JPH0831913A - 基板検出装置およびケース内への基板搬入装置 - Google Patents
基板検出装置およびケース内への基板搬入装置Info
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- JPH0831913A JPH0831913A JP18652194A JP18652194A JPH0831913A JP H0831913 A JPH0831913 A JP H0831913A JP 18652194 A JP18652194 A JP 18652194A JP 18652194 A JP18652194 A JP 18652194A JP H0831913 A JPH0831913 A JP H0831913A
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 比較的簡単な構成によって基板の位置ズレを
光学的に検出する。 【構成】 発光ダイオード１ａおよびフォトトランジス
タ１ｂからなるフォトインタラプタ１と、同様のフォト
インタラプタ２とが、透光性基板Ｗの搬送経路を挟んで
対向配備され、各フォトインタラプタ１，２の光軸が基
板Ｗにほぼ直交している。透光性基板Ｗに位置ズレが生
じていると、いずれか一方のフォトインタラプタ１の光
軸を透光性基板Ｗが横切るので、そのときのフォトトラ
ンジスタ１ｂ（または２ｂ）の検出信号の急激な変化を
検知することにより、透光性基板Ｗの位置ズレが検出さ
れる。
光学的に検出する。 【構成】 発光ダイオード１ａおよびフォトトランジス
タ１ｂからなるフォトインタラプタ１と、同様のフォト
インタラプタ２とが、透光性基板Ｗの搬送経路を挟んで
対向配備され、各フォトインタラプタ１，２の光軸が基
板Ｗにほぼ直交している。透光性基板Ｗに位置ズレが生
じていると、いずれか一方のフォトインタラプタ１の光
軸を透光性基板Ｗが横切るので、そのときのフォトトラ
ンジスタ１ｂ（または２ｂ）の検出信号の急激な変化を
検知することにより、透光性基板Ｗの位置ズレが検出さ
れる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハ、液晶表
示器用ガラス基板、フォトマスク（レチクル）等の基板
をキャリアやケース等に対して搬入／搬出する際に基板
を光学的に検出する基板検出装置、およびこの装置を用
いたケース内への基板搬入装置に関する。
示器用ガラス基板、フォトマスク（レチクル）等の基板
をキャリアやケース等に対して搬入／搬出する際に基板
を光学的に検出する基板検出装置、およびこの装置を用
いたケース内への基板搬入装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の基板検出装置として、例
えば、特開平１−２７６０９０号公報や特開平４−１８
６８６２号公報に開示されたものが知られている。
えば、特開平１−２７６０９０号公報や特開平４−１８
６８６２号公報に開示されたものが知られている。
【０００３】前者の特開平１−２７６０９０号公報に記
載の装置は、透光性基板に照射光を斜めに照射し、基板
が存在すれば基板での屈折によって照射光の光路が変化
し、基板が無ければ光路が変化しないことを利用して、
基板の有無を検出するものである。
載の装置は、透光性基板に照射光を斜めに照射し、基板
が存在すれば基板での屈折によって照射光の光路が変化
し、基板が無ければ光路が変化しないことを利用して、
基板の有無を検出するものである。
【０００４】後者の特開平４−１８６８６２号公報に記
載の装置、照射光の光軸を透光性基板が通過するとき
に、透光性基板の端縁によって照射光が散乱することに
より、検出光量が一時的に急激に低下することを利用し
て基板の有無を検出するものである。
載の装置、照射光の光軸を透光性基板が通過するとき
に、透光性基板の端縁によって照射光が散乱することに
より、検出光量が一時的に急激に低下することを利用し
て基板の有無を検出するものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たいずれの従来例も、基板の有無を検出することはでき
るが、基板の位置ズレを検出することができないという
難点がある。通常、半導体製造工程等では基板をケース
内へ搬入する前に、基板の位置合わせが行われるので、
ケース内への基板の搬入の際には基板の有無のみを検出
すれば十分であると考えられていたが、基板の位置合わ
せは機械的接触を伴うので基板にキズを与えやすい。そ
のため、例えばフォトマスクのように、特にキズを嫌う
基板では、できるだけ機械的接触を避ける意味で基板の
位置合わせなしに基板をケース内へ収納したいという要
請がある。そこで、基板を位置合わせすることなくケー
ス内へ搬入した場合、従来例によれば、基板の位置ズレ
が検出されないので、基板がケース本体に衝突して、高
価なフォトマスク等の基板が破損されるおそれもあっ
た。
たいずれの従来例も、基板の有無を検出することはでき
るが、基板の位置ズレを検出することができないという
難点がある。通常、半導体製造工程等では基板をケース
内へ搬入する前に、基板の位置合わせが行われるので、
ケース内への基板の搬入の際には基板の有無のみを検出
すれば十分であると考えられていたが、基板の位置合わ
せは機械的接触を伴うので基板にキズを与えやすい。そ
のため、例えばフォトマスクのように、特にキズを嫌う
基板では、できるだけ機械的接触を避ける意味で基板の
位置合わせなしに基板をケース内へ収納したいという要
請がある。そこで、基板を位置合わせすることなくケー
ス内へ搬入した場合、従来例によれば、基板の位置ズレ
が検出されないので、基板がケース本体に衝突して、高
価なフォトマスク等の基板が破損されるおそれもあっ
た。
【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、基板の位置ズレを比較的簡単に検出す
ることができる基板検出装置およびケース内への基板搬
