CN111244000A - 基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种基板处理装置。基板处理装置包括：移送部，移送透明方形基板；基板支撑部，支撑所述被移送的透明方形基板；光产生部，向移动中的所述透明方形基板照射相互不同的两束光，并检测被照射的光；及控制装置，参照所述检测的光，判断所述透明方形基板的姿态，并控制所述移送部，以使按提前设定的基本姿态而将所述透明方形基板安装在所述基板支撑部，其中，所述控制装置利用在所述透明方形基板的边缘中未透过所述相互不同的两束光中的第一光的时刻及为透过所述相互不同的两束光中的第二光的时刻之间的时间差，而判断所述基本姿态对应的所述透明方形基板的姿态。

Description

基板处理装置
技术领域
本发明涉及一种基板处理装置。
背景技术
在制造半导体设备或显示设备时，实施照相、蚀刻、刻板、离子注入、薄膜层积、清洗等各种工艺。在此，照相工艺包括涂抹、曝光及显像工艺。在基板上涂抹涂渍溶液(即，涂抹工艺)，在形成有感光膜的基板上曝光电路图案(即，曝光工艺)，有选择地显像基板的曝光处理的区域(即，显像工艺)。
对一个基板而执行各种工艺处理，对于各个工艺处理在相互不同的单独的腔执行。因此，在腔之间执行基板的移动，以用于执行对基板的完全的工艺处理。
发明的内容
发明要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题为提供一种基板处理装置。
本发明的课题并非通过上述言及的课题限定，未言及的或其它课题通过下面的记载而使本领域技术人员明确理解。
用于解决问题的技术方案
用于实现所述课题的本发明的基板处理装置的一方面(aspect)包括：移送部，供移送透明方形基板；基板支撑部，支撑所述被移送的透明方形基板；光产生部，向移动中的所述透明方形基板照射相互不同的两束光，检测所照射的光；及控制装置，参照所述检测的光，判断所述透明方形基板的姿态，并控制所述移送部，以使按提前设定的基本姿态而将所述透明方形基板安装在所述基板支撑部，其中，所述控制装置利用在所述透明方形基板的边缘，所述相互不同的两束光中的第一光未透过的时刻及所述相互不同的两束光中的第二光未透过的时刻之间的时间差，而判断所述基本姿态对应的所述透明方形基板的姿态。
所述光产生部包括：第一及第二光照射部，以垂直于地面的方向而分别照射第一光及第二光；及第一及第二光检测部，在所述第一及第二光照射部的上部或下部而配置在与地面平行的一个直线上，分别检测所述照射的第一光及第二光。
所述移送部在所述透明方形基板的宽的面平行配置于地面的状态下，以垂直于所述第一光及第二光的光照射方向的方向，移动所述透明方形基板，以使所述透明方形基板通过所述第一光及第二光。
基本姿态对应的透明方形基板的姿态包括配置有第一光检测部及第二光检测部的方向与形成于透明方形基板的边缘之间的角度。
所述控制装置利用在所述透明方形基板的一侧边缘未透过所述第一光及第二光的时刻与在所述一侧边缘的对侧边缘未透过所述第一光及第二光的时刻之间的时间差而判断所述透明方形基板的中心线。
所述控制装置控制所述移送部，以使所述透明方形基板的中心线与所述基板支撑部的中心线保持一致。
其它实施例的具体事项包含于具体说明及附图中。
附图说明
图1为显示本发明的实施例的基板处理装置的附图；
图2为显示本发明的实施例的透明方形基板的附图；
图3为显示向本发明的实施例的透明方形基板照射光的附图；
图4及图5为显示本发明的实施例的透明方形基板通过光产生部的附图；
图6为显示本发明的实施例的透明方形基板以不吻合基本姿态的姿态通过光产生部的附图；
图7为显示本发明的实施例的透明方形基板通过光产生部而检测的光图案的附图；
图8为显示确定本发明的实施例的透明方形基板的姿态及中心线的附图；
图9及图10为显示移送本发明的实施例的透明方形基板的附图。
附图标记说明
10：基板处理装置 20：透明方形基板
100：移送部 110：固定部
120：移动部 130：机械臂
140：手臂 200：基板支撑部
