CN101122752A - 对正装置及曝光装置 - Google Patents

Abstract

本发明的课题在于提供一种避免藉由对正而产生的基板的变形与破损的对正装置以及使用该对正装置的曝光装置。本发明的解决手段为：本发明的对正装置包括：一台座(2、3)，其保持二维平面的方形基板(W)，以正交于二维平面的轴为中心旋转，且于该二维平面内的第一方向上移动；一第一摄影装置(4a、4b)，其对配置于方形基板的一边的边缘的彼此分离的位置上的二个部位进行摄影，并输出二个部位的边缘影像；一第二摄影装置(4c)，其对与一边相交的另一边的边缘的一个部位进行摄影，并输出一个部位的另一边缘影像；一影像处理电路(100)，其对边缘影像及另一边缘影像进行影像处理；以及一控制部(20)，其根据影像处理装置的输出而控制台座。

Description

对正装置及曝光装置

技术领域

本发明有关于一种对正大型基板的对正装置以及将既定的图案曝光至基板的图案区域的曝光装置，特别是对基板的非电路图案部照射激光光束，而将记号、文字等识别标记进行印记(曝光)的同时，照射紫外线而进行非电路图案区域的周边曝光的曝光装置。

背景技术

例如在液晶用基板的曝光装置中，数年前为大约500mm×500mm的尺寸，现在已经制造出扩大至2160mm×2460mm的所谓的大型尺寸。从该大型基板切断、分离成预设的各个基板片，而制作出搭载于受像机器、放映机器的基板。基板从大型的状态切断、分离时，其管理与制造工程的管理是必要的。因此在基板的非电路图案区域由激光光束等，在各基板片上印记文字、记号、图形或者是由其组合而形成的识别记号来形成工程管理的指示标记。而且将判断分离位置用的切断位置识别码、或者各种对正标记等曝光于基板上而形成切断基板或位置配合的指示标记。以下，识别标记、切断位置识别码及对正标记等总称为识别标记。

又，在基板的图案区域的周边，未形成电路图案的非电路图案区域设定成既定的宽度。存在于非电路图案区域的不必要的光致抗蚀剂，由于会成为后续制程的障碍，必须要预先使其曝光。另一方面，在非电路图案区域中，如上所述，必须显示出识别标记。例如，如专利文献1所述，在非电路图案区域中，形成识别标记的位置，不仅可设于非电路图案区域的中央部，也可设于接近电路图案区域，或设于基板的端部侧附近。

在该基板的制程中，曝光电路图案区域的曝光装置、对非电路图案区域的光致抗蚀剂进行曝光的周边曝光装置、印记识别标记的曝光装置等，各种曝光装置存在于生产线上。例如，专利文献2所揭露，在非电路图案区域中照射激光而印记识别标记的曝光装置，对于基板的非电路图案区域上应印记识别标记的场所，从配置于装载基板的台座的上方的曝光单元照射激光光束。然后，将载置基板的台座与曝光单元相对移动，使激光光束在台座移动方向与正交于该移动方向的方向上依次地扫瞄，同时移动至相对该照射位置的移动方向，在成为直角坐标的平面上使基板的照射点排成一列而印记识别标记。

又，在对周边部的不必要的光致抗蚀剂进行曝光的制程时，如专利文献3所述，藉由使基板的边缘与曝光光照射部同步而移动的光传感器检测出边缘的方法，如专利文献4所述，藉由检测出销抵接于基板时的位置的位置传感器的信息，而检测出基板的边缘的方法等，确保基板的边缘的信息。

[专利文献1]日本特许第2910867号公报

[专利文献2]日本特许第3547418号公报

[专利文献3]日本特开2000-306794号公报

[专利文献4]日本特许第3413947号公报

发明内容

[发明欲解决的问题]

但是，习知的印记识别标记的曝光装置或曝光识别标记与非电路图案区域的周边曝光装置中，存在以下的问题点。

该等曝光装置中，搬运基板的机构部由长轴的轴(X轴)的台座、与该轴正交的轴(Y轴)的台座以及使基板旋转的轴(θ轴)的台座所构成。因此，三个台座重叠而使搬运系统整体构成高度高的机构部，机构元件增加而使价格变高。又，三个台座重合而使重心变高，基板安装面的偏位变大，可能对曝光性能有不良的影响。

又在专利文献3所揭露的发明中，仅将方形基板的一边的边缘以光学性的方法检测出，之后沿着该边缘对非电路图案部分曝光，因此如果基板没有正确地定位于台座上，就无法正确地进行边缘的曝光。

而且，在专利文献4所揭露的发明中，揭露了将方形基板的正交的两边定位的机构。该发明由于必须具备弹簧及接点等多种机械性的元件用于定位，所以会使基板的边缘部产生变形及破损，而且机构变得复杂，其检查及维护的时间也会变长。