入装置を提供することを目的とする。
たものであって、基板の位置ズレを比較的簡単に検出す
ることができる基板検出装置およびケース内への基板搬
入装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明に係る基板検出装置は、投光
部と受光部とからなる投受光手段が、基板の搬送経路中
心を挟んで対向する位置にそれぞれ配備され、前記２つ
の投光受光手段の間隔が、基板の位置ズレ許容量に関連
して、基板搬送方向と直交する基板側辺よりも若干広く
設定されており、前記２つの投光受光手段の各受光部の
いずれか一方の検出信号にのみ所定の変化が生じたこと
を検知することにより基板の位置ズレを検出するもので
ある。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明に係る基板検出装置は、投光
部と受光部とからなる投受光手段が、基板の搬送経路中
心を挟んで対向する位置にそれぞれ配備され、前記２つ
の投光受光手段の間隔が、基板の位置ズレ許容量に関連
して、基板搬送方向と直交する基板側辺よりも若干広く
設定されており、前記２つの投光受光手段の各受光部の
いずれか一方の検出信号にのみ所定の変化が生じたこと
を検知することにより基板の位置ズレを検出するもので
ある。
【０００８】請求項２に記載の発明に係る基板検出装置
は、投光部と受光部とからなる投受光手段が、基板の搬
送経路中心を挟んで対向する位置にそれぞれ配備され、
前記２つの投光受光手段の間隔が、基板の位置ズレ許容
量に関連して、基板搬送方向と直交する基板側辺よりも
若干狭く設定されており、前記２つの投光受光手段の各
受光部のいずれか一方の検出信号にのみ所定の変化が生
じたことを検知することにより基板の位置ズレを検出す
るものである。
は、投光部と受光部とからなる投受光手段が、基板の搬
送経路中心を挟んで対向する位置にそれぞれ配備され、
前記２つの投光受光手段の間隔が、基板の位置ズレ許容
量に関連して、基板搬送方向と直交する基板側辺よりも
若干狭く設定されており、前記２つの投光受光手段の各
受光部のいずれか一方の検出信号にのみ所定の変化が生
じたことを検知することにより基板の位置ズレを検出す
るものである。
【０００９】請求項３に記載の発明に係る基板検出装置
は、請求項１または請求項２に記載の装置において、前
記基板が透光性基板であり、前記２つの投受光手段の各
投光／受光部が前記透光性基板を挟んで配置され、か
つ、各投受光手段の光軸が前記透光性基板に対してそれ
ぞれ傾斜しているものである。
は、請求項１または請求項２に記載の装置において、前
記基板が透光性基板であり、前記２つの投受光手段の各
投光／受光部が前記透光性基板を挟んで配置され、か
つ、各投受光手段の光軸が前記透光性基板に対してそれ
ぞれ傾斜しているものである。
【００１０】請求項４に記載の発明に係る基板検出装置
は、請求項１または請求項２に記載の装置において、前
記基板が透光性基板であり、前記２つの投受光手段の各
投光／受光部が前記透光性基板を挟んで配置され、か
つ、各投受光手段の光軸が前記透光性基板に対してそれ
ぞれほぼ直交しているものである。
は、請求項１または請求項２に記載の装置において、前
記基板が透光性基板であり、前記２つの投受光手段の各
投光／受光部が前記透光性基板を挟んで配置され、か
つ、各投受光手段の光軸が前記透光性基板に対してそれ
ぞれほぼ直交しているものである。
【００１１】請求項５に記載の発明に係るケース内への
基板搬入装置は、請求項１ないし請求項４に記載のいず
れかの基板検出装置を用いた装置であって、基板を収納
するケースが載置されるケース載置部と、前記ケース載
置部に載置されるケースの開口部の前側に配備される前
記２つの投受光手段と、前記ケースへ基板を搬入する基
板搬入手段と、前記２つの投光受光手段の各受光部のい
ずれか一方の検出信号にのみ所定の変化が生じたとき
に、前記基板搬入手段の搬入動作を停止させる制御手段
と、を備えている。
基板搬入装置は、請求項１ないし請求項４に記載のいず
れかの基板検出装置を用いた装置であって、基板を収納
するケースが載置されるケース載置部と、前記ケース載
置部に載置されるケースの開口部の前側に配備される前
記２つの投受光手段と、前記ケースへ基板を搬入する基
板搬入手段と、前記２つの投光受光手段の各受光部のい
ずれか一方の検出信号にのみ所定の変化が生じたとき
に、前記基板搬入手段の搬入動作を停止させる制御手段
と、を備えている。
【００１２】
【作用】請求項１に記載の発明によれば、搬送される基
板に位置ズレが生じていない場合、その基板は各投受光
手段に作用することなく、その間を通り抜けるので、２
つ投受光手段の各受光部の検出信号には共に変化は生じ
ない。一方、搬送経路と直交する方向に基板の位置ズレ
が生じている場合、その基板は２つの投受光手段のいず
れか一方にのみ作用するので、２つ投受光手段の各受光
部のいずれか一方の検出信号に所定の変化が生じる。こ
の変化を検知することにより基板の位置ズレが検出され
る。
板に位置ズレが生じていない場合、その基板は各投受光
手段に作用することなく、その間を通り抜けるので、２
つ投受光手段の各受光部の検出信号には共に変化は生じ
ない。一方、搬送経路と直交する方向に基板の位置ズレ
が生じている場合、その基板は２つの投受光手段のいず
れか一方にのみ作用するので、２つ投受光手段の各受光
部のいずれか一方の検出信号に所定の変化が生じる。こ
の変化を検知することにより基板の位置ズレが検出され
る。
【００１３】請求項２に記載の発明によれば、搬送され
る基板に位置ズレが生じていない場合、その基板は２つ
の投受光手段に共に作用するので、２つの投受光手段の
各受光部の検出信号は共に変化する。一方、基板に位置
ズレが生じている場合、その基板は２つの投受光手段の
いずれか一方にのみ作用するので、いずれかの一方の受
光部の検出信号にのみ変化が生じたことを検出すること
により、基板の位置ズレが検出される。