210：安装面 220：支撑销
310、320：光产生部 311、321：光照射部
312、322：光检测部 400：控制装置
具体实施方式
下面，参照附图而对本发明的优选的实施例进行具体说明。本发明的优点及特征及其实现其的方法参照与附图一起而具体说明的实施例而变得明确。但本发明并非通过下面公开的实施例进行限定，能够以相互不同的各种形式实现，仅本实施例完全公开本发明，并用于向本发明所属技术领域的普通技术人员完全告知发明的范围而提供，本发明仅通过权利要求范围定义。整个说明书相同的参照符号表示相同的构成要素。
对于元件(elements)或层处于不同的元件或层的“上(on)”或“上面(on)”包含直接处于其它元件或层上，也包含在中间介有其它层或其它元件的情况。而对于称元件为“直接处于上(directly on)”或“直接处于上面”的情况，显示在中间未介有其它元件或层的情况。
空间上相对的用语即“下(below)”、“下面(beneath)”、“下部(lower)”、“上(above)”、“上部(upper)”等如显示于附图上所示，用于容易记述一个元件或构成要素与其它元件或构成要素的相互关系而使用。空间上相对的用语在对于显示于附图中的方向而使用时或运行时，应以按包含元件的相互不同的方向的用语理解。例如，对于翻转显示于附图的元件的情况，记述为其它元件的“下(below)”或“下面(beneath)”的元件被放置在其它元件的“上(above)”。因此，例示的用语即“下”全部包含下与上的方向。元件也能够按其它方向配置，由此，空间上相对的用语按配向解释。
即使第一、第二等用于叙述不同的元件、构成要素及/或部分而使用，但该多个元件、构成要素及/或部分未通过该多个用语限定。该用语仅将一个元件、构成要素或部分与其它元件、构成要素或部分区别而使用。因此，下面言及的第一元件、第一构成要素或第一部分在本发明的技术的思想内也能够指第二元件、第二构成要素或第二部分。
在本说明书中使用的用语为用于说明实施例，并非限制本发明。在本说明书中，单数型在文中未作特别言及的，也包含复数型。对于说明书中所使用的“包括(comprises)”及/或“包含的(comprising)”所言及的构成要素、步骤、动作及/或元件未排除一个以上其它构成要素、步骤、动作及/或元件的存在或增加。
在不存在其它定义的情况下，本说明书中使用的所有用语(包含技术及科学用语)，在本发明所属技术领域中，按普通技术人员共同理解的意义使用。或者一般使用的词典定义的用语未作明确特别定义的，未以异常或夸张的形式解释。
下面，参照附图对本发明的实施例进行具体说明，在参照附图而进行说明时，与附图符号无关，相同或对应的构成要素赋予相同的参照符号，并省略对其的重复说明。
图1为显示本发明的实施例的基板处理装置的附图，图2为显示本发明的实施例的透明方形基板的附图，图3为显示向本发明的实施例的透明方形基板照射光的附图。
参照图1，基板处理装置10包括：移送部100、基板支撑部200、光产生部310、320及控制装置400。
移送部100执行移送透明方形基板20的作用。移送部100包括：固定部110、移动部120、机械臂130及手臂140。固定部110被固定于地面。地面为具有基板处理装置10的腔(未图示)的底面。移动部120以能够移动的方式与固定部110结合。例如，移动部120对于固定部110，以垂直于地面的方向移动或以垂直于地面的旋转轴为中心旋转。
机械臂130具有多个。多个机械臂130以能够旋转的方式而相邻的相互之间结合。例如，以垂直于地面的旋转轴为中心相邻的机械臂130相互间旋转。多个机械臂130中的一个与移动部120结合，与移动部120一起移动。多个机械臂130中的另一个具有手臂140。手臂140执行支撑透明方形基板20的作用。透明方形基板20在支撑于手臂140的状态下移送。