有鉴于此，本发明为一种避免藉由位置配合(对正)而产生的基板的变形与破损的曝光装置。又，本发明的曝光装置可简单地构成定位检测机构部，而且容易设置进行激光光束的照射及以紫外光照射非电路图案区域的单元。藉此，可确保稳定的生产。

[解决问题的手段]

本发明的第一观点的对正装置，包括：一台座，其保持二维平面的方形基板，以正交于二维平面的轴为中心旋转，且于该二维平面内的第一方向上移动；一第一摄影装置，其对配置于方形基板的一边的边缘的彼此分离的位置上的二个部位进行摄影，并输出二个部位的边缘影像；一第二摄影装置，其对与上述一边相交的另一边的边缘一个部位进行摄影，并输出一个部位的另一边缘影像；一影像处理电路，其对边缘影像及另一边缘影像进行影像处理；以及一控制部，其根据影像处理装置的输出而控制台座。

藉由此构造，方形基板不具有用于对正的与机械性的销等的接点，因此不产生由于位置配合而造成的基板的变形及伴随该变形的破损。而且对正装置的机构可以简单地构成，因此，对正装置的维护检查变得容易。

本发明的第二观点的对正装置中，影像处理电路确认二个部位的边缘影像与预先存储的影像是否一致，同时控制部使台座旋转。

藉由此构造，可以达到方形基板的一个方向的对正。又，藉由该构造，仅由将摄影装置所拍摄的影像与预先存储的影像进行比较而可以进行对正，因此用于检测对正位置的演算软件也可是简单的就可应付。

本发明的第三观点的对正装置在第二观点中，影像处理电路确认一个部位的另一边缘影像与预先存储的影像是否一致，同时控制部使台座移动。

藉由此构造，达成方形基板的另一方向的对正。

本发明的第四观点的对正装置在配置于分离的位置上的二个部位的位置以及另一边缘的一个部位的位置上，设有反射光线的反射台。

例如，方形基板为玻璃基板的情况时，在是玻璃基板的部分以及不是玻璃基板的部分中，有时摄影装置无法得到充分的对比度。但是，藉由设置反射台，即使是玻璃基板，摄影装置也可得到充分的对比度。因此，可使对正精度提升。

本发明的第五观点的对正装置是，在第四观点中，反射台对应于方形基板的尺寸而可移动。

藉由此构造，即使在搬入装置的方形基板具有复数个尺寸的情况下，也可适当地应付。

本发明的第六观点的对正装置在配置于分离的位置上的二个部位的位置以及上述另一边缘的一个部位的位置上，设有照射光线的照明装置。

例如在摄影装置无法得到充分的对比度的情况下，由于设有照明装置，所以不用提高摄影装置的摄影感光度就可得到充分的对比度。因此，可提升对正的精度。

本发明的第七观点的对正装置的照明装置具有一第一光源形状以及与该第一光源形状不同的第二光源形状，对应于光致抗蚀剂而切换第一光源形状与第二光源形状。

藉由此构造，对应于光致抗蚀剂的种类而变换照明光的形状，几乎不受摄影装置的性能的影响而可得到良好的影像。因此，可提高对正的精度。

本发明的第八观点的对正装置的照明装置具有第一波长的光源以及与该第一波长不同的第二波长的光源，对应于光致抗蚀剂而切换上述第一波长的光源以及上述第二波长的光源。

藉由此构造，对应于光致抗蚀剂的种类而变换照明光的波长，几乎不受摄影装置的性能的影响而可得到良好的影像。因此，可提高对正的精度。

本发明的第九观点的曝光装置使上述方形基板沿着移动路径而移动，在上述方形基板的图案区域上形成电路图案，上述曝光装置包括：

一对正装置，其如上述第一观点至第七观点的对正装置；一激光光束单元，其设于上述方形基板的上方，对未形成上述电路图案的非电路图案区域照射激光光束，而印记识别标记；以及一紫外光照射单元，其在与该激光光束单元相邻的位置上，而且设于上述方形基板的上方，对上述非电路图案区域照射紫外光，其中藉由上述对正装置的控制，在上述方形基板移动至既定位置后，上述方形基板的边缘移动至上述激光光束单元下面及紫外光照射单元下面。

藉由此构造，使对正精度提升后的方形基板移动至激光光束单元下面以及紫外线照射单元下面。因此，可印记精度佳的识别标记，可精度佳地对非电路图案区域照射紫外光。

[发明的效果]

在本发明的对正装置或曝光装置中，藉由对方形基板的一边的二个部位摄影并对与该边相交的另一边的一个部位摄影，从而将方形基板的位置导入既定的位置。因此，无机械性的销与基板的边缘抵接的情况。即，不会产生藉由对正的方形基板的变形以及伴随该变形的破损，而且可简单构成定位检测的机构。因此使维护检查变得容易。