る基板に位置ズレが生じていない場合、その基板は２つ
の投受光手段に共に作用するので、２つの投受光手段の
各受光部の検出信号は共に変化する。一方、基板に位置
ズレが生じている場合、その基板は２つの投受光手段の
いずれか一方にのみ作用するので、いずれかの一方の受
光部の検出信号にのみ変化が生じたことを検出すること
により、基板の位置ズレが検出される。
【００１４】請求項３に記載の発明によれば、透光性基
板を挟んで配置された各投光／受光部の光軸が透光性基
板に対して傾斜しているので、各投光部から照射された
照射光の光路は透光性基板を通過する際に屈折して変化
する。各照射光の光路変化は各受光部によって検知され
る。したがって、いずれか一方の投受光手段の受光部の
みが照射光の光路変化を検出することにより、透光性基
板の位置ズレが検出される。
板を挟んで配置された各投光／受光部の光軸が透光性基
板に対して傾斜しているので、各投光部から照射された
照射光の光路は透光性基板を通過する際に屈折して変化
する。各照射光の光路変化は各受光部によって検知され
る。したがって、いずれか一方の投受光手段の受光部の
みが照射光の光路変化を検出することにより、透光性基
板の位置ズレが検出される。
【００１５】請求項４に記載の発明によれば、透光性基
板を挟んで配置された各投光／受光部の光軸が透光性基
板に対してほぼ直交しているので、透光性基板の前端部
が前記各光軸を横切る際に、照射光が透光性基板の前端
部で散乱されることにより、各受光部の検出信号に一時
的に急激な変化が生じる。したがって、いずれか一方の
投受光手段の受光部の検出信号にのみ変化が生じたこと
を検出することにより、透光性基板の位置ズレが検出さ
れる。
板を挟んで配置された各投光／受光部の光軸が透光性基
板に対してほぼ直交しているので、透光性基板の前端部
が前記各光軸を横切る際に、照射光が透光性基板の前端
部で散乱されることにより、各受光部の検出信号に一時
的に急激な変化が生じる。したがって、いずれか一方の
投受光手段の受光部の検出信号にのみ変化が生じたこと
を検出することにより、透光性基板の位置ズレが検出さ
れる。
【００１６】請求項５に記載の発明によれば、ケース載
置部に載置されたケース内に基板を収納する際に、基板
に位置ズレが生じていると、ケースの開口部の前側に配
置された２つの投受光手段のいずれか一方に前記基板の
側辺部が作用する。制御手段は、２つの投受光手段の各
受光部のいずれか一方の検出信号にのみ所定の変化が生
じると、基板搬入手段の搬入動作を停止させるので、基
板がケース開口部の側壁等に干渉することが避けられ
る。
置部に載置されたケース内に基板を収納する際に、基板
に位置ズレが生じていると、ケースの開口部の前側に配
置された２つの投受光手段のいずれか一方に前記基板の
側辺部が作用する。制御手段は、２つの投受光手段の各
受光部のいずれか一方の検出信号にのみ所定の変化が生
じると、基板搬入手段の搬入動作を停止させるので、基
板がケース開口部の側壁等に干渉することが避けられ
る。
【００１７】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。 ＜第１実施例＞図１は本発明に係る基板検出装置の第１
実施例の概略構成を示した図である。
する。 ＜第１実施例＞図１は本発明に係る基板検出装置の第１
実施例の概略構成を示した図である。
【００１８】図中、符号Ｗは矩形状の透光性基板であ
る。この透光性基板Ｗは、図示しない搬送機構によって
図中の矢印の方向に搬送されている。透光性基板Ｗの搬
送経路の適宜な位置に、本発明の投受光手段に相当する
２つのフォトインタラプタ１，２が搬送経路を挟んで対
向するように配備されている。各フォトインタラプタ
１，２は、位置ズレが生じていない透光性基板Ｗが搬送
された場合の基板側辺の軌跡（図１中に符号Ｒ1 ，Ｒ2
で示す）よりも、位置ズレ許容量ΔＷに相当する距離だ
け、搬送経路の外側にそれぞれ設けられることにより、
各フォトインタラプタ１，２の間隔が透光性基板Ｗの基
板搬送方向と直交する基板側辺よりも若干広くなってい
る。
る。この透光性基板Ｗは、図示しない搬送機構によって
図中の矢印の方向に搬送されている。透光性基板Ｗの搬
送経路の適宜な位置に、本発明の投受光手段に相当する
２つのフォトインタラプタ１，２が搬送経路を挟んで対
向するように配備されている。各フォトインタラプタ
１，２は、位置ズレが生じていない透光性基板Ｗが搬送
された場合の基板側辺の軌跡（図１中に符号Ｒ1 ，Ｒ2
で示す）よりも、位置ズレ許容量ΔＷに相当する距離だ
け、搬送経路の外側にそれぞれ設けられることにより、
各フォトインタラプタ１，２の間隔が透光性基板Ｗの基
板搬送方向と直交する基板側辺よりも若干広くなってい
る。
【００１９】フォトインタラプタ１は、本発明の投光部
に相当する投光素子である発光ダイオード１ａと、本発
明の受光部に相当する受光素子であるフォトトランジス
タ１ｂとで構成されている。フォトインタラプタ２も、
同様の発光ダイオード２ａとフォトトランジスタ２ｂと
で構成されている。発光ダイオード１ａ（２ａ）とフォ
トトランジスタ１ｂ（２ｂ）は、透光性基板Ｗを上下か
ら挟むように対向配備され、各フォトインタラプタ１，
２の光軸は、透光性基板Ｗを含む平面に対してほぼ直交
するように設定されている。
に相当する投光素子である発光ダイオード１ａと、本発
明の受光部に相当する受光素子であるフォトトランジス
タ１ｂとで構成されている。フォトインタラプタ２も、
同様の発光ダイオード２ａとフォトトランジスタ２ｂと
で構成されている。発光ダイオード１ａ（２ａ）とフォ
トトランジスタ１ｂ（２ｂ）は、透光性基板Ｗを上下か
ら挟むように対向配備され、各フォトインタラプタ１，
２の光軸は、透光性基板Ｗを含む平面に対してほぼ直交
するように設定されている。
【００２０】以下、フォトインタラプタ１を例に採って
透光性基板Ｗの有無を検出する原理を説明する。仮に位
置ズレが生じた透光性基板Ｗが搬送されてくるとする。
透光性基板Ｗがフォトインタラプタ１の設置位置に到達
