ねてい
る。また吸引ダクト18は、Z軸ユニツト11Aの筐体
後面に接続されていることにより、X方向及びY方向に
のみ駆動されることになる。
【0018】ターンテーブル19は、水平面内で回動す
る。またターンテーブル19の回動軸は中空でなり、吸
引ダクト18の下部水平枠の前部を挿通する洗浄液及び
封止樹脂供給パイプ22を介して洗浄液及び封止樹脂供
給ポンプ8と接続されている。洗浄液用ノズル20の外
周側面は、洗浄液排出用パイプ23を介して洗浄液排出
ポンプ9に接続されている。
【0019】洗浄及び封止樹脂塗布ツール17は、材質
が耐圧ガラスでなり、図2に示すように、開口を下方に
向けた平坦な4角カツプ形状のチツプ覆い17Aが下側
に配されている。またチツプ覆い17Aの天井部の平面
形状は、ベアチツプ3の平面形状に合わせて形成されて
いる。これによりチツプ覆い17Aがベアチツプ3を全
て覆うと、チツプ覆い17Aの天井部内面とベアチツプ
3の上面との間に均一な隙間が形成されると共に、チツ
プ覆い17Aの内周面とベアチツプ3の外周面との間に
均一な隙間が形成され得る。
【0020】チツプ覆い17Aの上面中央には孔17B
が穿設されており、この孔17Bから上方に伸びる給排
気管17Cが一体に形成されている。給排気管17C
は、上部が窒素ガス供給器12にパイプを介して接続さ
れていると共に、吸引ダクト18の上部水平枠に接続さ
れている。チツプ覆い17Aの開口には、全周に亘つて
材質がゴムでなり、均一な厚さのパツキン17Dが配さ
れている。これにより洗浄液や封止樹脂が供給圧力でチ
ツプ覆い17A内から外に漏れることが防止される。
【0021】封止樹脂用ノズル21は、モータで回転駆
動される中空の回転ノズル24を有する。回転ノズル2
4は、ターンテーブル19側に植立された基部が太く形
成され、上部が貫通孔4の直径に近い程度まで細く形成
されている。また回転ノズル24の上端付近の段部に
は、上広がりで全体としてほぼ円錐形状の軸受け25が
貫装されている。軸受け25の上面からは、貫通孔4の
直径の1/2 〜1/3 程度まで細く形成された回転ノズル2
4の注入針26が少し突出している。
【0022】この注入針26の側面には、斜め上方に伸
びる副注入針27が一体に形成されている。軸受け25
の上半部は、貫通孔4の直径に比して少し細い円筒形に
形成されている。軸受け25の下半部の上面には、材質
がゴムでなる円盤状のパツキン28が付着されている。
【0023】図3に示すように、洗浄液用ノズル20
は、副注入針27が注入針26の側面に形成されていな
いことを除いて、封止樹脂用ノズル21と同一に形成さ
れている。
【0024】以上の構成において、絶縁基板1のベアチ
ツプ3を接続するそれぞれの位置の中央部に例えば直径
0.3〔mm〕の貫通孔4が予め穿設されて、ベアチツプ3
が接続されているものとして考える。所望の数のベアチ
ツプ3が接続された絶縁基板1が基板供給装置から供給
されて、基板搬送部10の中央に停止すると、ツール駆
動ロボツト11は、洗浄及び封止樹脂塗布ツール17が
所望の位置の貫通孔4の上方で対向するように、ツール
部13をX及びY方向に駆動する。
【0025】続いて、ターンテーブル19が回動して洗
浄液用ノズル20を貫通孔4の真下に移動させる。この
後、洗浄及び封止樹脂塗布ツール17がZ軸ユニツト1
1Aによつて駆動されて降下すると共に、基板固定台昇
降装置14が絶縁基板1を降下させる。これにより図4
に示すように、洗浄及び封止樹脂塗布ツール17が絶縁
基板1の上面と密着する。また回転ノズル24の軸受け
25が絶縁基板1の下面に密着して、注入針26が貫通
孔4内に挿入される。
【0026】続いて、回転ノズル24は回転数を変化さ
せて回転し、洗浄液29は一定量噴出される。このとき
チツプ覆い17A内の空気30は、給排気管17C及び
吸引ダクト18を通じて排気される。図4及び図5に示
すように、洗浄液29は遠心力により拡散してベアチツ
プ3を洗浄し、やがて図6に示すように、チツプ覆い1
7A内に満たされる。この後、洗浄液29は、回転ノズ
ル24の注入針26より吸引排出される。
【0027】続いて、洗浄及び封止樹脂塗布ツール17
を引き続き絶縁基板1の上面に密着させたまま、洗浄液
用ノズル20は貫通孔4内から抜き出される。続いて、
窒素ガスが給排気管17Cを通じてチツプ覆い17A内
に流入する。これによりチツプ覆い17A内のベアチツ