而且，在基板正确地定位后，只要把台座沿着直线方向(例如X方向)搬运，所以可省略为了达到基板的对正而所需要的与直线方向正交的方向(例如Y方向)上驱动台座的机构，因此，装置整体可以设计得更紧凑。

附图说明

图1为本发明的在本装置中所使用的基板的一例的平面图。

图2为本发明中省略本装置的一部分而从侧面方向示意性地表示装置内的剖视示意图。

图3为本发明中省略本装置的一部分而从后面方向示意性地表示装

置内的剖视示意图。

图4为表示本发明的本装置的激光光束单元的激光控制机构的方块图。

图5为表示本发明的本装置的基板、台座以及移动机构的一部分的立体图。

图6为表示本发明的本装置的控制机构的方块图。

图7为表示保持θ角度而载置于台座上的基板的俯视图。

图8为在图7的状态下，由摄影装置所撷取的基板及反射台的影像图案的示意图。

图9为从图7的状态在基板抵达正规的位置的状态下，由摄影装置所撷取的基板及反射台的影像图案的示意图。

符号说明

1～识别标记、周边曝光装置(本装置)；2～台座；2a～基台；2b～支持柱；3～移动搬运机构；3A～第一移动导引机构；3A～第三移动导引机构；3C～第三移动导引机构；3a～线性马达；3b～移动轨道；4～摄影装置；4a、4b～第一摄影装置；4c～第二摄影装置；5～激光光束单元；5A～激光照射单元；7c～电流计；7d～F-θ透镜；9～紫外线照射单元；10～照射区域调整遮板机构；12～移动机构；15～激光光束单元；20～控制机构；21～输入装置；24～位置检测装置；31～存储装置；100A、100B～影像处理电路部；108～处理器；200～位置传感器；A1～支持框；B1～第二框体；M～识别标记；W～方形玻璃基板；Wc～非电路图案区域；Wp～图案区域；M1、M2～识别标记；R11、R1、R21、R22、R31、R32～影像；XXa、XXb、XXc～反射台；WAA、WBB～边

具体实施方式

以下说明在非电路图案区域照射激光光束而印记识别标记的同时，为了除去不必要的光致抗蚀剂而照射包含既定波长的紫外光的光线(以下称「紫外线光」)的识别标记、周边曝光装置及实施其方法的最佳实施形态。

<玻璃基板的构造>

第1图为本发明所使用的液晶玻璃基板的一例。例如采用液晶用的玻璃基板尺寸为2160mm×2460mm或2400mm×2800mm的玻璃基板W。如第1图所示，玻璃基板W为方形，方形玻璃基板W的整面涂布光致抗蚀剂。在方形玻璃基板W上欲进行何种电路图案的曝光被预先设计，例如，形成2行3列的图案区域Wp，而且在各图案区域Wp的周边形成作为周边区域的非电路图案区域Wc。然后，方形玻璃基板W的非电路图案区域Wc成为当切断各图案区域Wp而分离时的切断代的同时，记号、文字、图形或者其组合等(以下称为识别标记)形成的区域，而成为非电路图案区域。而且，于此，方形玻璃基板W的非电路图案区域Wc上形成纵横交错的识别标记M(纵方向的识别标记M1、横方向的识别标记M2)。

于此，对于在方形玻璃基板W的表面形成的图案及识别标记进行说明。在方形玻璃基板W上在其表面涂布光致抗蚀剂，而投入曝光制程。在曝光制程中，方形的玻璃基板W形成如第1图所示的电路图案部Wp与识别标记M。该电路图案Wp经由相当于该电路的掩模照射紫外线，或直接以激光描绘电路图案，甚至以喷墨等照射相当于微细电路的微粒子而形成电路图案。形成电路图案Wp的电路图案区域以外的部分，即非电路图案区域Wc会成为后续制程的障碍。因此，必须使形成于该非电路图案区域Wc的识别标记M以外的区域感光。因此，对非电路图案区域Wc曝光的紫外光照射单元9(参照第2图)与玻璃基板W的移动同步，在与移动方向正交的方向上移动。然后，紫外光照射单元9藉由未图示的遮板的动作将照射宽度控制成必要的宽度而照射紫外线光。藉此，使所希望的非电路图案区域Wc感光。但是，在识别标记M的区域中，藉由遮蔽紫外线光而使识别标记M保持在曝光于方形玻璃基板W的状态。

形成于非电路图案区域Wc上的识别标记M，以字母、各种数字、记号等条形码及二维码表现，为了提供作为在后续制程中的指示标记指标等的信息而形成。因此，无须原来的电路图案Wp的高分辨率，使φ30微米以下的小径的点重合，通过可表现该识别标记M的掩模的紫外光，或者是摆动激光光束而可表现识别标记M，在方形玻璃基板W的电路图案区域Wp的附近的表面上形成识别标记M。