する前は、発光ダイオード１ａからの照射光を遮るもの
が何もないので、フォトトランジスタ１ｂの検出信号の
レベルは最大になる。この透光性基板Ｗがフォトインタ
ラプタ１の設置位置に達すると、透光性基板Ｗの前端部
がフォトインタラプタ１の光軸を横切る。この際、図２
に示すように、発光ダイオード１ａからの照射光が透光
性基板Ｗの前端部で散乱されることにより、フォトトラ
ンジスタ１ｂに入射する光量が急激に低下する。その
後、透光性基板Ｗがフォトインタラプタ１を通過してい
る間は、透光性基板Ｗの光透過率に応じてフォトトラン
ジスタ１ｂの検出信号のレンベルは、基板到達前に比べ
て少し低下するが、略一定レベルで安定する。上述した
フォトトランジスタ１ｂの検出信号Ｓ1 のレベルの変化
の様子を図３に示す。したがって、フォトトランジスタ
１ｂの検出信号の急激な変化を検知することにより、透
光性基板Ｗがフォトインタラプタ１を横切ったことを知
ることができる。
透光性基板Ｗの有無を検出する原理を説明する。仮に位
置ズレが生じた透光性基板Ｗが搬送されてくるとする。
透光性基板Ｗがフォトインタラプタ１の設置位置に到達
する前は、発光ダイオード１ａからの照射光を遮るもの
が何もないので、フォトトランジスタ１ｂの検出信号の
レベルは最大になる。この透光性基板Ｗがフォトインタ
ラプタ１の設置位置に達すると、透光性基板Ｗの前端部
がフォトインタラプタ１の光軸を横切る。この際、図２
に示すように、発光ダイオード１ａからの照射光が透光
性基板Ｗの前端部で散乱されることにより、フォトトラ
ンジスタ１ｂに入射する光量が急激に低下する。その
後、透光性基板Ｗがフォトインタラプタ１を通過してい
る間は、透光性基板Ｗの光透過率に応じてフォトトラン
ジスタ１ｂの検出信号のレンベルは、基板到達前に比べ
て少し低下するが、略一定レベルで安定する。上述した
フォトトランジスタ１ｂの検出信号Ｓ1 のレベルの変化
の様子を図３に示す。したがって、フォトトランジスタ
１ｂの検出信号の急激な変化を検知することにより、透
光性基板Ｗがフォトインタラプタ１を横切ったことを知
ることができる。
【００２１】次に、２つのフォトインタラプタ１，２を
図１で説明したように配置することにより、透光性基板
Ｗの位置ズレを検出する手法を説明する。図４（ａ）に
示すように、透光性基板Ｗに位置ズレが生じていない場
合、透光性基板Ｗはフォトインタラプタ１，２の各光軸
を横切ることはないので、図４（ｂ），（ｃ）に示すよ
うに、各フォトトランジスタ１ｂ，２ｂの検出信号
Ｓ1 ，Ｓ2 のレベルは変化しない。一方、図５（ａ）に
示すように、透光性基板Ｗに位置ズレが生じている場
合、透光性基板Ｗはフォトインタラプタ１，２の一方の
光軸のみを横切るので、図５（ｂ），（ｃ）に示すよう
に、各フォトトランジスタ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，
Ｓ2 の一方のみのレベルが急激に変化する。したがっ
て、フォトトランジスタ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，Ｓ
2 のいずれか一方のみの急激なレベル変化を検出するこ
とにより、透光性基板Ｗに位置ズレが生じていることを
検出することができる。
図１で説明したように配置することにより、透光性基板
Ｗの位置ズレを検出する手法を説明する。図４（ａ）に
示すように、透光性基板Ｗに位置ズレが生じていない場
合、透光性基板Ｗはフォトインタラプタ１，２の各光軸
を横切ることはないので、図４（ｂ），（ｃ）に示すよ
うに、各フォトトランジスタ１ｂ，２ｂの検出信号
Ｓ1 ，Ｓ2 のレベルは変化しない。一方、図５（ａ）に
示すように、透光性基板Ｗに位置ズレが生じている場
合、透光性基板Ｗはフォトインタラプタ１，２の一方の
光軸のみを横切るので、図５（ｂ），（ｃ）に示すよう
に、各フォトトランジスタ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，
Ｓ2 の一方のみのレベルが急激に変化する。したがっ
て、フォトトランジスタ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，Ｓ
2 のいずれか一方のみの急激なレベル変化を検出するこ
とにより、透光性基板Ｗに位置ズレが生じていることを
検出することができる。
【００２２】具体的には、図１に示すように、各フォト
トランジスタ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，Ｓ2 を波形整
形回路３ａ，３ｂに与えて、検出信号Ｓ1 ，Ｓ2 の急激
なレベル変化を検出してパルス信号Ｐ1 ，Ｐ2 に変換す
る。各波形整形回路３ａ，３ｂの出力を排他的論理和
（ＥＸ−ＯＲ）回路４を介してラッチ回路５に与える。
これにより、検出信号Ｓ1 ，Ｓ2 の一方にのみ急激なレ
ベル変化が生じたとき、すなわち、透光性基板Ｗに位置
ズレが生じたときに、ラッチ回路５から位置ズレ検出信
号Ｓ0 を出力させることができる。
トランジスタ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，Ｓ2 を波形整
形回路３ａ，３ｂに与えて、検出信号Ｓ1 ，Ｓ2 の急激
なレベル変化を検出してパルス信号Ｐ1 ，Ｐ2 に変換す
る。各波形整形回路３ａ，３ｂの出力を排他的論理和
（ＥＸ−ＯＲ）回路４を介してラッチ回路５に与える。
これにより、検出信号Ｓ1 ，Ｓ2 の一方にのみ急激なレ
ベル変化が生じたとき、すなわち、透光性基板Ｗに位置
ズレが生じたときに、ラッチ回路５から位置ズレ検出信
号Ｓ0 を出力させることができる。
【００２３】＜第２実施例＞図６は本発明に係る基板検
出装置の第２実施例の概略構成を示した図である。図６
において、図１中の符号と同一の符号で示した各部は、
第１実施例と同様の構成であるので、ここでの説明は省
略する。本実施例の特徴は、フォトインタラプタ１，２