基板支撑部200执行支撑通过移送部100移送的透明方形基板20的作用。透明方形基板20在被支撑于基板支撑部200的状态下，被执行照相、蚀刻、刻板、离子注入、薄膜层积、清洗等工艺处理。在本发明中，透明方形基板20的宽的面为方形。由此，安装有透明方形基板20的基板支撑部200的安装面210也为方形。在基板支撑部200具有支撑销220。支撑销220执行分隔透明方形基板20与基板支撑部200的安装面210之间的作用。
光产生部310、320执行向移动中的透明方形基板20照射相互不同的两束光，并检测所照射的光的作用。光产生部310、320包括：第一光照射部311、第二光照射部321、第一光检测部312及第二光检测部322。
第一光照射部311及第二光照射部321执行以垂直于地面的方向而分别照射第一光L1及第二光L2的作用。在本发明中，第一光L1及第二光L2为激光。第一光检测部312及第二光检测部322在第一光照射部311及第二光照射部321的上部或下部配置在与地面平行的一个直线上，执行分别检测通过第一光照射部311及第二光照射部321而照射的第一光L1及第二光L2的作用。图1显示在第一光照射部311及第二光照射部321的上部配置第一光检测部312及第二光检测部322。
控制装置400执行参照通过第一光检测部312及第二光检测部322而检测的光判断透明方形基板20的姿态，并控制移送部100，以使以提前设定的基本姿态而将透明方形基板20安装至基板支撑部200的作用。
移送部100从收纳多个透明方形基板20的运输装置(未图示)抽拉一个透明方形基板20。被抽拉的透明方形基板20通过移送部100移送而被安装至基板支撑部200。
在向基板照射光而判断基板的姿态时，利用光的检测与否。即对于在光照射路径上存在基板的情况，未检测光，对于在光照射路径上未存在基板的情况，检测光，通过该光检测与否，判断基板的边缘的形式。另外，与本发明的透明方形基板20一样，表面为透明材质的情况，能够透过光。对于该情况，即使在光照射路径上存在透明方形基板20，也不易于因透过光，而检测光，从而，判断基板的形式。
由此，本发明的实施例的控制装置400利用在透明方形基板20的边缘未透过光产生部310、320的相互不同的两束光中的第一光L1的时刻及在未透过光产生部310、320的相互不同的两束光中的第二光L2的时刻之间的时间差而判断基本姿态对应的透明方形基板20的姿态。
参照图2，本发明的透明方形基板20为方形，并且，表面为透明材质。因此，向透明方形基板20的表面透过光。
另外，透明方形基板20的边缘在制造上存在不透明区域22。参照图3，透明方形基板20包括：透明区域21及不透明区域22。
不透明区域22沿着透明方形基板20的边缘形成。向透明方形基板20的透明区域21照射的光(EL1)能够透过透明方形基板20的表面。由此，光检测部312、322检测被照射至透明区域21的光(EL1)。并且，光检测部312、322检测脱离边缘的光(EL3)。另外，被照射至不透明区域22的光(EL2)在被切断光时，由此，光检测部312、322无法检测相应光(EL2)。
本发明中用于判断透明方形基板20的姿态而具有的光产生部310、320为两个。利用通过两个光产生部310、320而产生的光检测图案，判断基本姿态的透明方形基板20的姿态。
为了利用通过光产生部310、320而产生的光，而判断透明方形基板20的姿态，移送部100以与地面平行的直线方向移动透明方形基板20，并通过光产生部310、320。下面，将透明方形基板20通过光产生部310、320的方向称为第一方向X。并且，将与地面平行并与第一方向X垂直的方向称为第二方向Y，将垂直于第一方向X及第二方向Y的方向称为第三方向Z。上述两个光检测部312、322在与平行于第二方向Y的一个直线上被并行配置。
图4及图5为显示本发明的实施例的透明方形基板通过光产生部的附图。
参照图4及图5，移送部100在透明方形基板20的宽的面与地面平行配置的状态下，以与第一光L1及第二光L2的光照射方向垂直的方向，移送透明方形基板20，以供透明方形基板20通过第一光L1及第二光L2。