<识别标记、周边曝光装置的构造>

第2图为示意性地表示省略识别标记、周边曝光装置(以下称「本装置」)的一部分而从侧面方向观看的装置内的剖视图。第3图为示意性地表示省略本装置的一部分而从背面方向观看的装置内部的剖视示意图。

如第2图所示，本装置1包括保持粗对正的方形玻璃基板W的台座2、搬运或移动保持于台座2的方形玻璃基板W的移动搬运机构3、对保持于台座2上的方形玻璃基板W以及台座2的既定位置进行摄影的摄影装置4。本装置更包括在由移动搬运机构3所搬运的方形玻璃基板W的图案区域Wp的周边的周边区域Wc中对识别标记M进行曝光的激光光束单元5、以及遮蔽曝光在方形玻璃基板W的非电路图案区域Wc的识别标记M而对其他周边区域Wc照射紫外线光的紫外线照射单元9。本装置包括移动搬运机构3、激光光束单元5以及紫外线照射单元9的控制机构20。

如第2、3图所示，台座2与方形玻璃基板W大体上相同尺寸，以铝或轻量的钢材构成。支持柱2b为抵接于方形玻璃基板W而使基板保持成水平(XY平面)的元件，从基台2a起既定高度的位置，在基台2a上设置复数个支持柱2b。方形玻璃基板W的搬入由假设为机械手臂(未图示)所完成。因此，该支持柱2b的间隔配置成当方形玻璃基板W的背面由机械手臂的两根叉部(fork)保持的状态下搬入时，该叉部可穿过的直线形空间。又，若支持柱2b的间隔相当宽，则方形玻璃基板W由于自身的重量而弯曲，所以在可保持方形基板W的水平的程度上，以例如100mm为间距而配置复数列支持柱2b。又，支持柱2b将抵接于该方形玻璃基板W的前端位置的形状形成具倒角的平面状。支持柱2b的前端位置的平面部分具有用于真空吸附方形玻璃基板W而将其保持的吸附用开口部(未图示)。

又，为了驱动台座2，在方形台坐2的下方设有移动搬运机构3。移动搬运机构3在实施方形玻璃基板W的对正作业的同时，沿移动路径L搬运方形玻璃基板W。又，当照射激光光束及照射紫外线光时，移动搬运机构3使方形玻璃基板W以既定速度在进行曝光时移动。该移动搬运机构3包括使台座2于一方直线方向(X直线方向)上移动的第一移动导引机构3A、沿以垂直于保持在台座2上的基板面的垂直线为垂直线轴的旋转方向(θ方向)上移动台座2的第三移动导引机构3C。第一移动导引机构3A由线性马达3a及移动轨道3b(参照第5图)构成。但是，若是在一定的精度下进行移动控制的机构，则伺服马达与输送螺栓所构成的移动机构等亦可，并无特别的限定。第三移动导引机构3C由步进马达与输送螺栓构成。

用于曝光非电路图案区域Wc的紫外线照射单元9以可照射使涂布于方形玻璃基板W的表面的光致抗蚀剂感光的波长的紫外线光的未图示的水银灯作为光源，并包括椭圆反射镜、复眼透镜(fry eye lens)、反射镜以及遮板等构成。该紫外线照射单元9安装于在与方形玻璃基板W的移动方向正交的方向上可平顺地移动的可动机构体上，对形成于方形玻璃基板W上的复杂的非电路图案区域Wc进行曝光。

接着，针对激光光束单元5进行说明。第4图为激光光束单元5的概要图。如第1图至第3图所说明，激光光束单元5将识别标记M由激光光束曝光至方形玻璃基板W的非电路图案区域Wc。并且，该激光光束单元5由支持框A1所支持而被固定，并具有三座激光照射单元5A。将从一个激光光束光源所照射的激光光束分光，而从各个激光照射单元5A将激光光束照射至方形玻璃基板W的非电路图案区域Wc的三个位置。

该激光单元5安装有电流计7c及F-θ透镜7d，该电流计7c及F-θ透镜7d可以摆动光束角度使得光束可广范围地照射至激光光束的输出部分，激光光束可在广范围的照射区域中摆动。因此，根据方形玻璃基板W的位置和尺寸与预先设定的加工信息的比较，由移动搬运机构3将方形玻璃基板W于X直线方向上搬运的同时，在与搬运方向正交的方向上摆动激光光束，将识别标记M曝光至方形玻璃基板W的非电路图案区域上。