が、位置ズレが生じていない透光性基板Ｗが搬送された
場合の基板側辺の軌跡Ｒ1 ，Ｒ2 よりも、位置ズレ許容
量ΔＷに相当する距離だけ、搬送経路の内側にそれぞれ
設けられることにより、各フォトインタラプタ１，２の
間隔が透光性基板Ｗの基板搬送方向と直交する基板側辺
よりも若干狭くなっていることにある。
出装置の第２実施例の概略構成を示した図である。図６
において、図１中の符号と同一の符号で示した各部は、
第１実施例と同様の構成であるので、ここでの説明は省
略する。本実施例の特徴は、フォトインタラプタ１，２
が、位置ズレが生じていない透光性基板Ｗが搬送された
場合の基板側辺の軌跡Ｒ1 ，Ｒ2 よりも、位置ズレ許容
量ΔＷに相当する距離だけ、搬送経路の内側にそれぞれ
設けられることにより、各フォトインタラプタ１，２の
間隔が透光性基板Ｗの基板搬送方向と直交する基板側辺
よりも若干狭くなっていることにある。
【００２４】本実施例によれば、図７（ａ）に示すよう
に、透光性基板Ｗに位置ズレが生じていない場合、透光
性基板Ｗはフォトインタラプタ１，２の各光軸を横切る
ので、図７（ｂ），（ｃ）に示すように、各フォトトラ
ンジスタ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，Ｓ2 のレベルが共
に急激に変化する。一方、図８（ａ）に示すように、透
光性基板Ｗに位置ズレが生じている場合、透光性基板Ｗ
はフォトインタラプタ１，２の一方の光軸のみを横切る
ので、図８（ｂ），（ｃ）に示すように、各フォトトラ
ンジスタ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，Ｓ2 の一方のみの
レベルが急激に変化する。したがって、第１実施例と同
様に、フォトトランジスタ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，
Ｓ2 のいずれか一方のみの急激なレベル変化を検出する
ことにより、透光性基板Ｗに位置ズレが生じていること
を検出することができる。
に、透光性基板Ｗに位置ズレが生じていない場合、透光
性基板Ｗはフォトインタラプタ１，２の各光軸を横切る
ので、図７（ｂ），（ｃ）に示すように、各フォトトラ
ンジスタ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，Ｓ2 のレベルが共
に急激に変化する。一方、図８（ａ）に示すように、透
光性基板Ｗに位置ズレが生じている場合、透光性基板Ｗ
はフォトインタラプタ１，２の一方の光軸のみを横切る
ので、図８（ｂ），（ｃ）に示すように、各フォトトラ
ンジスタ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，Ｓ2 の一方のみの
レベルが急激に変化する。したがって、第１実施例と同
様に、フォトトランジスタ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，
Ｓ2 のいずれか一方のみの急激なレベル変化を検出する
ことにより、透光性基板Ｗに位置ズレが生じていること
を検出することができる。
【００２５】上述の説明から明らかなように、本実施例
によれば、位置ズレの生じていない透光性基板Ｗがフォ
トインタラプタ１，２に通過する際、フォトトランジス
タ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，Ｓ2 のレベルが共に変化
するので、透光性基板Ｗの位置ズレ検出とともに、透光
性基板Ｗの有無も検出することができる。
によれば、位置ズレの生じていない透光性基板Ｗがフォ
トインタラプタ１，２に通過する際、フォトトランジス
タ１ｂ，２ｂの検出信号Ｓ1 ，Ｓ2 のレベルが共に変化
するので、透光性基板Ｗの位置ズレ検出とともに、透光
性基板Ｗの有無も検出することができる。
【００２６】なお、本発明に係る基板検出装置は、上述
した各実施例のものに限定されず、次のように変形実施
することもできる。 （１）第１，第２実施例で説明したフォトインタラプタ
１，２を図９に示すように配置してもよい。すなわち、
２つのフォトインタラプタ１，２の各発光ダイオード１
ａ（２ａ）とフォトトランジスタ１ｂ（２ｂ）が透光性
基板Ｗを挟んで上下に配置され、かつ、フォトインタラ
プタ１，２の各光軸が透光性基板Ｗに対してそれぞれ傾
斜するように配置されている。この例によれば、透光性
基板Ｗがフォトインタラプタ１，２の光軸を横切らない
場合、発光ダイオード１ａ（２ａ）からの照射光の光路
Ｌ1 は直線である。一方、光軸を横切る場合は、照射光
は透光性基板Ｗにより屈折されて、光路Ｌ2 となる。し
たがって、フォトトランジスタ１ｂ（２ｂ）をいずれか
の光路Ｌ1 ，Ｌ2 上に配置することにより、透光性基板
Ｗの位置ズレを検出することができる。この例によれ
ば、移動中の透光性基板Ｗのみならず、停止している透
光性基板Ｗの位置ズレも検出することができる。
した各実施例のものに限定されず、次のように変形実施
することもできる。 （１）第１，第２実施例で説明したフォトインタラプタ
１，２を図９に示すように配置してもよい。すなわち、
２つのフォトインタラプタ１，２の各発光ダイオード１
ａ（２ａ）とフォトトランジスタ１ｂ（２ｂ）が透光性
基板Ｗを挟んで上下に配置され、かつ、フォトインタラ
プタ１，２の各光軸が透光性基板Ｗに対してそれぞれ傾
斜するように配置されている。この例によれば、透光性
基板Ｗがフォトインタラプタ１，２の光軸を横切らない
場合、発光ダイオード１ａ（２ａ）からの照射光の光路
Ｌ1 は直線である。一方、光軸を横切る場合は、照射光
は透光性基板Ｗにより屈折されて、光路Ｌ2 となる。し
たがって、フォトトランジスタ１ｂ（２ｂ）をいずれか
の光路Ｌ1 ，Ｌ2 上に配置することにより、透光性基板
Ｗの位置ズレを検出することができる。この例によれ
ば、移動中の透光性基板Ｗのみならず、停止している透
光性基板Ｗの位置ズレも検出することができる。
【００２７】（２）また、検出対象となる基板が半導体