移送部100优先将透明方形基板20的一侧边缘(下面，称为第一边缘)22a通过第一光L1及第二光L2，进而移动移动透明方形基板20，以使第一边缘22a的对侧边缘(下面，称为第二边缘)22b通过第一光L1及第二光L2。由此，在移动透明方形基板20中，对于第一光L1及第二光L2被照射至第一边缘22a及第二边缘22b的情况，第一光检测部312及第二光检测部322无法检测第一光L1及第二光L2。
图6为显示本发明的实施例的透明方形基板以不吻合基本姿态的姿态通过光产生部的附图，图7为显示本发明的实施例的透明方形基板通过光产生部而被检测的光图案的附图。
参照图6，透明方形基板20以不吻合基本姿态的姿态通过光产生部310、320。
移送部100抽拉被收纳至运输装置的透明方形基板20而移动至基板支撑部200过程中，透明方形基板20的姿态不吻合基本姿态。在本发明中，基本姿态是指透明方形基板20的第一边缘22a及第二边缘22b与第二方向Y平行的透明方形基板20的姿态。并且，基本姿态对应的透明方形基板20的姿态是指配置有第一光检测部312及第二光检测部322的方向，即第二方向Y与形成于第一边缘22a或第二边缘22b之间的角度。图6为显示在透明方形基板20的第一边缘22a与第二方向Y之间形成R度，R度以显示基本姿态对应的透明方形基板20的姿态理解。
参照图7，随着透明方形基板20通过光产生部310、320，而借助光检测部312、322通过一定图案而检测光。图7中显示横轴为时间，纵轴显示所检测的光的强度。
图7中实线显示通过第一光检测部312而检测的第一光L1的强度，虚线显示通过第二光检测部322而检测的第二光L2的强度。透明方形基板20的姿态根据不吻合基本姿态而在第一边缘22a及第二边缘22b未检测到第一光L1及第二光L2的时刻之间存在时间差。即，通过第一光检测部312而产生的第一光L1首先未被检测，在经过一定时间之后，通过第二光检测部322未检测第二光L2。并且，包括因移送部100的手臂140而未检测第一光L1及第二光L2的区间。
控制装置400利用在透明方形基板20的边缘未透过第一光L1的时刻及未透过第二光L2的时刻之间的时间差而判断基本姿态对应的透明方形基板20的姿态。在此，透明方形基板20的边缘为第一边缘22a或第二边缘22b，基本姿态对应的透明方形基板20的姿态显示第二方向Y与第一边缘22a之间的角度或第二方向Y与第二边缘22b之间的角度。
图8为显示确定本发明的实施例的透明方形基板的姿态及中心线的附图。
参照图8，利用未透过第一光L1及第二光L2的时刻而确定透明方形基板20的姿态及中心线。
控制装置400利用在透明方形基板20的第一边缘22a未透过第一光L1的时刻与未透过第二光L2的时刻之间的时间差(t1)而判断透明方形基板20的姿态。或者，控制装置400利用在透明方形基板20的第二边缘22b未透过第一光L1的时刻与未透过第二光L2的时刻之间的时间差(t2)而判断透明方形基板20的姿态。基本姿态对应的透明方形基板20的姿态按t1/d或t2/d确定。在此，d显示第一光检测部312与第二光检测部322之间的距离。
控制装置400利用在透明方形基板20的第一边缘22a未透过第一光L1及第二光L2的时刻与在第二边缘22b未透过第一光L1及第二光L2的时刻之间的时间差而判断透明方形基板20的中心线23。
首先，控制装置400确认在透明方形基板20的第一边缘22a未透过第一光L1的时刻与在第二边缘22b未透过第一光L1的时刻之间的中间时刻(下面，称为第一中间时刻)(AV1)。并且，控制装置400确认在透明方形基板20的第一边缘22a未透过第二光L2的时刻与在第二边缘22b未透过第二光L2的时刻之间的中间时刻(下面，称为第二中间时刻)(AV2)。控制装置400将与第一中间时刻(AV1)及第二中间时刻(AV2)相应的透明方形基板20的部分判断为中心线23。
透明方形基板20的中心线23为横切透明方形基板20的中心点的表面上的一各直线，与第二方向Y平行。透明方形基板20的中心线23在接近透明方形基板20的中心点与基板支撑部200的中心点时予以利用。
图9及图10为显示移送本发明的实施例的透明方形基板的附图。
参照图9，移送部100移动透明方形基板20，以供透明方形基板20通过光产生部310、320。