プ3及び絶縁基板1の上面は乾燥させられる。
【0028】次に、図7に示すように、貫通孔4には、
封止樹脂用ノズル21が装着される。封止樹脂用ノズル
21の回転ノズル24は回転数を変化させて回転する。
また従来の封止樹脂5に比して高流動性の封止樹脂31
が一定量噴出される。このときチツプ覆い17A内の空
気30は、給排気管17C及び吸引ダクト18を通じて
排気され、チツプ覆い17A内は負圧に保たれる。図8
に示すように、封止樹脂31は遠心力により空気30を
追い出しながらベアチツプ3と絶縁基板1との隙間に拡
散する。図9に示すように、やがて封止樹脂31はチツ
プ覆い17A内に満たされる。
【0029】これによりベアチツプ3の周囲には、均一
な厚さでかつ空気30が残留しない封止樹脂31が充填
されたことになる。続いて、例えば紫外線を照射して、
封止樹脂31は硬化される。この後、洗浄及び封止樹脂
塗布ツール17は絶縁基板1から引き離される。
【0030】以上の構成によれば、絶縁基板1に所定の
間隔だけ離間して接続されたベアチツプ3を密着するチ
ツプ覆い17Aで覆うと共に、封止樹脂用ノズル21の
注入針26及び27をベアチツプ3の直下の貫通孔4に
挿入し、チツプ覆い17A内の空気30を封止樹脂31
で押し出しつつ封止樹脂31を充填することにより、一
定量の封止樹脂31をベアチツプ3の周囲に均一に短時
間で充填できると共に、絶縁基板1とベアチツプ3との
間の封止樹脂31中に空気30が残留することを防止で
きる。
【0031】また封止樹脂31がベアチツプ3の周囲に
均一に塗布できることにより、封止樹脂31の使用量を
必要最小限に抑えることができる。さらにチツプ覆い1
7A及び洗浄液用ノズル20を同一位置で使用して洗浄
できることにより、従来の基板の移動時間等が不要とな
り、スループツトを向上させることができる。さらに洗
浄及び樹脂封止を完全自動化することができる。
【0032】なお上述の実施例においては、絶縁基板1
及び洗浄及び封止樹脂塗布ツール17を固定し、回転ノ
ズル24を回転させたときの遠心力を利用して、洗浄液
29及び封止樹脂31を拡散させる場合について述べた
が、本発明はこれに限らず、回転ノズル24を固定し、
絶縁基板1及び洗浄及び封止樹脂塗布ツール17を回転
させるときの遠心力を利用して、洗浄液29及び封止樹
脂31を拡散させる場合にも適用し得る。この場合にも
上述と同様の効果を得ることができる。
【0033】また上述の実施例においては、半導体集積
回路のベアチツプ3の洗浄及び樹脂封止を同時に実施す
る場合について述べたが、本発明はこれに限らず、樹脂
封止のみを実施する場合にも適用でき、また半導体集積
回路のベアチツプ3以外の電子部品を洗浄したり樹脂封
止する場合にも適用できる。
【0034】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、基板上に
所定の間隔だけ離間して配された電子部品を密着する容
器手段で覆うと共に、液体充填手段の端部を電子部品の
直下の透孔に挿通し、容器手段内の気体を液体で押し出
しつつ液体を充填することにより、一定量の液体を電子
部品の周囲に均一に短時間で充填し得ると共に、基板と
電子部品との間の液体中に気体が残留することを防止し
得る部品実装装置及び部品実装方法を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による部品実装装置及び部被実装方法の
一実施例によるツール部を有する自動洗浄封止装置を示
す全体構成図である。
【図2】洗浄及び封止樹脂塗布ツール及び封止樹脂用ノ
ズルの説明に供する断面図である。
【図3】洗浄液用ノズルの説明に供する断面図である。
【図4】洗浄及び封止樹脂塗布ツールと洗浄液用ノズル
とを使用する洗浄方法の説明に供する断面図である。
【図5】洗浄及び封止樹脂塗布ツールと洗浄液用ノズル
とを使用する洗浄方法の説明に供する断面図である。
【図6】洗浄及び封止樹脂塗布ツールと洗浄液用ノズル
とを使用する洗浄方法の説明に供する断面図である。
【図7】洗浄及び封止樹脂塗布ツールと封止樹脂用ノズ
ルとを使用する封止樹脂の充填方法の説明に供する断面
図である。
【図8】洗浄及び封止樹脂塗布ツールと封止樹脂用ノズ
ルとを使用する封止樹脂の充填方法の説明に供する断面
図である。
【図9】洗浄及び封止樹脂塗布ツールと封止樹脂用ノズ