<摄影装置4与反射台XX的构造>

第5图为表示本装置所使用的台座2与摄影装置4的一例的立体图。台座2包括由移动搬运机构3所支持的基台2a、立设于该基台2a上的支持柱2b、以及将穿过方形玻璃基板W及其周围而来的摄影用的照明光反射的反射台XXa、XXb、XXc。由于台座2与方形玻璃基板W大体上为相同尺寸，因此反射台XXa、XXb、XXc设于台座2的外侧面。反射台XXa、XXb在基台2a的一边2aa上保持既定的间隔而设置二个，反射台XXc在与一边2aa正交的边2bb上设置一个。若反射台XXa、XXb的间隔较长则可以精度佳地对正。但是，在方形玻璃基板W的尺寸为2160mm×2460mm或2400mm×2800mm的情况下，反射台XXa、XXb的间隔取其中小的一方2460mm以下的间隔，例如2000mm的间隔。

反射台XXa、XXb、XXc在钢材上贴附其表面进行过镜面加工的铝板。又，也可将在玻璃表面上蒸镀铝的板贴附于钢材上。无论如何，被构成为使照射来的光进行良好的反射。

在该反射台XXa、XXb、XXc的上方，如第2图所示，在与反射台XXa、XXb相向的位置上，设有第一摄影装置4a、4b，其用于从方形玻璃基板W的上方对方形玻璃基板W的一边的边缘部的二个位置进行摄影。又，在反射台XXc相向的位置上，设有第二摄影装置4c，其用于从方形玻璃基板W的上方对方形玻璃基板W的另一边的边缘部的一个位置进行摄影。换言之，反射台XXa、XXb、XXc在台座2的基台2a的外周侧面上与摄影装置4a、4b、4c的光轴的延长轴线上呈直角地安装着，从而对应于摄影装置4a、4b及4c的位置。

该等第一摄影装置4a、4b与第二摄影装置4c在支持框A1上藉由未图示的导轨等于X方向及Y方向上适当地自由移动。这是为了配合基板尺寸而可变更。该等第一摄影装置4a、4b与第二摄影装置4c安装有作为摄影部的CCD摄影机等以及照明装置。

照明装置主要采用红色灯。该照明装置点亮的波长由于与光致抗蚀剂的感光度有关，所以根据光致抗蚀剂的种类而有绿色灯及黄色灯的情况。于此，在使用两种以上的光致抗蚀剂时，第一摄影装置4a、4b及第二摄影装置4c分别准备两种以上波长的光源。然后，对应于光致抗蚀剂的种类，也可切换红色灯、绿色灯及黄色灯三色。藉此，对应于光致抗蚀剂可提升第一摄影装置4a、4b及第二摄影装置4c的影像处理精度。当然，若仅将涂布一种光致抗蚀剂的方形玻璃基板W搬入本装置，则准备既定波长的光源。

又，不用改变光源的波长，而藉由对应于光致抗蚀剂的种类而改变光源的形状，从而可使第一摄影装置4a、4b及第二摄影装置4c的影像处理精度提升。例如，光源的形状为了照射环状(ring)的光线、照射直线状(line)的光线或者是照射点状(spot)的光线，因此可切换三种灯泡。为了照射圆形的光线，在摄影装置4a、4b、4c的透镜系统周围紧密而接近地以环状的方式安装灯泡。又，为了照射直线状的光或点状的光，在摄影装置4a、4b、4c的透镜系统的外侧框上安装灯泡。藉此，照射光的波长与照射光的形状容易对应于光致抗蚀剂的种类、方形玻璃基板W的尺寸精度的偏差等。摄影装置4a、4b、4c的配置位置是配合所载置的方形玻璃基板W的形状来设定的。当然，若仅将涂布一种光致抗蚀剂的方形玻璃基板W搬入本装置，则准备既定的光源形状。

而且，复数个波长及复数个光源形状的组合对应于光致抗蚀剂而可有各种的组合。例如，若是使用两种光致抗蚀剂的制程，则准备红色灯的环状照明以及绿色灯的直线状照明。

<识别标记、周边曝光装置的控制>

第6图为表示本装置的控制机构20的方块图。参照第6图，说明控制机构20的构造。本装置包括影像处理电路部100A及100B、摄影装置4、激光光束单元5、紫外线照射单元9、控制移动搬运机构3的各种处理器108以及存储装置31(ROM)等。

对控制机构20的输入装置21用于输入方形玻璃基板W的种类数据等。所输入的种类数据为方形玻璃基板W的尺寸、图案区域Wp的尺寸及位置、周边区域Wc的尺寸及位置、识别标记M(文字、记号、图形等)的种类、尺寸、曝光位置、曝光照度及曝光速度、周边区域Wc(一个直线方向与另一个直线方向)的曝光照度(激光光束及紫外线光)等。该等种类数据预先从输入装置21输入而存储在存储装置31中。