ウエハ等の非透光性の基板である場合には、図１０に示
すように、発光ダイオード１ａ（２ａ）およびフォトト
ランジスタ１ｂ（２ｂ）を基板Ｗの一方側に配置して、
基板Ｗからの反射光を検出するようにしてもよい。
ウエハ等の非透光性の基板である場合には、図１０に示
すように、発光ダイオード１ａ（２ａ）およびフォトト
ランジスタ１ｂ（２ｂ）を基板Ｗの一方側に配置して、
基板Ｗからの反射光を検出するようにしてもよい。
【００２８】＜第３実施例＞図１１は本発明に係るケー
ス内への基板搬入装置の実施例の概略構成を示した図で
ある。図中、符号６は本発明における基板搬入手段に相
当する搬送ロボットである。この搬送ロボット６は、垂
直軸心Ｑ1 ，Ｑ2 ，Ｑ3 周りにそれぞれ回動自在のアー
ム６ａ，６ｂと吸着アーム６ｃとを備えている。この吸
着アーム６ｃの先端部に透光性基板Ｗが水平姿勢で吸着
保持される。
ス内への基板搬入装置の実施例の概略構成を示した図で
ある。図中、符号６は本発明における基板搬入手段に相
当する搬送ロボットである。この搬送ロボット６は、垂
直軸心Ｑ1 ，Ｑ2 ，Ｑ3 周りにそれぞれ回動自在のアー
ム６ａ，６ｂと吸着アーム６ｃとを備えている。この吸
着アーム６ｃの先端部に透光性基板Ｗが水平姿勢で吸着
保持される。
【００２９】符号７は、透光性基板Ｗが収納されるケー
スＣが載置される昇降自在のケース載置台である。搬送
ロボット６で保持された透光性基板ＷがケースＣ内に挿
入されると、吸着アーム６ｃによる基板Ｗの吸着が解除
されるとともに、ケース載置台７を若干上昇させること
により、吸着アーム６ｃから基板ＷをケースＣ内に受け
渡し、その後、吸着アーム６ｃを後退させることによ
り、基板ＷをケースＣ内に搬入するように構成されてい
る。
スＣが載置される昇降自在のケース載置台である。搬送
ロボット６で保持された透光性基板ＷがケースＣ内に挿
入されると、吸着アーム６ｃによる基板Ｗの吸着が解除
されるとともに、ケース載置台７を若干上昇させること
により、吸着アーム６ｃから基板ＷをケースＣ内に受け
渡し、その後、吸着アーム６ｃを後退させることによ
り、基板ＷをケースＣ内に搬入するように構成されてい
る。
【００３０】ケースＣの開口部の前側に、フォトインタ
ラプタ１，２等から構成された基板検出装置が配備され
ている。この基板検出装置は、第１実施例で説明したも
のと同様の構成であり、フォトインタラプタ１，２の間
隔は基板搬入方向と直交する基板Ｗの側辺よりも広く、
かつ、ケースＣの開口部の横幅よりも若干狭く設定され
ている。図中のΔＷは位置ズレ許容量である。
ラプタ１，２等から構成された基板検出装置が配備され
ている。この基板検出装置は、第１実施例で説明したも
のと同様の構成であり、フォトインタラプタ１，２の間
隔は基板搬入方向と直交する基板Ｗの側辺よりも広く、
かつ、ケースＣの開口部の横幅よりも若干狭く設定され
ている。図中のΔＷは位置ズレ許容量である。
【００３１】本実施例によれば、搬送ロボット６で搬送
されてくる透光性基板Ｗに位置ズレが生じている場合、
フォトインタラプタ１，２の内のいずれか一方のみが透
光性基板Ｗを検出する。その結果、ラッチ回路５から駆
動制御装置８に位置ズレ検出信号Ｓ0 が与えられる。こ
の位置ズレ検出信号Ｓ0 に基づき、本発明の制御手段に
相当する駆動制御装置８が搬送ロボット６の搬入動作を
停止させることにより、透光性基板ＷとケースＣとの干
渉が未然に防止される。
されてくる透光性基板Ｗに位置ズレが生じている場合、
フォトインタラプタ１，２の内のいずれか一方のみが透
光性基板Ｗを検出する。その結果、ラッチ回路５から駆
動制御装置８に位置ズレ検出信号Ｓ0 が与えられる。こ
の位置ズレ検出信号Ｓ0 に基づき、本発明の制御手段に
相当する駆動制御装置８が搬送ロボット６の搬入動作を
停止させることにより、透光性基板ＷとケースＣとの干
渉が未然に防止される。
【００３２】なお、本実施例では、第１実施例で説明し
た基板検出装置を用いたが、本発明に係る基板搬入装置
はこれに限定されず、例えば第２実施例等で説明した基
板検出装置を用いることもできる。
た基板検出装置を用いたが、本発明に係る基板搬入装置
はこれに限定されず、例えば第２実施例等で説明した基
板検出装置を用いることもできる。
【００３３】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば次のような効果を奏する。請求項１に記載の発
明によれば、２つの投受光手段の間隔が、基板の位置ズ
レ許容量に関連して、基板搬送方向と直交する基板側辺
よりも若干広く形成されているので、いずれか一方の投
受光手段の検出信号にのみ所定の変化が生じたことを検
知することにより、基板の位置ズレを容易に検出するこ
とができる。
によれば次のような効果を奏する。請求項１に記載の発
明によれば、２つの投受光手段の間隔が、基板の位置ズ
レ許容量に関連して、基板搬送方向と直交する基板側辺
よりも若干広く形成されているので、いずれか一方の投
受光手段の検出信号にのみ所定の変化が生じたことを検
知することにより、基板の位置ズレを容易に検出するこ
とができる。
【００３４】請求項２に記載の発明によれば、２つの投
受光手段の間隔が、基板の位置ズレ許容量に関連して、
基板搬送方向と直交する基板側辺よりも若干狭く形成さ
れているので、いずれか一方の投受光手段の検出信号に
のみ所定の変化が生じたことを検知することにより、基
板の位置ズレを容易に検出することができるとともに、
基板の有無を検出することもできる。
受光手段の間隔が、基板の位置ズレ許容量に関連して、
基板搬送方向と直交する基板側辺よりも若干狭く形成さ
れているので、いずれか一方の投受光手段の検出信号に
のみ所定の変化が生じたことを検知することにより、基
板の位置ズレを容易に検出することができるとともに、
基板の有無を検出することもできる。
【００３５】請求項３に記載の発明によれば、２つの投
受光手段の各投光／受光部が透光性基板を挟んで配置さ