ルとを使用する封止樹脂の充填方法の説明に供する断面
図である。
【図10】ベアチツプとベアチツプの直下の絶縁基板に
穿設された貫通孔を示す断面図である。
【図11】従来の封止方法によつて樹脂封止されたベア
チツプを示す断面図である。
【符号の説明】
1……絶縁基板、2……バンプ、3……ベアチツプ、4
……貫通孔、5、31……封止樹脂、6……自動洗浄封
止装置、7……筐体、8……封止樹脂供給ポンプ、9…
…洗浄液排出ポンプ、10……基板搬送部、11……ツ
ール駆動ロボツト、11A……Z軸ユニツト、11B…
…X軸ユニツト、11C……Y軸ユニツト、12……窒
素ガス供給器、13……ツール部、14……基板固定台
昇降装置、15……基板固定台、16……基板通過レー
ル、17……洗浄及び封止樹脂塗布ツール、17A……
チツプ覆い、17B……孔、17C……給排気管、17
D……パツキン、18……吸引ダクト、19……ターン
テーブル、20……洗浄液用ノズル、21……封止樹脂
用ノズル、22……封止樹脂供給パイプ、23……洗浄
液排出用パイプ、24……回転ノズル、25……軸受
け、26……注入針、27……副注入針、28……パツ
キン、29……洗浄液、30……空気。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板上の所定の位置に穿設された透孔上に
    所定の間隔だけ離間して電子部品を配し、当該電子部品
    を液体で処理して実装する部品実装装置において、 端面を上記基板に密着させて、上記電子部品を覆う空間
    部を形成する容器手段と、 端部を上記透孔に挿通して、上記液体を上記基板と上記
    電子部品との上記所定の間隔から上記容器手段内に充填
    する液体充填手段とを具えることを特徴とする部品実装
    装置。
  2. 【請求項2】上記液体は、上記電子部品を洗浄する洗浄
    液と、当該洗浄後に上記所定の容器内に充填され硬化後
    上記電子部品を封止する封止液とでなることを特徴とす
    る請求項1に記載の部品実装装置。
  3. 【請求項3】上記液体充填手段の端部は、上記液体を上
    記基板面に直交する方向に吹き出すと共に上記基板に対
    して相対的に回転し、当該回転による遠心力を利用して
    上記液体を充填することを特徴とする請求項1に記載の
    部品実装装置。
  4. 【請求項4】上記液体充填手段の端部は、上記液体を上
    記基板面に直交する方向及び斜交する方向に吹き出すと
    共に上記基板に対して相対的に回転し、当該回転による
    遠心力を利用して上記液体を充填することを特徴とする
    請求項1に記載の部品実装装置。
  5. 【請求項5】基板上の所定の位置に穿設された透孔上に
    所定の間隔だけ離間して電子部品を配し、当該電子部品
    を液体で処理して実装する部品実装方法において、 上記電子部品を覆い得る空間部が形成された容器手段の
    端面を上記基板に密着させて、当該容器手段で上記電子
    部品を覆い、 液体充填手段の端部を上記透孔に挿通して、上記液体を
    上記基板と上記電子部品との上記所定の間隔から上記容
    器手段内に充填することを特徴とする部品実装方法。
  6. 【請求項6】上記液体は、上記電子部品を洗浄する洗浄
    液と、当該洗浄後に上記所定の容器内に充填され硬化後
    上記電子部品を封止する封止液とでなることを特徴とす
    る請求項5に記載の部品実装方法。
  7. 【請求項7】上記液体充填手段の端部は、上記液体を上
    記基板面に直交する方向に吹き出すと共に上記基板に対
    して相対的に回転し、当該回転による遠心力を利用して
    上記液体を充填することを特徴とする請求項5に記載の
    部品実装方法。
  8. 【請求項8】上記液体充填手段の端部は、上記液体を上
    記基板面に直交する方向及び斜交する方向に吹き出すと
    共に上記基板に対して相対的に回転し、当該回転による
    遠心力を利用して上記液体を充填することを特徴とする
    請求項5に記載の部品実装方法。
JP18771194A 1994-07-18 1994-07-18 部品実装装置及び部品実装方法 Pending JPH0831983A (ja)

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