又，在本装置1中，激光光束单元5的曝光位置、曝光速度及曝光照度等必要的数据预先从输入装置21输入而存储在存储装置31中。又，紫外线照射单元9的单位面积曝光照度等为非电路图案区域Wc的周边曝光作业所必要的数据，预先从输入装置21输入而存储在存储装置31中。又，在存储装置31中，为了与从摄影装置撷取的影像图案进行比较，而将规定的图案经由输入装置预先存储成数据。

位置检测装置24为检测基板位置、摄影装置的位置、激光光束单元5、紫外线照射单元9、移动搬运机构3以及台座2等的位置的位置传感器的总称。位置检测装置24检测出该等各部分的位置而输入控制机构20中。由摄影装置4a及4b所撷取的影像图案以及由摄影装置4c所撷取的影像图案分别经由影像处理电路部100A以及影像处理电路100B而输入控制机构20。影像处理电路部100A包含比较电路，该比较电路对摄影装置4a所撷取的影像图案与摄影装置4b所撷取的影像图案进行比较而进行数字影像处理，影像处理电路100B将由摄影装置4c撷取的影像图案进行数字影像处理。由摄影装置4的CCD摄影机所撷取的影像数据在30μm/pixel的情况下，由影像处理电路部100A及100B将该数据分解成1/10。

<本装置的动作>

接着以第7～9图说明上述装置的动作。方形玻璃基板W载置于立设在台座2的基台2a上的支持柱2b上。该方形玻璃基板W预先在运送至本装置的搬运路径的后半路径上一边控制姿势与位置而一边进行搬运。最后在到达本装置时，方形玻璃基板W相对于该台座2已预先对正使角度及停止位置在微小偏差的范围内。因此，方形玻璃基板W藉由未图示的机械手臂，相对于正规的载置位置进行些微的变位而载置于台座2上。当载置于台座2之际，方形玻璃基板W由台座2的支持柱2b的吸附用开口部真空吸附而被固定。

当方形玻璃基板W被台座2真空吸附时，位置检测装置24的传感器检测出方形玻璃基板W的位置，经由控制机构20驱动移动导引机构3A。当方形玻璃基板W到达规定的位置时，移动导引机构3A停止台座2的移动。控制机构20点亮附属于摄影装置4a、4b、4c的各个照明。

当摄影用的照明光照射至方形玻璃基板W时，在台座2的上方，在安装有方形玻璃基板W的区域与未安装的区域上，到达反射台XXa、XXb、XXc的光量不同。即，经由方形玻璃基板W到达反射台XXa、XXb、XXc的光量由于方形玻璃基板W的存在而衰减。又，藉由反射台XXa、XXb、XXc反射，到达摄影装置4a、4b、4c的照明光再度穿透方形玻璃基板W。因此，在安装有方形玻璃基板W的区域中，光量会衰减，在未安装方形玻璃基板W的区域中，光量不会衰减。

第7图为在X-Y平面上具有角度θ而载置于台座2上的方形玻璃基板W从上方观看到的图。第8图为表示在第7图的状态下，由摄影装置4所撷取的方形玻璃基板W及反射台XX的影像图案的示意图。第9图为从第8图的状态，方形玻璃基板W到达正规位置的状态的影像图案的示意图。

如第7图所示，方形玻璃基板W相对于台座2而偏移微小角度θ的情况下，由摄影装置4b撷取第8A图的影像图案。即，直接到达反射台XXb的照明光在此被反射而返回摄影装置4b。被拍摄的图案示意地以影像R11表示。另一方面，穿过方形玻璃基板W的边缘部，在反射台XXb反射的照明光在方形玻璃基板W更进一步地衰减而返回摄影装置4b。所拍摄的图案示意地以影像R12表示。可知上述图案是来自方形玻璃基板W的反射光与穿透光的比例以及受光的分配不平均的图案。

又，直接到达反射台XXa的照明光在此被反射而返回摄影装置4a。在第8B图中，所拍摄的图案示意地以影像R21表示。另一方面，穿过方形玻璃基板W的边缘部，在反射台XXa反射的照明光在方形玻璃基板W更进一步地衰减而返回摄影装置4a。所拍摄的图案示意地以影像R22表示。该摄影结果的整体图案也被判定为是不平均的结果。于此，以方形玻璃基板W的边缘部的边WAA的影像为边缘影像。

而且，直接到达反射台XXc的照明光在此被反射而返回摄影装置4c。在第8C图中，所拍摄的图案示意地以影像R31表示。另一方面，穿过方形玻璃基板W的边缘部，在反射台XXc反射的照明光在方形玻璃基板W更进一步地衰减而返回摄影装置4c。所拍摄的图案示意地以影像R32表示。于此，以方形玻璃基板W的边缘部的边WBB的影像为另一边缘影像。