れ、かつ、各光軸が基板に対して傾斜しているので、い
ずれか一方の投受光手段のみが照射光の光路変化を検知
することにより、移動中および静止している透光性基板
の位置ズレを容易に検出することができる。
受光手段の各投光／受光部が透光性基板を挟んで配置さ
れ、かつ、各光軸が基板に対して傾斜しているので、い
ずれか一方の投受光手段のみが照射光の光路変化を検知
することにより、移動中および静止している透光性基板
の位置ズレを容易に検出することができる。
【００３６】請求項４に記載の発明によれば、２つの投
受光手段の各投光／受光部が透光性基板を挟んで配置さ
れ、かつ、各光軸が基板に対して略直交しているので、
いずれか一方の投受光手段のみの検出信号の急激な変化
を検知することにより、移動中の透光性基板の位置ズレ
を容易に検出することができる。
受光手段の各投光／受光部が透光性基板を挟んで配置さ
れ、かつ、各光軸が基板に対して略直交しているので、
いずれか一方の投受光手段のみの検出信号の急激な変化
を検知することにより、移動中の透光性基板の位置ズレ
を容易に検出することができる。
【００３７】請求項５に記載の発明によれば、請求項１
ないし請求項４に記載のいずれかの基板検出装置を用い
て基板の位置ズレを検出することにより、ケース内へ搬
入される基板の位置ズレを検出することができるので、
基板の位置ズレによる基板とケースとを干渉を未然に避
けることができる。
ないし請求項４に記載のいずれかの基板検出装置を用い
て基板の位置ズレを検出することにより、ケース内へ搬
入される基板の位置ズレを検出することができるので、
基板の位置ズレによる基板とケースとを干渉を未然に避
けることができる。
【図１】本発明に係る基板検出装置の第１実施例の概略
構成を示した図である。
構成を示した図である。
【図２】第１実施例装置における基板検出の原理の説明
に供する図である。
に供する図である。
【図３】検出信号の変化を示す図である。
【図４】第１実施例装置の動作説明図である。
【図５】第１実施例装置の動作説明図である。
【図６】本発明に係る基板検出装置の第２実施例の概略
構成を示した図である。
構成を示した図である。
【図７】第２実施例装置の動作説明図である。
【図８】第２実施例装置の動作説明図である。
【図９】投受光手段の変形例を示した図である。
【図１０】投受光手段の別の変形例を示した図である。
【図１１】本発明に係るケース内への基板搬入装置の一
実施例の概略構成を示した図である。
実施例の概略構成を示した図である。
１，２…フォトインタラプタ（投受光手段） １ａ，２ａ…発光ダイオード（投光部） １ｂ，２ｂ…フォトトランジスタ（受光部） ３ａ，３ｂ…波形整形回路 ４…排他的論理和回路 ５…ラッチ回路 ６…搬送ロボット（基板搬入手段） ７…ケース載置台（ケース載置部） ８…駆動制御装置（制御手段） Ｗ…透光性基板 Ｃ…ケース
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０１Ｖ 8/12 Ｈ０１Ｌ 31/12 Ｇ
Claims (5)
- 【請求項１】 投光部と受光部とからなる投受光手段
が、基板の搬送経路中心を挟んで対向する位置にそれぞ
れ配備され、前記２つの投光受光手段の間隔が、基板の
位置ズレ許容量に関連して、基板搬送方向と直交する基
板側辺よりも若干広く設定されており、前記２つの投光
受光手段の各受光部のいずれか一方の検出信号にのみ所
定の変化が生じたことを検知することにより基板の位置
ズレを検出することを特徴とする基板検出装置。 - 【請求項２】 投光部と受光部とからなる投受光手段
が、基板の搬送経路中心を挟んで対向する位置にそれぞ
れ配備され、前記２つの投光受光手段の間隔が、基板の
位置ズレ許容量に関連して、基板搬送方向と直交する基
板側辺よりも若干狭く設定されており、前記２つの投光
受光手段の各受光部のいずれか一方の検出信号にのみ所
定の変化が生じたことを検知することにより基板の位置
ズレを検出することを特徴とする基板検出装置。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の装置に
おいて、前記基板は透光性基板であり、前記２つの投受
光手段の各投光／受光部は前記透光性基板を挟んで配置
され、かつ、各投受光手段の光軸が前記透光性基板に対
してそれぞれ傾斜していることを特徴とする基板検出装
置。 - 【請求項４】 請求項１または請求項２に記載の装置に
おいて、前記基板は透光性基板であり、前記２つの投受
光手段の各投光／受光部は前記透光性基板を挟んで配置
され、かつ、各投受光手段の光軸が前記透光性基板に対
してそれぞれほぼ直交していることを特徴とする基板検
出装置。 - 【請求項５】 請求項１ないし請求項４に記載のいずれ
かの基板検出装置を用いたケース内への基板搬入装置で
あって、基板を収納するケースが載置されるケース載置
部と、前記ケース載置部に載置されるケースの開口部の
前側に配備される前記２つの投受光手段と、前記ケース
へ基板を搬入する基板搬入手段と、前記２つの投光受光
手段の各受光部のいずれか一方の検出信号にのみ所定の
変化が生じたときに、前記基板搬入手段の搬入動作を停
止させる制御手段と、を備えたことを特徴とするケース
内への基板搬入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18652194A JPH0831913A (ja) | 1994-07-14 | 1994-07-14 | 基板検出装置およびケース内への基板搬入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18652194A JPH0831913A (ja) | 1994-07-14 | 1994-07-14 | 基板検出装置およびケース内への基板搬入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0831913A true JPH0831913A (ja) | 1996-02-02 |