移送部100以与地面平行的一直线方向，即以第一方向X移动透明方形基板20。光产生部310、320与基板支撑部200邻接配置。在移动至基板支撑部200的透明方形基板20的移动路径上配置光产生部310、320。
随着透明方形基板20通过光产生部310、320，控制装置400确认透明方形基板20的中心线23。控制装置400控制移送部100，以使透明方形基板20的中心线23与基板支撑部200的中心线230一致。在本发明中，对于透明方形基板20的中心线23与基板支撑部200的中心线230一致的情况，显示包含基板支撑部200的中心线230，并在与地面垂直的虚拟面上包含透明方形基板20的中心线23的情况。图9显示移动至基板支撑部200的上部的透明方形基板20的中心线23与基板支撑部200的中心线230一致。
参照图10，透明方形基板20被补正姿态。随着透明方形基板20通过光产生部310、320，控制装置400确认基本姿态对应的透明方形基板20的姿态，即形成于第二方向Y与透明方形基板20的第一边缘22a之间的角度或形成于第二方向Y和透明方形基板20的第二边缘22b的角度(R)。
控制装置400控制移送部100，以使按所确认的角度(R)补正透明方形基板20的姿态。移送部100在补正透明方形基板20的姿态之后，将透明方形基板20安装至基板支撑部200。透明方形基板20按基本姿态而在支撑于基板支撑部200的状态下，执行工艺处理。
综上参照附图对本发明的实施例进行了说明，但本发明所属技术领域的普通技术人员应当理解，在不变更本发明其技术思想或必要特征的情况下，能够以其它具体形式实施。因此，综上记述的实施例在所有面进行例示，并非以限定进行理解。

Claims (6)

1.一种基板处理装置，其特征在于，
包括：
移送部，移送透明方形基板；
基板支撑部，支撑所述被移送的透明方形基板；
光产生部，向移动中的所述透明方形基板照射相互不同的两束光，并检测被照射的光；及
控制装置，参照所述检测的光，判断所述透明方形基板的姿态，控制所述移送部，以使按提前设定的基本姿态而将所述透明方形基板安装在所述基板支撑部，
所述控制装置利用在所述透明方形基板的边缘，未透过所述相互不同的两束光中的第一光的时刻及未透过所述相互不同的两束光中的第二光的时刻之间的时间差，而判断所述基本姿态对应的所述透明方形基板的姿态。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述光产生部包括：
第一及第二光照射部，以与地面垂直的方向分别照射第一光及第二光；及
第一及第二光检测部，在所述第一及第二光照射部的上部或下部而配置在与地面平行的一个直线上，分别检测所述照射的第一光及第二光。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
所述移送部在所述透明方形基板的宽的面与地面平行配置的状态下，以与所述第一光及第二光的光照射方向垂直的方向而移动所述透明方形基板，以供所述透明方形基板通过所述第一光及第二光。
4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
基本姿态对应的透明方形基板的姿态包含配置有第一光检测部及第二光检测部的方向与形成于透明方形基板的边缘之间的角度。
5.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
所述控制装置利用在所述透明方形基板的一侧边缘未透过所述第一光及第二光的时刻与在所述一侧边缘的对侧边缘未透过所述第一光及第二光的时刻之间的时间差而判断所述透明方形基板的中心线。
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
所述控制装置控制所述移送部，以使所述透明方形基板的中心线与所述基板支撑部的中心线一致。
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