摄影装置4a与摄影装置4b的影像图案在影像处理电路100A中与预先输入的理想影像图案进行比较，该比较结果发送至控制机构20。在该控制机构20中，藉由内置的处理器108，根据比较结果，演算出经由移动导引机构3C驱动方形玻璃基板W的水平面内的旋转方向(θ方向)的信息。演算的结果被送至第三移动导引机构3C，而驱动第三移动导引机构3C。藉由此驱动，方形玻璃基板W旋转，所以对应于该旋转的影像被撷取至摄影装置4a与摄影装置4b。撷取影像的频率在10msec/画面至60msec/画面的范围内。然后，如第9A、9B图所示，藉由移动导引机构3C在水平面内驱动方形玻璃基板W，直到影像R11、R1、R21及R22与预先输入的信息大体上一致为止。在双方的影像与预先输入的基准的信息一致时，影像处理电路100A检测出此一致，控制机构20使移动导引机构3C的旋转驱动停止。在该状态下，方形玻璃基板W的边缘部的边WAA到达规定的位置为止，方形玻璃基板W至少在第7图中的Y方向上被对正。

在方形玻璃基板W被Y方向对正的状态下，影像处理电路100B在X方向上驱动第一移动导引机构3A，直到使摄影装置4c所拍摄的影像与预先输入的基准的信息一致为止。即，如第9c图所示，影像R31与影像R32是否一致的识别可藉由参照控制机构20所预设的数据而进行比较判定。而且，对正精度基于摄影装置4的倍率、第三移动导引机构3C的控制精度，在本装置中大体上为0.05μ。

如此，根据演算由摄影装置4所取得的影像数据而得到的方形玻璃基板W的位置，以及方形玻璃基板W的外型尺寸，藉由来自控制机构20的指令，相对地进行与方形玻璃基板W的水平面内的旋转方向、方形玻璃基板W的安装相同的X方向的位置的对正作业。

至此，反射台XXa、XXb、XXc安装于台座2的外侧面。但是，在方形玻璃基板W比台座2小型时，例如2160mm×2460mm时，该等反射台XXa、XXb、XXc安装在台座2的表面，将固定支柱2d安装于方形玻璃基板W的外周附近，同时使摄影装置4a、4b、4c移动至相当的位置上，而得到与上述相同的信息，可实施对正作业。

又，从配合小型的方形玻璃基板W的位置起至台座2的外侧为止，也可设置使反射台XXa、XXb、XXc移动的移动机构。反射台XXa、XXb通过于Y方向延伸的线性马达而可于Y方向移动。反射台XXc通过于X方向延伸的线性马达而可于X方向移动。摄影装置4a、4b、4c也可同样地移动而进行对正作业。

接着完成方形玻璃基板W的对正作业的移动搬运机构3，由第一移动导引机构3A的位置信息确认从移动搬运机构3的行程的最端部起的位置，而朝印记非电路图案区域Wc的识别标记的位置移动。此时，方形玻璃基板W在投入本装置1后，一边于X方向上移动，一边将从方形玻璃基板W的基准位置起的距离与第一移动导引机构3A的移动搬运位置进行比较，同时确认印记方形玻璃基板W的识别标记的位置。

由第一移动导引机构3A搬运至印记识别标记的位置的方形玻璃基板W，一边于搬运机构3的一轴方向上搬运方形玻璃基板W，一边在激光束单元5中藉由上述电流计7c与F-θ透镜7d将激光光束于与搬运方向垂直的方向上扫瞄。藉此，印记方形玻璃基板W的非电路图案区域Wc的识别标记M1。而且在第4图中，设置三座激光照射单元5A。纵方向的识别标记M1，如第1图所示仅二列的情况下，停止中央的一座激光照射单元5A。

而且，控制机构20为了使识别标记M1不被来自紫外线照射单元9的紫外光照射，而控制控制用的遮板机构10。此控制为由位置传感器200的输出，控制机构20确认方形玻璃基板W到达规定的位置与否而进行控制。另一方面，识别标记M1以外的非电路图案区域Wc藉由来自紫外线照射单元9的紫外线光而曝光。此曝光藉由根据位置传感器200的输出而驱动的控制机构20的控制输出而进行。方形玻璃基板W的X直线方向中的识别标记M1印记以及非电路图案区域Wc曝光时，方形玻璃基板W在其移动终点或移动起点其中之一，籍由第三移动导引机构3C而进行90度旋转。然后，同样在方形玻璃基板W的非电路图案区域Wc中，印记识别标记M2的同时，对剩余的非电路图案区域Wc进行曝光。如第1图所示，由于横方向的识别标记M2为三列，三座激光照射单元5A全部动作。如此，方形玻璃基板W全部的非电路图案区域Wc皆完成曝光。