Family
ID=16189959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18652194A Pending JPH0831913A (ja) | 1994-07-14 | 1994-07-14 | 基板検出装置およびケース内への基板搬入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0831913A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002319559A (ja) * | 2001-04-23 | 2002-10-31 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研削装置 |
| US6499367B1 (en) | 1997-09-23 | 2002-12-31 | Tokyo Electron Limited | Device and method for detecting substrate |
| KR100743466B1 (ko) * | 2001-06-04 | 2007-07-30 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 이송 장치용 기판 감지 장치 |
| JP2007227781A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Tokyo Electron Ltd | 基板の位置ずれ検査機構，処理システム及び基板の位置ずれ検査方法 |
| KR100862702B1 (ko) * | 2006-11-03 | 2008-10-10 | 세메스 주식회사 | 기판 정렬 감지장치 |
| JP2011139074A (ja) * | 2011-01-07 | 2011-07-14 | Applied Materials Inc | 基板の破損及び移動中の基板のずれを動的に検出するセンサ |
| KR20160066824A (ko) * | 2014-12-03 | 2016-06-13 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판 이송 방법 |
| KR20200063700A (ko) * | 2018-11-28 | 2020-06-05 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
| KR20200065184A (ko) * | 2018-11-29 | 2020-06-09 | 세메스 주식회사 | 기재 위치 보정 방법 |
| US11534859B2 (en) | 2018-11-28 | 2022-12-27 | Semes Co., Ltd. | Substrate treatment apparatus |
-
1994
- 1994-07-14 JP JP18652194A patent/JPH0831913A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6499367B1 (en) | 1997-09-23 | 2002-12-31 | Tokyo Electron Limited | Device and method for detecting substrate |
| JP2002319559A (ja) * | 2001-04-23 | 2002-10-31 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研削装置 |
| KR100743466B1 (ko) * | 2001-06-04 | 2007-07-30 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 이송 장치용 기판 감지 장치 |
| JP2007227781A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Tokyo Electron Ltd | 基板の位置ずれ検査機構，処理システム及び基板の位置ずれ検査方法 |
| KR100862702B1 (ko) * | 2006-11-03 | 2008-10-10 | 세메스 주식회사 | 기판 정렬 감지장치 |
| JP2011139074A (ja) * | 2011-01-07 | 2011-07-14 | Applied Materials Inc | 基板の破損及び移動中の基板のずれを動的に検出するセンサ |
| KR20160066824A (ko) * | 2014-12-03 | 2016-06-13 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판 이송 방법 |
| KR20200063700A (ko) * | 2018-11-28 | 2020-06-05 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
| CN111244000A (zh) * | 2018-11-28 | 2020-06-05 | 细美事有限公司 | 基板处理装置 |
| US11534859B2 (en) | 2018-11-28 | 2022-12-27 | Semes Co., Ltd. | Substrate treatment apparatus |
| CN111244000B (zh) * | 2018-11-28 | 2024-03-08 | 细美事有限公司 | 基板处理装置 |
| KR20200065184A (ko) * | 2018-11-29 | 2020-06-09 | 세메스 주식회사 | 기재 위치 보정 방법 |
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