而且，根据送来的方形玻璃基板W的位置数据以及方形玻璃基板W的种类数据，演算出方形玻璃基板W的激光光束照射时的移动位置(激光光束照射开始位置)以及移动速度，而且使方形玻璃基板W旋转移动了90度时的移动位置及移动速度的演算，藉由控制机构20的控制而适当地进行。例如，搬运至方形玻璃基板W的非电路图案区域Wc中的识别标记的开始位置为止。该开始位置相当于激光光束单元5正下方的位置。当方形玻璃基板W搬运至开始位置时，将方形玻璃基板W以既定的速度移动的同时，使激光光束单元5动作，从激光光束头5A照射激光光束而依次印记识别标记M。

方形玻璃基板W的非电路图案区域Wc的周边曝光完毕时，方形玻璃基板W从形成于方形玻璃基板W的移动终点侧的未图示的搬出口侧或者是从搬入方形玻璃基板W的搬入口侧被机械手臂搬出。然后，搬入新的方形玻璃基板W，重复说明至此的制程，进行方形玻璃基板W的非电路图案区域的识别标记M的印记与非电路图案区域的周边曝光。

[产业上利用的可能性]

虽然方形玻璃基板W是以长方形为前提而说明，但只要是梯形、六角形等具有直线部分的方形基板，也可适用本发明。又，即使不是玻璃基板，而是塑料基板亦可。而且，在对正之际，虽然只使用了三个反射台XX与三座摄影装置4，但也可以设置四个以上。又，影像处理电路可采用各种方法进行数字影像处理。

虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何熟习此技艺者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视后附的申请专利范围所界定者为准。

Claims (12)

1.一对正装置，其特征在于，该对正装置包括：

一台座，其保持二维平面的方形基板，以正交于二维平面的轴为中心旋转，且于该二维平面内的第一方向上移动；

一第一摄影装置，其对配置于上述方形基板的一边的边缘的彼此分离的位置上的二个部位进行摄影，并输出二个部位的边缘影像；

一第二摄影装置，其对与上述一边相交的另一边的边缘的一个部位进行摄影，并输出一个部位的另一边缘影像；

一影像处理电路，其对上述边缘影像及上述另一边缘影像进行影像处理；以及

一控制部，其根据上述影像处理装置的输出而控制上述台座。

2.如权利要求1所述的对正装置，其中上述影像处理电路确认上述二个部位的边缘影像与预先存储的影像是否一致，同时上述控制部使上述台座旋转。

3.如权利要求2所述的对正装置，其中上述影像处理电路确认上述一个部位的另一边缘影像与预先存储的影像是否一致，同时上述控制部使上述台座移动。

4.如权利要求1至3中任一项所述的对正装置，其中在配置于上述分离的位置上的二个部位的位置以及上述另一边缘的一个部位的位置上，设有反射光线的反射台。

5.如权利要求4所述的对正装置，其中上述反射台对应于上述方形基板的尺寸而可移动。

6.如权利要求1至3及5中任一项所述的对正装置，其中在配置于上述分离的位置上的二个部位的位置以及上述另一边缘的一个部位的位置上，设有照射光线的照明装置。

7.如权利要求4中所述的对正装置，其中在配置于上述分离的位置上的二个部位的位置以及上述另一边缘的一个部位的位置上，设有照射光线的照明装置。

8.如权利要求6所述的对正装置，其中上述照明装置具有一第一光源形状以及与该第一光源形状不同的第二光源形状，对应于光致抗蚀剂而切换上述第一光源形状与上述第二光源形状。

9.如权利要求7所述的对正装置，其中上述照明装置具有一第一光源形状以及与该第一光源形状不同的第二光源形状，对应于光致抗蚀剂而切换上述第一光源形状与上述第二光源形状。

10.如权利要求6所述的对正装置，其中上述照明装置具有第一波长的光源以及与该第一波长不同的第二波长的光源，对应于光致抗蚀剂而切换上述第一波长的光源以及上述第二波长的光源。

11.如权利要求7-9中任一项所述的对正装置，其中上述照明装置具有第一波长的光源以及与该第一波长不同的第二波长的光源，对应于光致抗蚀剂而切换上述第一波长的光源以及上述第二波长的光源。

12.一种曝光装置，该曝光装置使上述方形基板沿着移动路径而移动，在上述方形基板的图案区域上形成电路图案，其特征在于，该曝光装置包括：

一对正装置，其为如权利要求1至9中任一项所述的对正装置；

一激光光束单元，其设于上述方形基板的上方，对未形成上述电路图案的非电路图案区域照射激光光束，而印记识别标记；以及

一紫外光照射单元，其在与该激光光束单元相邻的位置上，且设于上述方形基板的上方，对上述非电路图案区域照射紫外光，

其中藉由上述对正装置的控制，在上述方形基板移动至既定位置后，上述方形基板的边缘移动至上述激光光束单元下面及紫外光照射单元下面。

Images